JP6690980B2 - Glass substrate transfer method and glass substrate transfer device - Google Patents

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本発明は、ガラス基板の搬送方法、およびガラス搬送装置に関する。   The present invention relates to a glass substrate carrying method and a glass carrying device.

液晶表示装置やプラズマディスプレイ装置などのディスプレイの表示部の部品として平らなガラス板が使用される。以下の説明では、このようなガラス板をフラットパネルディスプレイ(FPD)用ガラス基板、あるいは単にガラス基板という。例えば、液晶表示装置においては、ガラス基板の間に封入された液晶に印加される電界を変化させ、液晶の配向を変化させることにより、動画の表示が可能になる。液晶表示装置の画像の表示の際に電界を変化させる必要があるため、ガラス基板には、電圧を印加するための透明な電極が形成される。   A flat glass plate is used as a component of a display unit of a display such as a liquid crystal display device or a plasma display device. In the following description, such a glass plate is referred to as a flat panel display (FPD) glass substrate or simply a glass substrate. For example, in a liquid crystal display device, a moving image can be displayed by changing the electric field applied to the liquid crystal enclosed between the glass substrates to change the orientation of the liquid crystal. Since it is necessary to change the electric field when displaying an image on the liquid crystal display device, a transparent electrode for applying a voltage is formed on the glass substrate.

ガラス基板上の電極に印加される電圧のオン・オフを制御するため、高品質な表示が必要なテレビ受像機などに用いられる液晶表示装置では、薄膜トランジスタ(TFT)を使ったアクティブ・マトリクス方式の制御が採用されている。このTFTもガラス基板上に形成される。具体的には、液晶ディスプレイでは、光の透過量を制御するTFT(Thin Film Transistor)と液晶、カラーフィルタとを構成要素としている。液晶ディスプレイにおけるカラーフィルタパネルの製造方法は、通常、ガラス基板の表面に黒色のマトリックスを形成し、続いて、赤、緑、青の異なる色相を順次、ストライプ状あるいはモザイク状等の色パターンで形成する方法が用いられている。   In order to control the on / off of the voltage applied to the electrodes on the glass substrate, liquid crystal display devices used in television receivers, etc., which require high quality display, use an active matrix method using thin film transistors (TFT). Control is adopted. This TFT is also formed on the glass substrate. Specifically, in a liquid crystal display, a TFT (Thin Film Transistor) that controls the amount of light transmission, a liquid crystal, and a color filter are components. A method for manufacturing a color filter panel in a liquid crystal display is usually a method of forming a black matrix on the surface of a glass substrate, and then sequentially forming different hues of red, green and blue in a stripe or mosaic color pattern. Method is used.

ディスプレイの高精細化に伴い、ガラス基板の表面に配置されるブラックマトリックスの線幅およびピッチは小さくなっている。例えば、ディスプレイの高コントラスト化を達成するために、ブラックマトリックスの高細線化・高精細化(具体的には、20μm未満の線幅)による開口率の向上、および、ブラックマトリックスの高い寸法精度による遮光性の向上が必要になっている。また、ディスプレイ画素数の高密度化に伴い、パターンサイズはカラーフィルタの用途並びにそれぞれの色により異なるが、一例としては、赤、緑、青の画素は200〜300μmから100μmへ、ブラックマトリックスは20μmから10μm、さらには5μmへと細線技術が開発されている。   The line width and the pitch of the black matrix arranged on the surface of the glass substrate have become smaller as the display becomes finer. For example, in order to achieve a high display contrast, the black matrix has a high fine line and high definition (specifically, a line width of less than 20 μm) to improve the aperture ratio, and a high dimensional accuracy of the black matrix. It is necessary to improve the light blocking effect. Further, as the number of display pixels is increased, the pattern size varies depending on the use of the color filter and each color. As an example, the red, green, and blue pixels are changed from 200 to 300 μm to 100 μm, and the black matrix is 20 μm. To 10 μm, and further to 5 μm, fine line technology has been developed.

このように、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板のガラス面上に、極めて薄い金属膜や半導体によって電極やアクティブな素子が形成されるため、ガラス基板のガラス表面には、極めて高い平坦性と極めて高い清浄性が要求される。   In this way, since electrodes and active elements are formed on the glass surface of the glass substrate for flat panel displays with an extremely thin metal film or semiconductor, the glass surface of the glass substrate has extremely high flatness and extremely high cleanliness. Sex is required.

このようなガラス基板の搬送には、搬送用ローラを用いた搬送方式が広く用いられている。搬送用ローラを用いた搬送方式の一例として、例えば、特許文献1に記載された方法が提案されている。特許文献1では、ガラス基板の搬送方向に沿って間隔をあけて複数本並べられ、かつ、複数のローラがシャフトに取り付けられてなる搬送ローラが回転駆動することで、ガラス基板は、搬送ローラ上を略水平な姿勢で搬送方向に沿って搬送される。   A transport method using a transport roller is widely used for transporting such a glass substrate. As an example of a transportation method using a transportation roller, for example, the method described in Patent Document 1 has been proposed. In Patent Document 1, a plurality of glass substrates are arranged on a carrier roller by rotatably driving a plurality of rollers arranged side by side along the carrying direction of the glass substrate and having a plurality of rollers attached to a shaft. Is transported along the transport direction in a substantially horizontal posture.

特開2008−285243号公報JP, 2008-285243, A

ガラス基板は、板厚が薄いほど、また、サイズが大きいほど、撓みやすい。従来の搬送方式を用いて、板厚が薄いあるいはサイズが大きいガラス基板を搬送したときに、搬送中にガラス基板が撓んで、ガラス基板の搬送方向の先端部が、前方にあるローラの下方にもぐり込む場合があった。   The thinner the glass substrate is and the larger the glass substrate is, the more easily the glass substrate is bent. When a glass substrate with a small thickness or a large size is transported using the conventional transport method, the glass substrate bends during transportation, and the front end of the glass substrate in the transport direction is located below the roller in front. There was a case to get in.

一方で、ガラス基板の製造工程では、成形されたガラス板を所定の基板サイズに切断する切断プロセスや、ガラス基板の端面を加工する端面加工プロセスなどで、切り屑などの異物が発生し、ガラス基板の表面に付着する場合がある。ガラス基板に異物が存在すると、パターンが良好に形成されず、最終製品であるFPDの不良の原因となる。また、ガラス基板に付着した異物は、ガラス基板の表面に傷を生じさせて、ガラス基板の機械的強度を低下させる場合がある。   On the other hand, in the glass substrate manufacturing process, foreign matter such as chips is generated in the cutting process of cutting the formed glass plate into a predetermined substrate size, the end face processing process of processing the end face of the glass substrate, and the like. It may adhere to the surface of the substrate. If foreign matter is present on the glass substrate, the pattern is not formed well, which causes a defect in the final product FPD. Further, the foreign matter attached to the glass substrate may cause scratches on the surface of the glass substrate and reduce the mechanical strength of the glass substrate.

本発明は、搬送中のガラス基板の撓みを抑制しつつ、ガラス基板の表面に付着した異物を除去することのできるガラス基板の搬送方法、およびガラス基板搬送装置を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a glass substrate carrying method and a glass substrate carrying device capable of removing foreign matter adhering to the surface of the glass substrate while suppressing the bending of the glass substrate during carrying.

本発明は、下記(1)から(4)を提供する。
(1)ガラス基板に流体を吹き付けて前記ガラス基板に浮上力を与えることで、前記ガラス基板の浮上状態を維持するステップと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を一方向に搬送するステップと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向のうちの第1の側において、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出し、前記第1の側と反対側の第2の側に流れた前記気体を吸い込むステップと、を備え、
前記浮上状態を維持するステップでは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記浮上力のうち、前記第1の側に位置する前記ガラス基板の第1の領域の部分を浮上させる第1の浮上力と、前記第2の側に位置する前記ガラス基板の第2の領域の部分を浮上させる第2の浮上力と、を調節し、
前記ガラス基板の第1の領域の部分が前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて、前記押付圧を受ける前記第1領域の部分に与える第1の浮上力を調節することを特徴とするガラス基板の搬送方法。
The present invention provides the following (1) to (4).
(1) maintaining a floating state of the glass substrate by spraying a fluid on the glass substrate to give a floating force to the glass substrate;
Transporting the glass substrate in one direction while maintaining the floating state,
A first direction out of the direction along the one direction or the direction crossing the one direction so that gas flows on the main surface of the glass substrate in the direction along the one direction or in the direction crossing the one direction. Side, the step of blowing the gas on the side of the main surface opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied, and sucking the gas that has flowed to the second side opposite to the first side, ,,
In the step of maintaining the levitated state, a portion of the levitating force in the first region of the glass substrate located on the first side is levitated so that the glass substrate is transported in a substantially horizontal posture. Adjusting a first levitation force and a second levitation force that levitates a portion of the second region of the glass substrate located on the second side;
It said first area portion of the glass substrate on the basis of the contact pressure substantially equal to the reference pressure received in the thickness direction from the gas, first lift force applied to the portion of the first region for receiving the contact pressure A method of transporting a glass substrate, the method comprising:

(2)ガラス基板に流体を吹き付けて前記ガラス基板に浮上力を与えることで、前記ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニットと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユニットと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向のうちの第1の側において、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出し、前記第1の側と反対側の第2の側に流れた前記気体を吸い込む吹出吸込ユニットと、を備え、
前記浮上ユニットは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記浮上力のうち、前記第1の側に位置する前記ガラス基板の第1の領域の部分を浮上させる第1の浮上力と、前記第2の側に位置する前記ガラス基板の第2の領域の部分を浮上させる第2の浮上力と、を調節する調節機構を有し、
前記調節機構は、前記気体が吹き出される前記搬送経路上の位置において、前記第1の領域の部分が前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて前記第1の浮上力を調節することを特徴とするガラス基板搬送装置。
(2) A levitation unit that maintains a levitation state of the glass substrate by applying a levitation force to the glass substrate by blowing a fluid onto the glass substrate,
A transport unit that transports the glass substrate in one direction along a transport path while maintaining the floating state,
A first direction out of the direction along the one direction or the direction crossing the one direction so that gas flows on the main surface of the glass substrate in the direction along the one direction or in the direction crossing the one direction. Side, on the side of the main surface opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied, the gas is blown out, and the gas that has flowed to the second side opposite to the first side is sucked in And a unit,
The levitation unit includes a first levitation unit for levitation a portion of the levitation force in a first region of the glass substrate located on the first side so that the glass substrate is transported in a substantially horizontal posture. An adjustment mechanism for adjusting a force and a second levitation force for levitating a portion of the second region of the glass substrate located on the second side,
At the position on the transfer path where the gas is blown out, the adjustment mechanism is configured such that, based on a reference pressure that is substantially equal to a pressing pressure that the portion of the first region receives from the gas in the plate thickness direction, A glass substrate transfer device characterized by adjusting the levitation force.

(3)ラス基板に浮上力を与えて、前記ガラス基板の浮上状態を維持するステップ
と、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を一方向に搬送するステップと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向
に気体が流れるよう、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側
で前記気体を吹き出すステップと、を備え、
前記浮上状態を維持するステップでは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよ
う、前記ガラス基板が前記気体から板厚方向に受ける押付圧を受ける前記ガラス基板の領
域に与える浮上力を調節することを特徴とするガラス基板の搬送方法。
(3) giving floating force to glass substrate, maintaining a floating state of the glass substrate,
Transporting the glass substrate in one direction while maintaining the floating state,
The gas flows on the main surface of the glass substrate in a direction along the one direction or in a direction intersecting the one direction, on the side of the main surface opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied. And a step of blowing out gas,
In the step of maintaining the levitation state, the levitation force applied to the region of the glass substrate, which receives the pressing pressure received from the gas in the plate thickness direction, is adjusted so that the glass substrate is transported in a substantially horizontal posture. A method of transporting a glass substrate, comprising:

(4)ラス基板に浮上力を与えて、前記ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニ
ットと、
前記浮上状態に維持しつつ前記ガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユ
ニットと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向
に気体が流れるよう、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側
で前記気体を吹き出す吹出ユニットと、を備え、
前記浮上ユニットは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記気体が吹
き出される前記搬送経路上の位置において、前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同
等の基準圧力に基づいて前記浮上力を調節する調節機構を有していることを特徴とするガ
ラス基板搬送装置。
(4) a floating unit that gives floating force to glass substrate, to maintain the floating state of the glass substrate,
A transport unit that transports the glass substrate in one direction along a transport path while maintaining the floating state,
The gas flows on the main surface of the glass substrate in a direction along the one direction or in a direction intersecting the one direction, on the side of the main surface opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied. A blowing unit that blows out gas,
The levitation unit has a reference pressure substantially equal to a pressing pressure received in the plate thickness direction from the gas at a position on the transfer path where the gas is blown so that the glass substrate is transferred in a substantially horizontal posture. A glass substrate transporting device having an adjusting mechanism for adjusting the levitation force based on the above.

本発明によれば、搬送中のガラス基板の撓みを抑制しつつ、ガラス基板の表面に付着した異物を除去することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the foreign material adhering to the surface of a glass substrate can be removed, suppressing the bending of the glass substrate during conveyance.

ガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of the manufacturing method of a glass substrate. ガラス基板搬送装置の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of a glass substrate conveying apparatus. ガラス基板搬送装置を側方から見て示す図である。It is a figure which shows a glass substrate conveyance apparatus seeing from a side. ガラス基板搬送装置を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a glass substrate conveying apparatus. (a)は、ガラス基板搬送装置の変形例を示す斜視図であり、(b)は、ガラス基板搬送装置の別の変形例を示す斜視図である。(A) is a perspective view which shows the modification of a glass substrate conveying apparatus, (b) is a perspective view which shows another modification of a glass substrate conveying apparatus. ガラス基板搬送装置のさらに別の変形例を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining another modification of a glass substrate conveyance device. 図6のガラス基板搬送装置を上方から見て示す図である。It is a figure which shows the glass substrate conveyance apparatus of FIG. 6 seeing from above.

以下、本実施形態のガラス基板の搬送方法、およびガラス基板搬送装置について説明する。
(1)ガラス基板の製造方法の概略
本実施形態で製造されるガラス基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイおよび有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ(FPD)に用いられる。ガラス基板Gは、例えば、0.2mm〜0.8mmの厚みを有し、かつ、縦680mm〜2200mmおよび横880mm〜2500mmのサイズを有する。
Hereinafter, the glass substrate carrying method and the glass substrate carrying device of the present embodiment will be described.
(1) Outline of Method for Manufacturing Glass Substrate The glass substrate manufactured in the present embodiment is used for a flat panel display (FPD) such as a liquid crystal display, a plasma display and an organic EL display. The glass substrate G has, for example, a thickness of 0.2 mm to 0.8 mm, and a size of 680 mm to 2200 mm in length and 880 mm to 2500 mm in width.

ガラス基板Gの一例として、以下の組成を有するガラスが挙げられる。   As an example of the glass substrate G, glass having the following composition can be given.

(a)SiO2:50質量%〜70質量%、
(b)Al23:10質量%〜25質量%、
(c)B23:5質量%〜18質量%、
(d)MgO:0質量%〜10質量%、
(e)CaO:0質量%〜20質量%、
(f)SrO:0質量%〜20質量%、
(g)BaO:0質量%〜10質量%、
(h)RO:5質量%〜20質量%(Rは、Mg、Ca、SrおよびBaから選択される少なくとも1種である。)、
(i)R’2O:0質量%〜2.0質量%(R’は、Li、NaおよびKから選択される少なくとも1種である。)、
(j)SnO2、Fe23およびCeO2から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物。
(A) SiO 2 : 50% by mass to 70% by mass,
(B) Al 2 O 3 : 10% by mass to 25% by mass,
(C) B 2 O 3 : 5% by mass to 18% by mass,
(D) MgO: 0% by mass to 10% by mass,
(E) CaO: 0% by mass to 20% by mass,
(F) SrO: 0% by mass to 20% by mass,
(G) BaO: 0% by mass to 10% by mass,
(H) RO: 5% by mass to 20% by mass (R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba),
(I) R ′ 2 O: 0% by mass to 2.0% by mass (R ′ is at least one selected from Li, Na and K),
(J) At least one metal oxide selected from SnO 2 , Fe 2 O 3 and CeO 2 .

なお、上記の組成を有するガラスは、0.1質量%未満の範囲で、その他の微量成分の存在が許容される。   In the glass having the above composition, the presence of other trace components is allowed within the range of less than 0.1% by mass.

図1は、ガラス基板Gの製造工程を表すフローチャートの一例である。ガラス基板Gの製造工程は、主として、成形工程(ステップS1)と、採板工程(ステップS2)と、切断工程(ステップS3)と、端面加工工程(ステップS4)と、粗面化工程(ステップS5)と、洗浄工程(ステップS6)と、検査工程(ステップS7)と、梱包工程(ステップS8)とからなる。   FIG. 1 is an example of a flowchart showing a manufacturing process of the glass substrate G. The manufacturing process of the glass substrate G mainly includes a forming process (step S1), a plate collecting process (step S2), a cutting process (step S3), an end surface processing process (step S4), and a roughening process (step). S5), a cleaning step (step S6), an inspection step (step S7), and a packing step (step S8).

成形工程S1では、ガラス原料を加熱して得られた熔融ガラスから、ダウンドロー法またはフロート法によって、ガラスシートが連続的に成形される。成形されたガラスシートは、歪みおよび反りが発生しないように温度制御されながら、ガラス徐冷点以下まで冷却される。   In the molding step S1, a glass sheet is continuously molded from a molten glass obtained by heating a glass raw material by a down draw method or a float method. The formed glass sheet is cooled to the glass annealing point or lower while controlling the temperature so that distortion and warpage do not occur.

採板工程S2では、成形工程S1で成形されたガラスシートが切断されて、所定の寸法を有する素板ガラスが得られる。   In the plate-drawing step S2, the glass sheet formed in the forming step S1 is cut to obtain a raw glass sheet having a predetermined size.

切断工程S3では、採板工程S2で得られた素板ガラスが切断されて、製品サイズのガラス基板Gが得られる。一般的に、素板ガラスは、カッターまたはレーザを用いて切断される。   In the cutting step S3, the raw glass plate obtained in the plate collecting step S2 is cut to obtain a product-sized glass substrate G. Generally, sheet glass is cut using a cutter or a laser.

端面加工工程S4では、切断工程S3で得られたガラス基板Gの端面加工が行われる。端面加工は、例えば、ガラス基板Gの端面の研磨および研削、ガラス基板Gのコーナーカットである。   In the end surface processing step S4, the end surface processing of the glass substrate G obtained in the cutting step S3 is performed. The end surface processing is, for example, polishing and grinding of the end surface of the glass substrate G, and corner cutting of the glass substrate G.

粗面化工程S5では、端面加工工程S4で端面加工処理が行われたガラス基板Gの表面粗さを増加させる粗面化処理が行われる。ガラス基板Gの粗面化処理は、例えば、フッ化水素を含むエッチャントを用いるウェットエッチングである。   In the surface roughening step S5, a surface roughening treatment for increasing the surface roughness of the glass substrate G, which has been subjected to the edge surface processing in the edge surface processing step S4, is performed. The roughening treatment of the glass substrate G is, for example, wet etching using an etchant containing hydrogen fluoride.

洗浄工程S6では、粗面化工程S5で粗面化処理が行われたガラス基板Gが洗浄される。ガラス基板Gには、素板ガラスの切断、および、ガラス基板Gの端面加工によって生じた微小なガラス片や、雰囲気中に存在する有機物等の異物が付着している。ガラス基板Gの洗浄によって、これらの異物が除去される。   In the cleaning step S6, the glass substrate G that has been roughened in the roughening step S5 is cleaned. To the glass substrate G, minute glass pieces produced by cutting the raw glass and processing the end surface of the glass substrate G, and foreign substances such as organic substances existing in the atmosphere are attached. By cleaning the glass substrate G, these foreign matters are removed.

検査工程S7では、洗浄工程S6で洗浄されたガラス基板Gが検査される。具体的には、ガラス基板Gが搬送されながら、ガラス基板Gの表面に存在する傷およびクラック、ガラス基板Gの表面に付着している異物、および、ガラス基板Gの内部に存在している微小な泡等の欠陥が、光学的に検知される。   In the inspection step S7, the glass substrate G cleaned in the cleaning step S6 is inspected. Specifically, while the glass substrate G is being conveyed, scratches and cracks existing on the surface of the glass substrate G, foreign matters attached to the surface of the glass substrate G, and minute particles existing inside the glass substrate G. Defects such as bubbles are optically detected.

梱包工程S8では、検査工程S7における検査に合格したガラス基板Gが、ガラス基板Gを保護するための合紙と交互にパレット上に積層されて、梱包される。梱包されたガラス基板Gは、FPDの製造業者等に出荷される。   In the packing step S8, the glass substrates G that have passed the inspection in the inspection step S7 are stacked on the pallet alternately with the interleaving paper for protecting the glass substrate G and packed. The packed glass substrate G is shipped to the FPD manufacturer or the like.

本実施形態のガラス基板の搬送方法は、例えば、採板工程(S2)、切断工程(S3)、端面加工工程(S4)の各工程の後に行われる。図2に、一例として、切断工程(S5)の後に行われるガラス基板Gの搬送を概略的に示す。切断工程(S3)は、図2に示す例において、切断ゾーン1に配置された切断装置10によって行われる。ガラス基板Gは、切断工程(S3)の後、端面加工工程(S4)の前に、切断ゾーン1を通過するように搬送方向(X方向)に沿って搬送される。切断ゾーン1に搬送されたガラス基板Gは、搬送を停止した状態で、あるいは、搬送されながら切断装置10による端面加工が施され、端面加工されたガラス基板Gは、下流側に搬送され、切断ゾーン1から搬出される。本実施形態のガラス基板の搬送方法を行うガラス基板搬送装置は、図2に示す例において、切断ゾーン1内の切断装置10の下流側に配置されている。   The method of transporting a glass substrate of the present embodiment is performed, for example, after each of the plate collecting step (S2), the cutting step (S3), and the end surface processing step (S4). FIG. 2 schematically shows, as an example, the conveyance of the glass substrate G performed after the cutting step (S5). The cutting step (S3) is performed by the cutting device 10 arranged in the cutting zone 1 in the example shown in FIG. The glass substrate G is transported along the transport direction (X direction) so as to pass through the cutting zone 1 after the cutting step (S3) and before the end surface processing step (S4). The glass substrate G conveyed to the cutting zone 1 is subjected to end face processing by the cutting device 10 while the conveyance is stopped or while being conveyed, and the end face processed glass substrate G is conveyed to the downstream side and cut. Unloaded from zone 1. The glass substrate carrying device for carrying out the glass substrate carrying method of the present embodiment is arranged in the cutting zone 1 on the downstream side of the cutting device 10 in the example shown in FIG.

(2)ガラス基板搬送装置の詳細
本実施形態のガラス基板搬送装置は、ガラス基板に浮上力を与えて、ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニットと、浮上状態に維持しつつガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユニットと、ガラス基板の主表面上を一方向に沿った方向または一方向と交差する方向に気体が流れるよう、浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で(例えば主表面に向けて)気体を吹き出す吹出ユニットと、を備え、浮上ユニットは、ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、気体が吹き出される搬送経路上の位置において、気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて浮上力を調節する調節機構を有している。
このガラス基板搬送装置では、浮上状態に維持されつつ搬送されるガラス基板の主表面のうち、浮上力が与えられる主表面と反対側の主表面の側で気体が吹き出され、当該主表面上を、搬送方向(一方向)に沿った方向または搬送方向と交差する方向に気体が流れる。この気体の流れが、ガラス基板の主表面に付着した異物に接触することで、異物は主表面から除去される。一方で、ガラス基板に与えられる浮上力が上記のように調節されることによって、吹き出された気体から押付圧を受けたガラス基板の部分が、浮上力に抗して沈み込むことが抑制される。このため、ガラス基板の撓みの発生が抑えられ、ガラス基板を略水平な姿勢で搬送することができる。すなわち、本実施形態によれば、搬送中のガラス基板の撓みを抑制しつつ、ガラス基板の表面に付着した異物を除去することができる。なお、主表面の側で気体を吹き出す態様として、当該主表面に向けて気体を吹き出す態様のほか、吹き出された気体の少なくとも一部が当該主表面に吹き付けられる態様が含まれる。また、主表面の側という場合、主表面と平行な方向に延在する平面内の位置であってガラス基板の端から外側の位置も、主表面の側に含まれる。
(2) Details of Glass Substrate Conveying Device The glass substrate conveying device of the present embodiment conveys a glass substrate while maintaining a floating state by applying a levitation force to the glass substrate to maintain the floating state of the glass substrate. A transport unit that transports in one direction along the path, and a main surface of the glass substrate to which a levitation force is applied so that gas flows on the main surface of the glass substrate in a direction along the one direction or in a direction intersecting with the one direction. And a blowing unit that blows out gas on the opposite main surface side (for example, toward the main surface), and the levitation unit is a transfer path through which gas is blown out so that the glass substrate is transferred in a substantially horizontal posture. At the upper position, there is an adjusting mechanism that adjusts the levitation force based on a reference pressure that is substantially equal to the pressing pressure received from the gas in the plate thickness direction.
In this glass substrate transporting apparatus, of the main surfaces of the glass substrate that are transported while being kept in a floating state, gas is blown out on the side of the main surface opposite to the main surface to which the levitation force is applied, and the gas is blown over the main surface. , The gas flows in a direction along the transport direction (one direction) or in a direction intersecting the transport direction. The foreign matter is removed from the main surface by contacting the foreign matter attached to the main surface of the glass substrate with the flow of the gas. On the other hand, by adjusting the levitation force applied to the glass substrate as described above, it is possible to prevent the portion of the glass substrate that receives the pressing pressure from the blown gas from sinking against the levitation force. . For this reason, the occurrence of bending of the glass substrate is suppressed, and the glass substrate can be transported in a substantially horizontal posture. That is, according to the present embodiment, it is possible to remove the foreign matter attached to the surface of the glass substrate while suppressing the bending of the glass substrate during transportation. In addition to the aspect of blowing the gas toward the main surface, the aspect of blowing the gas toward the main surface includes the aspect in which at least a part of the blown gas is blown to the main surface. Further, when referring to the main surface side, a position within a plane extending in a direction parallel to the main surface and outside the edge of the glass substrate is also included in the main surface side.

図3、図4、および図7を参照しながら、本実施形態に係るガラス基板搬送装置100をより具体的に説明する。図3は、ガラス基板搬送装置100を側方から(図7のY方向に)見て示す図である。図4は、ガラス基板搬送装置を示す斜視図である。図7は、ガラス基板搬送装置100の変形例を上方から見て示す図である。ガラス基板搬送装置100は、主として、浮上ユニット20と、搬送ユニット30(図7参照)と、吹出吸込ユニット50とからなる。浮上ユニット20は、図7の変形例においても同様に構成されているため、便宜的に図7を参照しながら説明する。図3および図4において、搬送ユニット30の図示は省略されている。図3および図7において、吹出吸込ユニット50の図示は省略されている。図3、図4、および図7において、ガラス基板Gの搬送方向(X方向)と直交する平面内の水平方向は、ガラス基板Gの幅方向(Y方向)であり、ガラス基板Gの搬送方向と直交する平面内の鉛直方向は、ガラス基板Gの板厚方向(Z方向)である。以降の説明において、ガラス基板Gの搬送方向に平行なガラス基板Gの端部を側端部といい、ガラス基板Gの幅方向に平行な端部を先端部および後端部という。なお、ガラス基板の側端部G1(図6参照)および側端部G2(図6参照)は、互いに平行でなくても良い。   The glass substrate transfer apparatus 100 according to the present embodiment will be described more specifically with reference to FIGS. 3, 4, and 7. FIG. 3 is a diagram showing the glass substrate transport device 100 as viewed from the side (in the Y direction in FIG. 7). FIG. 4 is a perspective view showing the glass substrate transfer device. FIG. 7 is a diagram showing a modified example of the glass substrate transport device 100 as viewed from above. The glass substrate transfer apparatus 100 mainly includes a floating unit 20, a transfer unit 30 (see FIG. 7), and a blow-in suction unit 50. The levitation unit 20 has the same configuration in the modification of FIG. 7, and therefore will be described with reference to FIG. 7 for convenience. 3 and 4, the illustration of the transport unit 30 is omitted. In FIG. 3 and FIG. 7, the blowout suction unit 50 is not shown. 3, 4, and 7, the horizontal direction in the plane orthogonal to the transport direction (X direction) of the glass substrate G is the width direction (Y direction) of the glass substrate G, and the transport direction of the glass substrate G. The vertical direction in the plane orthogonal to is the plate thickness direction (Z direction) of the glass substrate G. In the following description, the end portions of the glass substrate G parallel to the transport direction of the glass substrate G are referred to as side end portions, and the end portions parallel to the width direction of the glass substrate G are referred to as the front end portion and the rear end portion. The side end G1 (see FIG. 6) and the side end G2 (see FIG. 6) of the glass substrate may not be parallel to each other.

(2−1)浮上ユニット
浮上ユニット20は、略水平な姿勢で搬送されるガラス基板Gの下面に気体を吹き付けてガラス基板Gを浮上させるユニットである。水平な姿勢とは、ガラス基板Gの板厚方向が鉛直方向と一致するガラス基板Gの姿勢、言い換えると、ガラス基板Gの主表面が鉛直方向を向くガラス基板Gの姿勢をいう。略水平な姿勢には、水平な姿勢のほか、ガラス基板Gの板厚方向が鉛直方向に対し±10度の範囲内で傾斜した姿勢が含まれる。以降の説明において、ガラス基板Gの主表面のうち上方を向く主表面を上面といい、下方を向く主表面を下面という。
(2-1) Levitation Unit The levitation unit 20 is a unit that blows gas onto the lower surface of the glass substrate G conveyed in a substantially horizontal posture to levitate the glass substrate G. The horizontal posture means the posture of the glass substrate G in which the plate thickness direction of the glass substrate G coincides with the vertical direction, in other words, the posture of the glass substrate G in which the main surface of the glass substrate G faces the vertical direction. The substantially horizontal posture includes not only a horizontal posture but also a posture in which the thickness direction of the glass substrate G is inclined within a range of ± 10 degrees with respect to the vertical direction. In the following description, of the main surfaces of the glass substrate G, the main surface facing upward is referred to as the upper surface, and the main surface facing downward is referred to as the lower surface.

浮上ユニット20は、複数のフロートパネル22(図7参照)と、調節機構26とを有している。
複数のフロートパネル22は、図7に示される例において、ガラス基板Gの搬送方向に沿って並べられたフロートパネル22の列を形成するとともに、フロートパネル22の列がガラス基板Gの幅方向に沿って並べられたフロートパネルアレイ24を形成している。幅方向に隣り合うフロートパネル22の列同士は、接続部材28により連結されている。フロートパネルアレイ24を構成するすべてのフロートパネル22の上面は、同じ高さ位置に位置しており、搬送されるガラス基板Gと対向する1つの平面が形成されている。また、図7に示す例において、幅方向に隣り合うフロートパネル22の列の間で、フロートパネル22の搬送方向の位置はオフセットされている。
フロートパネル22は、例えば、多孔質な材料、あるいは、多数の孔が形成された中実の金属材料で構成されている。多孔質な材料は、例えば、カーボン、アルミナ、ジルコニア等の材料を成形し、焼結させたものである。なお、図3において、フロートパネルアレイ24は、ガラス基板Gの搬送方向に沿った一部の領域のみが示される。
The levitation unit 20 has a plurality of float panels 22 (see FIG. 7) and an adjusting mechanism 26.
In the example shown in FIG. 7, the plurality of float panels 22 form rows of the float panels 22 arranged along the transport direction of the glass substrate G, and the rows of the float panels 22 extend in the width direction of the glass substrate G. A float panel array 24 is formed along with each other. The rows of the float panels 22 that are adjacent to each other in the width direction are connected by the connecting member 28. The upper surfaces of all the float panels 22 forming the float panel array 24 are located at the same height position, and one flat surface facing the glass substrate G to be transported is formed. Further, in the example shown in FIG. 7, the position of the float panel 22 in the transport direction is offset between the rows of the float panels 22 adjacent in the width direction.
The float panel 22 is made of, for example, a porous material or a solid metal material in which a large number of holes are formed. The porous material is, for example, a material such as carbon, alumina, or zirconia formed and sintered. Note that, in FIG. 3, the float panel array 24 is shown only in a partial region along the transport direction of the glass substrate G.

フロートパネル22は、図3に示されるように、噴出機構22aと、吸引機構22cとを有する。
噴出機構22aは、フロートパネル22の上方に向かって気体を噴出する機構である。噴出機構22aは、例えば、フロートパネル22の表面に形成される多数の微小孔から、気体を噴出する。気体は、例えば圧搾されたエアである。なお、図3において、噴出機構22aは、便宜的に、1つのフロートパネル22に2箇所に位置するように示される。噴出された気体は、搬送されるガラス基板Gの下面に吹き付けられる。これにより、搬送されるガラス基板Gは、上向きの力を受け、フロートパネル22の上面から浮上する。噴出機構22aから噴出される気体は、エアに制限されず、例えば、窒素ガス、希ガス等であってもよい。また、噴出機構22aは、気体の代わりに、水等の液体を噴出するものであってもよい。
As shown in FIG. 3, the float panel 22 has a jetting mechanism 22a and a suction mechanism 22c.
The ejection mechanism 22a is a mechanism that ejects gas toward the upper side of the float panel 22. The ejection mechanism 22a ejects gas from, for example, a large number of minute holes formed on the surface of the float panel 22. The gas is, for example, compressed air. It should be noted that in FIG. 3, the ejection mechanism 22 a is illustrated as being located at two positions on one float panel 22 for convenience. The jetted gas is blown onto the lower surface of the glass substrate G being conveyed. As a result, the glass substrate G being conveyed receives an upward force and floats above the upper surface of the float panel 22. The gas ejected from the ejection mechanism 22a is not limited to air and may be, for example, nitrogen gas, rare gas, or the like. Further, the ejection mechanism 22a may eject a liquid such as water instead of the gas.

吸引機構22cは、フロートパネル22の上面からフロートパネル22内に気体を吸引する機構である。吸引機構22cは、例えば、フロートパネル22の上面側に開放された孔から、気体を吸引する。吸引機構22cによって気体が吸引されることで、搬送されるガラス基板Gの下面と、フロートパネル22の上面との間において、吸引機構22cの近傍の空間は、負圧の状態になる。これにより、搬送されるガラス基板Gは、下向きの力を受ける。この下向きの力は、搬送されるガラス基板Gの形状をある程度強制する機能を有している。搬送されるガラス基板Gと対向するフロートパネルアレイ24の領域で発生する、噴出機構22aによる上向きの力および吸引機構22cによる下向きの力の合力が、ガラス基板Gを浮上させる浮上力である。浮上力は、鉛直方向の上方を向く力である。浮上力がガラス基板Gに与えられることで、ガラス基板Gの浮上状態が維持される。   The suction mechanism 22c is a mechanism that sucks gas from the upper surface of the float panel 22 into the float panel 22. The suction mechanism 22c sucks gas from, for example, a hole opened on the upper surface side of the float panel 22. As the gas is sucked by the suction mechanism 22c, the space in the vicinity of the suction mechanism 22c between the lower surface of the glass substrate G being conveyed and the upper surface of the float panel 22 is in a negative pressure state. As a result, the glass substrate G being conveyed receives a downward force. This downward force has a function of forcing the shape of the transported glass substrate G to some extent. The resultant force of the upward force of the ejection mechanism 22a and the downward force of the suction mechanism 22c, which is generated in the region of the float panel array 24 facing the conveyed glass substrate G, is the levitation force for levitating the glass substrate G. The levitation force is a force directed upward in the vertical direction. By applying the levitation force to the glass substrate G, the levitation state of the glass substrate G is maintained.

フロートパネルアレイ24の幅方向の寸法は、ガラス基板Gの幅方向の寸法より長い。フロートパネル22の搬送方向の寸法は、例えば、100mm〜150mmである。浮上しているガラス基板Gの下面と、フロートパネル22の上面との間の距離は、例えば、25μm〜35μmである。なお、図3において、ガラス基板Gとフロートパネル22との間の間隔は誇張して示されている。   The dimension of the float panel array 24 in the width direction is longer than the dimension of the glass substrate G in the width direction. The dimension of the float panel 22 in the carrying direction is, for example, 100 mm to 150 mm. The distance between the lower surface of the floating glass substrate G and the upper surface of the float panel 22 is, for example, 25 μm to 35 μm. In FIG. 3, the distance between the glass substrate G and the float panel 22 is exaggerated.

調節機構26は、ガラス基板Gが略水平な姿勢で搬送されるよう、吹出吸込ユニット50の吸込装置52(後述)に対して吹出装置51(後述)が配置された側(第1の側)のガラス基板Gの領域の部分(第1の部分)を浮上させる第1の浮上力と、吹出装置51に対して吸込装置52が配置された側(第2の側)のガラス基板Gの領域の部分(第2の部分)を浮上させる第2の浮上力と、を調節する機構である。第1の部分は、図4に示される例において、吹出吸込ユニット50の吹出装置51(後述)から吹き出された気体が吹き付けられるガラス基板Gの領域の部分である。第2の部分は、図4に示される例において、第1の部分と搬送方向の下流側に間隔をあけて位置する領域であって、第1の部分が位置する領域と同じ幅方向位置の領域の部分である。第1の部分、第2の部分がそれぞれ延在する幅方向の長さはそれぞれ、例えば、吹出装置51と吸込装置52の間の搬送方向の間隔の1/10〜1/3の長さである。
調節機構26は、具体的に、噴出機構22aから噴出される気体の圧力、および、吸引機構22cによる気体の吸込圧力を制御することで、第1の浮上力および第2の浮上力を調節する。調節機構26は、より具体的に、第1の部分が気体から板厚方向に受ける押付圧(後述)と略同等の基準圧力に基づいて、第1の浮上力を調節することで、第1の浮上力および第2の浮上力を調節する。具体的な調節の方法は、後述する。
The adjusting mechanism 26 is a side (first side) on which the blowing device 51 (described later) is arranged with respect to the suction device 52 (described later) of the blowing suction unit 50 so that the glass substrate G is transported in a substantially horizontal posture. Of the glass substrate G on the side where the suction device 52 is arranged (second side) with respect to the blowing device 51. And a second levitation force for levitating the portion (second portion). In the example shown in FIG. 4, the first portion is a portion of the region of the glass substrate G to which the gas blown out from the blowout device 51 (described later) of the blowout suction unit 50 is blown. In the example shown in FIG. 4, the second portion is an area that is located downstream from the first portion in the transport direction, and has the same width direction position as the area where the first portion is located. It is a part of the area. The length in the width direction in which the first portion and the second portion extend is, for example, 1/10 to 1/3 of the distance in the transport direction between the blowing device 51 and the suction device 52. is there.
Specifically, the adjusting mechanism 26 adjusts the first levitation force and the second levitation force by controlling the pressure of the gas ejected from the ejection mechanism 22a and the gas suction pressure of the suction mechanism 22c. . More specifically, the adjusting mechanism 26 adjusts the first levitation force based on a reference pressure that is substantially equal to a pressing pressure (described later) that the first portion receives from the gas in the plate thickness direction. And the second levitation force of the. A specific adjusting method will be described later.

なお、図4に示されるガラス基板搬送装置100では、浮上搬送されるガラス基板Gは、フロートパネルアレイ24を挟んで搬送方向の上流側および下流側に配置されたローラ40に支持される。   In the glass substrate carrying device 100 shown in FIG. 4, the floated glass substrate G is supported by the rollers 40 arranged on the upstream side and the downstream side of the float panel array 24 in the carrying direction.

(2−2)搬送ユニット
搬送ユニット30は、浮上ユニット20によって浮上させたガラス基板Gを、搬送方向に沿って搬送するユニットである。搬送ユニット30は、主として、図7に示されるように、保持部32と、搬送部34とを備える。
(2-2) Transport Unit The transport unit 30 is a unit that transports the glass substrate G floated by the levitation unit 20 along the transport direction. The transport unit 30 mainly includes a holding section 32 and a transport section 34, as shown in FIG. 7.

保持部32は、ガラス基板Gの端部(図7において側端部G1)を保持する。保持部32は、例えば、ガラス基板Gを保持するための吸着機構を備えている。搬送部34は、保持部32を搬送方向に沿って移動させるリニア駆動機構を備えている。   The holding portion 32 holds the end portion (side end portion G1 in FIG. 7) of the glass substrate G. The holding part 32 includes, for example, a suction mechanism for holding the glass substrate G. The transport unit 34 includes a linear drive mechanism that moves the holding unit 32 along the transport direction.

(2−3)吹出吸込ユニット
吹出吸込ユニット50は、ガラス基板Gの第1の側において、搬送ユニット30により搬送されるガラス基板Gよりも上方の位置から、ガラス基板Gの上面に向けて気体を噴出し、第2の部分の側に流れた気体を吸い込むユニットである。吹出吸込ユニット50は、具体的に、ガラス基板Gの上面上を、第1の側から第2の側に気体が流れるよう、気体の吹き出しおよび吸い込みを行う。なお、気体の流れる方向は、図4に示される例においてガラス基板Gの搬送方向に沿った方向であるが、吹出装置51が配置された側から、吸込装置52が配置された側に流れる気流が形成されるのであれば、気体の流れる方向は、ガラスの搬送方向あるいは幅方向に対して傾斜していてもよい。また、気体の流れる方向は、複数あってもよい。この場合に、図5(a)において幅方向を向く複数の矢印で示されるように、隣り合った気体の流れる方向が互いに逆向きであってもよく、図5(b)において搬送方向を向く矢印で示されるように、吹出装置51の上流側および下流側において互いに逆向きであってもよい。なお、図5(a)は、ガラス基板搬送装置100の変形例を示す斜視図であり、図5(b)は、ガラス基板搬送装置100の別の変形例を示す斜視図である。図5(a)に示す吹出吸込ユニット50は、吹出装置51および吸込装置52をそれぞれ複数有している。吹出装置51は、幅方向の両側に気体を吹き出す。図5(b)において、吸込装置52は、搬送方向の両側に気体を吹き出す。図5(b)に示す吹出吸込ユニット50は、1つの吹出装置51および複数の吸込装置52を有している。
(2-3) Blow-out suction unit The blow-out suction unit 50 is a gas on the first side of the glass substrate G from a position above the glass substrate G transported by the transport unit 30 toward the upper surface of the glass substrate G. Is a unit for sucking in the gas flowing toward the second portion side. The blow-out suction unit 50 specifically blows and sucks the gas on the upper surface of the glass substrate G so that the gas flows from the first side to the second side. The gas flow direction is the direction along the transport direction of the glass substrate G in the example shown in FIG. 4, but the air flow that flows from the side on which the blowing device 51 is arranged to the side on which the suction device 52 is arranged. If the is formed, the gas flowing direction may be inclined with respect to the glass conveying direction or the width direction. Further, there may be a plurality of gas flow directions. In this case, as shown by a plurality of arrows pointing in the width direction in FIG. 5 (a), the flowing directions of adjacent gases may be opposite to each other, and in FIG. 5 (b), they may face the carrying direction. As shown by the arrow, the upstream side and the downstream side of the blowing device 51 may be opposite to each other. 5A is a perspective view showing a modified example of the glass substrate carrying device 100, and FIG. 5B is a perspective view showing another modified example of the glass substrate carrying device 100. The blowout suction unit 50 shown in FIG. 5A includes a plurality of blowout devices 51 and a plurality of suction devices 52. The blowing device 51 blows out gas on both sides in the width direction. In FIG. 5B, the suction device 52 blows out gas on both sides in the transport direction. The blowout suction unit 50 shown in FIG. 5B has one blowout device 51 and a plurality of suction devices 52.

吹出吸込ユニット50は、吹出装置51と、吸込装置52とを有している。
吹出装置51は、気体をガラス基板Gの上面に向けて吹き出す装置である。気体は、例えば、空気、窒素ガス、希ガス等である。吹出装置51は、ガラス基板Gの幅方向に沿って延びるよう開口された吹出口51a(図6参照)を有している。図6は、ガラス基板搬送装置100のさらに別の変形例を説明する斜視図である。吹出口51aは、搬送されるガラス基板Gより上方であってガラス基板Gに近傍位置に位置しており、図4に示す例において、搬送されるガラス基板Gの幅方向領域を超える幅方向領域にわたり位置している。吹出装置51から気体が吹き出されると、搬送されるガラス基板Gの第1の部分には、吹き出された気体の圧力のうち、板厚方向の下方を向く押付圧が作用する。なお、吹出装置51は、搬送方向に移動する保持部32と接触しないよう配置される。吹出装置51から吹き出される気体の圧力は、異物の除去力を高めるため、エアナイフで一般に用いられる吹出圧力よりも高いことが好ましい。
The blowout suction unit 50 has a blowout device 51 and a suction device 52.
The blowing device 51 is a device that blows gas toward the upper surface of the glass substrate G. The gas is, for example, air, nitrogen gas, a rare gas, or the like. The blowout device 51 has a blowout port 51a (see FIG. 6) opened so as to extend along the width direction of the glass substrate G. FIG. 6 is a perspective view illustrating still another modified example of the glass substrate carrying device 100. The blowout port 51a is located above the transported glass substrate G and in the vicinity of the glass substrate G, and in the example shown in FIG. 4, the width direction region that exceeds the width direction region of the transported glass substrate G. It is located over. When the gas is blown from the blowing device 51, the pressing pressure of the blown gas, which is directed downward in the plate thickness direction, acts on the first portion of the glass substrate G that is being conveyed. The blowing device 51 is arranged so as not to contact the holding unit 32 that moves in the transport direction. The pressure of the gas blown from the blowing device 51 is preferably higher than the blowout pressure generally used in the air knife in order to enhance the foreign matter removing force.

吸込装置52は、吹出装置51から吹き出され、ガラス基板Gの上面上を第2の側に流れた気体を吸い込む装置である。吸込装置52によって気体が吸い込まれることで、搬送されるガラス基板Gの上面上に、第1の側から第2の側に向かって流れる気体の流れが形成される。ガラス基板Gに付着した異物は、この気体の流れに接触することで、ガラス基板Gから脱離し、除去される。異物は、例えば、ガラス基板の採板、切断、端面加工によって発生した微小なガラス片(切り屑)や、雰囲気中に存在する埃等である。
吸込装置52は、ガラス基板Gの幅方向に沿って延びるよう開口された吸込口52aを有している。吸込口52aは、図4に示される例において、吹出装置51とほぼ同じ鉛直方向位置に配置されている。
The suction device 52 is a device that sucks the gas blown from the blowing device 51 and flowing on the upper surface of the glass substrate G to the second side. The gas is sucked by the suction device 52, so that a flow of gas flowing from the first side to the second side is formed on the upper surface of the glass substrate G to be transported. The foreign matter attached to the glass substrate G is detached from the glass substrate G and removed by coming into contact with the gas flow. The foreign matter is, for example, minute glass pieces (shavings) generated by plate taking, cutting, and end face processing of a glass substrate, dust existing in the atmosphere, and the like.
The suction device 52 has a suction port 52a opened so as to extend along the width direction of the glass substrate G. In the example shown in FIG. 4, the suction port 52a is arranged at substantially the same vertical position as the blowing device 51.

吹出装置51の吹出量と吸込装置52の吸込量は等しくてもよく、吹出装置51の吹出量よりも吸込装置52の吸込量が多くてもよい。また、吹出吸込ユニット50は、図4に示す例において、ガラス基板Gの搬送経路上の所定位置に固定されているが、搬送方向に移動するよう構成されていてもよい。この場合、例えば、ガラス基板Gの搬送を一時的に停止させ、吹出吸込ユニット50を搬送方向に移動させることで、ガラス基板Gを搬送方向の全体にわたって異物の除去を行うことができる。
また、吹出吸込ユニット50は、搬送経路上の複数の位置に配置されていてもよい。この場合に、吹出装置および吸込装置の互いの配置位置が、吹出吸込ユニット50の間で異なっていてもよい。例えば、図4に示される例とは逆に、吹出装置51が第2の側に配置され、吸込装置52が第1の側に配置されていてもよい。また、吹出吸込ユニット50の間で、吹出量および吸込量が異なっていてもよい。
また、吹出装置51は、ガラス基板Gに付着した異物を振動させ、除去しやすくするために、気体を吹き出すほか、さらに超音波を照射するものであっても良い。
The blowing amount of the blowing device 51 and the suction amount of the suction device 52 may be equal, and the suction amount of the suction device 52 may be larger than the blowing amount of the blowing device 51. In addition, although the blow-in suction unit 50 is fixed at a predetermined position on the transport path of the glass substrate G in the example shown in FIG. 4, it may be configured to move in the transport direction. In this case, for example, by temporarily stopping the transportation of the glass substrate G and moving the blow-in suction unit 50 in the transportation direction, the foreign substances can be removed from the glass substrate G over the entire transportation direction.
The blow-in suction unit 50 may be arranged at a plurality of positions on the transport path. In this case, the arrangement positions of the blowout device and the suction device may be different between the blowout suction units 50. For example, contrary to the example shown in FIG. 4, the blowing device 51 may be arranged on the second side and the suction device 52 may be arranged on the first side. Further, the blowout amount and the suction amount may be different between the blowout suction units 50.
In addition, the blowing device 51 may blow out gas or may further irradiate ultrasonic waves in order to vibrate and remove foreign matter attached to the glass substrate G.

次に、本実施形態のガラス基板の搬送方法について説明する。
本実施形態のガラス基板の搬送方法は、ガラス基板に浮上力を与えて、ガラス基板の浮上状態を維持するステップと、浮上状態を維持しつつガラス基板を一方向に搬送するステップと、ガラス基板の主表面上を一方向に沿った方向または一方向と交差する方向に気体が流れるよう、浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で(例えば主表面に向けて)気体を吹き出すステップと、を備え、浮上状態を維持するステップでは、ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、ガラス基板が気体から板厚方向に受ける押付圧を受けるガラス基板の領域に与える浮上力を調節する。
このガラス基板の搬送方法では、浮上状態に維持されつつ搬送されるガラス基板の主表面のうち、浮上力が与えられる主表面と反対側の主表面の側で気体が吹き出され、当該主表面上を、搬送方向(一方向)に沿った方向または搬送方向と交差する方向に気体が流れる。この気体の流れが、ガラス基板の主表面に付着した異物に接触することで、異物は主表面から除去される。一方で、ガラス基板に与えられる浮上力が上記のように調節されることによって、吹き出された気体から押付圧を受けたガラス基板の部分が、浮上力に抗して沈み込むことが抑制される。このため、ガラス基板の撓みの発生が抑えられ、ガラス基板を略水平な姿勢で搬送することができる。すなわち、本実施形態によれば、搬送中のガラス基板の撓みを抑制しつつ、ガラス基板の表面に付着した異物を除去することができる。なお、主表面の側で気体を吹き出す態様として、当該主表面に向けて気体を吹き出す態様のほか、吹き出された気体の少なくとも一部が当該主表面に吹き付けられる態様が含まれる。また、主表面の側という場合、主表面と平行な方向に延在する平面内の位置であってガラス基板の端から外側の位置も、主表面の側に含まれる。
Next, a method of transporting the glass substrate of this embodiment will be described.
The method of transporting a glass substrate of the present embodiment, a step of applying a levitation force to the glass substrate to maintain the floating state of the glass substrate, a step of transporting the glass substrate in one direction while maintaining the floating state, the glass substrate The main surface of the glass substrate opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied so that the gas flows on the main surface of the glass in a direction along the direction or a direction intersecting with the one direction (for example, toward the main surface). ) A step of blowing out a gas, and in the step of maintaining the floating state, in order to convey the glass substrate in a substantially horizontal posture, the glass substrate is applied to a region of the glass substrate that receives a pressing pressure received from the gas in the plate thickness direction. Adjust the levitation force applied.
In this glass substrate transporting method, of the main surfaces of the glass substrate that are transported while being maintained in a floating state, gas is blown out on the side of the main surface opposite to the main surface to which the levitation force is applied, and The gas flows in a direction along the transport direction (one direction) or in a direction intersecting the transport direction. The foreign matter is removed from the main surface by contacting the foreign matter attached to the main surface of the glass substrate with the flow of the gas. On the other hand, by adjusting the levitation force applied to the glass substrate as described above, it is possible to prevent the portion of the glass substrate that receives the pressing pressure from the blown gas from sinking against the levitation force. . For this reason, the occurrence of bending of the glass substrate is suppressed, and the glass substrate can be transported in a substantially horizontal posture. That is, according to the present embodiment, it is possible to remove the foreign matter attached to the surface of the glass substrate while suppressing the bending of the glass substrate during transportation. In addition to the aspect of blowing the gas toward the main surface, the aspect of blowing the gas toward the main surface includes the aspect in which at least a part of the blown gas is blown to the main surface. Further, when referring to the main surface side, a position within a plane extending in a direction parallel to the main surface and outside the edge of the glass substrate is also included in the main surface side.

より具体的に、本実施形態のガラス基板の搬送方法を説明する。
図2に示す例において、端面加工工程(S4)が終了すると、ガラス基板Gは、ガラス基板搬送装置100によって搬送方向に沿って搬送される。具体的に、ガラス基板Gは、ローラ40で支持されながら、浮上ユニット20から吹き出される気体によってフロートパネルアレイ24の上面から所定の浮上高さ浮上した状態が維持される。この状態で搬送されることで、ガラス基板Gは浮上状態を維持しつつ搬送される。そして、ガラス基板Gは、搬送経路上の所定位置で、吹出吸込ユニット50によって形成された、第1の部分の側から第2の部分の側に流れる気流に接触することで、ガラス基板Gの上面に付着したガラス屑等の異物は、ガラス基板Gの上面から脱離し、除去される。
More specifically, the method of transporting the glass substrate of this embodiment will be described.
In the example shown in FIG. 2, when the end surface processing step (S4) is completed, the glass substrate G is transported by the glass substrate transport device 100 in the transport direction. Specifically, while being supported by the rollers 40, the glass substrate G is maintained in a state of being floated to a predetermined floating height from the upper surface of the float panel array 24 by the gas blown from the floating unit 20. By being transported in this state, the glass substrate G is transported while maintaining the floating state. Then, the glass substrate G comes into contact with the air flow formed by the blow-in suction unit 50 and flowing from the first portion side to the second portion side at a predetermined position on the transport path, whereby the glass substrate G Foreign substances such as glass chips attached to the upper surface are detached from the upper surface of the glass substrate G and removed.

このとき、ガラス基板Gの第1の部分には、吹出装置51によって吹き出された気体によって板厚方向の下方に押付圧が作用し、第1の部分は下方に沈み込もうとする。調節機構26は、このような沈み込みを抑制するために、第1の浮上力と第2の浮上力とを調節する。具体的には、第1の浮上力を、押付圧と略同等の基準圧力に基づいて調節することで、第1の浮上力と第2の浮上力とを調節する。押付け圧と略同等の基準圧力とは、圧力の大きさが押付圧と略同等であり、かつ、圧力の向きが押付圧と逆向きである圧力をいう。圧力の大きさが略同等であるとは、基準圧力の大きさが、例えば、押付圧の絶対値の±10%の範囲内にあることをいう。また、基準圧力に基づいて第1の浮上力を調節するとは、具体的には、基準圧力に、気体が吹き出される第1の部分の領域の面積を乗じて計算される力に基づいて、第1の浮上力を調節することをいう。第1の部分の領域の面積は、例えば、第1の部分の幅方向長さに第1の部分の搬送方向長さを掛けることで計算される。第1の浮上力は、具体的には、第1の部分と対向するフロートパネルアレイ24の領域における、噴出機構22aから噴出される気体による上向きの力と、吸引機構22cによって気体が吸引されることで生じる下向きの力との合力である。基準圧力に基づいて第1の浮上力を調整することの具体的な態様として、第1の浮上力を、上記計算される力と等しくなるよう、噴出機構22a及び吸引機構22cを調節することが挙げられる。このように基準圧力に基づいて第1の浮上力を調節することで、押圧力に抗して第1の部分の浮上高さを維持することができ、ガラス基板Gを略水平な状態に保つことができる。なお、第1の浮上力の調節は、例えば、フロートパネルアレイ24の上面からの第1の部分の浮上高さを測定しながら行うことができる。   At this time, a pressing pressure acts on the first portion of the glass substrate G downward in the plate thickness direction by the gas blown by the blowing device 51, and the first portion tries to sink downward. The adjustment mechanism 26 adjusts the first levitation force and the second levitation force in order to suppress such sinking. Specifically, the first levitation force and the second levitation force are adjusted by adjusting the first levitation force based on a reference pressure substantially equal to the pressing pressure. The reference pressure substantially equal to the pressing pressure means a pressure in which the magnitude of the pressure is substantially equal to the pressing pressure and the direction of the pressure is opposite to the pressing pressure. That the magnitudes of the pressures are substantially equal means that the magnitudes of the reference pressures are, for example, within ± 10% of the absolute value of the pressing pressure. Further, adjusting the first levitation force based on the reference pressure means, specifically, based on the force calculated by multiplying the reference pressure by the area of the region of the first portion from which the gas is blown, Adjusting the first levitation force. The area of the region of the first portion is calculated, for example, by multiplying the length in the width direction of the first portion by the length in the transport direction of the first portion. Specifically, the first levitation force is an upward force of the gas ejected from the ejection mechanism 22a in the region of the float panel array 24 facing the first portion, and the gas is sucked by the suction mechanism 22c. It is the resultant force with the downward force. As a specific mode of adjusting the first levitation force based on the reference pressure, it is possible to adjust the ejection mechanism 22a and the suction mechanism 22c so that the first levitation force is equal to the calculated force. Can be mentioned. By adjusting the first levitation force based on the reference pressure in this way, the levitation height of the first portion can be maintained against the pressing force, and the glass substrate G is kept in a substantially horizontal state. be able to. The adjustment of the first levitation force can be performed, for example, while measuring the levitation height of the first portion from the upper surface of the float panel array 24.

このように第1の浮上力を調節することにより、ガラス基板Gの第1の部分が下方への沈み込みが抑制され、ガラス基板Gの撓みが抑制される。これにより、ガラス基板Gを略水平な姿勢で搬送することができる。本実施形態によれば、搬送中のガラス基板Gの撓みを抑制しつつ、ガラス基板Gの表面に付着した異物を除去することができる。   By adjusting the first levitation force in this way, the first portion of the glass substrate G is prevented from sinking downward and the bending of the glass substrate G is suppressed. As a result, the glass substrate G can be transported in a substantially horizontal posture. According to the present embodiment, it is possible to remove the foreign matter attached to the surface of the glass substrate G while suppressing the bending of the glass substrate G during transportation.

なお、調節機構26による第1の浮上力および第2の浮上力の調節には、第1の浮上力を行うことによって、第2の浮上力が第1の浮上力に対して相対的に調節されることも含まれる。すなわち、第1の浮上力の調節だけを行い、第2の浮上力の調節を行わなくてもよい。一方で、第1の浮上力および第2の浮上力の両方の調節を行ってもよい。第2の浮上力の調節は、第2の部分、あるいは、吹出装置51と対向するフロートパネルアレイ24の領域にある噴出機構22aおよび吸引機構22cを調節することで行うことができる。   In addition, in adjusting the first levitation force and the second levitation force by the adjusting mechanism 26, the second levitation force is adjusted relative to the first levitation force by performing the first levitation force. It also includes being done. In other words, only the first levitation force may be adjusted and the second levitation force may not be adjusted. On the other hand, both the first levitation force and the second levitation force may be adjusted. The adjustment of the second levitation force can be performed by adjusting the ejection mechanism 22a and the suction mechanism 22c in the second portion or in the region of the float panel array 24 facing the blowing device 51.

第1の浮上力の調節は、ガラス基板Gが吹き飛ばない程度の吸着力を維持するため、噴出機構22aおよび吸引機構22cの少なくとも一方を調節することにより行うことができる。また、第1の浮上力を精度よく調節するために、調節機構26は、搬送方向にわたって存在する噴出機構22aおよび吸引機構22cのうち、同じ搬送方向位置にある噴出機構22aおよび吸引機構22cごとに、第1の浮上力を調節してもよい。
また、調節機構26による調節は、第1の浮上力の第2の浮上力の調節に制限されず、第1の部分および第2の部分を除く領域の浮上力の調節を含むものであってもよく、ガラス基板G全体を浮上させる浮上力の調節であってもよい。
The adjustment of the first floating force can be performed by adjusting at least one of the ejection mechanism 22a and the suction mechanism 22c in order to maintain the suction force to the extent that the glass substrate G is not blown off. In addition, in order to adjust the first levitation force with high accuracy, the adjustment mechanism 26 includes, for each of the ejection mechanism 22a and the suction mechanism 22c existing in the conveyance direction, the ejection mechanism 22a and the suction mechanism 22c located at the same conveyance direction position. , The first levitation force may be adjusted.
Further, the adjustment by the adjusting mechanism 26 is not limited to the adjustment of the second levitation force of the first levitation force, and includes the adjustment of the levitation force in the region excluding the first portion and the second portion. Alternatively, the levitation force for levitating the entire glass substrate G may be adjusted.

図6を参照して、ガラス基板搬送装置100の変形例を説明する。
この変形例の構成、および、変形例によって行われるガラス基板の搬送方法は、以降の説明を除いて、上記実施形態と同様である。
なお、図6において、搬送ユニット30の図示は省略されている。また、図6に示すフロートパネルアレイ24は、吹出吸込ユニット50をわかりやすく説明するために、ガラス基板Gの幅方向の領域のうち、両端を含む領域が省略されている。図6において、ガラス基板Gとフロートパネル22との間の間隔は誇張して示されている。
A modified example of the glass substrate transport device 100 will be described with reference to FIG.
The configuration of this modified example and the method of transporting a glass substrate performed by the modified example are the same as those of the above-described embodiment, except for the following description.
Note that, in FIG. 6, the illustration of the transport unit 30 is omitted. Further, in the float panel array 24 shown in FIG. 6, the region including both ends of the region in the width direction of the glass substrate G is omitted in order to explain the blow-in suction unit 50 in an easily understandable manner. In FIG. 6, the distance between the glass substrate G and the float panel 22 is exaggerated.

この変形例の調節機構26は、ガラス基板Gが略水平な姿勢で搬送されるよう、ガラス基板Gの一方の側端部G1(第1の端部)を浮上させる第1の浮上力と、他方の側端部G2(第2の端部)を浮上させる第2の浮上力と、を調節する機構である。側端部G1および側端部G2は、ガラス基板Gの幅方向の端を含む部分であって、幅方向の端から幅方向の内側に向かって延在する部分をいう。側端部G1、側端部G2がそれぞれ延在する幅方向の長さはそれぞれ、例えば、ガラス基板Gの幅方向長さの1/10〜1/3の長さであり、例えば、幅方向の端から幅方向に0mmを超え40mm以下の長さである。なお、図6において、側端部G1は、後述する吹出吸込ユニット50によって気体が吹き出される領域によって示され、側端部G2は、この領域と同じ搬送方向位置の領域で示される。   The adjusting mechanism 26 of this modification has a first levitation force that levitates one side end portion G1 (first end portion) of the glass substrate G so that the glass substrate G is conveyed in a substantially horizontal posture. This is a mechanism for adjusting the other side end portion G2 (second end portion) and a second levitation force for levitating. The side end portion G1 and the side end portion G2 are portions including the widthwise end of the glass substrate G and extending from the widthwise end toward the widthwise inner side. The lengths in the width direction in which the side end portions G1 and G2 respectively extend are, for example, 1/10 to 1/3 of the length in the width direction of the glass substrate G, and, for example, in the width direction. The length is more than 0 mm and 40 mm or less in the width direction from the end of the. In FIG. 6, the side end portion G1 is shown by a region in which gas is blown out by the blowout suction unit 50 described later, and the side end portion G2 is shown by a region at the same conveyance direction position as this region.

搬送ユニットは、上記説明した搬送ユニット30である。   The transport unit is the transport unit 30 described above.

吹出吸込ユニット50は、ガラス基板Gの側端部G1の側において、搬送ユニット30により搬送されるガラス基板Gよりも上方の位置から、ガラス基板Gの上面に向けて気体を噴出し、側端部G2の側に流れた気体を吸い込むユニットである。吹出吸込ユニット50は、具体的に、ガラス基板Gの上面上を、側端部G1の側から側端部G1の側に気体が流れるよう、気体の吹き出しおよび吸い込みを行う。なお、気体の流れる方向は、図6に示される例においてガラス基板Gの幅方向に沿った方向であるが、吹出装置51が配置された幅方向の側(第1の側)から吸込装置52が配置された幅方向の側(第2の側)に流れる気流が形成されるのであれば、気体の流れる方向は、ガラスの搬送方向あるいは幅方向に対して、X方向の側あるいはX方向と逆側に傾斜した方向であってもよい。   The blow-in suction unit 50 blows gas toward the upper surface of the glass substrate G from a position above the glass substrate G transported by the transport unit 30 on the side of the side end portion G1 of the glass substrate G, and the side end It is a unit that sucks in the gas that has flowed to the side of the portion G2. The blow-out suction unit 50 specifically blows and sucks gas on the upper surface of the glass substrate G so that the gas flows from the side end G1 side to the side end G1 side. The gas flow direction is the direction along the width direction of the glass substrate G in the example shown in FIG. 6, but the suction device 52 is located from the width direction side (first side) where the blowing device 51 is arranged. If an airflow that flows on the side (second side) in the width direction in which the is arranged is formed, the gas flow direction is the X direction side or the X direction with respect to the glass conveyance direction or the width direction. The direction may be inclined to the opposite side.

吹出吸込ユニット50は、吹出装置51と、吸込装置52とを有している。
吹出装置51は、気体をガラス基板Gの上面に向けて吹き出す装置である。気体は、例えば、空気、窒素ガス、希ガス等である。吹出装置51は、ガラス基板Gの搬送方向に沿って延びるよう開口された吹出口51aを有している。吹出口51aは、搬送されるガラス基板Gより上方に位置しており、図6に示す例において、搬送されるガラス基板Gの幅方向の外側に位置している。吹出装置51から気体が吹き出されると、搬送されるガラス基板Gの側端部G1には、吹き出された気体の圧力に応じた大きさの、板厚方向の下方を向く押付圧が作用する。なお、吹出装置51は、搬送方向に移動する保持部32と接触しないよう配置される。
The blowout suction unit 50 has a blowout device 51 and a suction device 52.
The blowing device 51 is a device that blows gas toward the upper surface of the glass substrate G. The gas is, for example, air, nitrogen gas, a rare gas, or the like. The blowout device 51 has a blowout port 51a that is opened so as to extend along the conveyance direction of the glass substrate G. The blowout port 51a is located above the transported glass substrate G, and is located outside the transported glass substrate G in the width direction in the example shown in FIG. When the gas is blown from the blowing device 51, a pressing pressure directed downward in the plate thickness direction acts on the side end portion G1 of the glass substrate G to be conveyed, the magnitude corresponding to the pressure of the blown gas. . The blowing device 51 is arranged so as not to contact the holding unit 32 that moves in the transport direction.

吸込装置52は、吹出装置51から吹き出され、ガラス基板Gの上面上を側端部G2の側に流れた気体を吸い込む装置である。吸込装置52によって気体が吸い込まれることで、搬送されるガラス基板Gの上面上に、側端部G1の側から側端部G2の側に向かって流れる気体の流れが形成される。
吸込装置52は、ガラス基板Gの搬送方向に沿って延びるよう開口された吸込口52aを有している。吸込口52aは、図6に示される例において、搬送されるガラス基板Gとほぼ同じ鉛直方向位置に配置され、搬送されるガラス基板Gの幅方向の外側に位置している。
The suction device 52 is a device that sucks the gas blown from the blowing device 51 and flowing on the upper surface of the glass substrate G toward the side end G2. The gas is sucked by the suction device 52, so that a flow of gas that flows from the side end portion G1 side toward the side end portion G2 side is formed on the upper surface of the transported glass substrate G.
The suction device 52 has a suction port 52a that is opened so as to extend along the transport direction of the glass substrate G. In the example shown in FIG. 6, the suction port 52a is arranged at substantially the same vertical position as the transported glass substrate G, and is located outside the transported glass substrate G in the width direction.

吹出吸込ユニット50は、図6に示す例において、ガラス基板Gの搬送経路上の所定位置に固定されているが、搬送方向に移動するよう構成されていてもよい。この場合、例えば、上記搬送部34によってガラス基板Gの搬送を一時的に停止させ、吹出吸込ユニット50を搬送方向に移動させることで、ガラス基板Gを搬送方向の全体にわたって異物の除去を行うことができる。
また、吹出吸込ユニット50は、例えば、図6に示される例とは逆に、吹出装置51が側端部G2の側に配置され、吸込装置52が側端部G1の側に配置されていてもよい。
In the example shown in FIG. 6, the blow-in suction unit 50 is fixed at a predetermined position on the transport path of the glass substrate G, but may be configured to move in the transport direction. In this case, for example, the transport of the glass substrate G is temporarily stopped by the transport unit 34, and the blow-in suction unit 50 is moved in the transport direction, so that the foreign substances are removed from the glass substrate G over the entire transport direction. You can
In the blow-in suction unit 50, for example, the blow-out device 51 is arranged on the side of the side end G2 and the suction device 52 is arranged on the side of the side end G1 contrary to the example shown in FIG. Good.

図6に示す変形例では、ガラス基板Gは、保持部32によって側端部G1が保持されとともに、浮上ユニット20から吹き出される気体によってフロートパネルアレイ24の上面から所定の浮上高さ浮上した状態が維持される。この状態で搬送部34により搬送されることで、ガラス基板Gは浮上状態を維持しつつ搬送される。そして、ガラス基板Gは、搬送経路上の所定位置で、吹出吸込ユニット50によって形成された、側端部G1の側から側端部G2の側に流れる気流に接触することで、ガラス基板Gの上面に付着したガラス屑等の異物は、ガラス基板Gの上面から脱離し、除去される。   In the modification shown in FIG. 6, the glass substrate G has a side end G1 held by the holding part 32 and is floated by a predetermined blowing height from the upper surface of the float panel array 24 by the gas blown from the floating unit 20. Is maintained. By being transported by the transport unit 34 in this state, the glass substrate G is transported while maintaining the floating state. Then, the glass substrate G comes into contact with the airflow that is formed by the blow-in suction unit 50 and that flows from the side end portion G1 side to the side end portion G2 side at a predetermined position on the transport path. Foreign substances such as glass chips attached to the upper surface are detached from the upper surface of the glass substrate G and removed.

このとき、ガラス基板Gの側端部G1には、吹出装置51によって吹き出された気体によって板厚方向の下方に押付圧が作用し、側端部G1は下方に沈み込もうとする。調節機構26は、このような沈み込みを抑制するために、第1の浮上力と第2の浮上力とを調節する。具体的には、第1の浮上力を、押付圧と略同等の基準圧力に基づいて調節することで、第1の浮上力と第2の浮上力とを調節する。押付け圧と略同等の基準圧力とは、圧力の大きさが押付圧と略同等であり、かつ、圧力の向きが押付圧と逆向きである圧力をいう。圧力の大きさが略同等であるとは、基準圧力の大きさが、例えば、押付圧の絶対値の±10%の範囲内にあることをいう。また、基準圧力に基づいて第1の浮上力を調節するとは、具体的には、基準圧力に、気体が吹き出される側端部G1の領域の面積を乗じて計算される力に基づいて、第1の浮上力を調節することをいう。第1の浮上力は、具体的には、側端部G1と対向するフロートパネルアレイ24の領域における、噴出機構22aから噴出される気体による上向きの力と、吸引機構22cによって気体が吸引されることで生じる下向きの力との合力である。基準圧力に基づいて第1の浮上力を調整することの具体的な態様として、第1の浮上力を、上記計算される力と等しくなるよう、噴出機構22a及び吸引機構22cを調節することが挙げられる。このように基準圧力に基づいて第1の浮上力を調節することで、押圧力に抗して側端部G1の浮上高さを維持することができ、ガラス基板Gを略水平な状態に保つことができる。なお、第1の浮上力の調節は、例えば、フロートパネルアレイ24の上面からの側端部G1の浮上高さを測定しながら行うことができる。   At this time, a pressing pressure acts on the side end portion G1 of the glass substrate G downward in the plate thickness direction by the gas blown out by the blowing device 51, and the side end portion G1 tries to sink downward. The adjustment mechanism 26 adjusts the first levitation force and the second levitation force in order to suppress such sinking. Specifically, the first levitation force and the second levitation force are adjusted by adjusting the first levitation force based on a reference pressure substantially equal to the pressing pressure. The reference pressure substantially equal to the pressing pressure means a pressure in which the magnitude of the pressure is substantially equal to the pressing pressure and the direction of the pressure is opposite to the pressing pressure. That the magnitudes of the pressures are substantially equal means that the magnitudes of the reference pressures are, for example, within ± 10% of the absolute value of the pressing pressure. Further, adjusting the first levitation force based on the reference pressure means, specifically, based on the force calculated by multiplying the reference pressure by the area of the region of the side end G1 from which the gas is blown, Adjusting the first levitation force. Specifically, the first levitation force is an upward force due to the gas ejected from the ejection mechanism 22a in the area of the float panel array 24 facing the side end G1 and the gas is sucked by the suction mechanism 22c. It is the resultant force with the downward force. As a specific mode of adjusting the first levitation force based on the reference pressure, it is possible to adjust the ejection mechanism 22a and the suction mechanism 22c so that the first levitation force is equal to the calculated force. Can be mentioned. By adjusting the first levitation force based on the reference pressure in this way, the levitation height of the side end portion G1 can be maintained against the pressing force, and the glass substrate G is maintained in a substantially horizontal state. be able to. The adjustment of the first levitation force can be performed, for example, while measuring the levitation height of the side end portion G1 from the upper surface of the float panel array 24.

このように第1の浮上力を調節することにより、ガラス基板Gの側端部G1が下方への沈み込みが抑制され、ガラス基板Gの撓みが抑制される。これにより、ガラス基板Gを略水平な姿勢で搬送することができる。本実施形態によれば、搬送中のガラス基板Gの撓みを抑制しつつ、ガラス基板Gの表面に付着した異物を除去することができる。   By adjusting the first levitation force in this way, the side end portion G1 of the glass substrate G is suppressed from sinking downward, and the bending of the glass substrate G is suppressed. As a result, the glass substrate G can be transported in a substantially horizontal posture. According to the present embodiment, it is possible to remove the foreign matter attached to the surface of the glass substrate G while suppressing the bending of the glass substrate G during transportation.

なお、第2の浮上力の調節は、側端部G2と対向するフロートパネルアレイ24の領域にある噴出機構22aおよび吸引機構22cを調節することで行うことができる。また、調節機構26による調節は、第1の浮上力の第2の浮上力の調節に制限されず、側端部G1および側端部G2を除く領域の浮上力の調節を含むものであってもよく、ガラス基板G全体を浮上させる浮上力の調節であってもよい。   The adjustment of the second levitation force can be performed by adjusting the ejection mechanism 22a and the suction mechanism 22c in the region of the float panel array 24 facing the side end portion G2. Further, the adjustment by the adjusting mechanism 26 is not limited to the adjustment of the second levitation force of the first levitation force, and includes the adjustment of the levitation force in the region excluding the side end portions G1 and G2. Alternatively, the levitation force for levitating the entire glass substrate G may be adjusted.

以上、本発明のガラス基板の搬送方法およびガラス基板搬送装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
ガラス基板の搬送方法は、端面加工工程の後に制限されず、例えば、採板工程の後、端面加工工程の後に行われてもよい。また、複数の工程の後に行われてもよい。
また、ガラス基板に浮上力を与えることを、ガラス基板に流体を吹き付けることによって行うことに制限されず、他の手段を用いて行ってもよい。
Although the glass substrate transporting method and the glass substrate transporting device of the present invention have been described above in detail, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various improvements and changes are made without departing from the gist of the present invention. Of course it is okay.
The method of transporting the glass substrate is not limited after the end surface processing step, and may be performed after the plate collecting step and after the end surface processing step, for example. Moreover, it may be performed after a plurality of steps.
Further, the application of the levitation force to the glass substrate is not limited to the application of the fluid to the glass substrate, and other means may be used.

20 浮上ユニット
26 調節機構
30 搬送ユニット
50 吹出吸込ユニット
100 ガラス基板搬送装置
G ガラス基板
G1 第1の側端部
G2 第2の側端部
20 Floating Unit 26 Adjusting Mechanism 30 Transport Unit 50 Blow-In Suction Unit 100 Glass Substrate Transport Device G Glass Substrate G1 First Side End G2 Second Side End

Claims (4)

ガラス基板に流体を吹き付けて前記ガラス基板に浮上力を与えることで、前記ガラス基板の浮上状態を維持するステップと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を一方向に搬送するステップと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向のうちの第1の側において、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出し、前記第1の側と反対側の第2の側に流れた前記気体を吸い込むステップと、を備え、
前記浮上状態を維持するステップでは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記浮上力のうち、前記第1の側に位置する前記ガラス基板の第1の領域の部分を浮上させる第1の浮上力と、前記第2の側に位置する前記ガラス基板の第2の領域の部分を浮上させる第2の浮上力と、を調節し、
前記ガラス基板の第1の領域の部分が前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて、前記押付圧を受ける前記第1領域の部分に与える第1の浮上力を調節することを特徴とするガラス基板の搬送方法。
A step of maintaining a floating state of the glass substrate by applying a levitation force to the glass substrate by spraying a fluid on the glass substrate,
Transporting the glass substrate in one direction while maintaining the floating state,
A first direction out of the direction along the one direction or the direction crossing the one direction so that gas flows on the main surface of the glass substrate in the direction along the one direction or in the direction crossing the one direction. Side, the step of blowing the gas on the side of the main surface opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied, and sucking the gas that has flowed to the second side opposite to the first side, ,,
In the step of maintaining the levitated state, a portion of the levitating force in the first region of the glass substrate located on the first side is levitated so that the glass substrate is transported in a substantially horizontal posture. Adjusting a first levitation force and a second levitation force that levitates a portion of the second region of the glass substrate located on the second side;
It said first area portion of the glass substrate on the basis of the contact pressure substantially equal to the reference pressure received in the thickness direction from the gas, first lift force applied to the portion of the first region for receiving the contact pressure A method of transporting a glass substrate, the method comprising:
ガラス基板に流体を吹き付けて前記ガラス基板に浮上力を与えることで、前記ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニットと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユニットと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向のうちの第1の側において、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出し、前記第1の側と反対側の第2の側に流れた前記気体を吸い込む吹出吸込ユニットと、を備え、
前記浮上ユニットは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記浮上力のうち、前記第1の側に位置する前記ガラス基板の第1の領域の部分を浮上させる第1の浮上力と、前記第2の側に位置する前記ガラス基板の第2の領域の部分を浮上させる第2の浮上力と、を調節する調節機構を有し、
前記調節機構は、前記気体が吹き出される前記搬送経路上の位置において、前記第1の領域の部分が前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて前記第1の浮上力を調節することを特徴とするガラス基板搬送装置。
A levitation unit that maintains the levitation state of the glass substrate by applying a levitation force to the glass substrate by spraying a fluid on the glass substrate,
A transport unit that transports the glass substrate in one direction along a transport path while maintaining the floating state,
A first direction out of the direction along the one direction or the direction crossing the one direction so that gas flows on the main surface of the glass substrate in the direction along the one direction or in the direction crossing the one direction. Side, on the side of the main surface opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied, the gas is blown out, and the gas that has flowed to the second side opposite to the first side is sucked in And a unit,
The levitation unit includes a first levitation unit for levitation a portion of the levitation force in a first region of the glass substrate located on the first side so that the glass substrate is transported in a substantially horizontal posture. An adjustment mechanism for adjusting a force and a second levitation force for levitating a portion of the second region of the glass substrate located on the second side,
At the position on the transfer path where the gas is blown out, the adjustment mechanism is configured such that, based on a reference pressure that is substantially equal to a pressing pressure that the portion of the first region receives from the gas in the plate thickness direction, A glass substrate transfer device characterized by adjusting the levitation force.
ラス基板に浮上力を与えて、前記ガラス基板の浮上状態を維持するステップと、
前記浮上状態を維持しつつ前記ガラス基板を一方向に搬送するステップと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出すステップと、を備え、
前記浮上状態を維持するステップでは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記ガラス基板が前記気体から板厚方向に受ける押付圧を受ける前記ガラス基板の領域に与える浮上力を調節することを特徴とするガラス基板の搬送方法。
Giving floating force to glass substrate, maintaining a floating state of the glass substrate,
Transporting the glass substrate in one direction while maintaining the floating state,
The gas flows on the main surface of the glass substrate in a direction along the one direction or in a direction intersecting the one direction, on the side of the main surface opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied. And a step of blowing out gas,
In the step of maintaining the levitation state, the levitation force applied to the region of the glass substrate, which receives the pressing pressure received from the gas in the plate thickness direction, is adjusted so that the glass substrate is transported in a substantially horizontal posture. A method of transporting a glass substrate, comprising:
ラス基板に浮上力を与えて、前記ガラス基板の浮上状態を維持する浮上ユニットと、
前記浮上状態に維持しつつ前記ガラス基板を搬送経路に沿って一方向に搬送する搬送ユニットと、
前記ガラス基板の主表面上を前記一方向に沿った方向または前記一方向と交差する方向に気体が流れるよう、前記浮上力が与えられるガラス基板の主表面と反対側の主表面の側で前記気体を吹き出す吹出ユニットと、を備え、
前記浮上ユニットは、前記ガラス基板が略水平な姿勢で搬送されるよう、前記気体が吹き出される前記搬送経路上の位置において、前記気体から板厚方向に受ける押付圧と略同等の基準圧力に基づいて前記浮上力を調節する調節機構を有していることを特徴とするガラス基板搬送装置。
Giving floating force to glass substrate, a floating unit to maintain the floating state of the glass substrate,
A transport unit that transports the glass substrate in one direction along a transport path while maintaining the floating state,
The gas flows on the main surface of the glass substrate in a direction along the one direction or in a direction intersecting the one direction, on the side of the main surface opposite to the main surface of the glass substrate to which the levitation force is applied. A blowing unit that blows out gas,
The levitation unit has a reference pressure substantially equal to a pressing pressure received in the plate thickness direction from the gas at a position on the transfer path where the gas is blown so that the glass substrate is transferred in a substantially horizontal posture. A glass substrate transporting device having an adjusting mechanism for adjusting the levitation force based on the above.
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