JP2013209710A5 - - Google Patents
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Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012080707A JP5958804B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| KR1020147009752A KR102078888B1 (ko) | 2011-09-16 | 2012-09-14 | 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법 및 박막 패턴 형성 방법 |
| TW101133791A TWI555862B (zh) | 2011-09-16 | 2012-09-14 | 蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法及薄膜圖案形成方法 |
| PCT/JP2012/073617 WO2013039196A1 (ja) | 2011-09-16 | 2012-09-14 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び薄膜パターン形成方法 |
| CN201280044893.9A CN103797149B (zh) | 2011-09-16 | 2012-09-14 | 蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及薄膜图案形成方法 |
| US14/214,428 US9334556B2 (en) | 2011-09-16 | 2014-03-14 | Deposition mask, producing method therefor and forming method for thin film pattern |
| US14/746,727 US9586225B2 (en) | 2011-09-16 | 2015-06-22 | Deposition mask, producing method therefor and forming method for thin film pattern |
| US15/071,116 US9555433B2 (en) | 2011-09-16 | 2016-03-15 | Deposition mask, producing method therefor and forming method for thin film pattern |
| US15/071,125 US9555434B2 (en) | 2011-09-16 | 2016-03-15 | Deposition mask, producing method therefor and forming method for thin film pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012080707A JP5958804B2 (ja) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013209710A JP2013209710A (ja) | 2013-10-10 |
| JP2013209710A5 true JP2013209710A5 (es) | 2014-05-01 |
| JP5958804B2 JP5958804B2 (ja) | 2016-08-02 |
Family
ID=49527803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012080707A Active JP5958804B2 (ja) | 2011-09-16 | 2012-03-30 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5958804B2 (es) |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5935628B2 (ja) * | 2012-09-24 | 2016-06-15 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法 |
| JP6594615B2 (ja) | 2014-10-06 | 2019-10-23 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着用マスク及びそれを用いた有機ｅｌ表示装置の製造方法、並びに、蒸着用マスクの製造方法 |
| WO2017013904A1 (ja) | 2015-07-17 | 2017-01-26 | 凸版印刷株式会社 | メタルマスク基材、メタルマスク基材の管理方法、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法 |
| JP6432072B2 (ja) | 2015-07-17 | 2018-12-05 | 凸版印刷株式会社 | メタルマスク基材、および、メタルマスクの製造方法 |
| DE112016003224T5 (de) | 2015-07-17 | 2018-04-19 | Toppan Printing Co., Ltd. | Metallmaskensubstrat für dampfabscheidung, metallmaske für dampfabscheidung, herstellungsverfahren für metallmaskensubstrat für dampfabscheidung und herstellungsverfahren für metallmaske für dampfabscheidung |
| KR102388829B1 (ko) | 2015-07-17 | 2022-04-21 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 메탈 마스크용 기재의 제조 방법, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 메탈 마스크용 기재, 및, 증착용 메탈 마스크 |
| CN105220110A (zh) * | 2015-10-20 | 2016-01-06 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种蒸镀用复合磁性掩模板的制作方法 |
| CN108884555B (zh) * | 2015-12-25 | 2021-02-09 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 蒸镀掩模、蒸镀掩模的制造方法及有机半导体元件的制造方法 |
| JP6596106B2 (ja) * | 2016-01-26 | 2019-10-23 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 | 蒸着マスクの製造方法及びその蒸着マスクを使った有機発光ダイオードの製造方法 |
| CN112030102B (zh) * | 2016-02-10 | 2022-12-06 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 蒸镀掩模的制造方法 |
| JP6015874B2 (ja) * | 2016-05-09 | 2016-10-26 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、及び蒸着マスク |
| US10557191B2 (en) | 2017-01-31 | 2020-02-11 | Sakai Display Products Corporation | Method for producing deposition mask, deposition mask, and method for producing organic semiconductor device |
| JP7267762B2 (ja) | 2019-02-01 | 2023-05-02 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
| KR20210127810A (ko) | 2019-03-15 | 2021-10-22 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 증착 마스크 및 증착 마스크를 제조하고 사용하는 방법들 |
| US11189516B2 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-30 | Applied Materials, Inc. | Method for mask and substrate alignment |
| WO2020242611A1 (en) | 2019-05-24 | 2020-12-03 | Applied Materials, Inc. | System and method for aligning a mask with a substrate |
| WO2020251696A1 (en) | 2019-06-10 | 2020-12-17 | Applied Materials, Inc. | Processing system for forming layers |
| US10916464B1 (en) | 2019-07-26 | 2021-02-09 | Applied Materials, Inc. | Method of pre aligning carrier, wafer and carrier-wafer combination for throughput efficiency |
| JP7454934B2 (ja) | 2019-11-29 | 2024-03-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク及びその製造方法 |
| JP7445449B2 (ja) | 2020-02-07 | 2024-03-07 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクの製造方法および製造装置 |
| JP7391719B2 (ja) | 2020-03-05 | 2023-12-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクユニットの作製方法 |
| JP2021143358A (ja) | 2020-03-10 | 2021-09-24 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクユニットの作製方法 |
| JP2021143365A (ja) | 2020-03-11 | 2021-09-24 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
| JP2021161509A (ja) | 2020-04-01 | 2021-10-11 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクの作製方法 |
| JP2022080753A (ja) * | 2020-11-18 | 2022-05-30 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスクの製造方法 |
| CN112376016B (zh) * | 2020-11-24 | 2022-08-02 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 蒸镀掩膜板组件及其制作方法 |
| JP2023163428A (ja) | 2022-04-28 | 2023-11-10 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
| JP2024018694A (ja) | 2022-07-29 | 2024-02-08 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09143677A (ja) * | 1995-11-20 | 1997-06-03 | Toppan Printing Co Ltd | 透明導電膜の形成方法 |
| JP2004043898A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Canon Electronics Inc | 蒸着用マスク、および有機エレクトロルミネセンス表示装置 |
| JP4104964B2 (ja) * | 2002-12-09 | 2008-06-18 | 日本フイルコン株式会社 | パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
| JP2008274373A (ja) * | 2007-05-02 | 2008-11-13 | Optnics Precision Co Ltd | 蒸着用マスク |
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| US7674712B2 (en) * | 2007-10-22 | 2010-03-09 | Cok Ronald S | Patterning method for light-emitting devices |
| JP5228586B2 (ja) * | 2008-04-09 | 2013-07-03 | 株式会社Ｓｕｍｃｏ | 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法 |
| JP2011195876A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | メタルマスクおよびその製造方法 |
| JP3164800U (ja) * | 2010-10-05 | 2010-12-16 | Tdk株式会社 | マスク |
-
2012
- 2012-03-30 JP JP2012080707A patent/JP5958804B2/ja active Active