JP2013180891A - 基板搬送装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】全面に一括して吸着用真空が供給されるワークステージに、薄くて柔らかいワークを空気だまりによるしわが生じないように載置できるようにすること。
【解決手段】搬送アーム10には吸着パッド1が複数取り付けられており、吸着パッド1に真空を供給し、吸着パッド1によりワークを吸着して下側に保持し搬送する。搬送アーム10に取り付ける吸着パッド1の高さ(吸着パッド1の吸着面から搬送アーム10の吸着パッド取り付け面までの距離)は同じではなく、例えば、アーム10の中央部に設けるものの高さが最も高く、周辺に向かうに従って高さを順次低くしている。ワークを搬送して真空吸着により保持するワークステージ15に載置する際、ワークは中央部から周辺部に向かって順次吸着される。このため、薄くて柔らかいワークであっても、空気だまりによるしわを生じさせることなく、ワークステージ15上に載置することができる。
【選択図】 図1
【解決手段】搬送アーム10には吸着パッド1が複数取り付けられており、吸着パッド1に真空を供給し、吸着パッド1によりワークを吸着して下側に保持し搬送する。搬送アーム10に取り付ける吸着パッド1の高さ(吸着パッド1の吸着面から搬送アーム10の吸着パッド取り付け面までの距離)は同じではなく、例えば、アーム10の中央部に設けるものの高さが最も高く、周辺に向かうに従って高さを順次低くしている。ワークを搬送して真空吸着により保持するワークステージ15に載置する際、ワークは中央部から周辺部に向かって順次吸着される。このため、薄くて柔らかいワークであっても、空気だまりによるしわを生じさせることなく、ワークステージ15上に載置することができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、プリント基板や液晶パネル用のガラス基板等を吸着保持して搬送する基板搬送装置に関し、特に、薄くて柔らかい基板をしわが生じないように真空吸着ステージに吸着させるための基板搬送装置の搬送アームの構造に関するものである。
プリント基板や液晶パネルなどの製造工程において、プリント基板や、液晶パネルに使われるガラス基板等の搬送について、基板を、搬送アームに取り付けた複数の吸着パッドで吸着して吊り下げる方法(例えば特許文献1)がある。
図11に、基板を吸着パッドで吊り下げて搬送する搬送アームを供えた搬送装置の構成を示す。同図は、搬送装置を横から見た図である。
搬送アーム10には、搬送対象となる基板(ワーク)(不図示)を吸着する吸着パッド1が、複数、下向きに取り付けられている。吸着パッド1は、主な構成としてパッド部2と軸部3とからなる。軸部3にはばね3aが設けられており、ばね3aによりパッド部2は下側に付勢される。パッド部2は基板に接触する部分であり、変形が可能なやわらかい樹脂でできている。軸部3は吸着パッド1を搬送アーム10に固定する部分であり、内部に真空供給路が形成されている。
図11に、基板を吸着パッドで吊り下げて搬送する搬送アームを供えた搬送装置の構成を示す。同図は、搬送装置を横から見た図である。
搬送アーム10には、搬送対象となる基板(ワーク)(不図示)を吸着する吸着パッド1が、複数、下向きに取り付けられている。吸着パッド1は、主な構成としてパッド部2と軸部3とからなる。軸部3にはばね3aが設けられており、ばね3aによりパッド部2は下側に付勢される。パッド部2は基板に接触する部分であり、変形が可能なやわらかい樹脂でできている。軸部3は吸着パッド1を搬送アーム10に固定する部分であり、内部に真空供給路が形成されている。
各吸着パッド1の軸部3には真空配管32が接続され、基板を吸着保持する際には真空が供給される。
搬送アーム10には、搬送アーム10をX方向(図面左右方向)に移動させるX方向移動機構21が取り付けられ、X方向移動機構21はX方向ガイド14に沿って移動する。また、X方向ガイド14は、X方向ガイド14をZ方向に移動させるZ方向移動機構22が取り付けられ、Z方向移動機構22はZ方向ガイド13に沿ってZ方向に移動する。
さらに、Z方向ガイド13はベースプレート23に取り付けられている。したがって、搬送アーム10は、X方向移動機構21により同図の左右方向に移動し、Z方向移動機構22により同図の上下方向に移動する。これにより、保持した基板を所望の位置に移動させることができる。なお、保持した基板をY方向(図面手前奥方向)に移動する機構を取り付けたものもある。
制御部30は、上記X方向駆動部21及びZ方向駆動部22を制御して、搬送アーム10を所望の位置に移動させるとともに、電磁弁31を駆動して搬送アーム10の吸着パッド1への真空の供給を制御して、吸着パッド1による基板11の吸着保持および解除を制御する。
搬送アーム10には、搬送アーム10をX方向(図面左右方向)に移動させるX方向移動機構21が取り付けられ、X方向移動機構21はX方向ガイド14に沿って移動する。また、X方向ガイド14は、X方向ガイド14をZ方向に移動させるZ方向移動機構22が取り付けられ、Z方向移動機構22はZ方向ガイド13に沿ってZ方向に移動する。
さらに、Z方向ガイド13はベースプレート23に取り付けられている。したがって、搬送アーム10は、X方向移動機構21により同図の左右方向に移動し、Z方向移動機構22により同図の上下方向に移動する。これにより、保持した基板を所望の位置に移動させることができる。なお、保持した基板をY方向(図面手前奥方向)に移動する機構を取り付けたものもある。
制御部30は、上記X方向駆動部21及びZ方向駆動部22を制御して、搬送アーム10を所望の位置に移動させるとともに、電磁弁31を駆動して搬送アーム10の吸着パッド1への真空の供給を制御して、吸着パッド1による基板11の吸着保持および解除を制御する。
プリント基板や液晶パネルなどの製造工程において使用される装置、例えば露光装置は、このような基板搬送アームを備えており、露光ステージへの基板の搬送、また露光ステージからの基板の搬出に使用する。
図12は、図11の搬送アーム10の部分を拡大して示したものである。なお、同図において吸着パッド1に接続されている真空配管は省略している。
上記したように、吸着パッド1は、主としてパッド部2と軸部3とから構成されている。パッド部2は基板11に触れる部分である。パッド部2の材質は柔らかい樹脂であり、ある程度の変形が可能である。
吸着パッド1は、軸部3において搬送アーム10に取り付けられる。軸部3にはばね3aが取り付けられており、吸着パッド1は取り付けた搬送アーム10に対して、図面上下方向(Z方向)に数mmの範囲で移動可能である。
図12は、図11の搬送アーム10の部分を拡大して示したものである。なお、同図において吸着パッド1に接続されている真空配管は省略している。
上記したように、吸着パッド1は、主としてパッド部2と軸部3とから構成されている。パッド部2は基板11に触れる部分である。パッド部2の材質は柔らかい樹脂であり、ある程度の変形が可能である。
吸着パッド1は、軸部3において搬送アーム10に取り付けられる。軸部3にはばね3aが取り付けられており、吸着パッド1は取り付けた搬送アーム10に対して、図面上下方向(Z方向)に数mmの範囲で移動可能である。
この図を用いて、搬送アーム10が基板11(ワーク11ともいう)を装置の真空吸着ステージ15(ワークステージ15ともいう)に置く動作を説明する。
(1)図12(a)に示すように搬送アーム10がワーク11を保持している。吸着パッド1には真空が供給されている。搬送アーム10は、ワークステージ15の直上に移動し下降する。
ワークステージ15の表面には、ワーク11を吸着保持するための、真空吸着孔15a(または真空吸着溝)が形成され真空が供給されている。
(2)図12(b)に示すようにワーク11の下面がワークステージ15の表面に接触する。ワークステージ15はワーク11を吸着保持する。搬送アーム10の吸着パッド1に供給している真空を停止し、吸着パッド1によるワーク11の保持を解除する。
(3)搬送アーム10が上昇する(不図示)。
(1)図12(a)に示すように搬送アーム10がワーク11を保持している。吸着パッド1には真空が供給されている。搬送アーム10は、ワークステージ15の直上に移動し下降する。
ワークステージ15の表面には、ワーク11を吸着保持するための、真空吸着孔15a(または真空吸着溝)が形成され真空が供給されている。
(2)図12(b)に示すようにワーク11の下面がワークステージ15の表面に接触する。ワークステージ15はワーク11を吸着保持する。搬送アーム10の吸着パッド1に供給している真空を停止し、吸着パッド1によるワーク11の保持を解除する。
(3)搬送アーム10が上昇する(不図示)。
パソコンや携帯電話またはゲーム機などに使用される基板11は、これらの装置の小型化軽量化のために年々薄くなっており、最近は厚さが100μmから200μm程度のものも使用されている。このような薄い基板11は柔らかく、一部を持つと自重で垂れ下がる。
このような薄くて柔らかい基板11(ワーク)を、真空吸着ステージ(ワークステージ15)に置くと、ステージ15とワーク11の間に空気が残り、ワーク11にしわが生じた状態でステージ15に保持されることがある。
このような薄くて柔らかい基板11(ワーク)を、真空吸着ステージ(ワークステージ15)に置くと、ステージ15とワーク11の間に空気が残り、ワーク11にしわが生じた状態でステージ15に保持されることがある。
このような問題の対策として、特許文献2に記載の露光装置のステージは、基板吸着用真空が供給される孔を複数の孔群に分け、基板11がステージ15の一方から他方へ連続的に吸着されるよう、各孔群の吸着速度を調節している。また、特許文献3のステージ装置は、一つの真空吸着孔から放射状に真空吸着溝を設けている。
しかし、これらは従来のワークステージ15に対して、ステージの構造や吸着保持の制御の変更が必要であり、新規の設計が必要となり、装置のコストアップにつながる。
本発明は上記問題を解決するものであり、従来の全面に一括して吸着用真空が供給されるワークステージに、薄くて柔らかいワークを空気だまりによるしわが生じないように載置できるようにすることを目的とする。
しかし、これらは従来のワークステージ15に対して、ステージの構造や吸着保持の制御の変更が必要であり、新規の設計が必要となり、装置のコストアップにつながる。
本発明は上記問題を解決するものであり、従来の全面に一括して吸着用真空が供給されるワークステージに、薄くて柔らかいワークを空気だまりによるしわが生じないように載置できるようにすることを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明においては、搬送アーム10に複数設けられた吸着パッド1の高さ(吸着パッド1の基板に接触する吸着面から搬送アーム10の吸着パッド取り付け面までの距離)を変えて、所定の位置に配置された吸着パッド1の高さを最も高くする。
例えば、搬送アーム10の中央部付近に設けた吸着パッド1の高さを最も高くし、中央部付近に設けた吸着パッド1から周辺部に設けたものに向けて吸着パッド1の高さを徐々に低くする(上記距離を小さくする)。あるいは、搬送アーム10の一方の端に設けた吸着パッド1を最も高くし、一方の端に設けた吸着パッド1から(対向する)他方の端に設けたものに向けて吸着パッド1の高さを徐々に低くする。
基板11を保持した複数の吸着パッドがワークステージに近づくとき、搬送アーム10に保持された基板11は、吸着パッド1の高さが最も高い部分が、最初にワークステージ15に接触する。以降、基板11は、吸着パッド1の高さの順に、連続的にステージ15に吸着保持される。
即ち、搬送アーム10の中央部に設けた吸着パッド1が一番高く、周辺部に向かうにつれて低くした場合は、基板11は中央部から周辺部に向かって順次吸着される。アームの一方の端に設けた吸着パッド1が一番高く、(対向する)他方の端に向かうにつれて低くした場合は、基板11は、一方の端から他方の端に向かって順次吸着される。
このため、薄くて柔らかい基板11であっても、空気だまりによるしわを生じさせることなく、ワークステージ上に載置することができる。
例えば、搬送アーム10の中央部付近に設けた吸着パッド1の高さを最も高くし、中央部付近に設けた吸着パッド1から周辺部に設けたものに向けて吸着パッド1の高さを徐々に低くする(上記距離を小さくする)。あるいは、搬送アーム10の一方の端に設けた吸着パッド1を最も高くし、一方の端に設けた吸着パッド1から(対向する)他方の端に設けたものに向けて吸着パッド1の高さを徐々に低くする。
基板11を保持した複数の吸着パッドがワークステージに近づくとき、搬送アーム10に保持された基板11は、吸着パッド1の高さが最も高い部分が、最初にワークステージ15に接触する。以降、基板11は、吸着パッド1の高さの順に、連続的にステージ15に吸着保持される。
即ち、搬送アーム10の中央部に設けた吸着パッド1が一番高く、周辺部に向かうにつれて低くした場合は、基板11は中央部から周辺部に向かって順次吸着される。アームの一方の端に設けた吸着パッド1が一番高く、(対向する)他方の端に向かうにつれて低くした場合は、基板11は、一方の端から他方の端に向かって順次吸着される。
このため、薄くて柔らかい基板11であっても、空気だまりによるしわを生じさせることなく、ワークステージ上に載置することができる。
すなわち、本発明においては、以下のようして前記課題を解決する。
基板を、アームに取り付けられた複数の吸着パッドにより下側に保持して搬送し、該基板を真空吸着により保持するワークステージに載置する基板搬送装置において、上記複数の吸着パッドが上記ワークステージに近づくときの上記吸着パッドの上記ワークステージ面からの距離を変えて、上記吸着パッドの内の所定の位置に配置された吸着パッドの上記距離が、該所定の位置に配置された吸着パッド以外の吸着パッドの上記距離より小さくする。
基板を、アームに取り付けられた複数の吸着パッドにより下側に保持して搬送し、該基板を真空吸着により保持するワークステージに載置する基板搬送装置において、上記複数の吸着パッドが上記ワークステージに近づくときの上記吸着パッドの上記ワークステージ面からの距離を変えて、上記吸着パッドの内の所定の位置に配置された吸着パッドの上記距離が、該所定の位置に配置された吸着パッド以外の吸着パッドの上記距離より小さくする。
本発明においては、以下の効果を得ることができる。
(1)ワークがワークステージに、吸着パッドの高さの順に、例えば中央部から周辺部に向かって、または一方の端から他方の端に向かって順次吸着される。そのため、ワークステージとワークの間の空気は、中央部から周辺部に向かって、または一方の端から他方の端に向かって追い出される。したがって、ワークステージは、ワークを、空気だまりによるしわが生じることなく吸着保持することができる。
(2)吸着パッドの高さを変えるだけであり、ワークステージの構造や吸着保持の制御を変更する必要がなく、装置のコストアップを防ぐことができる。
(1)ワークがワークステージに、吸着パッドの高さの順に、例えば中央部から周辺部に向かって、または一方の端から他方の端に向かって順次吸着される。そのため、ワークステージとワークの間の空気は、中央部から周辺部に向かって、または一方の端から他方の端に向かって追い出される。したがって、ワークステージは、ワークを、空気だまりによるしわが生じることなく吸着保持することができる。
(2)吸着パッドの高さを変えるだけであり、ワークステージの構造や吸着保持の制御を変更する必要がなく、装置のコストアップを防ぐことができる。
図1(a)は、本発明の実施例の基板搬送装置の構成例を示す図である。図11に示した従来の基板搬送装置と異なる部分は、アームに取り付けた吸着パッド1の、アームからの高さであり、その他の構造は図11と同じである。
すなわち、搬送アーム10には吸着パッド1が、複数取り付けられている。吸着パッド1は、主な構成としてパッド部2と軸部3とからなり軸部3にはばね3aが設けられている。パッド部2は変形が可能なやわらかい樹脂でできており、軸部3の内部に真空供給路が形成され、真空配管32が接続される。搬送アーム10は、前記したようにX方向移動機構21、Z方向移動機構22により同図の左右方向、上下方向に移動する。制御部30は、上記X方向駆動部21及びZ方向駆動部22を制御して、搬送アーム10を所望の位置に移動させるとともに、電磁弁31を駆動して搬送アーム10の吸着パッド1への真空の供給を制御して、吸着パッド1による基板11の吸着保持および解除を制御する。
すなわち、搬送アーム10には吸着パッド1が、複数取り付けられている。吸着パッド1は、主な構成としてパッド部2と軸部3とからなり軸部3にはばね3aが設けられている。パッド部2は変形が可能なやわらかい樹脂でできており、軸部3の内部に真空供給路が形成され、真空配管32が接続される。搬送アーム10は、前記したようにX方向移動機構21、Z方向移動機構22により同図の左右方向、上下方向に移動する。制御部30は、上記X方向駆動部21及びZ方向駆動部22を制御して、搬送アーム10を所望の位置に移動させるとともに、電磁弁31を駆動して搬送アーム10の吸着パッド1への真空の供給を制御して、吸着パッド1による基板11の吸着保持および解除を制御する。
図1(b)は本発明の第1の実施例の搬送アーム10とワークステージの断面を拡大して示した図である。なお、同図において吸着パッド1に接続されている真空配管は省略している。
ワークステージ15の表面には、同図に示すようにワーク11を吸着保持するための、真空吸着孔15a(または真空吸着溝)が形成され真空が供給されている。
図11に示した従来の搬送アーム構造と異なる部分は、アームに取り付けた吸着パッド1の、アームからの高さである。
従来は、吸着パッド1のアームからの高さは、基本的には全て同じであった。しかし、図1に示す実施例では、搬送アーム10に取り付ける吸着パッド1は、アーム10の中央部に設けるものの高さが最も高く(吸着パッド1の基板に接触する吸着面から搬送アーム10の吸着パッド取り付け面までの距離が最も大きく)、周辺に向かうにしたがって、高さを順次低くしている。図1では高さの差を拡大して示しているが、中央部の最も高い吸着パッド1と、周辺部の最も低い吸着パッド1の高さの差は1mmから2mm程度である。
ワークステージ15の表面には、同図に示すようにワーク11を吸着保持するための、真空吸着孔15a(または真空吸着溝)が形成され真空が供給されている。
図11に示した従来の搬送アーム構造と異なる部分は、アームに取り付けた吸着パッド1の、アームからの高さである。
従来は、吸着パッド1のアームからの高さは、基本的には全て同じであった。しかし、図1に示す実施例では、搬送アーム10に取り付ける吸着パッド1は、アーム10の中央部に設けるものの高さが最も高く(吸着パッド1の基板に接触する吸着面から搬送アーム10の吸着パッド取り付け面までの距離が最も大きく)、周辺に向かうにしたがって、高さを順次低くしている。図1では高さの差を拡大して示しているが、中央部の最も高い吸着パッド1と、周辺部の最も低い吸着パッド1の高さの差は1mmから2mm程度である。
なお、図1は搬送アームを横方向から見た図であり、5個の吸着パッドを横に並べて配置した場合を示しているが、吸着パッドは、後述するようにワークの上の吸着することが許される領域に対応して配置され、例えば、ワークの中央部付近と周辺部付近に対応した位置に配置されることが多く、ワークステージ側から吸着パッドをみると、吸着パッドは田の字型に配置される場合が多い。
また、本実施例において示した吸着パッド1は、図2(a)に示すようなパッドの部分が吸盤形のものであるが、パッドの他の例としては、同図(b)に示すようにベローズを用いた物や、同図(c)に示すようにスポンジを用いた物などがある。
また、本実施例において示した吸着パッド1は、図2(a)に示すようなパッドの部分が吸盤形のものであるが、パッドの他の例としては、同図(b)に示すようにベローズを用いた物や、同図(c)に示すようにスポンジを用いた物などがある。
図3から図4を使って、図1に示した実施例の搬送アームの動作を説明する。なお、これらの図は、図1(b)と同様に、吸着パッド1に接続されている真空配管を省略している。
(1)図3(a)に示すように、搬送アーム10がワーク11を保持している。吸着パッド1には真空が供給されている。吸着パッド1は高さが異なるが、保持されるワーク11は薄くて柔らかいので、この程度の変形は許される。
(2)図3(b)に示すように、搬送アーム10は、ワークステージ15の直上に移動し下降する。ワーク11は、高さが最も高い吸着パッド1に保持された部分、この実施例の場合は、ワーク11の中央部が、最初にワークステージ15に接触する。
(3)図4(c)(d)に示すように、以降、搬送アーム10が下降するにつれて、ワーク11は、吸着パッド1の高さの順に、周辺部に向かって連続的にステージ15に吸着保持される。ステージ15とワーク11の間の空気は、中央部から周辺部に向かって追い出され、真空吸着孔から排気されていく。
(1)図3(a)に示すように、搬送アーム10がワーク11を保持している。吸着パッド1には真空が供給されている。吸着パッド1は高さが異なるが、保持されるワーク11は薄くて柔らかいので、この程度の変形は許される。
(2)図3(b)に示すように、搬送アーム10は、ワークステージ15の直上に移動し下降する。ワーク11は、高さが最も高い吸着パッド1に保持された部分、この実施例の場合は、ワーク11の中央部が、最初にワークステージ15に接触する。
(3)図4(c)(d)に示すように、以降、搬送アーム10が下降するにつれて、ワーク11は、吸着パッド1の高さの順に、周辺部に向かって連続的にステージ15に吸着保持される。ステージ15とワーク11の間の空気は、中央部から周辺部に向かって追い出され、真空吸着孔から排気されていく。
図5と図6は、本発明の第2の実施例の基板搬送アーム10の構成と動作を説明する図である。
本実施例では、アーム10に取り付ける吸着パッド1は、アーム10の一方の端に設けるものの高さが最も高く、対向するもう一方の端に向かうにしたがって、高さを順次低くしている。最も高い吸着パッド1と、最も低い吸着パッド1の高さの差は、第1の実施例と同じく1mmから2mm程度である。
本実施例では、アーム10に取り付ける吸着パッド1は、アーム10の一方の端に設けるものの高さが最も高く、対向するもう一方の端に向かうにしたがって、高さを順次低くしている。最も高い吸着パッド1と、最も低い吸着パッド1の高さの差は、第1の実施例と同じく1mmから2mm程度である。
図5から図6を使って、本案件の搬送アーム10の動作を説明する。
(1)図5(a)に示すように、搬送アーム10がワーク11を保持している。吸着パッド1には真空が供給されている。
(2)図5(b)に示すように、搬送アーム10は、ワークステージ15の直上に移動し下降する。ワーク11は、高さが最も高い吸着パッド1に保持された部分、この実施例の場合は、ワーク11の一方の端(図面左端)が、最初にワークステージ15に接触する。
(3)図6(c)(d)に示すように、以降、搬送アーム10が下降するにつれて、ワーク11は、吸着パッド1の高さの順に図面左端から右端に向かって連続的にステージ15に吸着保持される。ステージ15とワーク11の間の空気は、図面左側から右側に向かって追い出されていく。
(1)図5(a)に示すように、搬送アーム10がワーク11を保持している。吸着パッド1には真空が供給されている。
(2)図5(b)に示すように、搬送アーム10は、ワークステージ15の直上に移動し下降する。ワーク11は、高さが最も高い吸着パッド1に保持された部分、この実施例の場合は、ワーク11の一方の端(図面左端)が、最初にワークステージ15に接触する。
(3)図6(c)(d)に示すように、以降、搬送アーム10が下降するにつれて、ワーク11は、吸着パッド1の高さの順に図面左端から右端に向かって連続的にステージ15に吸着保持される。ステージ15とワーク11の間の空気は、図面左側から右側に向かって追い出されていく。
図7から図10は搬送アームにおける吸着パッドの具体的な配置例を示す図である。なお、同図において吸着パッド1に接続されている真空配管は省略されており、また軸部に設けたばね3aも省略されている。
前記したように、搬送するワーク11の表面には、吸着パッド1のパッド部2が吸着しても許される領域が設けられており、吸着パッド1は、その位置に合せて搬送アーム10に取り付けられている。ワーク11上の吸着パッド1が吸着しても許される領域は、ワーク11に形成される回路等のパターンとパターンの間や、パターンの形成されないワーク11の周辺部であることが多く、吸着パッドは、例えば図7から図10に示すように、田の字型に配置されることが多い。なお、必ずしも吸着パッドが中央に設けられている必要はなく、中央付近の吸着パッドの位置が中央付近から上下、あるいは左右にずれていてもよい。
前記したように、搬送するワーク11の表面には、吸着パッド1のパッド部2が吸着しても許される領域が設けられており、吸着パッド1は、その位置に合せて搬送アーム10に取り付けられている。ワーク11上の吸着パッド1が吸着しても許される領域は、ワーク11に形成される回路等のパターンとパターンの間や、パターンの形成されないワーク11の周辺部であることが多く、吸着パッドは、例えば図7から図10に示すように、田の字型に配置されることが多い。なお、必ずしも吸着パッドが中央に設けられている必要はなく、中央付近の吸着パッドの位置が中央付近から上下、あるいは左右にずれていてもよい。
図7は、吸着パッドの第1の配置例を示す図であり、同図(a)は搬送アームをワークステージ側から見た図、(b)は同図(a)のA−A断面図、(c)は搬送アームを横方向から見た図である。同図中に示した「高」、「中」、「低」は吸着パッドの高さを示し、吸着パッドの高さは、「高」>「中」>「低」である。
この配置例は、吸着パッド1を搬送アーム10に田の字状に配置し、中央付近の吸着パッド1を最も高くし、周辺部に行くに従って吸着パッドの高さを低くした場合を示す。
図7に示すように吸着パッド1を配置することにより、前記第1の実施例で説明したように、搬送アーム10が下降したとき、高さが最も高い吸着パッド1に保持されたワーク11の中央部が、最初にワークステージ15に接触し、以降、吸着パッド1の高さの順に、ワーク11は周辺部に向かって連続的にワークステージ15に吸着保持される。その結果、ステージ15とワーク11の間の空気は、中央部から周辺部に向かって追い出され、空気だまりによるしわが生じることなくワークを吸着保持させることができる。
この配置例は、吸着パッド1を搬送アーム10に田の字状に配置し、中央付近の吸着パッド1を最も高くし、周辺部に行くに従って吸着パッドの高さを低くした場合を示す。
図7に示すように吸着パッド1を配置することにより、前記第1の実施例で説明したように、搬送アーム10が下降したとき、高さが最も高い吸着パッド1に保持されたワーク11の中央部が、最初にワークステージ15に接触し、以降、吸着パッド1の高さの順に、ワーク11は周辺部に向かって連続的にワークステージ15に吸着保持される。その結果、ステージ15とワーク11の間の空気は、中央部から周辺部に向かって追い出され、空気だまりによるしわが生じることなくワークを吸着保持させることができる。
図8は、吸着パッドの第2の配置例を示す図であり、同図(a)は搬送アームをワークステージ側から見た図、(b)は同図(a)のA−A断面図、(c)は搬送アームを横方向から見た図である。同図中に示した「高」、「中」、「低」は吸着パッドの高さを示し、吸着パッドの高さは、「高」>「中」>「低」である。
この配置例は、吸着パッド1を搬送アーム10に田の字状に配置し、搬送アーム10の一方の辺に近い吸着パッド1を最も高くし、対向する他方の辺の近くに行くに従って吸着パッドの高さを低くした場合を示す。
図8に示すように吸着パッド1を配置することにより、前記第2の実施例で説明したように、搬送アーム10が下降したとき、高さが最も高い吸着パッド1に保持されたワーク11の一方の辺の近く(同図(a)の左側)が、最初にワークステージ15に接触し、以降、吸着パッド1の高さの順に、ワーク11は同図(a)の左側から右側に向かってステージ15に吸着保持される。その結果、ステージ15とワーク11の間の空気は、左側から右側に向かって追い出され、空気だまりによるしわが生じることなくワークを吸着保持させることができる。
この配置例は、吸着パッド1を搬送アーム10に田の字状に配置し、搬送アーム10の一方の辺に近い吸着パッド1を最も高くし、対向する他方の辺の近くに行くに従って吸着パッドの高さを低くした場合を示す。
図8に示すように吸着パッド1を配置することにより、前記第2の実施例で説明したように、搬送アーム10が下降したとき、高さが最も高い吸着パッド1に保持されたワーク11の一方の辺の近く(同図(a)の左側)が、最初にワークステージ15に接触し、以降、吸着パッド1の高さの順に、ワーク11は同図(a)の左側から右側に向かってステージ15に吸着保持される。その結果、ステージ15とワーク11の間の空気は、左側から右側に向かって追い出され、空気だまりによるしわが生じることなくワークを吸着保持させることができる。
図9は、吸着パッドの第3の配置例を示す図であり、同図(a)は搬送アームをワークステージ側から見た図、(b)は同図(a)のA−A断面図、(c)は搬送アームを横方向から見た図である。同図中に示した「高」、「中」、「低」は吸着パッドの高さを示し、吸着パッドの高さは、「高」>「中」>「低」である。
この配置例は、吸着パッド1を搬送アーム10に田の字状に配置し、搬送アーム10の中央部を通り搬送アームの辺に平行な線に沿って配置された吸着パッド1を最も高くし、上記線に平行な一方の辺(同図(a)の左辺)の近くに配置された吸着パッドの高さを第2番目の高さとし、該辺に対向する辺(同図(a)の右辺)の近くに配置されて吸着パッドの高さを最も低くした場合を示す。
図9に示すように吸着パッド1を配置することにより、前記第1の実施例で説明したように、搬送アーム10が下降したとき、高さが最も高い吸着パッド1に保持されたワーク11の中央部が最初にワークステージ15に接触し、以降、吸着パッド1の高さの順に、ワーク11は同図(a)左端、次いで右端がワークステージ15に接触し、その結果、ステージ15とワーク11の間の空気は、中央部から左側、右側に向かって追い出され、空気だまりによるしわが生じることなくワークを吸着保持させることができる。
この配置例は、吸着パッド1を搬送アーム10に田の字状に配置し、搬送アーム10の中央部を通り搬送アームの辺に平行な線に沿って配置された吸着パッド1を最も高くし、上記線に平行な一方の辺(同図(a)の左辺)の近くに配置された吸着パッドの高さを第2番目の高さとし、該辺に対向する辺(同図(a)の右辺)の近くに配置されて吸着パッドの高さを最も低くした場合を示す。
図9に示すように吸着パッド1を配置することにより、前記第1の実施例で説明したように、搬送アーム10が下降したとき、高さが最も高い吸着パッド1に保持されたワーク11の中央部が最初にワークステージ15に接触し、以降、吸着パッド1の高さの順に、ワーク11は同図(a)左端、次いで右端がワークステージ15に接触し、その結果、ステージ15とワーク11の間の空気は、中央部から左側、右側に向かって追い出され、空気だまりによるしわが生じることなくワークを吸着保持させることができる。
図10は、吸着パッドの第4の配置例を示す図であり、同図(a)は搬送アームをワークステージ側から見た図、(b)は同図(a)のA−A断面図、(c)は同図(a)のB−B断面図、(d)は搬送アームを横方向から見た図である。同図中に示した「高」、「中」、「低」は吸着パッドの高さを示し、吸着パッドの高さは、「高高」>「高」>「中」>「低」>「低低」である。
この配置例は、吸着パッド1を搬送アーム10に田の字状に配置し、搬送アーム10の対角線の一端の近くに配置された吸着パッド1を最も高くし、この対角線に沿って、対角線の他端に近づくにしたがって吸着パッドの高さを低くした場合を示す。
図10に示すように吸着パッド1を配置することにより、前記第2の実施例で説明したように、搬送アーム10が下降したとき、高さが最も高い吸着パッド1に保持されたワーク11の対角線の一方端の近く(同図(a)の左上側)が、最初にワークステージ15に接触し、以降、吸着パッド1の高さの順に、ワーク11は同図(a)の左上側から右下側に向かってステージ15に吸着保持される。その結果、ステージ15とワーク11の間の空気は、左上側から右下側に向かって追い出され、空気だまりによるしわが生じることなくワークを吸着保持させることができる。
この配置例は、吸着パッド1を搬送アーム10に田の字状に配置し、搬送アーム10の対角線の一端の近くに配置された吸着パッド1を最も高くし、この対角線に沿って、対角線の他端に近づくにしたがって吸着パッドの高さを低くした場合を示す。
図10に示すように吸着パッド1を配置することにより、前記第2の実施例で説明したように、搬送アーム10が下降したとき、高さが最も高い吸着パッド1に保持されたワーク11の対角線の一方端の近く(同図(a)の左上側)が、最初にワークステージ15に接触し、以降、吸着パッド1の高さの順に、ワーク11は同図(a)の左上側から右下側に向かってステージ15に吸着保持される。その結果、ステージ15とワーク11の間の空気は、左上側から右下側に向かって追い出され、空気だまりによるしわが生じることなくワークを吸着保持させることができる。
1 吸着パッド
2 パッド部
3 軸部
3a バネ
10 搬送アーム
11 ワーク
13 Z方向ガイド
14 X方向ガイド
15 ワークステージ
15a 真空吸着孔
21 X方向移動機構
22 Z方向移動機構
23 ベースプレート
30 制御部
31 電磁弁
32 真空配管
2 パッド部
3 軸部
3a バネ
10 搬送アーム
11 ワーク
13 Z方向ガイド
14 X方向ガイド
15 ワークステージ
15a 真空吸着孔
21 X方向移動機構
22 Z方向移動機構
23 ベースプレート
30 制御部
31 電磁弁
32 真空配管
Claims (1)
- 基板を、アームに取り付けられた複数の吸着パッドにより下側に保持して搬送し、該基板を真空吸着により保持するワークステージに載置する基板搬送装置であって、
上記複数の吸着パッドが上記ワークステージに近づくときの上記吸着パッドの上記ワークステージ面からの距離は、
上記吸着パッドの内の所定の位置に配置された吸着パッドの上記距離が、該所定の位置に配置された吸着パッド以外の吸着パッドの上記距離より小さい
ことを特徴とする基板搬送装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012047813A JP2013180891A (ja) | 2012-03-05 | 2012-03-05 | 基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012047813A JP2013180891A (ja) | 2012-03-05 | 2012-03-05 | 基板搬送装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013180891A true JP2013180891A (ja) | 2013-09-12 |
Family
ID=49271825
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012047813A Pending JP2013180891A (ja) | 2012-03-05 | 2012-03-05 | 基板搬送装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013180891A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190037830A (ko) * | 2017-09-29 | 2019-04-08 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 기판 절단 장치 |
JP2019131371A (ja) * | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 基板搬送装置および基板吸着装置 |
CN110289239A (zh) * | 2019-04-12 | 2019-09-27 | 广州市加简派电子科技有限公司 | 一种具有节能效果的防损坏的芯片拾取设备 |
CN110842972A (zh) * | 2019-12-03 | 2020-02-28 | 徐州欧普莱斯工业机械有限公司 | 一种用于玻璃易碎品搬运的机械手的工作方法 |
-
2012
- 2012-03-05 JP JP2012047813A patent/JP2013180891A/ja active Pending
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