JP2013187217A - 基板保持装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の基板保持装置ECは、正負の電極73a,73bと、セラミック製のチャック本体71と、チャック本体の処理対象物Sの吸着面に設けられる絶縁性を持つ樹脂ラバーシート72とで構成されている。チャック本体を冷却する冷却手段81と、処理対象物Sをシリコン基板W側から加熱する加熱手段とを更に有する。
【選択図】図1
Description
Claims (3)
- 処理対象物をガラス基板の一方の面に接着剤層を介してシリコン基板が積層されたものとし、この処理対象物を静電吸着する基板保持装置であって、
電極と、セラミック製または金属製のチャック本体と、チャック本体の処理対象物の吸着面に設けられる絶縁性を持つ樹脂ラバーシートとを備え、
前記チャック本体を冷却する冷却手段と、前記処理対象物をシリコン基板側から加熱する加熱手段とを更に有することを特徴とする基板保持装置。 - 前記樹脂ラバーシートは、シリコンゴム製であることを特徴とする請求項1記載の基板保持装置。
- 請求項1または請求項2記載の基板保持装置であって、プラズマ処理が行われる処理室内に設けられるものにおいて、プラズマから処理対象物に入熱させて加熱手段としたことを特徴とする基板保持装置。
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