JP2013225574A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 一つの接続パッドに複数のボンディングワイヤが接続された半導体装置であって、この接続部分の信頼性が高く、かつ小型化が容易な半導体装置を提供すること。
【解決手段】 絶縁基板1と、絶縁基板1に設けられた少なくとも一つの接続パッド2と、複数の電極3aを有しており、絶縁基板1に搭載された半導体素子3と、それぞれに一端部および他端部を有しており、それぞれの一端部が一つの接続パッド2に重ねられて接続され、それぞれの他端部が複数の電極3aに接続された複数のボンディングワイヤ4(4a)と、金または銅からなり、複数のボンディングワイヤ4の一端部同士の間に介在している金属層7とを備える半導体装置9である。複数のボンディングワイヤ4を接続する面積を小さく抑えることができ、金属層7によって下側のボンディングワイヤ4の接続部分の接続強度を確保できる。
【選択図】 図1
【解決手段】 絶縁基板1と、絶縁基板1に設けられた少なくとも一つの接続パッド2と、複数の電極3aを有しており、絶縁基板1に搭載された半導体素子3と、それぞれに一端部および他端部を有しており、それぞれの一端部が一つの接続パッド2に重ねられて接続され、それぞれの他端部が複数の電極3aに接続された複数のボンディングワイヤ4(4a)と、金または銅からなり、複数のボンディングワイヤ4の一端部同士の間に介在している金属層7とを備える半導体装置9である。複数のボンディングワイヤ4を接続する面積を小さく抑えることができ、金属層7によって下側のボンディングワイヤ4の接続部分の接続強度を確保できる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、接続パッドが設けられた絶縁基板に半導体素子が搭載され、半導体素子の電極と接続パッドとが電気的に接続されてなる半導体装置に関するものである。
半導体集積回路素子や半導体受光素子等の半導体素子が気密封止されてなる半導体装置は、一般に、次のような形態である。すなわち、セラミック基板等の絶縁基板に半導体素子が搭載され、セラミック基板に設けられた接続パッドと半導体素子の電極とが電気的に接続され、半導体素子が封止用の樹脂や蓋体(いわゆるリッド)等の封止手段で封止された形態である。
接続パッドと電極との電気的な接続の手段としては、金またはアルミニウム等の金属材料からなるボンディングワイヤが多用されている。接続パッドおよび電極に対するボンディングワイヤの接続は、ボールボンド法やウエッジボンド法等の方法によって行なわれている。これらの方法を用い、超音波や熱、圧力等のエネルギーでボンディングワイヤの先端部分が接続パッドおよび電極にそれぞれ接続されている。
半導体素子の電極としては、信号用、接地用および電源用のものが含まれている。接続パッドと電気的に接続された半導体素子の電極は、通常、絶縁基板に設けられた接続用の導体等を介して外部の電気回路に電気的に接続される。信号用の電極は、演算や受光情報等の信号の伝送用であり、接地用および電源用の電極は、半導体素子に対する接地および電源の電位の供給用である。
上記半導体装置においては、電気抵抗の低減等のために、一つの接続パッドに複数のボンディングワイヤが接続される場合がある。この場合、接続パッドの同じ位置に、互いに上下に重ねて複数のボンディワイヤを接続すると、次のような不具合が生じる可能性がある。すなわち、下側のボンディングワイヤと接続パッドとの接続部分に、さらに熱や超音波等のエネルギーが加わるため、接続強度が低下する可能性がある。そのため、このような接続パッドにおいては、複数のボンディングワイヤを互いにずらして接続するための大きさ(平面視における面積)が確保される。しかしながら、この場合、接続パッドの小型化が妨げられ、配線基板としての小型化が難しい可能性があるという問題点があった。
本発明は上記従来の技術の問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、一つの接続パッドに複数のボンディングワイヤが接続された半導体装置であって、この接続部分の信頼性が高く、かつ小型化において有利な半導体装置を提供することにある。
本発明の一つの態様の半導体装置は、絶縁基板と、該絶縁基板に設けられた少なくとも一つの接続パッドと、複数の電極を有しており、前記絶縁基板に搭載された半導体素子と、それぞれに一端部および他端部を有しており、それぞれの前記一端部が一つの前記接続
パッドに重ねられて接続され、それぞれの前記他端部が前記複数の電極に接続された複数のボンディングワイヤと、金または銅からなり、前記複数のボンディングワイヤの前記一端部同士の間に介在している金属層とを備えることを特徴とする。
パッドに重ねられて接続され、それぞれの前記他端部が前記複数の電極に接続された複数のボンディングワイヤと、金または銅からなり、前記複数のボンディングワイヤの前記一端部同士の間に介在している金属層とを備えることを特徴とする。
本発明の一つの態様の半導体装置によれば、一つの接続パッドに複数のボンディングワイヤの一端部が互いに重ねられて接続されていることから、このような接続パッドにおいて平面視における接続パッドの面積を小さく抑える上で有利である。また、複数のボンディングワイヤの一端部同士の間に金属層が介在していることから、上側のボンディングワイヤを接続するときの熱、超音波および圧力等のエネルギーの一部が金属層で吸収される。
そのため、下側のボンディングワイヤの接続パッド等に対する接続強度の低下を抑制することができる。したがって、一つの接続パッドに対する複数のボンディングワイヤの接続部分の信頼性が高く、かつ小型化において有利な半導体装置を提供することができる。
本発明の実施形態の半導体装置を添付の図面を参照して説明する。図1(a)は本発明の実施形態の半導体装置を示す平面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A線における断面図である。半導体素子の搭載部1aを含む上面を有する絶縁基板1と、絶縁基板1に設けられた接続パッド2と、搭載部1aに搭載された半導体素子3と、半導体素子3の電極3aと接続パッド2とを接続するボンディングワイヤ4とによって、半導体装置9が基本的に形成されている。
絶縁基板1は四角板状であり、上面の中央部に半導体素子3を搭載するための搭載部1aを有している。この実施の形態においては、絶縁基板1の上面に凹部(符号なし)が設けられ、この凹部の底面が半導体素子の搭載部1aになっている。また、凹部の内側面に沿って段状の部分が設けられ、この段状の部分の上面に接続パッド2が設けられている。
半導体素子3としては、ICやLSI等の半導体集積回路素子、およびLED(発光ダイオード)やPD(フォトダイオード),CCD(電荷結合素子)等の光半導体素子、半導体基板の表面に微小な電子機械機構が形成されてなるマイクロマシン(いわゆるMEMS素子)等の種々の半導体素子が挙げられる。これらの半導体素子3は、一般に四角板状であり、このような半導体素子3の搭載に適するようにするために、搭載部1aは四角形状であり、絶縁基板1も平面視において四角形状である。
半導体素子3は、シリコン等の半導体基板(符号なし)に、集積回路や受光用回路等の所定の回路(図示せず)および回路と電気的に接続された電極3aが設けられて形成されている。半導体素子3は、例えば上面に、接地用、電源用および信号用の複数の電極3aを有している。この複数の電極3aがそれぞれ外部電気回路(図示せず)と電気的に接続される。電極3aと外部電気回路との間で、信号の送受や、接地、電源といった電位の供給が行なわれる。以下の説明において、信号用、接地用および電源用の電極は、特に区別することなく、単に電極3aとして示している。
絶縁基板1は、例えば酸化アルミニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体,ガラスセラミック焼結体等のセラミック焼結体によって形成されている。
絶縁基板1は、例えば酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素等の原料粉末を適当な有機バインダおよび有機溶剤とともにシート状に成形した複数のセラミックグリーンシートを積層した後に焼成することによって製作されている。この場合、複数のセラミックグリーンシートの一部を、打ち抜き加工等の方法で枠状に成形しておき、この枠状のセラミックグリーンシートを上層側に積層すれば、上面に凹部を有する絶縁基板1を製作することができる。
絶縁基板1に設けられた接続パッド2は、半導体素子3の電極3aを電気的に接続させるためのものであり、この電極3aをマザーボード等の外部電気回路(図示せず)に電気的に接続させる端子(導電路の一部)である。接続パッド2と半導体素子3の電極3aとの電気的な接続は、ボンディングワイヤ4を介して行なわれている。すなわち、ボンディングワイヤ4の一端部が接続パッド2に接続され、そのボンディングワイヤ4の他端部が電極3aに接続されている。
ボンディングワイヤ4は、例えば金、アルミニウムまたはこれらの金属材料を主成分とする合金材料からなる。後述するように、複数のボンディングワイヤ4が金属層7を介して重ねられて接続されるため、ボンディングワイヤ4は、直径20〜30μm程度であるものが好ましい。また、ボンディングワイヤ4を形成する材料としては金が好ましい。
接続パッド2および電極3aとボンディングワイヤ4との接続は、ボールボンド法やウエッジボンド法によって行なわれる。このボンディングワイヤ4の接続時に、熱および超音波等のエネルギーが、ボンディングワイヤ4の接続部分に加えられる。このエネルギーによって、ボンディングワイヤ4の一端部が、接続パッド2または電極3aに接続されている。
接続パッド2は、例えばタングステンやモリブデン,マンガン,銅,銀,パラジウム,金,白金等の金属材料からなる。このような金属材料は、例えばタングステンの場合であれば、タングステンの粉末を有機溶剤および有機バインダと混合して作製した金属ペーストを絶縁枠体2となるセラミックグリーンシートの上面の所定位置にスクリーン印刷法等の方法で印刷して焼成する方法で、絶縁枠体2に所定パターンで被着されている。
これらの接続パッド2は、例えば、絶縁基板1の接続パッド2が設けられた部分から下面や側面等の外表面にかけて形成された接続導体5を介して、半導体装置9の外表面に電気的に導出されている。
図1に示す例において、接続導体5は、絶縁基板1の上面から下面の外周部にかけて設けられた貫通導体(符号なし)と、絶縁基板1の下面において貫通導体の下端面に接続して設けられた配線導体(符号なし)とによって構成されている。接続導体5は、絶縁基板1の外側面に形成された側面導体(いわゆるキャスタレーション導体等)(図示せず)や、絶縁基板1の内部に設けられた内部配線導体(図示せず)等を含んでいてもよい。
絶縁基板1の搭載部1aに半導体素子3を搭載して、半導体素子3の電極3aを接続パッド2にボンディングワイヤ4を介して電気的に接続すれば、半導体素子3が、絶縁基板1と接続パッド2とを含むセラミックパッケージ(符号なし)に搭載される。半導体素子3は、例えば絶縁基板1の上面に蓋体6が接合されて凹部が塞がれることによって、凹部と蓋体6とで構成された容器内に気密封止されている。これにより、半導体素子3が気密封止されてなる半導体装置9が形成されている。なお、図1(a)においては、見やすく
するために蓋体6を省略している。
するために蓋体6を省略している。
なお、半導体素子3は、例えば金−錫ろう等のろう材やガラス、有機樹脂接着剤等の接合材(図示せず)を介して搭載部1aに接合されている。
また、蓋体6は、例えば、鉄−ニッケル−コバルト合金等の鉄系合金や、銅等の金属材料または酸化アルミニウム質焼結体等のセラミック材料、ホウケイ酸系ガラス、シリカガラス等のガラス材料、アクリル樹脂等の樹脂材料等によって作製されている。蓋体6は、金−スズろう材やはんだ等のろう材、ガラスまたは樹脂接着剤等の接合手段によって、絶縁基板1に接合されている。
この半導体装置9において、図2および図3に示すように、半導体素子3の複数の電極3aに対応して、複数のボンディングワイヤ4がそれぞれ電極3aに接続されている。また、接続パッド2の少なくとも一つには、複数のボンディングワイヤ4がまとめて接続されている。
言い換えれば、半導体装置9における複数のボンディングワイヤ4は、それぞれの一端部が一つの接続パッド2に互いに重ねられて接続され、それぞれの他端部が複数の電極3aに接続された複数のボンディングワイヤ4aを含んでいる。なお、図2は、図1に示す半導体装置9の要部を拡大して示す断面図である。また、図3は、図1に示す半導体装置9の要部を拡大して示す平面図である。図2および図3において図1と同様の部位には同様の符号を付している。以下の説明において、煩雑になるのを避けるため、上記複数のボンディングワイヤ4a(4)を、単に複数のボンディングワイヤ4a、またはボンディングワイヤ4という。
一つの接続パッド2に接続された複数のボンディングワイヤ4aの一端部同士の間には、金または銅からなる金属層7が介在している。金属層7は、下側のボンディングワイヤ4の上に他のボンディングワイヤ4が接続されるときに加わる、超音波や熱、圧力等のエネルギーを吸収して緩和するためのものである。
このような半導体装置9によれば、一つの接続パッド2に、複数のボンディングワイヤ4aの一端部が互いに重ねられて接続されていることから、このような接続パッド2において平面視における接続パッド2の面積を小さく抑えることが容易である。つまり、平面透視において、一つの接続パッド2の同様の位置に複数のボンディングワイヤ4aが接続されている。そのため、例えば、複数のボンディングワイヤ4aを、一つの接続パッド2の異なる位置にずらして(それぞれのボンディングワイヤ4の一端部を接続パッド2に直接に)接続する場合に比べて、接続パッド2の面積を小さく抑えることができる。
また、複数のボンディングワイヤ4aの一端部同士の間に金属層7が介在していることから、上側のボンディングワイヤ4を接続するときの熱や超音波、圧力のエネルギーの一部が金属層7で吸収される。そのため、下側のボンディングワイヤ4の接続パッド2等に対する接続強度の低下を抑制することができる。したがって、一つの接続パッド2に対する複数のボンディングワイヤ4aの接続部分の信頼性が高く、かつ小型化が容易な半導体装置9を提供することができる。
図2および図3に示す例では、一つの接続パッド2に2本のボンディングワイヤ4a(4)が接続されているが、3本以上のボンディングワイヤ(図示せず)が互いに重ねられて接続されていてもよい。この場合には、一つの接続パッド2において複数の金属層(図示せず)が設けられることになり、それぞれの金属層が3本以上のボンディングワイヤの間に介在する。これらの複数の金属層は、互いに同じ形状および寸法(平面視における外
形の寸法および厚み)であってもよく、互いに異なる形状および寸法であってもよい。
形の寸法および厚み)であってもよく、互いに異なる形状および寸法であってもよい。
金属層7は、例えば以下のようにして形成されている。すなわち、例えば接続パッド2に第1のボンディングワイヤ4の一端部を接続した後、そのボンディングワイヤ4の一端部上に、ワイヤーボンダーによるボールボンディングにより金または銅からなるバンプ(図示せず)を形成する。その後、そのバンプ上に第2のボンディングワイヤ4の一端部を接続する。第2のボンディングワイヤ4の接続の際に加わる超音波および熱等のエネルギーによってバンプが層状に変形して金属層7になる。
なお、複数のボンディングワイヤ4の一端部同士の間に介在する金属層7が金または銅からなるものとされているのは、次のような理由による。すなわち、金および銅は、金またはアルミニウム等からなるボンディングワイヤ4との接続が容易かつ強固である。また、金属層7を形成している金の弾性率が比較的低く変形しやすいため、超音波等のエネルギーを吸収しやすい。また、電気抵抗(抵抗率)が比較的小さいため、複数のボンディングワイヤ4aと接続パッド2との間の電気抵抗(導通抵抗)を低く抑える上で有利である。したがって、複数のボンディングワイヤ4aの一端部同士の間に介在されるものとして金属層7が用いられている。
このような金属層7は、半導体装置9としての長期信頼性を重視すれば、金からなるものであることが好ましい。金属層7が金からなる場合には、金属層7が銅からなる場合に比べて、ボンディングワイヤ4との接続がより容易かつ強固である。また、金属層7としての耐食性も高い。つまり、半導体装置9としての長期信頼性を高くする上でより有利である。金属層7を形成する金は、例えば純度が99.99質量%以上の、いわゆる純金である
。なお、金属層7が銅からなる場合には、経済性等の点でより有利である。
。なお、金属層7が銅からなる場合には、経済性等の点でより有利である。
金属層7は、ボンディングワイヤ4の接続時の熱および超音波等のエネルギーの吸収効果を高める上では、厚いほどよい。しかし、金属層7が厚くなり過ぎると、金属層7の形状の厚み等が一定でなくなる可能性があるため、金属層7(実際には上記金バンプ等)に接続されるボンディングワイヤ4の接続が不安定になりやすい。また、高価な金が無駄に使用される可能性があるため、経済的には不適当である。したがって、金属層7は、上記のような条件および生産性ならびに経済性等を考慮すれば、5〜20μm程度の範囲であることが好ましい。
また、金属層7は、平面視(平面透視)において、例えば円形状または楕円形状、角部分が円弧状に成形された四角形状等の形状である。この場合、金属層7は、平面視において、最も下側のボンディングワイヤ4の接続パッド2と直接に接続された部分よりも外側にはみ出るぐらいに大きなものであることが好ましい。この場合には、次のボンディングワイヤ4の接続がより容易になる。
なお、一つの接続パッド2と複数の電極3aとが複数のボンディングワイヤ4aを介して電気的に接続されるのは、例えば、複数の電極3aがいずれも接地用の電極3aである場合、またはいずれも電源用の電極3aである場合である。複数の電極3aが接続パッド2と電気的に接続されて、半導体素子3における接地および電源それぞれの電位がより安定なものになる。この場合、複数の電極3aと接続される複数のボンディングワイヤ4aが一つの接続パッド2にまとめて接続されれば、絶縁基板1において接続パッド2が設けられるスペースが小さく抑えられ得るため、絶縁基板1、つまりは半導体装置9の小型化の上で有利である。これに対して、上記のように、実施形態の半導体装置9においては複数のボンディングワイヤ4aが一つの接続パッド2に、互いに重ねられて接続されているため、絶縁基板1および半導体装置9の小型化が容易である。また、半導体素子3における接地および電源の電位は、従来の半導体装置(図示せず)と同様に安定したものになっ
ている。
ている。
実施例の半導体装置および比較例の半導体装置を作製して、ボンディングワイヤの接続パッドに対する接続信頼性を比較した。
実施例の半導体装置および比較例の半導体装置ともに、絶縁基板は以下の条件で作製した。すなわち、酸化アルミニウムを主成分とし、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸化ケイ素を含む複数のセラミックグリーンシートを積層した後に焼成して作製した。作製した絶縁基板は、酸化アルミニウム質焼結体からなる、1辺の長さが12mmであり、厚さが500μmである四角板状のものであった。
実施例および比較例の半導体装置について、絶縁基板の上面に、辺の長さが0.3×0.3mmの四角形状のパターンで接続パッドを設けた。接続パッドは、タングステンの金属ペーストを用いて、絶縁基板(セラミックグリーンシートの積層体)との同時焼成によって設けた。実施例の半導体装置および比較例の半導体装置のいずれにおいても、上記の条件で複数の接続パッドを設けた。
半導体素子は、シリコン基板の上面の外周部に複数(12個)の電極を有するものとした。
接続パッドと電極とを電気的に接続するためのボンディングワイヤは、金からなる、直径が15μmのものとした。ボンディングワイヤは、ボールボンド法によって接続パッドおよび電極に接続した。
実施例および比較例の半導体装置において、複数の電極のうち8個の電極については、2個の電極が一つの接続パッドにボンディングワイヤを介して接続されたものとした。つまり、4個の接続パッドにおいて、2本のボンディングワイヤが接続されたものとした。接続パッドに接続されたボンディングワイヤの一端部は、上下に重ねられたものとした。
実施例の半導体装置においては、一つの接続パッドに接続した2本のボンディングワイヤの一端部同士の間に金属層を介在させた。金属層は、金を約95質量%含有し、銅が添加された合金材料で形成した。金属層の厚みは約15μmとした。また、比較例の半導体装置においては、一つの接続パッドに接続した2本のボンディングワイヤの間に金属層を設けなかった。つまり、比較例の半導体装置においては、2本のボンディングワイヤの一端部同士を直接に接続した。
実施例および比較例の半導体装置について、半導体装置を作製した直後と、温度サイクル試験(−40℃〜125℃、500サイクル)の後とにおいて、接続パッドと電極との間の電気的な接続を、テスターで導通抵抗を測定することにより確認した。なお、試験個数は、実施例の半導体装置および比較例の半導体装置のいずれについても100個とした。
その結果、実施例の半導体装置においては、半導体装置を作製した直後、および温度サイクル試験後のいずれにおいても、抵抗値は変化が無く、接続パッドと電極との電気的な接続は良好に確保されていた。
これに対して、比較例の半導体装置においては、温度サイクル試験後、5%の接続パッドにおいて、接続パッドと電極との間で3%程度の導通抵抗の増加が見られた。導通抵抗の増加が見られた試料を目視(倍率40倍)で確認したところ、接続パッド上に重ねられて接続された複数のボンディングワイヤの一端部において、接続部分の亀裂または破断等の
機械的な破壊が発生していた。
機械的な破壊が発生していた。
以上の結果より、実施例の半導体装置における、接続パッドと電極との電気的な接続の信頼性を高くする効果を確認することができた。
1・・・絶縁基板
1a・・搭載部
2・・・接続パッド
3・・・半導体素子
3a・・電極
4・・・ボンディングワイヤ
5・・・接続導体
6・・・蓋体
7・・・金属層
9・・・半導体装置
1a・・搭載部
2・・・接続パッド
3・・・半導体素子
3a・・電極
4・・・ボンディングワイヤ
5・・・接続導体
6・・・蓋体
7・・・金属層
9・・・半導体装置
Claims (2)
- 絶縁基板と、
該絶縁基板に設けられた少なくとも一つの接続パッドと、
複数の電極を有しており、前記絶縁基板に搭載された半導体素子と、
それぞれに一端部および他端部を有しており、それぞれの前記一端部が一つの前記接続パッドに重ねられて接続され、それぞれの前記他端部が前記複数の電極に接続された複数のボンディングワイヤと、
金または銅からなり、前記複数のボンディングワイヤの前記一端部同士の間に介在している金属層とを備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記金属層が金からなることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012096664A JP2013225574A (ja) | 2012-04-20 | 2012-04-20 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012096664A JP2013225574A (ja) | 2012-04-20 | 2012-04-20 | 半導体装置 |
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JP2013225574A true JP2013225574A (ja) | 2013-10-31 |
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ID=49595448
Family Applications (1)
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JP2012096664A Pending JP2013225574A (ja) | 2012-04-20 | 2012-04-20 | 半導体装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2013225574A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US11137415B2 (en) | 2017-06-26 | 2021-10-05 | Seiko Epson Corporation | Vibrating device, vibrating device module, electronic apparatus, and vehicle |
-
2012
- 2012-04-20 JP JP2012096664A patent/JP2013225574A/ja active Pending
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