JP2013189350A - 防汚用の非晶質炭素膜を備える構造体及び防汚用の非晶質炭素膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一実施形態に係る構造体は,日本工業規格JIS-B0601に準じて測定される表面粗さが1μm以下となるように平滑化されたステンレス鋼等の基材12と,前記基材の表面に形成された防汚用の非晶質炭素膜14と,を備える。
【選択図】図1
Description
al.,”Pseudomonas aeruginosa and Serratia marcescens contamination associated with a manufacturing defect in bronchoscopes," New Engl, J,Med.,348,2003,pp,214-220参照)。
表面粗さRa0.077μmのステンレス鋼(SUS304)から成る30mmx7mm,厚さ0.1mmの基材を準備した。この基材をイソプロピルアルコール(IPA)を満たしたステンレスバット中で15分間超音波洗浄した。次に,この洗浄後のステンレス鋼基材を,高圧DCパルスプラズマCVD装置の反応容器の試料台に投入し,反応容器を1x10-3Paまで真空減圧した。次いで,流量30SCCMのトリメチルシランをガス圧が2Paとなるように調整して反応容器内に導入し,-4.5kVの電圧を印可して,シリコンを含む非晶質炭素膜(中間層)を基材上に5分間形成した。次に,この中間層の上に,ガス流量40SCCMのアセチレンを原料ガスにとして使用し,-5kVの電圧を印可して,パルス周波数10kHz,パルス幅10μs,ガス圧2Paの条件で,非晶質炭素膜を15分間成膜した。次に,試料を裏返して試料台に再度設置し,先ほどと同じ工程で,試料の裏面にも非晶質炭素膜を形成した。このようにして実施例1の試料が得られた。
実施例1と同様に,ステンレス鋼(SUS304)から成る30mmx7mm,厚さ0.1mmの基材を準備した。この基材をイソプロピルアルコール(IPA)を満たしたステンレスバット中で15分間超音波洗浄した。次に,この洗浄後のステンレス鋼基材を,高圧DCパルスプラズマCVD装置の反応容器の試料台に投入し,反応容器を1x10-3Paまで真空減圧した。次いで,流量30SCCMのトリメチルシランをガス圧が2Paとなるように調整して反応容器内に導入し,-4.5kVの電圧を印可して,シリコンを含む非晶質炭素膜(中間層)を基材上に5分間形成した。次に,この中間層の上に,ガス流量40SCCMのアセチレンを原料ガスにとして使用し,-5kVの電圧を印可して,パルス周波数10kHz,パルス幅10μs,ガス圧2Paの条件で,非晶質炭素膜を15分間成膜した。次に,ガス流量30SCCMの窒素ガスをガス圧が1.5Paとなるように調整して反応容器内に導入し,-4kVの電圧を印可して,窒素プラズマを試料に5分間照射し,試料表面の非晶質炭素膜に窒素を含有させた。次に,試料を裏返して試料台に再度設置し,先ほどと同じ工程により,試料の裏面にも窒素を含有する非晶質炭素膜を形成した。このようにして実施例2の試料が得られた。
実施例1,2と同様に,ステンレス鋼(SUS304)から成る30mmx7mm,厚さ0.1mmの基材を準備した。この未処理のステンレス鋼を比較例とした。
次に,上述のようにして得られた実施例1,2及び比較例について,各試料表面への大腸菌の付着試験を行った。まず,大腸菌(Escherichia coli NBRC3301(K12))を,PY液体培地(Polypepton 10g,Yeast
extract 2g,MgSO4・7H2O 1g,D.W.1L,pH7.0)にて30℃で培養した。次に,集菌した大腸菌の菌体を生理食塩水(Saline)にけん濁し,このけん濁液を希釈したものと,実施例1,2及び比較例の試料とをそれぞれ2mlマイクロチューブに入れ,室温にて2時間緩速撹拌しながらインキュベートした。このようにして,実施例1,2及び比較例の試料のそれぞれの表面に大腸菌を付着させた。
ルシフェールHSセット(型番60315))と反応させ,この反応により生ずる光の発光量をマイクロプレートリーダー(Wallac社製 1420 ARVOsx マルチレベルカウンタ)を用いて測定し,この発光量からATPの発光強度を求めた。そして,平板培養コロニーカウント法を用いて作成したATPの発光強度と生菌数との対応を示す検量線に基づいて,測定したATP量から大腸菌の生菌数を推定した。
12:基材
14:非晶質炭素膜
Claims (8)
- 日本工業規格JIS-B0601に準じて測定される表面粗さが1μm以下となるように平滑化された基材と,
前記基材の表面に形成された防汚用の非晶質炭素膜と,
を備える構造体。 - 前記非晶質炭素膜の等電点が前記基材の等電点よりも低い請求項1に記載の構造体。
- 前記非晶質炭素膜の等電点が酸性領域にある請求項1又は2のいずれか1項に記載の構造体。
- 前記基材がステンレス鋼から成る請求項1から3のいずれか1項に記載の構造体。
- 前記非晶質炭素膜が,Si,Ti,SiO2,又はTiO2の少なくとも1つを含む請求項1から4のいずれか1項に記載の構造体。
- 表面が平滑化された基材と,
前記基材の表面に形成され,等電点が酸性領域にある非晶質炭素膜と,
を備える構造体。 - 基材を準備する工程と,
前記基材を,日本工業規格JIS-B0601に準じて測定される表面粗さが1μm以下となるように平滑化する工程と,
前記基材の表面に防汚用の非晶質炭素膜を形成する工程と,
を備える防汚用の非晶質炭素膜の形成方法。 - 基材を準備する工程と,
前記基材を平滑化する工程と,
前記基材の表面に等電点が酸性領域にある非晶質炭素膜を形成する工程と,
を備える防汚用の非晶質炭素膜の形成方法。
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2012
- 2012-03-14 JP JP2012057840A patent/JP2013189350A/ja not_active Withdrawn
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