JP2013207106A - Production method, transfer method and damage detection method of glass plate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガラス板の製造方法、搬送方法、および損傷検出方法に関する。 The present invention relates to a glass plate manufacturing method, a conveying method, and a damage detection method.
液晶表示装置用ディスプレイ等のFPD(Flat Panel Display)に用いられるガラス基板は、半導体プロセスにより、TFT(Thin Film Transistor)素子等の半導体素子を形成するため、表面に傷がないことが求められている。また、ガラス基板の端面や表裏面の微小な傷やクラックは、ガラス基板の機械的な強度を低下させ、FPDの製造工程において割れなどの問題を発生させる原因となる。 Glass substrates used in FPDs (Flat Panel Displays) such as displays for liquid crystal display devices are required to have no scratches on the surface because semiconductor elements such as TFT (Thin Film Transistor) elements are formed by a semiconductor process. Yes. In addition, minute scratches and cracks on the end surface and front and back surfaces of the glass substrate reduce the mechanical strength of the glass substrate and cause problems such as cracking in the FPD manufacturing process.
ガラス基板の製造工程では、薄板状で帯状のガラスシートが所定の長さの素板ガラスに切断された後、所定のサイズにダイヤモンドカッターあるいはレーザ光により切り込み線(スクライブ線)が入れられ、切り込み線に沿って折り曲げられることにより切断され、製品サイズのガラス基板が得られる。なお、ガラスシート、素板ガラスまたはガラス基板は、レーザ光による熱応力により切断される場合もある。製品サイズのガラス基板は、端面の研削および研磨等の加工が施される。その後、ガラス基板は洗浄工程、検査工程を経て、梱包され、出荷される。以下では、素板ガラスおよび製品サイズのガラス基板を総称してガラス板という。 In the manufacturing process of a glass substrate, a thin and strip-shaped glass sheet is cut into a raw glass plate of a predetermined length, and then a cut line (scribe line) is put into a predetermined size by a diamond cutter or laser light. The glass substrate of a product size is obtained. In addition, a glass sheet, a base plate glass, or a glass substrate may be cut | disconnected by the thermal stress by a laser beam. Product size glass substrates are subjected to processing such as grinding and polishing of the end faces. Thereafter, the glass substrate is packed and shipped through a cleaning process and an inspection process. Hereinafter, the base plate glass and the product-size glass substrate are collectively referred to as a glass plate.
例えば上記の検査工程において、ガラス板の搬送には、ガラス板の裏面に気体を吹き付けてガラス板をほぼ水平に支持して搬送する装置が用いられている。このような搬送装置によってガラス板を浮上させて搬送する際に、ガラス板のたわみや装置の平坦度の異常などより、ガラス板の一部と搬送装置の一部とが接触することがある。ガラス板と搬送装置とが接触すると、ガラス板に微小な傷や割れなどの損傷が発生し、ガラス板の機械的な強度を低下させるおそれがある。 For example, in the inspection process described above, an apparatus is used for transporting a glass plate by blowing gas on the back surface of the glass plate and supporting the glass plate substantially horizontally. When the glass plate is lifted and transported by such a transport device, a part of the glass plate and a part of the transport device may come into contact due to the deflection of the glass plate or an abnormality in the flatness of the device. When the glass plate and the conveying device come into contact with each other, damage such as minute scratches and cracks may occur on the glass plate, which may reduce the mechanical strength of the glass plate.
このような搬送装置とワークとの接触を防止する技術として、特開2011−84352号公報には、ワークに部分的な反りや撓みが発生したときに、これを検知して補正できるワーク浮上装置が開示されている。
また、ガラス基板の破壊を検出する方法として、AEセンサを用いる方法が知られている。特開2003−247986号公報には、ガラス基板の割れによる音波信号をそれに類似したノイズと高精度に区別して検出する破損検出方法が開示されている。
As a technique for preventing such contact between the conveying device and the workpiece, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-84352 discloses a workpiece levitation device that can detect and correct a partial warpage or deflection of the workpiece. Is disclosed.
A method using an AE sensor is known as a method for detecting the breakage of the glass substrate. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-247986 discloses a breakage detection method for detecting a sound wave signal due to a crack of a glass substrate by distinguishing it from noise similar to it with high accuracy.
上記特許文献1に記載された技術では、センサによってワークの浮上距離を計測するとしている。しかし、ガラス板と搬送装置との距離は、例えば数十μmと非常に小さく、ガラス板が大型化および薄型化していることから、ガラス板全面の接触を監視することは困難である。 In the technique described in Patent Document 1, the flying distance of the workpiece is measured by a sensor. However, the distance between the glass plate and the conveying device is very small, for example, several tens of μm, and since the glass plate is enlarged and thinned, it is difficult to monitor contact on the entire surface of the glass plate.
また、上記特許文献2に記載された技術は、薬液処理工程や洗浄処理工程などで発生するガラス基板の割れの検出を可能としている。しかし、ガラス基板を浮上させて搬送する装置とガラス基板との接触を効果的に検出することについては記載されていない。 Moreover, the technique described in the said patent document 2 enables the detection of the crack of the glass substrate which generate | occur | produces at a chemical | medical solution processing process, a washing | cleaning processing process, etc. However, there is no description about effectively detecting contact between a glass substrate and a device that floats and conveys the glass substrate.
そこで、本発明は、ガラス板を浮上させて搬送する装置とガラス板との接触を、ガラス板の全面に亘って効果的に検出することができるガラス板の製造方法、搬送方法および損傷検出方法を提供する。 Therefore, the present invention provides a glass plate manufacturing method, a transport method, and a damage detection method capable of effectively detecting contact between a glass plate and a device that floats and transports the glass plate over the entire surface of the glass plate. I will provide a.
本発明の一態様であるガラス板の製造方法は、ガラス板の下面に気体を吹き付けて前記ガラス板を浮上させる装置を用いて前記ガラス板を搬送する工程を有し、前記ガラス板を搬送する工程において、前記ガラス板と前記装置との接触により発生する弾性波を検出して前記接触を判定する。
また、本発明の別の態様であるガラス板の搬送方法は、ガラス板の下面に気体を吹き付けて前記ガラス板を浮上させる装置を用いて前記ガラス板を搬送する際に、前記ガラス板と前記装置との接触により発生する弾性波を検出して前記接触を判定する。
また、本発明の別の態様であるガラス板の損傷検出方法は:ガラス板に損傷が発生したときに発生する弾性波の周波数、振幅、波形、発生時間および発生間隔から選択される1以上の情報に閾値を設定する工程と;前記弾性波を検出して前記情報を抽出し、前記閾値と比較して前記損傷を判定する工程と;を有する。
The manufacturing method of the glass plate which is 1 aspect of this invention has the process of conveying the said glass plate using the apparatus which sprays gas on the lower surface of a glass plate, and floats the said glass plate, and conveys the said glass plate In the process, the contact is determined by detecting an elastic wave generated by contact between the glass plate and the device.
In addition, the method for transporting a glass plate according to another aspect of the present invention, when transporting the glass plate using a device that blows gas onto the lower surface of the glass plate to float the glass plate, The contact is determined by detecting an elastic wave generated by contact with the apparatus.
According to another aspect of the present invention, there is provided a glass plate damage detection method comprising: one or more selected from a frequency, an amplitude, a waveform, a generation time, and a generation interval of an elastic wave generated when the glass plate is damaged. Setting a threshold value for information; detecting the elastic wave to extract the information; and comparing the threshold value to determine the damage.
本発明によれば、ガラス板を浮上させて搬送する装置とガラス板との接触を、ガラス板の全面に亘って効果的に検出することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the contact of the apparatus which floats and conveys a glass plate and a glass plate can be detected effectively over the whole surface of a glass plate.
以下、本発明のガラス板の製造方法について本実施形態に基づいて詳細に説明する。
本実施形態で製造されるガラス板は、液晶表示装置用ディスプレイに用いるガラス基板であり、例えば厚さが0.5〜0.7mmであり、2200mm×2500mm(縦×横)のサイズの薄板である。
Hereinafter, the manufacturing method of the glass plate of this invention is demonstrated in detail based on this embodiment.
The glass plate manufactured by this embodiment is a glass substrate used for the display for liquid crystal display devices, for example, is 0.5-0.7 mm in thickness, and is a thin plate of the size of 2200 mm x 2500 mm (length x width). is there.
なお、本実施形態で製造されるガラス板は、上記に限定されず、携帯電話機などの電子機器の表示画面に用いられるカバーガラスや、プラズマ・ディスプレイ・パネル、有機エレクトロ・ルミネッセンス(EL)などのフラットパネルディスプレイ(Flat Panel Display:FPD)に用いられる板状ガラスであってもよい。 In addition, the glass plate manufactured by this embodiment is not limited to the above, Cover glass used for the display screen of electronic devices, such as a mobile telephone, a plasma display panel, organic electroluminescence (EL), etc. It may be a plate glass used for a flat panel display (FPD).
本実施形態で製造されるガラス板は、特に限定されないが、例えば、以下の組成比率のガラス板に適用され得る。例えば、Li、Na、及びKのいずれの成分も含有されていないか、あるいは、Li、Na、及びKのいずれか少なくとも1つの成分が含有されているとしても、Li、Na、及びKの内含有する成分の合計量が、0.5質量%以下であるガラス組成を有することが好ましい。ガラス組成は、以下に示すものが好適に例示される。
(a)SiO2:50〜70質量%、
(b)B2O3:5〜18質量%、
(c)Al2O3:10〜25質量%、
(d)MgO:0〜10質量%、
(e)CaO:0〜20質量%、
(f)SrO:0〜20質量%、
(g)BaO:0〜10質量%、
(h)RO:5〜20質量%(ただしRはMg、Ca、SrおよびBaから選ばれる少なくとも1種であり、ROは、MgO、CaO、SrOおよびBaOのうち含有する成分の合計)、
(i)R’2O:0.05質量%を超え0.5質量%以下(ただしR’はLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種であり、R’2OはLi2O、Na2O及びK2Oのうち含有する成分の合計)、
(j)酸化錫と、酸化鉄および酸化セリウムなどから選ばれる少なくとも1種の金属酸化物を合計で0.05〜1.5質量%。
なお、上記(i),(j)の組成は必須ではないが、(i),(j)の組成を含むことが好ましい。上記のガラスには、As2O3、Sb2O3およびPbOを実質的に含まず、SnO2が含まれている。
また、本実施形態のガラス板に用いるガラスは、(i)のR’2Oの含有が実質的に0質量%である無アルカリガラスであっても構わない。すなわち、本実施形態のガラス板に用いるガラスは、(i)の組成を含むアルカリ微量含有ガラスまたは無アルカリガラスである。
Although the glass plate manufactured by this embodiment is not specifically limited, For example, it can be applied to the glass plate of the following composition ratios. For example, any component of Li, Na, and K is not contained, or even if at least one component of Li, Na, and K is contained, It is preferable that the total amount of the components to be contained has a glass composition that is 0.5% by mass or less. The glass composition is preferably exemplified as follows.
(A) SiO 2 : 50 to 70% by mass,
(B) B 2 O 3 : 5 to 18% by mass,
(C) Al 2 O 3 : 10 to 25% by mass,
(D) MgO: 0 to 10% by mass,
(E) CaO: 0 to 20% by mass,
(F) SrO: 0 to 20% by mass,
(G) BaO: 0 to 10% by mass,
(H) RO: 5 to 20% by mass (wherein R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba, and RO is the total of components contained in MgO, CaO, SrO and BaO),
(I) R ′ 2 O: more than 0.05% by mass and 0.5% by mass or less (where R ′ is at least one selected from Li, Na and K, and R ′ 2 O is Li 2 O, Na 2 O and the sum of the components contained in K 2 O),
(J) 0.05 to 1.5% by mass in total of tin oxide and at least one metal oxide selected from iron oxide and cerium oxide.
The compositions (i) and (j) are not essential, but preferably include the compositions (i) and (j). The glass is substantially free of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and PbO and contains SnO 2 .
Moreover, the glass used for the glass plate of this embodiment may be an alkali-free glass in which the content of R ′ 2 O in (i) is substantially 0% by mass. That is, the glass used for the glass plate of the present embodiment is a glass containing a trace amount of alkali or a non-alkali glass containing the composition (i).
図1は、本実施形態のガラス板の製造方法の流れを示すフローチャートである。
図1に示すように、熔融されたガラスが、例えばダウンドロー法あるいはフロート法により、所定の厚さの帯状のガラスシートに成形される(ステップS1)。
FIG. 1 is a flowchart showing the flow of the glass plate manufacturing method of the present embodiment.
As shown in FIG. 1, the melted glass is formed into a strip-shaped glass sheet having a predetermined thickness by, for example, a down draw method or a float method (step S1).
次に、成形された帯状のガラスシートがスクライブおよび切断され、所定のサイズの素板ガラスが得られる。素板ガラスは、さらにスクライブおよび切断され、製品サイズのガラス基板が得られる(ステップS2)。得られたガラス基板には、端面の研削、研磨およびコーナカットを含む端面加工が行われる(ステップS3)。 Next, the formed strip-shaped glass sheet is scribed and cut to obtain a glass plate of a predetermined size. The base glass is further scribed and cut to obtain a glass substrate having a product size (step S2). The obtained glass substrate is subjected to end face processing including end face grinding, polishing, and corner cutting (step S3).
上記スクライブでは、ダイヤモンドカッター等を用いて、ガラスに微小なスジ状の傷である切り込み線(スクライブ線)が形成される。素板ガラスおよびガラス基板を含むガラス板の切断は、スクライブ線に沿って機械あるいはマニュアルにより切断される。あるいは、レーザ光によるスクライブおよび熱衝撃によりガラス板を切断することもできる。 In the scribe, a cut line (scribe line) that is a fine streak-like scratch is formed in glass using a diamond cutter or the like. The glass plate including the base glass and the glass substrate is cut along a scribe line by a machine or a manual. Alternatively, the glass plate can be cut by scribing with laser light and thermal shock.
この後、ガラス基板の洗浄が行われる(ステップS4)。洗浄されたガラス板はキズ、塵、汚れあるいは光学欠陥を含む傷が無いか、光学的検査が行われる(ステップS5)。検査により品質の適合したガラス板は、ガラス板を保護する紙と交互に積層されてパレットに積載され、梱包される(ステップS6)。梱包されたガラス板は納入先業者に出荷される(ステップS7)。 Thereafter, the glass substrate is cleaned (step S4). The cleaned glass plate is optically inspected for scratches, dust, dirt, or scratches including optical defects (step S5). The glass plates that are suitable for quality by inspection are alternately stacked with paper that protects the glass plates, loaded on a pallet, and packed (step S6). The packed glass plate is shipped to a supplier (step S7).
例えば、検査(ステップS5)に用いられる光学自動検査機へのガラス板の搬入および搬出や、検査中のガラス板の搬送に、ガラス板の裏面に気体を吹き付けて水平状態に支持して搬送する浮上搬送装置が用いられる。 For example, the glass plate is carried into and out of the optical automatic inspection machine used for inspection (step S5), and the glass plate being inspected is transported by blowing a gas onto the back surface of the glass plate and supporting it in a horizontal state. A floating transport device is used.
図2は浮上搬送装置の一例を示す斜視図である。図3は、浮上搬送装置における信号の流れを示す図である。図2に示すように、浮上搬送装置100は、第1の浮上搬送部10と、第2の浮上搬送部20と、リニアガイド30と、を備えている。図3に示すように、浮上搬送装置100は、AEセンサ40と、アンプ50と、バンドパスフィルタ60と、処理部70と、を備えている。本実施形態では、連続する2つの浮上搬送部10,20を備える例について説明するが、浮上搬送部は1つであっても、3つ以上であっても良い。 FIG. 2 is a perspective view showing an example of the levitation transport apparatus. FIG. 3 is a diagram illustrating a signal flow in the levitating apparatus. As shown in FIG. 2, the levitation conveyance apparatus 100 includes a first levitation conveyance unit 10, a second levitation conveyance unit 20, and a linear guide 30. As shown in FIG. 3, the levitation transport apparatus 100 includes an AE sensor 40, an amplifier 50, a band pass filter 60, and a processing unit 70. Although this embodiment demonstrates the example provided with two continuous levitation conveyance parts 10 and 20, there may be one levitation conveyance part or three or more.
第1の浮上搬送部10は、ガラス板Gの搬送方向の添って延びる複数の気体噴出部11を備えている。第1の浮上搬送部10は、複数の気体噴出部11に形成された複数のオリフィスから気体を噴出および吸引することにより、ガラス板Gを安定して浮上させる。第1の浮上搬送部10の気体噴出部11は、例えば中実の金属材料により形成されている。 The first levitation transport unit 10 includes a plurality of gas ejection units 11 extending along the transport direction of the glass sheet G. The first levitation transport unit 10 stably floats the glass plate G by ejecting and sucking gas from a plurality of orifices formed in the plurality of gas ejection units 11. The gas ejection part 11 of the first levitation transport part 10 is made of, for example, a solid metal material.
第2の浮上搬送部20は、ガラス板Gの搬送方向を横切って延びる複数の気体噴出部21を備えている。第2の浮上搬送部20は、複数の気体噴出部21の表面の無数の微小孔から気体を噴出および吸引することにより、ガラス板Gを安定して精密に浮上させる。第2の浮上搬送部20の気体噴出部21は、例えば多孔質材料のカーボンにより形成されている。 The second levitation transport unit 20 includes a plurality of gas ejection units 21 extending across the transport direction of the glass sheet G. The second levitation transport unit 20 stably and precisely floats the glass plate G by ejecting and sucking gas from countless minute holes on the surface of the plurality of gas ejection units 21. The gas ejection part 21 of the second levitation transport part 20 is made of, for example, carbon of a porous material.
リニアガイド30は、ガラス板Gの端面を保持する保持部31と、保持部31を第1の浮上搬送部10および第2の浮上搬送部20に沿って移動させる搬送部32と、を備えている。リニアガイド30は、保持部31の搬送部32に対する位置情報の信号を、処理部70に出力するように設けられている。 The linear guide 30 includes a holding unit 31 that holds the end face of the glass plate G, and a conveyance unit 32 that moves the holding unit 31 along the first levitation conveyance unit 10 and the second levitation conveyance unit 20. Yes. The linear guide 30 is provided so as to output a position information signal for the transport unit 32 of the holding unit 31 to the processing unit 70.
保持部31は、図4に示すように、ガラス板Gの一辺の予め定められた位置を保持する。保持部31は、例えば、ガラス板Gを保持するための吸着機構を備えている。また、保持部31には、AEセンサ40が設けられている。
搬送部32は、保持部31を、図4に矢印で示すガラス板Gの搬送方向に沿って移動させるリニア駆動機構を備えている。
As shown in FIG. 4, the holding unit 31 holds a predetermined position on one side of the glass plate G. The holding unit 31 includes, for example, a suction mechanism for holding the glass plate G. Further, the holding unit 31 is provided with an AE sensor 40.
The conveyance unit 32 includes a linear drive mechanism that moves the holding unit 31 along the conveyance direction of the glass sheet G indicated by an arrow in FIG.
AEセンサ40は、ガラス板Gと、第1の浮上搬送部10または第2の浮上搬送部20との接触によって発生する弾性波(Acoustic Emission)を検出して、弾性波に対応する電気信号をアンプ50に出力する。保持部31に設けられたAEセンサ40は、ガラス板Gを伝播した弾性波を検出する。 The AE sensor 40 detects an elastic wave (Acoustic Emission) generated by the contact between the glass plate G and the first levitation conveyance unit 10 or the second levitation conveyance unit 20, and generates an electrical signal corresponding to the elastic wave. Output to the amplifier 50. The AE sensor 40 provided in the holding unit 31 detects an elastic wave that has propagated through the glass plate G.
AEセンサ40は、第1の浮上搬送部10の気体噴出部11の各々、または第2の浮上搬送部20の気体噴出部21の各々に設けても良い。この場合、AEセンサ40は、気体噴出部11,21を伝播した弾性波を検出する。気体噴出部11,21の各々に1つずつAEセンサ40を設ける場合は、気体噴出部11,21のいずれか一方の端部に設けることが好ましい。またAEセンサ40は、各々の気体噴出部11,21に2つ以上設けてもよい。この場合、少なくとも各々の気体噴出部11,21の両端に設けることがより好ましい。なお、弾性波の減衰を防止する観点から、AEセンサ40は多孔質材料の気体噴出部21よりも中実材料の気体噴出部11に設けることが好ましい。 The AE sensor 40 may be provided in each of the gas ejection units 11 of the first levitation transport unit 10 or each of the gas ejection units 21 of the second levitation transport unit 20. In this case, the AE sensor 40 detects elastic waves that have propagated through the gas ejection portions 11 and 21. When one AE sensor 40 is provided for each of the gas ejection portions 11 and 21, it is preferable to provide the AE sensor 40 at one end of the gas ejection portions 11 and 21. Two or more AE sensors 40 may be provided in each gas ejection part 11, 21. In this case, it is more preferable to provide at least both ends of each gas ejection part 11, 21. From the viewpoint of preventing the attenuation of the elastic wave, the AE sensor 40 is preferably provided in the gas ejection portion 11 of the solid material rather than the gas ejection portion 21 of the porous material.
アンプ50は、AEセンサ40から入力された信号を増幅してバンドパスフィルタ60へ出力するように設けられている。
バンドパスフィルタ60は、ガラス板Gと気体噴出部11または21との接触により発生する弾性波に対応する周波数帯の信号を通過させるように構成されている。
The amplifier 50 is provided to amplify the signal input from the AE sensor 40 and output the amplified signal to the band pass filter 60.
The band pass filter 60 is configured to pass a signal in a frequency band corresponding to an elastic wave generated by contact between the glass plate G and the gas ejection part 11 or 21.
処理部70は、バンドパスフィルタ60を通過した弾性波に対応する信号が入力されると、ガラス板Gと第1の浮上搬送部10または第2の浮上搬送部20とが接触したと判定する。このとき、処理部70において、接触を判定したガラス板Gの個体識別情報に、浮上搬送部10または20と接触したことを記録するようにしてもよい。処理部70としては、例えばパーソナルコンピュータ(PC)を用いることができる。 When the signal corresponding to the elastic wave that has passed through the bandpass filter 60 is input, the processing unit 70 determines that the glass plate G and the first levitation conveyance unit 10 or the second levitation conveyance unit 20 are in contact with each other. . At this time, the processing unit 70 may record the contact with the levitation transport unit 10 or 20 in the individual identification information of the glass plate G that has been determined to be in contact. As the processing unit 70, for example, a personal computer (PC) can be used.
処理部70は、バンドパスフィルタ60から入力された弾性波に対応する信号を処理して、ガラス板Gと、第1の浮上搬送部10または第2の浮上搬送部20との接触の状態を判別するようにしてもよい。また、処理部70は、上記リニアガイド30から入力された信号を処理して、ガラス板Gの搬送方向における位置を特定するようにしてもよい。 The processing unit 70 processes a signal corresponding to the elastic wave input from the bandpass filter 60 to determine the contact state between the glass plate G and the first levitation conveyance unit 10 or the second levitation conveyance unit 20. You may make it discriminate | determine. Further, the processing unit 70 may process the signal input from the linear guide 30 and specify the position of the glass sheet G in the transport direction.
処理部70には、ガラス板Gと浮上搬送部10,20との接触によってガラス板Gに発生する損傷の種類と、そのときに発生する弾性波との関係を、予め保存しておいてもよい。すなわち、どのような種類の損傷が発生したときに、どのような弾性波が発生するかを予め特定しておくことが好ましい。 The processing unit 70 may store in advance the relationship between the type of damage that occurs in the glass plate G due to the contact between the glass plate G and the floating conveyance units 10 and 20 and the elastic waves that are generated at that time. Good. That is, it is preferable to specify in advance what kind of elastic wave is generated when what kind of damage occurs.
例えば、ガラス板Gと、第1の浮上搬送部10または第2の浮上搬送部20との接触によって、ガラス板Gに基準を超えるキズが発生したときの弾性波の周波数、振幅、波形、発生時間および発生間隔などの情報を収集し、それぞれの情報に閾値を設定する。
同様に、ガラス板Gと、第1の浮上搬送部10または第2の浮上搬送部20との接触によって、ガラス板Gに基準を超えるクラックが発生したときの弾性波の周波数、振幅、波形、発生時間および発生間隔などの情報を収集し、それぞれの情報に閾値を設定する。
For example, the frequency, amplitude, waveform, and generation of the elastic wave when the glass plate G is damaged by exceeding the standard due to the contact between the glass plate G and the first levitation conveyance unit 10 or the second levitation conveyance unit 20. Information such as time and occurrence interval is collected, and a threshold is set for each information.
Similarly, the frequency, amplitude, and waveform of the elastic wave when a crack exceeding the reference occurs in the glass plate G due to the contact between the glass plate G and the first levitation conveyance unit 10 or the second levitation conveyance unit 20. Information such as occurrence time and occurrence interval is collected, and a threshold is set for each information.
また、ガラス板Gと、第1または第2浮上搬送装置との接触によって、ガラス板Gに基準を超える損傷が見られなかった場合の弾性波の波数、振幅、波形、発生時間および発生間隔などの情報を収集し、それぞれの情報に閾値を設定する。
上記のように設定した閾値は、ガラス板Gに発生する損傷の種類と関連付けて、予め処理部70に保存しておく。
Moreover, the wave number, amplitude, waveform, generation time, generation interval, etc. of the elastic wave when the glass plate G is not damaged beyond the reference by the contact between the glass plate G and the first or second levitating and conveying device. Are collected, and a threshold is set for each piece of information.
The threshold set as described above is stored in the processing unit 70 in advance in association with the type of damage that occurs in the glass plate G.
なお、ガラス板Gと浮上搬送部10,20との接触の検出、接触によりガラス板Gに発生した損傷の検出、またはガラス板Gに発生した損傷の種類の特定などの目的に応じて、閾値を設定する弾性波の情報を選択することができる。すなわち、閾値は、弾性波の周波数、振幅、波形、発生時間および発生間隔などの情報のうち、2以上の情報に設定しても良く、いずれか1つの情報に設定しても良い。 It should be noted that the threshold value is determined in accordance with purposes such as detection of contact between the glass plate G and the levitation conveyance unit 10, 20, detection of damage generated in the glass plate G due to contact, or identification of the type of damage generated in the glass plate G. Can be selected. That is, the threshold value may be set to two or more pieces of information such as the frequency, amplitude, waveform, generation time, and generation interval of the elastic wave, or may be set to any one piece of information.
図5から図7は、リニアガイド30の変形例を示す平面図である。
図5に示すように、リニアガイド30は、例えばガラス板Gの両側に設けられ、ガラス板Gを複数の保持部31で保持しても良い。
5 to 7 are plan views showing modifications of the linear guide 30. FIG.
As shown in FIG. 5, the linear guide 30 may be provided on both sides of the glass plate G, for example, and the glass plate G may be held by a plurality of holding portions 31.
また、図6に示すように、リニアガイド30は、ガラス板Gの複数の端縁を保持する保持部31aを有していても良い。この場合、保持部31aには、ガラス板Gの各辺に対応する複数のAEセンサ40を設けても良い。図6に示すようなL型の保持部31aを用いる場合には、例えば前工程からガラス板G受け入れ、または後工程にガラス板Gを送り出すために、保持部31aを鉛直方向に移動させてガラス板Gから退避させる退避機構を備えていることが好ましい。
また、図7に示すようにリニアガイド30をガラス板Gの両側に設け、ガラス板Gの前後左右を保持部31aにより保持しても良い。この場合、ガラス板Gの前後左右にAEセンサ40を設けても良い。
As shown in FIG. 6, the linear guide 30 may have a holding portion 31 a that holds a plurality of edges of the glass plate G. In this case, the holding unit 31a may be provided with a plurality of AE sensors 40 corresponding to the respective sides of the glass plate G. When the L-shaped holding part 31a as shown in FIG. 6 is used, for example, in order to receive the glass plate G from the previous process or to send the glass sheet G to the subsequent process, the holding part 31a is moved in the vertical direction to It is preferable that a retracting mechanism for retracting from the plate G is provided.
Moreover, as shown in FIG. 7, the linear guide 30 may be provided on both sides of the glass plate G, and the front, rear, left and right of the glass plate G may be held by the holding portions 31a. In this case, the AE sensors 40 may be provided on the front, rear, left and right of the glass plate G.
次に、本実施形態において、ガラス板Gと浮上搬送部10,20との接触を検出する流れについて説明する。
例えば、図1に示す洗浄(ステップS4)を終えたガラス板Gは、図2に示す浮上搬送装置100によって、検査(ステップS5)を行う自動検査機に搬入される。
図2に示すように、浮上搬送装置100は、第1の浮上搬送部10の気体噴出部11のオリフィスからガラス板Gの下面に気体を噴出する。これにより、浮上搬送装置100は、ガラス板Gを気体噴出部11から数十μm程度上方に浮上させて水平状態に支持する。気体噴出部11は複数のオリフィスからの気体の噴出と同時に、他の複数のオリフィスによって気体の吸引を行って、ガラス板Gの搬送時の挙動を安定させる場合もある。
Next, in the present embodiment, a flow for detecting contact between the glass plate G and the levitation conveyance units 10 and 20 will be described.
For example, the glass plate G that has been cleaned (step S4) shown in FIG. 1 is carried into an automatic inspection machine that performs inspection (step S5) by the levitation conveyance device 100 shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the levitation transport apparatus 100 ejects gas from the orifice of the gas ejection section 11 of the first levitation transport section 10 to the lower surface of the glass plate G. Thereby, the levitation conveyance apparatus 100 floats the glass plate G upward about several tens of micrometers from the gas ejection part 11 and supports it in a horizontal state. The gas ejection part 11 may stabilize the behavior during conveyance of the glass sheet G by simultaneously sucking the gas from the plurality of orifices and sucking the gas through the other plurality of orifices.
浮上搬送装置100は、ガラス板Gの予め定められた位置をリニアガイド30の保持部31により保持する。リニアガイド30は、ガラス板Gを保持した保持部31を搬送部32によって移動させて、ガラス板Gを搬送方向に搬送すると共に、保持部31の搬送部32に対する位置の情報を処理部70に出力する。ガラス板Gは、リニアガイド30の保持部31の移動によって搬送され、第1の浮上搬送部10から第2の浮上搬送部20へと受け渡される。 The levitation conveyance apparatus 100 holds a predetermined position of the glass plate G by the holding unit 31 of the linear guide 30. The linear guide 30 moves the holding unit 31 holding the glass plate G by the conveyance unit 32 to convey the glass plate G in the conveyance direction, and transmits information on the position of the holding unit 31 relative to the conveyance unit 32 to the processing unit 70. Output. The glass plate G is conveyed by the movement of the holding unit 31 of the linear guide 30 and is transferred from the first levitation conveyance unit 10 to the second levitation conveyance unit 20.
浮上搬送装置100は、第2の浮上搬送部20の気体噴出部21の無数の気孔からガラス板Gの下面に気体を噴出する。これにより、浮上搬送装置100は、ガラス板Gを気体噴出部21から数十μm程度上方に浮上させて水平状態に支持する。浮上搬送装置100は、複数の気体噴出部21による気体の噴出と同時に、他の複数の気体噴出部21による気体の吸引を行って、ガラス板Gの搬送時の挙動を安定させる場合もある。本実施形態において、第2の浮上搬送部20は、第1の浮上搬送部10と比較して、より精密な搬送が可能になっている。ガラス板Gは、例えばこの第2の浮上搬送部によって搬送されながら、自動検査器によって検査される。なお、第1の浮上搬送部10によって、精密な搬送を行うことも可能である。 The levitation transport apparatus 100 ejects gas from the innumerable pores of the gas ejection section 21 of the second levitation transport section 20 to the lower surface of the glass plate G. Thereby, the levitation conveyance apparatus 100 floats the glass plate G upward about several tens of micrometers from the gas ejection part 21 and supports it in a horizontal state. The levitation transport apparatus 100 may stabilize the behavior during transport of the glass sheet G by performing gas suction by the plurality of gas ejection sections 21 simultaneously with ejection of the gas by the plurality of gas ejection sections 21. In the present embodiment, the second levitation transport unit 20 can perform more precise transport than the first levitation transport unit 10. For example, the glass plate G is inspected by an automatic inspector while being conveyed by the second levitation conveyance unit. It is also possible to carry out precise conveyance by the first levitation conveyance unit 10.
浮上搬送装置100は、第1の浮上搬送部10または第2の浮上搬送部20とガラス板Gとの接触により発生した弾性波を、AEセンサ40によって検出する。
具体的には、ガラス板Gと浮上搬送部10,20との接触により発生した弾性波は、ガラス板Gを伝播して、リニアガイド30の保持部31に設けられたAEセンサ40に到達する。また、AEセンサ40が浮上搬送部10,20に設けられている場合には、ガラス板Gと浮上搬送部10,20との接触により発生した弾性波は、気体噴出部11または気体噴出部21を伝播してAEセンサ40に到達する。
The levitation conveyance apparatus 100 detects an elastic wave generated by the contact between the first levitation conveyance unit 10 or the second levitation conveyance unit 20 and the glass plate G by the AE sensor 40.
Specifically, the elastic wave generated by the contact between the glass plate G and the levitation conveyance units 10 and 20 propagates through the glass plate G and reaches the AE sensor 40 provided in the holding unit 31 of the linear guide 30. . Further, when the AE sensor 40 is provided in the levitation transport unit 10, 20, the elastic wave generated by the contact between the glass plate G and the levitation transport unit 10, 20 is generated by the gas ejection unit 11 or the gas ejection unit 21. And reach the AE sensor 40.
AEセンサ40は、上記のように伝播した弾性波を電気信号に変換してアンプ50へ出力する。アンプ50は、入力された電気信号を増幅して、バンドバスフィルタ60へ出力する。バンドパスフィルタ60は、アンプ50から入力された電気信号のうち、弾性波に対応する周波数帯の電気信号を通過させる。処理部70は、弾性波に対応する電気信号が入力されると、ガラス板Gと浮上搬送装置100とが接触したと判定する。 The AE sensor 40 converts the elastic wave propagated as described above into an electric signal and outputs it to the amplifier 50. The amplifier 50 amplifies the input electric signal and outputs it to the band-pass filter 60. The band-pass filter 60 passes an electric signal in a frequency band corresponding to an elastic wave among the electric signals input from the amplifier 50. When the electric signal corresponding to the elastic wave is input, the processing unit 70 determines that the glass plate G and the levitation conveyance device 100 are in contact with each other.
上記の弾性波は、ガラス板Gの大きさや、接触した場所によらず、ガラス板Gと浮上搬送部10,20との接触によって発生する。したがって、本実施形態によれば、浮上搬送部10,20とガラス板Gとの接触を、ガラス板Gの全面に亘って効果的に検出することができる。 The above-described elastic wave is generated by the contact between the glass plate G and the levitation conveyance units 10 and 20 regardless of the size of the glass plate G and the place where the glass plate G comes into contact. Therefore, according to the present embodiment, contact between the levitation conveyance units 10 and 20 and the glass plate G can be effectively detected over the entire surface of the glass plate G.
また、処理部70が、接触を判定したガラス板Gの個体識別情報に、浮上搬送部10,20と接触したことを記録していれば、後の工程でその情報に基づいて浮上搬送部10,20と接触したガラス板Gを特定することができる。すなわち、本実施形態によれば、処理部70の判定の結果に基づいてガラス板Gを選別し、問題があるガラス板Gを製造ラインから選択的に除外することができる。 In addition, if the processing unit 70 records that it has contacted the levitation conveyance units 10 and 20 in the individual identification information of the glass plate G that has been determined to be in contact, the levitation conveyance unit 10 is based on the information in a later step. , 20 can be identified. That is, according to this embodiment, the glass plate G can be selected based on the determination result of the processing unit 70, and the problematic glass plate G can be selectively excluded from the production line.
また、ガラス板Gの搬送速度は、弾性波の伝播速度と比較して無視できる程度に遅い。そのため、処理部70に弾性波に対応する電気信号が入力されたときに、リニアガイド30から入力された保持部31の位置情報により、ガラス板Gが気体噴出部11と接触したときの位置がほぼ特定される。これにより、ガラス板Gと浮上搬送部10,20との接触が発生するガラス板Gの位置を特定することができる。 Moreover, the conveyance speed of the glass plate G is slow so that it can be disregarded compared with the propagation speed of an elastic wave. Therefore, when the electrical signal corresponding to the elastic wave is input to the processing unit 70, the position when the glass plate G is in contact with the gas ejection unit 11 is determined by the positional information of the holding unit 31 input from the linear guide 30. Almost specified. Thereby, the position of the glass plate G which the contact with the glass plate G and the levitation conveyance parts 10 and 20 generate | occur | produces can be specified.
AEセンサ40が、リニアガイド30の保持部31だけでなく、第1の浮上搬送部10の各々の気体噴出部11または第2の浮上搬送部20の各々の気体噴出部21に1つずつ設けられている場合には、処理部70はガラス板Gの浮上搬送部10,20と接触した領域を特定することができる。 One AE sensor 40 is provided not only on the holding part 31 of the linear guide 30 but also on each gas ejection part 11 of each first levitation conveyance part 10 or each gas ejection part 21 of the second levitation conveyance part 20. If it is, the processing unit 70 can specify a region in contact with the floating conveyance units 10 and 20 of the glass plate G.
例えば、ガラス板Gが第1の浮上搬送部10の気体噴出部11の1つと接触した場合、弾性波が発生して、ガラス板Gと気体噴出部11のそれぞれを伝播する。弾性波は保持部31に設けられたAEセンサ40と、気体噴出部11に設けられたAEセンサ40に到達し、処理部70に弾性波に対応する電気信号が入力される。 For example, when the glass plate G comes into contact with one of the gas ejection portions 11 of the first levitation transport unit 10, an elastic wave is generated and propagates through each of the glass plate G and the gas ejection portion 11. The elastic wave reaches the AE sensor 40 provided in the holding unit 31 and the AE sensor 40 provided in the gas ejection unit 11, and an electric signal corresponding to the elastic wave is input to the processing unit 70.
このとき、処理部70において、信号を出力したセンサ40を特定することで、ガラス板Gが接触した気体噴出部11が特定される。
また、処理部70に弾性波に対応する電気信号が入力されたときに、リニアガイド30から入力された保持部31の位置情報により、ガラス板Gが気体噴出部11と接触したときの位置がほぼ特定される。
At this time, by specifying the sensor 40 that has output the signal in the processing unit 70, the gas ejection unit 11 with which the glass plate G is in contact is specified.
Further, when an electrical signal corresponding to the elastic wave is input to the processing unit 70, the position when the glass plate G contacts the gas ejection unit 11 is determined based on the positional information of the holding unit 31 input from the linear guide 30. Almost specified.
これにより、ガラス板Gにおいて、気体噴出部11と接触した領域を含み、上記特定された気体噴出部11と対向する帯状の領域が特定される。また、気体噴出部11において、ガラス板Gと接触した領域を含み、上記ガラス板の特定された領域と対向する帯状の領域が特定される。 Thereby, in the glass plate G, the strip | belt-shaped area | region facing the said gas ejection part 11 including the area | region which contacted the gas ejection part 11 is pinpointed. Moreover, in the gas ejection part 11, the strip | belt-shaped area | region which includes the area | region which contacted the glass plate G and opposes the specified area | region of the said glass plate is specified.
さらに、処理部70において、保持部31に設けられたAEセンサ40によって接触を検出した時間と、気体噴出部11に設けられたAEセンサ40によって接触を検出した時間との差を求める。この時間の差と、弾性波の伝播速度により、それぞれのAEセンサ40からガラス板Gと気体噴出部11とが接触した点までの距離の差が求められる。 Further, in the processing unit 70, a difference between the time when the contact is detected by the AE sensor 40 provided in the holding unit 31 and the time when the contact is detected by the AE sensor 40 provided in the gas ejection unit 11 is obtained. The difference in distance from each AE sensor 40 to the point where the glass plate G and the gas ejection part 11 are in contact with each other is obtained from the time difference and the propagation speed of the elastic wave.
処理部70により、ガラス板Gの上記帯状の領域内において、この距離の差を満たす領域を計算することで、ガラス板G上の気体噴出部11と接触した領域と、気体噴出部11上のガラス板Gと接触した領域とが求められる。このとき、AEセンサ40が気体噴出部11上の一方の端部に設けられていれば、ガラス板G上の気体噴出部11と接触した領域と、気体噴出部11上のガラス板Gと接触した領域とを、より確実に求めることができる。 By calculating a region satisfying the difference in the distance in the band-shaped region of the glass plate G by the processing unit 70, a region in contact with the gas ejection unit 11 on the glass plate G and a region on the gas ejection unit 11 are calculated. The area | region which contacted the glass plate G is calculated | required. At this time, if the AE sensor 40 is provided at one end on the gas ejection part 11, the area in contact with the gas ejection part 11 on the glass plate G and the glass plate G on the gas ejection part 11 are in contact with each other. The determined area can be obtained more reliably.
AEセンサ40が気体噴出部11に二つ以上、好ましくは少なくとも気体噴出部11の両端に設けられている場合には、処理部70によってこれらのAEセンサ40に弾性波が到達した時間の差をとることで、気体噴出部11上のガラス板Gと接触した領域を、より正確かつ容易に特定することができる。また、リニアガイド30の搬送部31の位置情報、および搬送部31に対するガラス板Gの位置情報を組み合わせることで、ガラス板G上の気体噴出部11と接触した領域をより容易に特定することができる。 When two or more AE sensors 40 are provided in the gas ejection part 11, preferably at least at both ends of the gas ejection part 11, the difference in time at which the elastic waves reach the AE sensors 40 by the processing part 70 is calculated. By taking, the area | region which contacted the glass plate G on the gas ejection part 11 can be pinpointed more correctly and easily. Moreover, the area | region which contacted the gas ejection part 11 on the glass plate G can be specified more easily by combining the positional information on the conveyance part 31 of the linear guide 30, and the positional information on the glass plate G with respect to the conveyance part 31. it can.
第2の浮上搬送部20においても、上記第1の浮上搬送部10と同様に、ガラス板G上の気体噴出部21と接触した領域と、気体噴出部21上のガラス板Gと接触した領域と、を特定することができる。 In the second levitation transport unit 20, similarly to the first levitation transport unit 10, a region in contact with the gas ejection unit 21 on the glass plate G and a region in contact with the glass plate G on the gas ejection unit 21. And can be specified.
また、図5に示すように、AEセンサ40がガラス板Gの両側を保持する搬送部31にそれぞれ設けられている場合には、処理部70によって、これらのAEセンサ40に弾性波が到達した時間の差をとることで、より正確にガラス板Gの浮上搬送部10,20と接触した領域を特定することができる。
同様に、図6及び図7に示すようなガラス板Gの複数の端縁を保持する搬送部31aに、ガラス板Gの各端縁に対応する複数のAEセンサ40が設けられている場合には、これらのAEセンサ40に弾性波が到達した時間の差をとることで、より正確にガラス板Gの浮上搬送部10,20と接触した領域を特定することができる。
In addition, as shown in FIG. 5, when the AE sensors 40 are respectively provided in the conveyance units 31 that hold both sides of the glass plate G, elastic waves have reached the AE sensors 40 by the processing unit 70. By taking the time difference, it is possible to more accurately specify the region in contact with the floating conveyance units 10 and 20 of the glass plate G.
Similarly, when a plurality of AE sensors 40 corresponding to the respective edges of the glass plate G are provided in the transport unit 31a that holds the plurality of edges of the glass plate G as shown in FIGS. The difference between the time when the elastic wave arrives at these AE sensors 40 can be taken to specify the region of the glass plate G that has come into contact with the floating conveyance units 10 and 20 more accurately.
このように、ガラス板Gにおいて気体噴出部11,21と接触した領域を特定することで、無駄な廃棄をなくして歩留りを向上させるとともに、損傷の検出精度を向上させることができる。また、気体噴出部11,21においてガラス板Gと接触した領域を特定することで、装置の調整を行って、接触を防止することができる。 Thus, by specifying the area | region which contacted the gas ejection parts 11 and 21 in the glass plate G, while eliminating wasteful waste and improving a yield, the detection accuracy of damage can be improved. Moreover, by specifying the area | region which contacted the glass plate G in the gas ejection parts 11 and 21, adjustment of an apparatus can be performed and a contact can be prevented.
処理部70に、ガラス板Gに発生する損傷の種類と、各損傷に対応する弾性波の周波数、振幅、波形、発生時間および発生間隔などの情報の閾値と、が保存されている場合には、リニアガイド30の保持部31に設けられたAEセンサ40によって検出された弾性波の信号に基づいて、ガラス板Gの損傷の状態を判定することができる。 When the type of damage that occurs in the glass plate G and threshold values of information such as the frequency, amplitude, waveform, generation time, and generation interval of the elastic wave corresponding to each damage are stored in the processing unit 70 Based on the elastic wave signal detected by the AE sensor 40 provided in the holding portion 31 of the linear guide 30, the state of damage to the glass plate G can be determined.
すなわち、ガラス板Gと浮上搬送部10,20との接触によって発生した弾性波は、ガラス板Gを伝播して、リニアガイド30の保持部31に設けられたAEセンサ40によって検出される。このAEセンサ40は、検出した弾性波に対応する電気信号を出力する。出力された電信号は、アンプ50、バンドパスフィルタ60を経て処理部70に入力され、処理部70によって処理されて、弾性波の周波数、振幅、波形、発生時間および発生間隔などの情報が抽出される。 That is, the elastic wave generated by the contact between the glass plate G and the levitation conveyance units 10 and 20 propagates through the glass plate G and is detected by the AE sensor 40 provided in the holding unit 31 of the linear guide 30. The AE sensor 40 outputs an electrical signal corresponding to the detected elastic wave. The output electric signal is input to the processing unit 70 through the amplifier 50 and the band pass filter 60, and is processed by the processing unit 70 to extract information such as the frequency, amplitude, waveform, generation time, and generation interval of the elastic wave. Is done.
抽出された情報は、処理部70において、保存された各損傷の状態を判定する閾値と比較される。処理部70は、比較の結果、各損傷に対応する閾値を超えているか否かに基づいて、抽出された情報が該当する損傷の状態を判定する。これにより、処理部70によって、基準を超えるキズ、クラック等の損傷が発生している、あるいは基準を超える損傷が発生していない、などのガラス板の損傷の状態が判定される。
処理部70は、判定された損傷の状態を、ガラス板Gの固体識別情報に記録する。これにより、後工程において基準を超える損傷が発生したガラス板Gを特定してガラス板Gを選別し、問題があるガラス板Gを製造ラインから選択的に除外することができる。
The extracted information is compared with a threshold value for determining the state of each stored damage in the processing unit 70. As a result of the comparison, the processing unit 70 determines the state of damage to which the extracted information corresponds based on whether or not the threshold value corresponding to each damage is exceeded. As a result, the processing unit 70 determines the state of damage to the glass plate, such as damage such as scratches or cracks exceeding the reference, or occurrence of damage exceeding the reference.
The processing unit 70 records the determined damage state in the solid identification information of the glass plate G. Thereby, the glass plate G in which damage exceeding a reference | standard generate | occur | produced in the post process can be specified, the glass plate G can be selected, and the problematic glass plate G can be selectively excluded from a production line.
以上、本発明の好ましい実施形態を説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。例えば、上述の実施形態では、ガラス板としてFPD用のガラス板を用いて説明したが、本発明はFPD用のガラス板に限定されない。 As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, this invention is not limited to said embodiment. Additions, omissions, substitutions, and other modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, the glass plate for FPD has been described as the glass plate, but the present invention is not limited to the glass plate for FPD.
10 第1の浮上搬送部
11 気体噴出部
20 第2の浮上搬送部
21 気体噴出部
30 リニアガイド
31,31a 保持部
32 搬送部
40 AEセンサ
50 アンプ
60 バンドパスフィルタ
70 処理部
100 浮上搬送装置
G ガラス板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st levitation conveyance part 11 gas ejection part 20 2nd levitation conveyance part 21 gas ejection part 30 linear guide 31, 31a holding | maintenance part 32 conveyance part 40 AE sensor 50 amplifier 60 band pass filter 70 processing part 100 levitation conveyance apparatus G Glass plate
Claims (7)
前記ガラス板を搬送する工程において、前記ガラス板と前記装置との接触により発生する弾性波を検出して前記接触を判定すること
を特徴とするガラス板の製造方法。 Having a step of transporting the glass plate using a device that blows gas to the lower surface of the glass plate to float the glass plate;
In the step of conveying the glass plate, the contact is determined by detecting an elastic wave generated by contact between the glass plate and the device.
前記ガラス板を搬送する工程において検出した前記弾性波の前記情報を抽出して前記閾値と比較することで、前記ガラス板の損傷を判定する工程と、を有する、
請求項1に記載のガラス板の製造方法。 Before the step of conveying the glass plate, setting a threshold value to at least one information selected from the frequency, amplitude, waveform, generation time and generation interval of the elastic wave;
A step of determining damage of the glass plate by extracting the information of the elastic wave detected in the step of conveying the glass plate and comparing it with the threshold value.
The manufacturing method of the glass plate of Claim 1.
前記損傷を検出する工程は、抽出した前記情報と前記閾値とを比較することで、前記損傷の種類を特定する工程を有する、
請求項2に記載のガラス板の製造方法。 The step of setting the threshold includes the step of extracting the information, the step of associating the information with the type of damage to the glass plate, and the step of setting the threshold for each type of damage,
The step of detecting the damage includes a step of identifying the type of damage by comparing the extracted information with the threshold value.
The manufacturing method of the glass plate of Claim 2.
請求項1から3のいずれか一項に記載のガラス板の製造方法。 After the step of conveying the glass plate, based on the result of the determination, the step of selecting the glass plate,
The manufacturing method of the glass plate as described in any one of Claim 1 to 3.
請求項1から4のいずれか一項に記載のガラス板の製造方法。 In the step of conveying the glass plate, the elastic wave is detected at a plurality of different positions, and the position where the contact of the glass plate occurs is specified.
The manufacturing method of the glass plate as described in any one of Claim 1 to 4.
を特徴とするガラス板の搬送方法。 When conveying the glass plate by using a device that blows gas to the lower surface of the glass plate to float the glass plate, the contact is determined by detecting elastic waves generated by the contact between the glass plate and the device. A method for transporting a glass plate.
前記弾性波を検出して前記情報を抽出し、前記閾値と比較して前記損傷を判定する工程と、を有する
ガラス板の損傷検出方法。 A step of setting a threshold according to the type of damage to one or more pieces of information selected from the frequency, amplitude, waveform, generation time, and generation interval of an elastic wave generated when the glass plate is damaged;
Detecting the elastic wave, extracting the information, and determining the damage by comparing with the threshold value.
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