JP2013168643A - Electromagnetic wave shield sheet and manufacturing method of wiring board with electromagnetic wave shield layer - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave shield sheet which exhibits high electromagnetic wave shielding properties while ensuring excellent impedance matching in a wiring board with an electromagnetic wave shield layer, by thinning the electromagnetic wave shield layer and providing a conductive layer having a plurality of apertures in the electromagnetic wave shield sheet, and setting the shape and opening ratio of the apertures appropriately in a wiring board with an electromagnetic wave shield layer where an electromagnetic wave shield sheet is bonded to the wiring board and a conductive adhesive layer is omitted.SOLUTION: The electromagnetic wave shield sheet used while being bonded to a wiring board having signal wiring includes an insulating bonding layer containing a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of 0-150°C and flowable under conditions of 150°C temperature and 1 kg/cmpressure, and a conductive layer provided on one surface of the bonding layer and having a plurality of apertures.

Description

本発明はプリント配線板等の配線板に貼着(接合)して使用される電磁波シールドシートであって、配線板が薄い場合も電気回路や信号配線から発生する電磁ノイズを遮蔽すると同時に、所望の特性インピーダンスを得ることができる電磁波シールドシート、および、かかる電磁波シールドシートを用いた電磁波シールド層付き配線板の製造方法に関する。   The present invention is an electromagnetic wave shielding sheet that is used by being attached (bonded) to a wiring board such as a printed wiring board. Even when the wiring board is thin, the electromagnetic noise generated from the electric circuit or signal wiring is shielded and desired. The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet capable of obtaining the characteristic impedance and a method of manufacturing a wiring board with an electromagnetic wave shielding layer using the electromagnetic wave shielding sheet.

デジタルカメラや携帯電話等の電子機器の小型化・薄型化が進行している。それに伴って、これらの電子機器に搭載されるプリント配線板も小型化・薄型化することが求められている。また、プリント配線板は、ノイズ低減のため電磁波シールド層を有することが一般的である(以下、電磁波シールド層を備えるプリント配線板を、「電磁波シールド層付きプリント配線板」と言う)。
さらに、近年、放射電磁ノイズ(EMI)に関する国際規格である「CISPR22」が改定され、抑制すべき電磁ノイズの上限周波数が、従来の1GHzから6GHzに拡大されることになり、さらなる電磁ノイズに対する対策が求められている。
一方、プリント配線板の配線回路(信号配線)は、高速かつ大容量の信号の伝送が求められており、配線回路に流す信号をより高周波にする必要がある。そうすると、信号の反射や波形歪みの抑制のため、プリント配線板に接続される回路素子の入出力インピーダンスとプリント配線板の特性インピーダンスとを整合させる必要が生じる。
なお、前記特性インピーダンスは、下記の数式1で示すように、配線回路の単位長さあたりのリアクタンスLと、電磁波シールド層やグランド回路等の導電材と配線回路との間における単位面積あたりのキャパシタンスCとの、平方根で近似される。
特性インピーダンス ≒ (L/C)0.5 ・・・ 数式(1)
Electronic devices such as digital cameras and mobile phones are becoming smaller and thinner. Accordingly, printed wiring boards mounted on these electronic devices are also required to be reduced in size and thickness. The printed wiring board generally has an electromagnetic wave shielding layer for noise reduction (hereinafter, a printed wiring board having an electromagnetic wave shielding layer is referred to as “printed wiring board with an electromagnetic wave shielding layer”).
Furthermore, in recent years, “CISPR22”, an international standard for radiated electromagnetic noise (EMI), has been revised, and the upper limit frequency of electromagnetic noise to be suppressed has been expanded from 1 GHz to 6 GHz. Is required.
On the other hand, a wiring circuit (signal wiring) of a printed wiring board is required to transmit a high-speed and large-capacity signal, and a signal flowing through the wiring circuit needs to have higher frequency. Then, in order to suppress signal reflection and waveform distortion, it is necessary to match the input / output impedance of the circuit element connected to the printed wiring board and the characteristic impedance of the printed wiring board.
The characteristic impedance is represented by the following equation 1, the reactance L per unit length of the wiring circuit, and the capacitance per unit area between the conductive material such as the electromagnetic shielding layer and the ground circuit and the wiring circuit. It is approximated by the square root of C.
Characteristic impedance ≒ (L / C) 0.5 ... Formula (1)

しかしながら、近年のプリント配線板は、電子機器の小型化・薄型化を目的として、配線回路の厚さをより一層薄くしている。その結果、電磁波シールド層付きプリント配線板では、配線回路と電磁波シールド層との間隔が狭くなり、そのキャパシタンスが増加する傾向がある。
そこで、所望の特性インピーダンスを得るために、配線回路の幅がより狭くなるよう形成し、電磁波シールド層付きプリント配線板のキャパシタンスの増加を抑える必要がある。しかしながら、配線回路の幅を大幅に狭くすることは技術的に困難であり、電磁波シールド層付きプリント配線板において、安定した特性インピーダンスが得られないという問題がある。
However, in recent printed wiring boards, the thickness of the wiring circuit is further reduced for the purpose of reducing the size and thickness of electronic devices. As a result, in the printed wiring board with an electromagnetic wave shielding layer, the interval between the wiring circuit and the electromagnetic wave shielding layer is narrowed, and the capacitance tends to increase.
Therefore, in order to obtain a desired characteristic impedance, it is necessary to form the wiring circuit so that the width of the wiring circuit becomes narrower, and to suppress an increase in capacitance of the printed wiring board with the electromagnetic wave shielding layer. However, it is technically difficult to significantly reduce the width of the wiring circuit, and there is a problem that a stable characteristic impedance cannot be obtained in a printed wiring board with an electromagnetic wave shielding layer.

そこで、電磁波シールド層に開口部を形成し、配線回路と電磁波シールド層とが重なる面積を適宜設定することにより、電磁波シールド層付きプリント配線板の特性インピーダンスを調整することが提案されている(特許文献1参照)。   Therefore, it has been proposed to adjust the characteristic impedance of the printed wiring board with the electromagnetic shielding layer by forming an opening in the electromagnetic shielding layer and appropriately setting the area where the wiring circuit and the electromagnetic shielding layer overlap (patent) Reference 1).

特開2006−24824号公報JP 2006-24824 A

しかしながら、図1に示すように、特許文献1の電磁波シールドシート9は、絶縁性フィルム91と開口金属層92と導電性接着剤層93とを必須の構成としている。そして、電磁波シールドシート9は、導電性接着剤層93をプリント配線板に接触するようにして、プリント配線板に貼着(接合)される。さらに、シールド性能向上のため、別途シールドフィルムを、絶縁性フィルム91に積層する必要があり、電磁波シールドシート9全体の厚さを薄くすることができない。
そのため、例えば、フレキシブルプリント配線板(以下、「FPC基板」とも言う)に当該電磁波シールド9を使用した場合、FPC基板の柔軟性が阻害されるという問題がある。また、電磁波シールド9をプリント配線板に接合してなる電磁波シールド層付きプリント配線板全体の厚さも薄くできないので、当該配線板を搭載する電子機器を小型化・薄型化が制限される等の問題もある。
However, as shown in FIG. 1, the electromagnetic wave shield sheet 9 of Patent Document 1 has an insulative film 91, an opening metal layer 92, and a conductive adhesive layer 93 as essential components. The electromagnetic wave shielding sheet 9 is adhered (bonded) to the printed wiring board so that the conductive adhesive layer 93 is in contact with the printed wiring board. Furthermore, in order to improve the shielding performance, it is necessary to separately laminate a shielding film on the insulating film 91, and the thickness of the entire electromagnetic wave shielding sheet 9 cannot be reduced.
Therefore, for example, when the electromagnetic wave shield 9 is used for a flexible printed wiring board (hereinafter also referred to as “FPC board”), there is a problem that the flexibility of the FPC board is hindered. In addition, since the thickness of the entire printed wiring board with the electromagnetic wave shielding layer formed by joining the electromagnetic wave shield 9 to the printed wiring board cannot be reduced, there is a problem that downsizing and thinning of an electronic device on which the wiring board is mounted are restricted. There is also.

本発明の電磁波シールドシートは、導電性接着剤層91を省略することができるため、電磁波シールドシートを配線板に接着してなる電磁波シールド層付き配線板において、電磁波シールド層の厚さを薄くすることができる。さらに、電磁波シールドシートが複数の開口部を有する導電層を備えており、この開口部の形状および開口率を適宜設定することにより、電磁波シールド層付き配線板では、高い電磁波シールド性が発揮されるとともに、良好なインピーダンス整合(Impedance matching)を図ることができる。
したがって、本発明は、以上の特性を発揮し得る電磁波シールドシートを提供することを目的とする。
In the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, since the conductive adhesive layer 91 can be omitted, in the wiring board with the electromagnetic wave shielding layer formed by bonding the electromagnetic wave shielding sheet to the wiring board, the thickness of the electromagnetic wave shielding layer is reduced. be able to. Furthermore, the electromagnetic wave shielding sheet includes a conductive layer having a plurality of openings, and the wiring board with the electromagnetic wave shielding layer exhibits high electromagnetic wave shielding properties by appropriately setting the shape and opening ratio of the openings. At the same time, good impedance matching can be achieved.
Therefore, an object of this invention is to provide the electromagnetic wave shield sheet which can exhibit the above characteristic.

本発明は、信号配線を有する配線板に接着して用いられる電磁波シールドシートであって、ガラス転移温度が0〜150℃の熱硬化性樹脂組成物を含有し、温度150℃かつ圧力1kg/cm2の条件で流動可能な絶縁性を備える接合層と、接合層の一方の面に設けられ、複数の開口部を有する導電層とを備えることを特徴とする電磁波シールドシートに関する。
また、本発明の電磁波シールドシートでは、導電層が、各開口部を規定する内周面を備え、内周面の周方向の長さが信号配線に入力される最大周波数を有する信号の波長の1/4以下に設定されていることが好ましい。
また、電磁波シールド層付き配線板は、基板と、前記基板上に設けられた信号配線およびグランド配線と、前記基板上に前記信号配線および前記グランド配線を覆うように設けられ、前記グランド配線の一部が露出する貫通孔を備える第1の絶縁層とを有する配線板と、
前記配線板上に設けられた電磁波シールド層であって、一部が前記貫通孔を介して前記グランド配線に直接接続され、複数の開口部を備える導電層と、前記導電層を覆うとともに前記複数の開口部内に充填され、前記配線板の前記第1の絶縁層に接着された第2の絶縁層とを有する電磁波シールド層とを備えていることが好ましい。
The present invention is an electromagnetic wave shielding sheet used by adhering to a wiring board having a signal wiring, which contains a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of 0 to 150 ° C., a temperature of 150 ° C. and a pressure of 1 kg / cm. The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet comprising: a bonding layer having an insulating property capable of flowing under the condition 2 ; and a conductive layer provided on one surface of the bonding layer and having a plurality of openings.
In the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, the conductive layer has an inner peripheral surface that defines each opening, and the length of the inner peripheral surface in the circumferential direction has a maximum frequency that is input to the signal wiring. It is preferable to set it to 1/4 or less.
The electromagnetic wave shielding layer-attached wiring board is provided so as to cover the substrate, the signal wiring and the ground wiring provided on the substrate, and the signal wiring and the ground wiring on the substrate. A wiring board having a first insulating layer having a through hole in which a portion is exposed;
An electromagnetic wave shielding layer provided on the wiring board, a part of which is directly connected to the ground wiring through the through hole, and includes a conductive layer having a plurality of openings, and covers the conductive layer and the plurality And an electromagnetic wave shielding layer having a second insulating layer that is filled in the opening of the wiring board and bonded to the first insulating layer of the wiring board.

上記構成の本発明によれば、電磁波シールドシートの接合層は、一定の加熱および加圧条件により流動する。そのため、この電磁波シールドシートを、導電層と配線板とが接触するように配線板に重ね合わせ、これらを加熱・加圧すると、接合層が流動して、導電層の開口部を通じて配線板と接着することができる。すなわち、本発明によれば、導電性接着剤層を用いることなく、電磁波シールドシートを配線板に高い接合強度で接着することができる。   According to the present invention having the above configuration, the bonding layer of the electromagnetic wave shielding sheet flows under constant heating and pressurizing conditions. Therefore, this electromagnetic wave shielding sheet is superimposed on the wiring board so that the conductive layer and the wiring board are in contact, and when these are heated and pressurized, the bonding layer flows and adheres to the wiring board through the opening of the conductive layer. can do. That is, according to the present invention, the electromagnetic wave shielding sheet can be bonded to the wiring board with high bonding strength without using a conductive adhesive layer.

また、導電性接着剤層が不要なため、当該電磁波シールドシート全体の厚さを薄くすることができる。そのため、当該電磁波シールドシートを配線板に接着してなる電磁波シールド層付き配線板全体の厚さも薄くすることができる。したがって、当該配線板が例えばFPC基板である場合、当該基板の柔軟性を確保しつつ、当該基板を搭載した電子機器の小型化・薄型化に寄与する。
さらに、当該電磁波シールドシートは、複数の開口部を有する導電層を備えている。これらの開口部の形状および開口率を適宜設定することにより、電磁波シールドシートは、電磁波シールド層付き配線板における電磁波シールド性とインピーダンスコントロール性との双方の特性をバランスよく発揮することができる。
Moreover, since the conductive adhesive layer is unnecessary, the thickness of the entire electromagnetic wave shielding sheet can be reduced. Therefore, the thickness of the whole wiring board with an electromagnetic wave shielding layer formed by adhering the electromagnetic wave shielding sheet to the wiring board can also be reduced. Therefore, when the wiring board is, for example, an FPC board, it contributes to miniaturization and thinning of an electronic device on which the board is mounted while ensuring the flexibility of the board.
Furthermore, the electromagnetic wave shielding sheet includes a conductive layer having a plurality of openings. By appropriately setting the shape and aperture ratio of these openings, the electromagnetic wave shielding sheet can exhibit both the electromagnetic shielding properties and the impedance controllability of the wiring board with the electromagnetic shielding layer in a balanced manner.

以上のように、本発明によれば、当該電磁波シールドシートをFPC基板に接着してなる電磁波シールド層付き配線板では、電磁波シールド層の厚さを薄くできるとともに、電磁波シールド性とインピーダンスコントロール性との双方の特性が良好となる。   As described above, according to the present invention, in the wiring board with an electromagnetic wave shielding layer formed by bonding the electromagnetic wave shielding sheet to the FPC board, the thickness of the electromagnetic wave shielding layer can be reduced, and the electromagnetic wave shielding property and the impedance controllability can be obtained. Both of these characteristics are improved.

図1は、従来の電磁波シールドシートを模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing a conventional electromagnetic wave shielding sheet. 図2(a)は、本発明の電磁波シールド層付き配線板の好適な実施形態を示す平面図であり、図2(b)は、本発明の電磁波シールド層付き配線板の好適な実施形態を示す側面図である。FIG. 2 (a) is a plan view showing a preferred embodiment of the wiring board with an electromagnetic wave shielding layer of the present invention, and FIG. 2 (b) shows a preferred embodiment of the wiring board with an electromagnetic wave shielding layer of the present invention. FIG. 図3は、図2(a)に示す電磁波シールド層付き配線板をX−X線で切断した断面を一部拡大して示す図である。FIG. 3 is a partially enlarged view showing a cross section of the wiring board with an electromagnetic wave shielding layer shown in FIG. 図4は、本発明の電磁波シールドシートの好適な実施形態の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a preferred embodiment of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention. 図5は、図4に示す電磁波シールドシートの導電層の構成例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view illustrating a configuration example of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet illustrated in FIG. 4. 図6は、図4に示す電磁波シールドシートの導電層の他の構成例を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing another configuration example of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet shown in FIG. 図7は、図4に示す電磁波シールドシートの導電層の他の構成例を示す平面図である。7 is a plan view showing another configuration example of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet shown in FIG. 図8は、図5に示す導電層が備える複数の開口部のうちの1つの開口部を拡大して示す平面図である。FIG. 8 is an enlarged plan view showing one of the plurality of openings provided in the conductive layer shown in FIG.

以下、本発明の電磁波シールドシート、電磁波シールド層付き配線板の製造方法および電磁波シールド層付き配線板を、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて説明する。
本発明の電磁波シールドシートは、電磁ノイズを遮断する機能を有し、信号配線を有する配線板に接着(接合、密着)して使用される。配線板に電磁波シールドシートが接着されることにより、信号配線内を伝送する信号からの電磁ノイズや、隣接して設けられた他の配線板等からの電磁ノイズが捕捉され、不要な信号が配線板の信号配線に生成するのを防止することができる。
Hereinafter, an electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, a manufacturing method of a wiring board with an electromagnetic wave shielding layer, and a wiring board with an electromagnetic wave shielding layer will be described based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention has a function of blocking electromagnetic noise, and is used by being bonded (bonded or adhered) to a wiring board having signal wiring. By adhering the electromagnetic wave shielding sheet to the wiring board, electromagnetic noise from signals transmitted through the signal wiring and electromagnetic noise from other wiring boards installed adjacent to it are captured, and unnecessary signals are wired. Generation of signal wiring on the board can be prevented.

まず、本発明の電磁波シールドシートの説明に先立って、本発明の電磁波シールドシートを配線板に接着してなる本発明の電磁波シールド層付き配線板について説明する。
図2(a)は、本発明の電磁波シールド層付き配線板の好適な実施形態を示す平面図であり、図2(b)は、その側面図である。また、図3は、図2(a)に示す電磁波シールド層付き配線板をX−X線で切断した断面を一部拡大して示す図である。なお、以下の説明では、図2(b)および図3中の上側を「上」または「上方」と言い、下側を「下」または「下方」と言う。
First, prior to the description of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, the wiring board with an electromagnetic wave shielding layer of the present invention formed by bonding the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention to the wiring board will be described.
Fig.2 (a) is a top view which shows suitable embodiment of the wiring board with an electromagnetic wave shield layer of this invention, FIG.2 (b) is the side view. Moreover, FIG. 3 is a figure which expands and shows partially the cross section which cut | disconnected the wiring board with an electromagnetic wave shield layer shown to Fig.2 (a) by XX. In the following description, the upper side in FIGS. 2B and 3 is referred to as “upper” or “upper”, and the lower side is referred to as “lower” or “lower”.

本発明の電磁波シールド層付き配線板100は、図2および図3に示すように、プリント配線板50と、プリント配線板50上に設けられた電磁波シールド層10とを備えている。
プリント配線板50は、基板60と、信号配線71およびグランド配線72と、信号配線71およびグランド配線72を覆う第1の絶縁層80とを有する。なお、グランド配線72は、電磁波シールド層付き配線板100が設けられるデバイスの筐体等に接続されており、グランド(基準電位点)に接地されている。また、第1の絶縁層80には、グランド配線72の一部を露出するためのビア(Via)81が形成されている。このビア81は、プリント配線板50に電磁波シールドシート1を接着する前の状態で、第1の絶縁層80を貫通することなく肉薄の底部により閉じられて、凹部を構成していてもよく、また、第1の絶縁層80を貫通する貫通孔で構成されていてもよい。
プリント配線板50としては、例えば、リジット配線板、FPC基板、リジットフレキ配線板等が挙げられる。本実施形態では、プリント配線板50として、FPC基板を用いた場合について説明する。
As shown in FIGS. 2 and 3, the wiring board 100 with an electromagnetic wave shielding layer of the present invention includes a printed wiring board 50 and an electromagnetic wave shielding layer 10 provided on the printed wiring board 50.
The printed wiring board 50 includes a substrate 60, a signal wiring 71 and a ground wiring 72, and a first insulating layer 80 that covers the signal wiring 71 and the ground wiring 72. The ground wiring 72 is connected to the housing of the device on which the electromagnetic wave shielding layer-equipped wiring board 100 is provided, and is grounded to the ground (reference potential point). In the first insulating layer 80, a via 81 for exposing a part of the ground wiring 72 is formed. The via 81 may be closed by a thin bottom without penetrating the first insulating layer 80 in a state before the electromagnetic wave shielding sheet 1 is bonded to the printed wiring board 50, and may constitute a recess, Further, it may be constituted by a through-hole penetrating the first insulating layer 80.
Examples of the printed wiring board 50 include a rigid wiring board, an FPC board, and a rigid flexible wiring board. In the present embodiment, a case where an FPC board is used as the printed wiring board 50 will be described.

基板60としては、例えば、ポリイミドフィルム、ポリエーテルニトリルフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム等の各種フィルムを用いることができる。上記各種フィルムの中でも、基板60としては、厚さが5〜25μm程度のポリイミドフィルムが特に好ましい。かかるポリイミドフィルムが、優れた柔軟性および耐熱性を有するためである。
基板60上には、複数本(本実施形態では、4本)の信号配線71と、1本のグランド配線72とが設けられている。各信号配線71およびグランド配線72は、直線状をなし、互いにほぼ平行となるように併設されている。各信号配線71およびグランド配線72は、例えば、アルミニウム、銅、金またはこれらを含む合金等で構成されている。なお、各信号配線71、グランド配線72は、それぞれ、回路を構成していてもよい。また、信号配線71とグランド配線72との数は、プリント配線板50の設計に応じて、適宜選択することができる。
また、基板60上には、信号配線71およびグランド配線72を覆うように、第1の絶縁層80が設けられている。第1の絶縁層80は、信号配線71およびグランド配線72と、不要な箇所において、後述する電磁波シールド層10の金属層3とが接触して短絡するのを防止する。
この第1の絶縁層80には、グランド配線72の一部が露出するビア81が形成されており、このビア81を介して、後述する電磁波シールド層10の導電層3の一部がグランド配線72に接続されている。第1の絶縁層80は、例えば、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂等の各種樹脂材料で構成されている。なお前記ビアに変えてスルーホールを形成してもよい。ビア(貫通孔)81において、グランド配線72の一部が露出し、このビア81を介して、後述する電磁波シールド層10の導電層3の一部がグランド配線72に接続されている。
As the substrate 60, for example, various films such as a polyimide film, a polyether nitrile film, a polyether sulfone film, and a polyphenylene sulfide film can be used. Among the above various films, the substrate 60 is particularly preferably a polyimide film having a thickness of about 5 to 25 μm. This is because such a polyimide film has excellent flexibility and heat resistance.
On the substrate 60, a plurality of (four in this embodiment) signal wirings 71 and one ground wiring 72 are provided. Each signal wiring 71 and ground wiring 72 are in a straight line and are provided so as to be substantially parallel to each other. Each signal wiring 71 and ground wiring 72 are made of, for example, aluminum, copper, gold, or an alloy containing these. Each signal wiring 71 and ground wiring 72 may each constitute a circuit. Further, the number of the signal wiring 71 and the ground wiring 72 can be appropriately selected according to the design of the printed wiring board 50.
A first insulating layer 80 is provided on the substrate 60 so as to cover the signal wiring 71 and the ground wiring 72. The first insulating layer 80 prevents the signal wiring 71 and the ground wiring 72 from coming into contact with the metal layer 3 of the electromagnetic wave shielding layer 10 to be described later and short-circuiting at unnecessary portions.
The first insulating layer 80 is formed with a via 81 in which a part of the ground wiring 72 is exposed, and a part of the conductive layer 3 of the electromagnetic wave shielding layer 10 to be described later is connected to the ground wiring through the via 81. 72. The first insulating layer 80 is made of various resin materials such as phenol resin and epoxy resin, for example. A through hole may be formed instead of the via. In the via (through hole) 81, a part of the ground wiring 72 is exposed, and a part of the conductive layer 3 of the electromagnetic wave shielding layer 10 to be described later is connected to the ground wiring 72 through the via 81.

また、図2(a)および図2(b)に示すように、各信号配線71およびグランド配線72の両端には、それぞれ、第1の絶縁層80から露出する端子部731、732が、各信号配線71およびグランド配線72と一体的に形成されている。これらの端子部731、732に、回路素子が接続される。
また、プリント配線板50の下面には、端子部731、732に対応する部分に、補強板41、42が設けられている。補強板41、42は、例えば、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイドのような硬質な樹脂材料等で構成されている。このような補強板41、42がプリント配線板50の下面に設けられることによって、端子部731、732を回路素子に接続する際に、端子部731、732に応力が加わった場合でも、それらの変形を確実に防止することができる。
このようなプリント配線板50の第1の絶縁層80上には、電磁波シールド層10が設けられている。
この電磁波シールド層10は、複数の開口部31を有する導電層3と、導電層3を覆う第2の絶縁層20とを備えている。
導電層3は、その一部が第1の絶縁層80のビア81を介してグランド配線72に接続されている。すなわち、導電層3の一部は、グランド配線72に直接接続される接続部を構成している。このような構成により、信号配線71に不要な信号を生成する電磁波を導電層3が捕捉し、電流(電荷)に変換した後、この電流を、グランド配線72を介して、シールド配線板100の外部へと放電することができる。
第2の絶縁層20は、導電層3を覆うとともに、導電層3が有する複数の開口部31内に充填され、第1の絶縁層80に接着されている。これにより、電磁波シールド層10が、プリント配線板50に接着されている。
このような構成の電磁波シールド層付き配線板100では、導電層3がプリント配線板50に接触するように設けられ、さらに導電層3の開口部31内に充填された第2の絶縁層20により、導電層3がプリント配線板50に固定されている。そのため、電磁波シールド層付き配線板100全体の厚さを十分に薄くすることができる。
また、導電層3の開口部31の形状および開口率を適宜設定することにより、電磁波シールド層付き配線板100における特性インピーダンスを、電磁波シールド層付き配線板100に接続される回路素子の入出力インピーダンスと等しくなるように容易に調整することができる。これにより、電磁波シールド層付き配線板100(端子部731、732)に入力された信号が、この信号を出力する回路素子側へ反射されるのを防止することができるため、入力信号の伝送損失を抑えることができる。
また、第2の絶縁層20は、後述するように、電磁波シールドシート1の接合層2に含まれる熱硬化性樹脂組成物が硬化することにより形成される。一方、第1の絶縁層80は、前述したように樹脂材料で構成される。樹脂材料同士は密着性が高いので、第2の絶縁層20は、第1の絶縁層80と強固に接着される。そのため、電磁波シールド層10がプリント配線板50から剥離するのを確実に防止することができる。特に、第2の絶縁層20は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物により構成されるため、第1の絶縁層80との間に高い接合強度が得られる。
Further, as shown in FIGS. 2A and 2B, terminal portions 731 and 732 exposed from the first insulating layer 80 are provided at both ends of each signal wiring 71 and ground wiring 72, respectively. It is formed integrally with the signal wiring 71 and the ground wiring 72. Circuit elements are connected to these terminal portions 731 and 732.
Reinforcing plates 41 and 42 are provided on the lower surface of the printed wiring board 50 at portions corresponding to the terminal portions 731 and 732. The reinforcing plates 41 and 42 are made of, for example, a hard resin material such as polycarbonate or polyphenylene sulfide. By providing the reinforcing plates 41 and 42 on the lower surface of the printed wiring board 50, even when stress is applied to the terminal portions 731 and 732 when the terminal portions 731 and 732 are connected to the circuit elements, those Deformation can be reliably prevented.
On the first insulating layer 80 of such a printed wiring board 50, the electromagnetic wave shielding layer 10 is provided.
The electromagnetic wave shielding layer 10 includes a conductive layer 3 having a plurality of openings 31 and a second insulating layer 20 that covers the conductive layer 3.
A part of the conductive layer 3 is connected to the ground wiring 72 through the via 81 of the first insulating layer 80. That is, a part of the conductive layer 3 constitutes a connection portion that is directly connected to the ground wiring 72. With such a configuration, after the conductive layer 3 captures an electromagnetic wave that generates an unnecessary signal in the signal wiring 71 and converts it into a current (charge), the current is transmitted to the shield wiring board 100 via the ground wiring 72. It can be discharged to the outside.
The second insulating layer 20 covers the conductive layer 3, fills the plurality of openings 31 included in the conductive layer 3, and is bonded to the first insulating layer 80. Thereby, the electromagnetic wave shielding layer 10 is bonded to the printed wiring board 50.
In the electromagnetic wave shielding layer-equipped wiring board 100 having such a configuration, the conductive layer 3 is provided so as to be in contact with the printed wiring board 50, and is further formed by the second insulating layer 20 filled in the opening 31 of the conductive layer 3. The conductive layer 3 is fixed to the printed wiring board 50. Therefore, the thickness of the entire wiring board 100 with the electromagnetic wave shielding layer can be sufficiently reduced.
Further, by appropriately setting the shape and opening ratio of the opening 31 of the conductive layer 3, the characteristic impedance in the wiring board 100 with the electromagnetic wave shielding layer is changed to the input / output impedance of the circuit element connected to the wiring board 100 with the electromagnetic wave shielding layer. Can be easily adjusted to be equal to As a result, it is possible to prevent the signal input to the electromagnetic wave shielding layer-equipped wiring board 100 (terminal portions 731 and 732) from being reflected to the circuit element side that outputs this signal. Can be suppressed.
Moreover, the 2nd insulating layer 20 is formed when the thermosetting resin composition contained in the joining layer 2 of the electromagnetic wave shield sheet 1 hardens | cures so that it may mention later. On the other hand, the first insulating layer 80 is made of a resin material as described above. Since the resin materials have high adhesion, the second insulating layer 20 is firmly bonded to the first insulating layer 80. Therefore, it is possible to reliably prevent the electromagnetic wave shield layer 10 from peeling from the printed wiring board 50. In particular, since the second insulating layer 20 is composed of a cured product of a thermosetting resin composition, high bonding strength can be obtained between the second insulating layer 20 and the first insulating layer 80.

さらに、図3に示すように、第1の絶縁層80のビア81内にも第2の絶縁層20の一部が充填されている。このような構成により、第2の絶縁層20と第1の絶縁層80との接触面積(接合面積)が増大する。そのため、第2の絶縁層20と第1の絶縁層80との接合強度をより向上させることができる。
特に、第2の絶縁層20のビア81内に充填された部分により、第2の絶縁層20が第1の絶縁層80にピン止めされた状態となっている。これにより、第2の絶縁層20が、第1の絶縁層80に対して、その面方向に位置ずれするのを防止することができる。なお、ビア81は、第1の絶縁層80の1ヵ所に形成されていればよいが、2ヵ所以上に形成されているのが好ましい。これにより、第2の絶縁層20の第1の絶縁層80に対する位置ずれ防止効果がより顕著に発揮される。
Further, as shown in FIG. 3, a part of the second insulating layer 20 is also filled in the via 81 of the first insulating layer 80. With such a configuration, the contact area (junction area) between the second insulating layer 20 and the first insulating layer 80 increases. Therefore, the bonding strength between the second insulating layer 20 and the first insulating layer 80 can be further improved.
In particular, the second insulating layer 20 is pinned to the first insulating layer 80 by the portion filled in the via 81 of the second insulating layer 20. As a result, the second insulating layer 20 can be prevented from being displaced in the surface direction with respect to the first insulating layer 80. The via 81 only needs to be formed in one place of the first insulating layer 80, but is preferably formed in two or more places. Thereby, the position shift prevention effect with respect to the 1st insulating layer 80 of the 2nd insulating layer 20 is exhibited more notably.

以下、プリント配線板50に接着した際に、電磁波シールド層10となる電磁波シールドシート1について説明する。
図4は、本発明の電磁波シールドシートの好適な実施形態の断面図である。なお、以下の説明では、図4中の上側を「上」または「上方」と言い、下側を「下」または「下方」と言う。
図4に示すように、電磁波シールドシート1は、一定の加熱および加圧の条件で流動可能な絶縁性を備える接合層2と、接合層2下面に設けられ、複数の開口部31を有する導電層3とを備えている。なお、本明細書中では、電磁波シールドシート1は、電磁波シールドフィルムまたは電磁波シールドテープと言うこともある。また、図4は、電磁波シールドシート1の好適な実施態様を示した断面図であるが、この図は、あくまで電磁波シールドシート1の1例であり、他の実施態様であってもよい。さらに、電磁波シールドシート1は、その他の層を追加した層構成であってもよい。
Hereinafter, the electromagnetic wave shielding sheet 1 that becomes the electromagnetic wave shielding layer 10 when bonded to the printed wiring board 50 will be described.
FIG. 4 is a cross-sectional view of a preferred embodiment of the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention. In the following description, the upper side in FIG. 4 is referred to as “upper” or “upper”, and the lower side is referred to as “lower” or “lower”.
As shown in FIG. 4, the electromagnetic wave shielding sheet 1 includes a bonding layer 2 having an insulating property that can flow under constant heating and pressurization conditions, and a conductive layer provided on the lower surface of the bonding layer 2 and having a plurality of openings 31. Layer 3. In addition, in this specification, the electromagnetic wave shield sheet 1 may be called an electromagnetic wave shield film or an electromagnetic wave shield tape. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a preferred embodiment of the electromagnetic wave shielding sheet 1, but this drawing is only an example of the electromagnetic wave shielding sheet 1 and may be another embodiment. Furthermore, the electromagnetic wave shielding sheet 1 may have a layer configuration in which other layers are added.

接合層2は、ガラス転移温度が0〜150℃(好ましくは0〜100℃、より好ましくは0〜60℃)の熱硬化性樹脂組成物を含有している。これにより、接合層2は、一定の加熱および加圧の条件、具体的には、温度150℃かつ圧力1kg/cm2(好ましくは温度150℃かつ圧力5kg/cm2)の条件で流動するように設計されている。このような電磁波シールドシート1を導電層3と第1の絶縁層80とが接触するようにプリント配線板50に重ね合わせた状態で、前記条件で加熱・加圧することにより、接合層2が、導電層3の開口部31内を充填するように流動し、第1の絶縁層80と接触する。その後、さらなる加熱によって、接合層2が硬化して第2の絶縁層20が形成されることにより、第1の絶縁層80と接着する。すなわち、電磁波シールドシート1とプリント配線板50とを接着することができる。これにより、本発明によれば、導電性接着剤層を必要とすることなく、電磁波シールドシート1をプリント配線板50に接着することができる。
熱硬化性樹脂組成物としては、単独で熱硬化可能な樹脂(熱硬化性樹脂)を含む樹脂組成物、単独で熱硬化しないが、反応性官能基を有する他の成分との反応により熱硬化可能な樹脂と、前記他の成分とを含有する樹脂組成物、または、これらの混合物が挙げられる。なお、電磁波シールドシート1においては、熱硬化性樹脂組成物は、未硬化(未反応)の状態であり、前述したようにプリント配線板50と接着する際の加熱により硬化する。
The bonding layer 2 contains a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of 0 to 150 ° C. (preferably 0 to 100 ° C., more preferably 0 to 60 ° C.). As a result, the bonding layer 2 flows under conditions of constant heating and pressurization, specifically, a temperature of 150 ° C. and a pressure of 1 kg / cm 2 (preferably a temperature of 150 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 ). Designed to. In such a state that the electromagnetic wave shielding sheet 1 is superposed on the printed wiring board 50 so that the conductive layer 3 and the first insulating layer 80 are in contact with each other, by heating and pressing under the above conditions, the bonding layer 2 is It flows so as to fill the opening 31 of the conductive layer 3 and comes into contact with the first insulating layer 80. Thereafter, the bonding layer 2 is hardened by further heating and the second insulating layer 20 is formed, thereby being bonded to the first insulating layer 80. That is, the electromagnetic wave shielding sheet 1 and the printed wiring board 50 can be bonded. Thereby, according to this invention, the electromagnetic wave shield sheet 1 can be adhere | attached on the printed wiring board 50, without requiring a conductive adhesive layer.
As the thermosetting resin composition, a resin composition containing a thermosetting resin (thermosetting resin) alone, not thermosetting alone, but thermosetting by reaction with other components having a reactive functional group Examples thereof include a resin composition containing a possible resin and the other components, or a mixture thereof. In the electromagnetic wave shielding sheet 1, the thermosetting resin composition is in an uncured (unreacted) state, and is cured by heating when adhering to the printed wiring board 50 as described above.

熱硬化性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、クレゾール系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂等が挙げられる。
なお、熱硬化性樹脂の一種であるポリイミド系樹脂およびポリアミドイミド系樹脂は、加工温度での流動性が低い。そのため、電磁波シールドシート1をプリント配線板50に接着する際に、導電層3の開口率等によっては、接合層2を導電層3の開口部31内に十分に充填することが困難となる場合がある。この場合、接合層2と第1の絶縁層80との十分な接合強度を得ることが難しくなる。したがって、熱硬化性樹脂としては、上記列挙した樹脂が好ましい。
また、他の成分との反応により熱硬化可能な樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ウレタン系樹脂、ウレタンウレア系樹脂のような他の成分が有する反応性官能基と反応可能な化学構造を有する樹脂が挙げられる。一方、他の成分としては、例えば、エポキシ系樹脂等が挙げられる。
上述した樹脂の中でも、プリント配線板50を搭載する電子機器を製造する時(例えば、リフロー時)における過酷な条件を考慮すると、熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂およびウレタンウレア系樹脂のうちの少なくとも1つを含んでいることが好ましく、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂およびウレタンウレア系樹脂のうちの少なくとも1つを含んでいることがより好ましい。
また、熱硬化性樹脂組成物は、上述した樹脂に加え、硬化剤を含んでいるのが好ましい。このような硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、フェノールノボラック樹脂等のフェノール系硬化剤、ジシアンジアミド、芳香族ジアミン等のアミン系硬化剤が挙げられる。
The thermosetting resin is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy resin, a phenol resin, a cresol resin, a melamine resin, a polyester resin, and a polyamide resin.
Note that polyimide resins and polyamideimide resins, which are a kind of thermosetting resin, have low fluidity at the processing temperature. Therefore, when the electromagnetic wave shielding sheet 1 is bonded to the printed wiring board 50, depending on the opening ratio of the conductive layer 3 or the like, it is difficult to sufficiently fill the bonding layer 2 in the opening 31 of the conductive layer 3. There is. In this case, it becomes difficult to obtain sufficient bonding strength between the bonding layer 2 and the first insulating layer 80. Therefore, as the thermosetting resin, the resins listed above are preferable.
In addition, the resin that can be thermoset by reaction with other components is not particularly limited, but, for example, a chemical structure capable of reacting with a reactive functional group possessed by other components such as urethane resins and urethane urea resins. A resin having On the other hand, examples of other components include epoxy resins.
Among the resins described above, in consideration of harsh conditions when manufacturing an electronic device on which the printed wiring board 50 is mounted (for example, during reflow), the thermosetting resin composition is an epoxy resin, a polyester resin, or a urethane. It is preferable that at least one of a series resin and a urethane urea series resin is included, and it is more preferable that at least one of an epoxy series resin, a urethane series resin, and a urethane urea series resin is contained.
Moreover, it is preferable that the thermosetting resin composition contains the hardening | curing agent in addition to resin mentioned above. Examples of such a curing agent include, but are not limited to, phenolic curing agents such as phenol novolac resin, and amine curing agents such as dicyandiamide and aromatic diamine.

また、熱硬化性樹脂組成物は、さらに、熱可塑性樹脂を含んでいてもよい。このような熱可塑性樹脂としては、特に限定するものではないが、例えば、ポリウレタン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリアミド等が挙げられる。   The thermosetting resin composition may further contain a thermoplastic resin. Such a thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include polyurethane, polyester, polystyrene, polyolefin, polyamide and the like.

さらに、熱硬化性樹脂組成物は、着色剤、難燃剤、無機添加剤、滑剤、ブロッキング防止剤等を含んでいてもよい。
着色剤としては、例えば、有機顔料、カーボンブラック、群青、弁柄、亜鉛華、酸化チタン、黒鉛等が挙げられる。
難燃剤としては、例えば、ハロゲン含有難燃剤、りん含有難燃剤、窒素含有難燃剤、無機難燃剤等が挙げられる。
無機添加剤としては、例えば、ガラス繊維、シリカ、タルク、セラミック等が挙げられる。
滑剤としては、例えば、脂肪酸エステル、炭化水素樹脂、パラフィン、高級脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪族アルコール、金属石鹸、変性シリコーン等が挙げられる。
ブロッキング防止剤としては、例えば、炭酸カルシウム、シリカ、ポリメチルシルセスキオサン、ケイ酸アルミニウム塩等が挙げられる。
Furthermore, the thermosetting resin composition may contain a colorant, a flame retardant, an inorganic additive, a lubricant, an antiblocking agent, and the like.
Examples of the colorant include organic pigments, carbon black, ultramarine blue, petals, zinc white, titanium oxide, and graphite.
Examples of the flame retardant include a halogen-containing flame retardant, a phosphorus-containing flame retardant, a nitrogen-containing flame retardant, and an inorganic flame retardant.
Examples of the inorganic additive include glass fiber, silica, talc, and ceramic.
Examples of the lubricant include fatty acid esters, hydrocarbon resins, paraffin, higher fatty acids, fatty acid amides, aliphatic alcohols, metal soaps, and modified silicones.
Examples of the anti-blocking agent include calcium carbonate, silica, polymethylsilsesquiosan, aluminum silicate salt and the like.

接合層2の厚さは、導電層3の開口部31内を十分に充填し、接合層2(第2の絶縁層20)とプリント配線板50の第1の絶縁層80とが実用的に必要な接合強度で接着されるのであれば、特に限定されない。しかしながら、接合層2の厚さは、導電層3の厚さにもよるが、現実的には、1〜40μm程度が好ましく、1〜20μm程度がより好ましく、3〜15μm程度がさらに好ましい。これにより、絶縁性、プリント配線板50への接着性、および柔軟性のいずれもが優れた接合層2を得ることができる。   The thickness of the bonding layer 2 is sufficient to fill the opening 31 of the conductive layer 3, and the bonding layer 2 (second insulating layer 20) and the first insulating layer 80 of the printed wiring board 50 are practical. There is no particular limitation as long as adhesion is performed with a required bonding strength. However, although the thickness of the bonding layer 2 depends on the thickness of the conductive layer 3, it is practically preferably about 1 to 40 μm, more preferably about 1 to 20 μm, and further preferably about 3 to 15 μm. Thereby, the joining layer 2 which was excellent in all of insulation, the adhesiveness to the printed wiring board 50, and a softness | flexibility can be obtained.

導電層3は、前述したように、複数の開口部31(opening)を有する。この開口部31の形状および開口率を適宜設定することにより、電磁波シールドシート1は、プリント配線板50の設計に応じた優れたインピーダンスコントロール性を発揮するとともに、電磁波シールド層付き配線板100において良好な電磁波シールド性を発揮する。   As described above, the conductive layer 3 has a plurality of openings 31 (opening). By appropriately setting the shape and the aperture ratio of the opening 31, the electromagnetic wave shielding sheet 1 exhibits excellent impedance controllability according to the design of the printed wiring board 50 and is excellent in the wiring board 100 with the electromagnetic wave shielding layer. Excellent electromagnetic shielding properties.

図5は、図4に示す電磁波シールドシートの導電層の構成例を示す平面図であり、図6および図7は、図4に示す電磁波シールドシートの導電層の他の構成例を示す平面図であり、図8は、図5に示す導電層が備える複数の開口部のうちの1つの開口部を拡大して示す平面図である。
導電層3の開口部31は、プリント配線板50(信号配線71)から発生する電磁波や外部から侵入する電磁波を効率よく捕捉することが可能な形状に設計される。このような導電層3を上面から見たときの開口部31の形状(開口部31の平面形状)としては、多角形(n角形、n=3〜300程度)、円形、星型、台形等様々な形状が挙げられる。
図5に示す導電層3は、四角形の同一形状の開口部31が、等間隔で行列状に配置され、全体としてメッシュ状(格子状)をなしている。図6に示す導電層3は、六角形の同一形状の開口部31が、等間隔で配置され、全体としてハニカム状をなしている。また、図7に示す導電層3は、三角形の同一形状の第1の開口部31aが直線状に配置された列と、逆三角形の同一形状の第2の開口部31bが直線状に配置された列とが交互に併設されている。すなわち、図7に示す導電層3では、第1の開口部31aと第2の開口部31bとの組み合わせのように、開口部31の組み合わせの一定の単位が繰り返して配置されている。
これらの中でも、図5に示すようなメッシュ状の導電層3が好ましい。かかる導電層3は、均一な開口状態(開口形状)であるため、インピーダンスコントロール性の調整が容易であるとともに、製造が容易(生産性が良好)であるという利点を有する。 上述したように、開口部31の平面形状は、同一であるのが好ましい。これにより、導電層3の開口率を容易に調整することができる。なお、「平面形状が同一」とは、複数の開口部31の全ての平面形状が完全に同一である場合だけでなく、複数の開口部31の平面形状が近似する場合も含む。
また、上述したように、開口部31は、等間隔で配置されているのが好ましい。これにより、導電層3全体で偏りなく電磁波を捕捉することができる。そのため、電磁波シールド層付き配線板100全体における電磁波シールド性をより安定させることができる。なお、「等間隔」とは、開口部31同士の間隔が、厳密に一致している場合だけでなく、開口部31同士の間隔に多少のばらつきがある場合も含む。
5 is a plan view showing a configuration example of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet shown in FIG. 4, and FIGS. 6 and 7 are plan views showing other configuration examples of the conductive layer of the electromagnetic wave shielding sheet shown in FIG. FIG. 8 is an enlarged plan view showing one of the plurality of openings provided in the conductive layer shown in FIG.
The opening 31 of the conductive layer 3 is designed to have a shape capable of efficiently capturing electromagnetic waves generated from the printed wiring board 50 (signal wiring 71) and electromagnetic waves entering from the outside. The shape of the opening 31 (planar shape of the opening 31) when such a conductive layer 3 is viewed from above is polygonal (n-gonal, n = about 3 to 300), circular, star-shaped, trapezoidal, etc. There are various shapes.
In the conductive layer 3 shown in FIG. 5, square-shaped openings 31 having the same shape are arranged in a matrix at equal intervals, and form a mesh shape (lattice shape) as a whole. The conductive layer 3 shown in FIG. 6 has hexagonal openings 31 having the same shape arranged at equal intervals, and has a honeycomb shape as a whole. Further, the conductive layer 3 shown in FIG. 7 includes a row in which the first openings 31a having the same triangular shape are linearly arranged, and a second opening portion 31b having the same shape in the inverted triangle is linearly arranged. The rows are alternately arranged. That is, in the conductive layer 3 shown in FIG. 7, a certain unit of the combination of the openings 31 is repeatedly arranged like the combination of the first openings 31a and the second openings 31b.
Among these, the mesh-like conductive layer 3 as shown in FIG. 5 is preferable. Since the conductive layer 3 is in a uniform opening state (opening shape), it has an advantage that the impedance controllability can be easily adjusted and that the manufacturing is easy (productivity is good). As described above, the planar shape of the opening 31 is preferably the same. Thereby, the aperture ratio of the conductive layer 3 can be easily adjusted. Note that “the same planar shape” includes not only the case where all the planar shapes of the plurality of openings 31 are completely the same, but also the case where the planar shapes of the plurality of openings 31 are approximate.
Further, as described above, the openings 31 are preferably arranged at equal intervals. Thereby, electromagnetic waves can be captured by the whole conductive layer 3 without deviation. Therefore, the electromagnetic wave shielding property in the entire wiring board 100 with the electromagnetic wave shielding layer can be further stabilized. The “equal interval” includes not only the case where the intervals between the openings 31 are exactly the same, but also the case where there is some variation in the intervals between the openings 31.

電磁波シールドシート1では、図4に示すように、接合層2の平面積と、開口部31の平面積を含めた導電層3の平面積とが同一である(一致している)ことが好ましい。言い換えれば、接合層2および導電層3の外形の形状およびサイズが同一であることが好ましい。そして、導電層3の開口部31を除く部分(非開口部)の平面積は、プリント配線板50に応じて特性インピーダンスを調整するため、適宜設定することができる。しかしながら、高周波信号を流すプリント配線板50に使用する導電層3は、接合層2の平面積を100とした場合に、その非開口部の平面積が、0.05〜0.8の割合が好ましく、0.05〜0.6の割合がより好ましい。これにより、導電層3の形状によらず、電磁波シールド層付き配線板100の特性インピーダンスを調整することができる。   In the electromagnetic wave shielding sheet 1, as shown in FIG. 4, it is preferable that the plane area of the bonding layer 2 and the plane area of the conductive layer 3 including the plane area of the opening 31 are the same (match). . In other words, it is preferable that the outer shape and size of the bonding layer 2 and the conductive layer 3 are the same. The plane area of the portion (non-opening portion) excluding the opening portion 31 of the conductive layer 3 can be appropriately set because the characteristic impedance is adjusted according to the printed wiring board 50. However, in the conductive layer 3 used for the printed wiring board 50 through which a high-frequency signal flows, when the plane area of the bonding layer 2 is 100, the plane area of the non-opening portion is a ratio of 0.05 to 0.8. A ratio of 0.05 to 0.6 is more preferable. Thereby, the characteristic impedance of the wiring board 100 with an electromagnetic wave shield layer can be adjusted regardless of the shape of the conductive layer 3.

また、図8に示す導電層3の1ヵ所の開口部31において、開口部31を規定する内周面の周方向の長さ(開口部31の内周長)は、プリント配線板50の信号配線71に入力される最大周波数を有する信号や外部から侵入する電磁波を生させる信号のうち最大周波数を有する信号(すなわち、電磁波が生じる元になる信号のうち最大周波数を有する信号)の波長の1/4以下に設定されていることが好ましい。
例えば、信号配線71に入力される信号には、最大周波数が2.5〜7.5GHz帯の高周波信号が用いられる。周波数が2.5GHz帯の高周波信号であれば、その波長は、おおよそ120mmであり、周波数が7.5GHz帯の高周波信号であれば、その波長は、おおよそ40mmである。
したがって、信号配線71に入力される信号の最大周波数が2.5GHz程度であれば、開口部31の内周長は、その高周波信号の波長の1/4以下である30mm以下とするのが好ましい。一方、周波数が7.5GHzの高周波信号が信号配線71に入力される場合には、開口部31の内周長は、その高周波信号の波長の1/4以下である10mm以下とするのが好ましい。上記条件を満足することにより、電磁波シールドシート1は、電磁波シールド性を維持しながら、プリント配線板50(電磁波シールド層付き配線板100)のインピーダンスをコントロールしやすくなる。
Further, in one opening 31 of the conductive layer 3 shown in FIG. 8, the circumferential length of the inner peripheral surface defining the opening 31 (inner peripheral length of the opening 31) is the signal of the printed wiring board 50. 1 of the wavelength of the signal having the maximum frequency input to the wiring 71 and the signal having the maximum frequency among the signals generating the electromagnetic waves entering from the outside (that is, the signal having the maximum frequency among the signals from which the electromagnetic waves are generated). / 4 or less is preferable.
For example, a high frequency signal having a maximum frequency of 2.5 to 7.5 GHz band is used as a signal input to the signal wiring 71. If the frequency is a high-frequency signal in the 2.5 GHz band, the wavelength is approximately 120 mm, and if the frequency is a high-frequency signal in the 7.5 GHz band, the wavelength is approximately 40 mm.
Therefore, if the maximum frequency of the signal input to the signal wiring 71 is about 2.5 GHz, the inner peripheral length of the opening 31 is preferably 30 mm or less, which is 1/4 or less of the wavelength of the high-frequency signal. . On the other hand, when a high-frequency signal having a frequency of 7.5 GHz is input to the signal wiring 71, the inner peripheral length of the opening 31 is preferably 10 mm or less, which is ¼ or less of the wavelength of the high-frequency signal. . By satisfying the above conditions, the electromagnetic wave shielding sheet 1 can easily control the impedance of the printed wiring board 50 (the wiring board 100 with the electromagnetic wave shielding layer) while maintaining the electromagnetic wave shielding property.

複数の開口部31を有する導電層3は、例えば、導電性インキまたは導電性ペーストを基材フィルム上に所定のパターンで印刷する方法、金属箔にエッチング処理することで開口部31を形成する方法、金属の蒸着またはスパッタリングにより所定のパターンの金属層を形成する方法により得ることができる。また、このような導電層3として、金網自体を使用することもできる。   The conductive layer 3 having a plurality of openings 31 is formed by, for example, a method of printing a conductive ink or conductive paste in a predetermined pattern on a base film, or a method of forming the openings 31 by etching a metal foil. It can be obtained by a method of forming a metal layer having a predetermined pattern by vapor deposition or sputtering of metal. Moreover, as such a conductive layer 3, a wire mesh itself can also be used.

導電層3の素材は、金、銀、または銅等の金属およびその合金、または、導電性フィラー含有樹脂、導電性高分子等を使用することが好ましい。   As the material of the conductive layer 3, it is preferable to use a metal such as gold, silver, or copper and an alloy thereof, a conductive filler-containing resin, a conductive polymer, or the like.

導電層3の厚さは、使用する素材の導電性に応じて適宜設定すれば良いが、0.1〜20μm程度が好ましく、1〜10μm程度がより好ましい。
なお、電磁波シールドシート1は、プリント配線板50上に導電層3がプリント配線板50に接触するように重ね合わせ、温度150℃かつ圧力5kg/cm2の条件でプリント配線板50に接着した際でも、プリント配線板50を電磁波シールドシート1側から(電磁波シールドシート1の上方から)見たときに接合層20が導電層3の縁部からはみ出さないことが好ましいが、仮に、接合層20がはみ出したとしても、次のような程度であるのが好ましい。
すなわち、接合層20がはみ出した場合、プリント配線板50上の電磁波シールドシート1の周囲には、電磁波シールドシート1を上方から見たときに、導電層3の縁部から接合層2がはみ出したはみ出し部が形成されるが、そのはみ出し部の平均幅が1mm未満であるのが好ましく、0.5mm未満であるのがより好ましい。
接合層2のはみ出し量が上記程度であれば、電磁波シールドシート1をプリント配線板50に接着する際に、流動する接合層2の一部が、プリント配線板50の端子部731、732に到達するのを確実に防止することができる。したがって、得られた電磁波シールド層付き配線板100では、端子部731、732が確実に露出した状態を維持する。そのため、端子部731、732と回路素子とを接続する際に、接続不良を起こすことなく、電磁波シールド層付き配線板100と回路素子とを確実に接続することができる。
また、電磁波シールドシート1は、接合層2の導電層3と反対側の面に他の樹脂層を備えていてもよい。他の樹脂層としては、特に限定されるものではないが、ハードコート性を有する層が好ましい。かかるハードコート性を有する層の構成材料としては、例えば、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等が好ましい。なお、本発明の電磁波シールドシート1において、電磁波シールド層10としての機能は、接合層2および導電層3により得られる。
The thickness of the conductive layer 3 may be appropriately set according to the conductivity of the material used, but is preferably about 0.1 to 20 μm, more preferably about 1 to 10 μm.
The electromagnetic wave shielding sheet 1 is superimposed on the printed wiring board 50 so that the conductive layer 3 is in contact with the printed wiring board 50, and is adhered to the printed wiring board 50 under the conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2. However, it is preferable that the bonding layer 20 does not protrude from the edge of the conductive layer 3 when the printed wiring board 50 is viewed from the electromagnetic wave shielding sheet 1 side (from above the electromagnetic wave shielding sheet 1). Even if it protrudes, the following degree is preferable.
That is, when the bonding layer 20 protrudes, the bonding layer 2 protrudes from the edge of the conductive layer 3 around the electromagnetic wave shielding sheet 1 on the printed wiring board 50 when the electromagnetic wave shielding sheet 1 is viewed from above. Although the protruding portion is formed, the average width of the protruding portion is preferably less than 1 mm, and more preferably less than 0.5 mm.
If the protruding amount of the bonding layer 2 is the above level, a part of the flowing bonding layer 2 reaches the terminal portions 731 and 732 of the printed wiring board 50 when the electromagnetic wave shielding sheet 1 is bonded to the printed wiring board 50. Can be surely prevented. Therefore, in the obtained wiring board 100 with an electromagnetic wave shielding layer, the terminal portions 731 and 732 are reliably exposed. Therefore, when connecting the terminal portions 731 and 732 and the circuit element, the electromagnetic wave shielding layer-equipped wiring board 100 and the circuit element can be reliably connected without causing connection failure.
The electromagnetic wave shielding sheet 1 may include another resin layer on the surface of the bonding layer 2 opposite to the conductive layer 3. Although it does not specifically limit as another resin layer, The layer which has hard-coat property is preferable. As a constituent material of the layer having such hard coat properties, for example, a polyimide resin, an epoxy resin, an acrylic resin, and the like are preferable. In the electromagnetic wave shielding sheet 1 of the present invention, the function as the electromagnetic wave shielding layer 10 is obtained by the bonding layer 2 and the conductive layer 3.

このような電磁波シールドシート1は、例えば、上述したような熱硬化性樹脂組成物を、剥離性シート上に塗工し、乾燥することで接合層2を得た後、接合層2の上に、印刷方法、エッチング法、蒸着またはスパッタリング等の方法により導電層3を形成することで得ることができる。または、接合層2の形成直後に、予め作成した導電層3を、接合層2に重ね合わせることで、電磁波シールドシート1を得ることもできる。   Such an electromagnetic wave shielding sheet 1 is obtained by, for example, applying the thermosetting resin composition as described above on a peelable sheet and drying it to obtain the bonding layer 2, and then on the bonding layer 2. It can be obtained by forming the conductive layer 3 by a method such as printing, etching, vapor deposition or sputtering. Alternatively, immediately after the formation of the bonding layer 2, the electromagnetic wave shielding sheet 1 can be obtained by superimposing the previously prepared conductive layer 3 on the bonding layer 2.

次に、電磁波シールドシート1を使用した電磁波シールド層付き配線板100の製造方法について説明する。
[1] まず、前述した電磁波シールドシート1およびプリント配線板50を用意する。
[2] 次に、この電磁波シールドシート1を、導電層3とプリント配線板50の第1の絶縁層80とが接触するように、プリント配線板50に重ね合わせる。
[3] 次に、この状態から、電磁波シールドシート1とプリント配線板50とを加熱しながら、互いに接近する方向に加圧する。このとき、接合層2および導電層3が押圧されることにより、導電層3の一部が、プリント配線板50側に撓むように変形して、第1の絶縁層80のビア81を介してグランド配線72に当接(接続)した状態となる。
一方、接合層2が加熱により溶融または軟化して流動し、図3に示すように、接合層2が導電層3の開口部31内に充填されるとともに、第1の絶縁層80のビア81にも充填される。
その後、さらなる加熱により、接合層2(熱硬化性樹脂組成物)が硬化して、接合層2の硬化物により第2の絶縁層20が形成されるとともに、第1の絶縁層80と接着し、プリント配線板50上に電磁波シールド層10が形成される。このようにして、電磁波シールド層付き配線板100を得ることができる。
この際の加熱の温度および加圧の圧力は、加熱・加圧により接合層2が流動して導電層3の開口部31内を十分に充填し、接合層2と第1の絶縁層80との十分な接着を確保し得るように、適宜選定することができる。
具体的には、加熱の温度は、100〜200℃程度であるのが好ましく、130〜200℃程度であるのがより好ましく、140〜170℃程度であるのがさらに好ましい。また、加圧の圧力は、1〜200kg/cm2程度であるのが好ましく、1〜100kg/cm2程度であるのがより好ましく、1〜80kg/cm2程度であるのがさらに好ましく、5〜50kg/cm2程度であるのが最も好ましい。
したがって、加熱・加圧の条件は、温度100〜200℃程度かつ圧力1〜200kg/cm2程度であるのが好ましく、温度100〜200℃程度かつ圧力1〜100kg/cm2程度であるのがより好ましく、温度130〜200℃程度かつ圧力1〜80kg/cm2程度であるのがさらに好ましく、温度140〜170℃程度かつ圧力5〜50kg/cm2程度であるのが最も好ましい。
本発明では、接合層2が温度150℃かつ圧力1kg/cm2(好ましくは温度150℃かつ圧力5kg/cm2)の条件で流動するように設計しているため、上記条件で加熱・加圧を行うことにより、導電層3の開口部31内を流動した接合層2によって確実に充填することができ、電磁波シールドシート1(電磁波シールド層10)とプリント配線板50との間に高い接合強度が得られる。
なお、この加熱および加圧工程では、プリント配線板の製造で、一般に使用される装置を用いることができる。具体的には、かかる装置としては、例えば、温度調節機を備えた、平板プレス機、2軸ロールプレス機等が挙げられる。
Next, the manufacturing method of the wiring board 100 with an electromagnetic wave shielding layer using the electromagnetic wave shielding sheet 1 will be described.
[1] First, the electromagnetic wave shielding sheet 1 and the printed wiring board 50 described above are prepared.
[2] Next, the electromagnetic wave shielding sheet 1 is overlaid on the printed wiring board 50 so that the conductive layer 3 and the first insulating layer 80 of the printed wiring board 50 are in contact with each other.
[3] Next, from this state, the electromagnetic wave shielding sheet 1 and the printed wiring board 50 are heated and pressurized in a direction approaching each other. At this time, when the bonding layer 2 and the conductive layer 3 are pressed, a part of the conductive layer 3 is deformed so as to bend toward the printed wiring board 50, and is grounded via the via 81 of the first insulating layer 80. A state of being in contact (connected) with the wiring 72 is obtained.
On the other hand, the bonding layer 2 is melted or softened by heating and flows, and as shown in FIG. 3, the bonding layer 2 is filled in the opening 31 of the conductive layer 3 and the via 81 of the first insulating layer 80. Also filled.
Thereafter, by further heating, the bonding layer 2 (thermosetting resin composition) is cured, and the second insulating layer 20 is formed by the cured product of the bonding layer 2 and is bonded to the first insulating layer 80. The electromagnetic wave shielding layer 10 is formed on the printed wiring board 50. Thus, the wiring board 100 with an electromagnetic wave shielding layer can be obtained.
The heating temperature and pressurizing pressure at this time are such that the bonding layer 2 flows by heating and pressurizing to sufficiently fill the opening 31 of the conductive layer 3, and the bonding layer 2 and the first insulating layer 80 Can be appropriately selected so as to ensure sufficient adhesion.
Specifically, the heating temperature is preferably about 100 to 200 ° C, more preferably about 130 to 200 ° C, and further preferably about 140 to 170 ° C. The pressure of the pressure is preferably in the range of about 1~200kg / cm 2, more preferably about 1 to 100 kg / cm 2, more preferably in the range of about 1~80kg / cm 2, 5 Most preferably, it is about ˜50 kg / cm 2 .
Therefore, the conditions of heat and pressure is in the range of temperature 100 to 200 ° C. approximately and a pressure 1~200kg / cm 2 of about preferably, in the range of temperature 100 to 200 ° C. approximately and a pressure 1 to 100 kg / cm 2 about the More preferably, the temperature is about 130 to 200 ° C. and the pressure is about 1 to 80 kg / cm 2 , and the temperature is preferably about 140 to 170 ° C. and the pressure is about 5 to 50 kg / cm 2 .
In the present invention, the bonding layer 2 is designed to flow under the conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 1 kg / cm 2 (preferably a temperature of 150 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 ). As a result, the bonding layer 2 that has flowed through the opening 31 of the conductive layer 3 can be reliably filled, and a high bonding strength can be obtained between the electromagnetic wave shielding sheet 1 (electromagnetic wave shielding layer 10) and the printed wiring board 50. Is obtained.
In this heating and pressurizing step, an apparatus generally used in the production of a printed wiring board can be used. Specifically, as such an apparatus, for example, a flat plate press machine, a biaxial roll press machine and the like provided with a temperature controller can be cited.

このようにして得られた電磁波シールド層付き配線板100は、従来の電磁波シールド層付き配線板より大幅に厚さを薄くすることができる。特に、本実施形態では、プリント配線板50の基板60として、FPC基板を用いているため、電磁波シールド層付き配線板100全体の厚さを特に薄くすることができる。これにより、例えば、携帯電話、デジタルカメラ、パソコン等の民生用電子機器や、医療機器や電子計算機等の産業用電子機器等に電磁波シールド層付き配線板100を搭載することで、当該電子機器の小型化・薄型化に貢献することができる。
以上、本発明の電磁波シールドシート、電磁波シールド層付き配線板の製造方法および電磁波シールド層付き配線板の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これに限定されない。
例えば、上述した電磁波シールド層付き配線板100では、図2および図3に示すように、プリント配線板50におけるグランド配線72の位置が、信号配線71と同一平面上に併設されているが、グランド配線72を、電磁波シールド層10の上面(すなわち、信号配線71の上方)、または、プリント配線板50の基板60の下面(すなわち、信号配線71の下方)に併設し、導電ペーストや導電ピン等を用いる公知の方法により電磁波シールド層10の導電層3と導通をとるような構成としても良い。
また、図2および図3に示す電磁波シールド層付き配線板100は、本発明の電磁波シールド層付き配線板の一例であり、電磁波シールド層をプリント配線板に積層する態様は、図2および図3に限定されるものではない。
さらに、本発明の電磁波シールド層付き配線板の製造方法によれば、プリント配線板50の上面と下面とに、それぞれ電磁波シールドシート1を重ね合わせた状態で、これらを加熱・加圧することにより、電磁波シールド層付き配線板100を得るようにしてもよい。
The thus obtained wiring board 100 with an electromagnetic wave shielding layer can be made much thinner than a conventional wiring board with an electromagnetic wave shielding layer. In particular, in this embodiment, since the FPC board is used as the board 60 of the printed wiring board 50, the entire thickness of the wiring board 100 with the electromagnetic wave shielding layer can be particularly reduced. Thereby, for example, by mounting the wiring board 100 with an electromagnetic wave shielding layer on a consumer electronic device such as a mobile phone, a digital camera, a personal computer, or an industrial electronic device such as a medical device or an electronic computer, It can contribute to miniaturization and thinning.
As mentioned above, although preferred embodiment of the electromagnetic wave shielding sheet of this invention, the manufacturing method of the wiring board with an electromagnetic wave shield layer, and the wiring board with an electromagnetic wave shield layer was described, this invention is not limited to this.
For example, in the above-described wiring board 100 with an electromagnetic wave shielding layer, the position of the ground wiring 72 in the printed wiring board 50 is provided on the same plane as the signal wiring 71 as shown in FIGS. The wiring 72 is provided on the upper surface of the electromagnetic wave shielding layer 10 (that is, above the signal wiring 71) or the lower surface of the substrate 60 of the printed wiring board 50 (that is, below the signal wiring 71), and conductive paste, conductive pins, etc. It is good also as a structure which takes the continuity with the conductive layer 3 of the electromagnetic wave shield layer 10 by the well-known method using this.
Moreover, the wiring board 100 with an electromagnetic wave shielding layer shown in FIGS. 2 and 3 is an example of the wiring board with an electromagnetic wave shielding layer of the present invention, and the mode in which the electromagnetic wave shielding layer is laminated on the printed wiring board is shown in FIGS. It is not limited to.
Furthermore, according to the method for manufacturing a wiring board with an electromagnetic wave shielding layer of the present invention, by heating and pressurizing the electromagnetic wave shielding sheet 1 on the upper surface and the lower surface of the printed wiring board 50, respectively, You may make it obtain the wiring board 100 with an electromagnetic wave shield layer.

次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、下記実施例により限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not limited by the following Example.

なお、下記実施例中に記載したポリウレタンポリウレア樹脂の重量平均分子量は、GPC測定で求めたポリスチレン換算の重量平均分子量および数平均分子量であり、GPC測定の条件は、以下のとおりである。
装置:Shodex GPC System−21(昭和電工製)
カラム:Shodex KF−802、KF−803L、KF−805L
(昭和電工製)の合計3本を連結して使用。
溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0ml/min
温度:40℃
試料濃度:0.3重量%
試料注入量:100μl
In addition, the weight average molecular weight of the polyurethane polyurea resin described in the following Example is the weight average molecular weight and number average molecular weight of polystyrene conversion calculated | required by GPC measurement, The conditions of GPC measurement are as follows.
Equipment: Shodex GPC System-21 (manufactured by Showa Denko)
Column: Shodex KF-802, KF-803L, KF-805L
A total of 3 (made by Showa Denko) are connected and used.
Solvent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 ml / min
Temperature: 40 ° C
Sample concentration: 0.3% by weight
Sample injection volume: 100 μl

[ポリウレタンポリウレア樹脂の合成]
[合成例1]
攪拌機、温度計、還流冷却器、滴下装置、および窒素導入管を備えた反応容器に、アジピン酸、テレフタル酸、および3−メチル−1,5−ペンタンジオールから得られる数平均分子量(以下、「Mn」という)=1006であるジオール414重量部、ジメチロールブタン酸8重量部、イソホロンジイソシアネート145重量部、およびトルエン40重量部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で3時間反応させた。その後、この反応溶液に、さらにトルエン300重量部を加えて、末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーの溶液を得た。
次に、イソホロンジアミン27重量部、ジ−n−ブチルアミン3重量部、2−プロパノール342重量部、およびトルエン576重量部を混合した混合物に、得られたウレタンプレポリマーの溶液816重量部を添加し、70℃で3時間反応させ、重量平均分子量(以下、「Mw」という)=54,000、酸価5mgKOH/gであるポリウレタンポリウレア樹脂の溶液を得た。これに、トルエン144重量部、および2−プロパノール72重量部を加えて、固形分30%であるポリウレタンポリウレア樹脂溶液(C)を得た。
[Synthesis of polyurethane polyurea resin]
[Synthesis Example 1]
A number average molecular weight obtained from adipic acid, terephthalic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol (hereinafter, “ 414 parts by weight of diol (Mn) = 1006, 8 parts by weight of dimethylolbutanoic acid, 145 parts by weight of isophorone diisocyanate, and 40 parts by weight of toluene were charged and reacted at 90 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere. Thereafter, 300 parts by weight of toluene was further added to the reaction solution to obtain a urethane prepolymer solution having an isocyanate group at the terminal.
Next, 816 parts by weight of the resulting urethane prepolymer solution was added to a mixture of 27 parts by weight of isophoronediamine, 3 parts by weight of di-n-butylamine, 342 parts by weight of 2-propanol, and 576 parts by weight of toluene. The mixture was reacted at 70 ° C. for 3 hours to obtain a polyurethane polyurea resin solution having a weight average molecular weight (hereinafter referred to as “Mw”) = 54,000 and an acid value of 5 mgKOH / g. To this, 144 parts by weight of toluene and 72 parts by weight of 2-propanol were added to obtain a polyurethane polyurea resin solution (C) having a solid content of 30%.

[実施例1]
ポリウレタンポリウレア樹脂溶液(C)333重量部に対して、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン製「JER828」)(D)20重量部を加えて、樹脂組成物溶液を得た。この樹脂組成物溶液353重量部に対して、導電フィラー(福田金属箔粉工業製「AgXF−301」)180重量部を加えて攪拌混合し、ポリウレタンポリウレア樹脂とエポキシ樹脂(D)との合計100重量部に対して、導電フィラー300重量部を含有する、導電性樹脂組成物溶液を得た。
別途、ポリウレタンポリウレア樹脂溶液(C)333重量部に対して、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(D)20重量部を加えて、熱硬化性樹脂組成物溶液を得た。
次いで、第1の剥離性フィルムとして、厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意し、その片面に剥離処理を施した。この第1の剥離性フィルムの剥離処理面上に、得られた導電性樹脂組成物溶液をL(line)/S(space)=100μm/300μmのメッシュ状に印刷、乾燥し、乾燥膜厚が5μmの導電層(B−1)を形成した。
別途、第2の剥離性フィルムとして、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意し、その片面に剥離処理を施した。この第2の剥離性フィルムの剥離処理面上に、得られた熱硬化性樹脂組成物溶液を塗工、乾燥し、乾燥膜厚が15μmの接合層(A−1)を形成した。そして、第1の剥離性フィルム上に形成した導電層(B−1)と、第2の剥離性フィルム上に形成した接合層(A−1)とを貼り合わせて電磁波シールドシートを得た。
なお、得られた熱硬化性樹脂組成物溶液を乾燥させることにより熱硬化性樹脂組成物を得て、そのガラス転移温度を測定したところ、30℃であった。なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量計(DSC)を用いて、昇温速度10℃/minの条件で測定した。
[Example 1]
20 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (“JER828” manufactured by Japan Epoxy Resin) (D) was added to 333 parts by weight of the polyurethane polyurea resin solution (C) to obtain a resin composition solution. With respect to 353 parts by weight of this resin composition solution, 180 parts by weight of a conductive filler (“AgXF-301” manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Industry) is added and mixed by stirring to give a total of 100 of polyurethane polyurea resin and epoxy resin (D). A conductive resin composition solution containing 300 parts by weight of a conductive filler with respect to parts by weight was obtained.
Separately, 20 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (D) was added to 333 parts by weight of polyurethane polyurea resin solution (C) to obtain a thermosetting resin composition solution.
Next, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 75 μm was prepared as a first peelable film, and a peeling treatment was performed on one surface thereof. The obtained conductive resin composition solution is printed and dried in a mesh shape of L (line) / S (space) = 100 μm / 300 μm on the release-treated surface of the first peelable film. A 5 μm conductive layer (B-1) was formed.
Separately, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm was prepared as a second peelable film, and one surface thereof was peeled. The obtained thermosetting resin composition solution was applied and dried on the release-treated surface of the second peelable film to form a bonding layer (A-1) having a dry film thickness of 15 μm. And the electroconductive layer (B-1) formed on the 1st peelable film and the joining layer (A-1) formed on the 2nd peelable film were bonded together, and the electromagnetic wave shield sheet was obtained.
In addition, when the thermosetting resin composition was obtained by drying the obtained thermosetting resin composition solution and the glass transition temperature was measured, it was 30 degreeC. The glass transition temperature was measured using a differential scanning calorimeter (DSC) at a temperature increase rate of 10 ° C./min.

[実施例2]
接合層(A−1)を下記の方法で作成した接合層(A−2)に変更したこと以外は実施例1と同様に電磁波シールドシートを得た。
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂100重量部に、硬化剤としてフェノール樹脂50重量部と、ポリシロキサン100重量部とを加えて熱硬化性樹脂組成物溶液を得た。上記第2の剥離性フィルムの剥離処理面上に、熱硬化性樹脂組成物溶液を塗工、乾燥し、乾燥膜厚が15μmの接合層(A−2)を形成した。
なお、上記と同様にして、熱硬化性樹脂組成物のガラス転移温度を測定したところ、90℃であった。
[Example 2]
An electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the bonding layer (A-1) was changed to the bonding layer (A-2) prepared by the following method.
A thermosetting resin composition solution was obtained by adding 50 parts by weight of a phenol resin as a curing agent and 100 parts by weight of a polysiloxane to 100 parts by weight of a cresol novolac type epoxy resin. On the release treatment surface of the second peelable film, the thermosetting resin composition solution was applied and dried to form a bonding layer (A-2) having a dry film thickness of 15 μm.
In addition, it was 90 degreeC when the glass transition temperature of the thermosetting resin composition was measured like the above.

[実施例3〜8]
表1に記載した導電層および接合層を使用した以外は、実施例1と同様に電磁波シールドシートを作製した。
[Examples 3 to 8]
An electromagnetic wave shielding sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive layer and the bonding layer described in Table 1 were used.

[実施例9]
実施例1と同様に、第1の剥離性フィルムの剥離処理面上に、導電層(B−1)の導電性樹脂組成物溶液を乾燥膜厚が1μmになるようにL(line)/S(space)=100μm/300μmの開口部を有するメッシュ状に印刷、乾燥し、さらに150℃で30分間加熱することによって硬化した導電層の下地層を得た。次に、この下地層に対し、電気メッキを施すことにより、メッキ層を形成した。これにより、厚さ10μmのメッシュ状の導電層(B−4)を得た。
別途、実施例1と同様に、接合層(A−1)を形成し、第1の剥離性フィルム上に形成した導電層(B−2)と、貼り合わせて電磁波シールドシートを得た。
[実施例10]
表1に記載した導電層および接合層を使用した以外は、実施例1と同様に電磁波シールドシートを作製した。
[Example 9]
In the same manner as in Example 1, the conductive resin composition solution of the conductive layer (B-1) is formed on the release treatment surface of the first peelable film so that the dry film thickness is 1 μm. (Space) = printed on a mesh having openings of 100 μm / 300 μm, dried, and further heated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a ground layer of a conductive layer. Next, a plating layer was formed by performing electroplating on the base layer. Thereby, a mesh-like conductive layer (B-4) having a thickness of 10 μm was obtained.
Separately, in the same manner as in Example 1, the bonding layer (A-1) was formed and bonded to the conductive layer (B-2) formed on the first peelable film to obtain an electromagnetic wave shield sheet.
[Example 10]
An electromagnetic wave shielding sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive layer and the bonding layer described in Table 1 were used.

[比較例1]
導電層(B−1)を下記の方法で作成した導電層(B−6)に変更した以外は、実施例1と同様に電磁波シールドシートを作製した。
上記第1の剥離性フィルムの剥離処理面上に、導電層(B−1)の導電性樹脂組成物溶液を塗工、乾燥し、開口部を有さない乾燥膜厚5μmの導電層(B−6)を形成した。
[Comparative Example 1]
An electromagnetic wave shield sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the conductive layer (B-1) was changed to the conductive layer (B-6) prepared by the following method.
On the release treatment surface of the first peelable film, the conductive resin composition solution of the conductive layer (B-1) is applied and dried, and the conductive layer (B -6) was formed.

[比較例2]
接合層(A−1)を下記の方法で作成した接合層(A−3)に変更した以外は、実施例1と同様に電磁波シールドシートを得た。
上記第2の剥離性フィルムの剥離処理面上に、アクリル系粘着剤(ガラス転移温度Tg:−40℃)を塗工、乾燥し、乾燥膜厚が25μmの接合層(A−3)を形成した。
[Comparative Example 2]
An electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the bonding layer (A-1) was changed to the bonding layer (A-3) prepared by the following method.
An acrylic pressure-sensitive adhesive (glass transition temperature Tg: −40 ° C.) is coated on the release surface of the second peelable film and dried to form a bonding layer (A-3) having a dry film thickness of 25 μm. did.

[比較例3]
接合層(A−1)を、ガラス転移温度Tg:150℃、厚さ12μmのポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム(帝人デュポンフィルム社製「テオネックス」)に変更した以外は、実施例1と同様に電磁波シールドシートを得た。
[Comparative Example 3]
Example 1 except that the bonding layer (A-1) was changed to a polyethylene naphthalate (PEN) film having a glass transition temperature Tg of 150 ° C. and a thickness of 12 μm (“Teonex” manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.). An electromagnetic wave shielding sheet was obtained.

[比較例4]
まず、導電層(B−1)を、導電層の開口部を規定する内周面の周方向の長さが100mmとなるようにメッシュ状に印刷した導電層に変更した以外は、実施例1と同様にして接合層と導電層とを貼り合わせて、積層体を得た。
次に、接合層の導電層と反対側の面に、導電性接着剤層、銀蒸着層(厚さ0.1μm)、PETフィルム(ガラス転移温度Tg:105℃、厚さ9μm)を順次積層した。導電接着剤層は、導電フィラーとして銀コート銅粉、接着剤としてポリエステル系接着剤を含有し、厚さ20μmであった。
[Comparative Example 4]
First, Example 1 except that the conductive layer (B-1) was changed to a conductive layer printed in a mesh shape so that the circumferential length of the inner peripheral surface defining the opening of the conductive layer was 100 mm. In the same manner as above, the bonding layer and the conductive layer were bonded together to obtain a laminate.
Next, a conductive adhesive layer, a silver deposited layer (thickness 0.1 μm), and a PET film (glass transition temperature Tg: 105 ° C., thickness 9 μm) are sequentially laminated on the surface of the bonding layer opposite to the conductive layer. did. The conductive adhesive layer contained silver-coated copper powder as a conductive filler and a polyester-based adhesive as an adhesive, and had a thickness of 20 μm.

(1)耐熱性の評価
得られた電磁波シールドシートを幅12mm×長さ60mmの大きさに切断して、5つのサンプルを準備した。各サンプルから第1の剥離性フィルムを除去し、各サンプルの導電層に、厚さが50μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製「カプトン200EN」)を表1の条件で圧着し、接合層を硬化した。
硬化後、第2の剥離性フィルムを除去し、180℃の電気オーブンで3分間、次いで280℃の電気オーブンで90秒間加熱処理した。加熱処理後のサンプルの外観を目視で観察することにより、発泡、浮き、および剥がれの外観不良の有無を確認し、以下の基準に従って耐熱性を評価した。
[評価基準]
A:いずれのサンプルにおいても外観不良なし。
B:いくつかのサンプルでムラが見られるが、外観不良なし。
C:1つまたは2つのサンプルで外観不良あり。
D:3つ以上のサンプルで外観不良あり。
(1) Evaluation of heat resistance The obtained electromagnetic wave shielding sheet was cut into a size of width 12 mm x length 60 mm to prepare five samples. The first peelable film is removed from each sample, and a polyimide film (“Kapton 200EN” manufactured by Toray DuPont Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm is pressure-bonded to the conductive layer of each sample under the conditions shown in Table 1. Cured.
After curing, the second peelable film was removed, and heat treatment was performed in an electric oven at 180 ° C. for 3 minutes and then in an electric oven at 280 ° C. for 90 seconds. By visually observing the appearance of the sample after the heat treatment, the presence or absence of appearance defects such as foaming, floating, and peeling was confirmed, and the heat resistance was evaluated according to the following criteria.
[Evaluation criteria]
A: No appearance defect in any sample.
B: Unevenness is observed in some samples, but there is no appearance defect.
C: Appearance defect in one or two samples.
D: Appearance defect with 3 or more samples.

(2)接着力の評価
得られた電磁波シールドシートを幅20mm×長さ70mmの大きさに切断して、サンプルを準備した。サンプルから第1の剥離性フィルムを除去し、サンプルの導電層に、厚さが50μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製「カプトン200EN」)を表1の条件で圧着し、接合層を硬化した。
硬化後、第2の剥離性フィルムを除去し、23℃および相対湿度50%の雰囲気下で、引っ張り速度50mm/minで90度剥離試験を行い、サンプルとポリイミドフィルムとの接着力(N/cm)を測定した。
(2) Evaluation of adhesive force The obtained electromagnetic wave shielding sheet was cut | disconnected to the magnitude | size of width 20mm x length 70mm, and the sample was prepared. The first peelable film was removed from the sample, and a polyimide film having a thickness of 50 μm (“Kapton 200EN” manufactured by Toray DuPont) was pressure-bonded to the sample conductive layer under the conditions shown in Table 1 to cure the bonding layer. .
After curing, the second peelable film is removed, and a 90 ° peel test is performed at a pulling speed of 50 mm / min in an atmosphere of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, and the adhesion force between the sample and the polyimide film (N / cm ) Was measured.

(3)IPC屈曲試験による評価
ポリイミドフィルム(厚さ12.5μm)と銅箔(厚さ18μm)とを積層した2層CCLに、L/S=0.1mm/0.1mm、6ラインの摺動屈曲パターンを形成し、このパターンにポリイミド12.5μmと接着剤25μmとで構成されるカバーレイを積層し、フレキシブルプリント配線板を作成した。
このフレキシブルプリント配線板の両面に、得られた電磁波シールドシートを表1の条件で圧着して、電磁波シールド層付き配線板を得た。この電磁波シールド層付き配線板に対して、曲率半径:R=2mm、ストローク30mm、屈曲速度:60cpmの条件で屈曲試験を行った。そして、このフレキシブルプリント配線板の抵抗値が初期抵抗値に対して30%上昇する際の屈曲回数を測定することにより、電磁波シールドシートの接合前後における屈曲回数の違いから、屈曲回数の減少率を算出し、以下の基準に従って屈曲性を評価した。
[評価基準]
A:85%以上、100%以下
B:50%以上、85%未満
C:15%以上、50%未満
D:15%未満
(3) Evaluation by IPC bending test L / S = 0.1 mm / 0.1 mm, 6 lines of sliding on a two-layer CCL obtained by laminating a polyimide film (thickness 12.5 μm) and a copper foil (thickness 18 μm). A dynamic bending pattern was formed, and a coverlay composed of 12.5 μm of polyimide and 25 μm of adhesive was laminated on this pattern to prepare a flexible printed wiring board.
The obtained electromagnetic shielding sheet was pressure-bonded on both surfaces of the flexible printed wiring board under the conditions shown in Table 1 to obtain a wiring board with an electromagnetic shielding layer. A bending test was performed on this wiring board with an electromagnetic wave shielding layer under the conditions of a radius of curvature: R = 2 mm, a stroke of 30 mm, and a bending speed: 60 cpm. Then, by measuring the number of bendings when the resistance value of this flexible printed wiring board is increased by 30% with respect to the initial resistance value, the rate of decrease in the number of bendings can be determined from the difference in the number of bendings before and after joining the electromagnetic shielding sheet. The flexibility was evaluated according to the following criteria.
[Evaluation criteria]
A: 85% or more, 100% or less B: 50% or more, less than 85% C: 15% or more, less than 50% D: less than 15%

(4)電磁波シールド性(透過減衰率) ASTM D4935に準拠し、キーコム社の同軸管タイプのシールド効果測定システムを用いて、100MHz〜6GHz条件で電磁波の照射を行い、電磁波が電磁波シールドシートで減衰する減衰量を測定し、以下の基準に従って電磁波シールド性を評価した。なお、減衰量の測定値は、デシベル(単位dB)で表記する。
[評価基準]
A:マイクロ波領域の6GHzの電磁波を照射したときに、45dB以上を示す。
B:6GHzの電磁波を照射したときに、40dB以上45dB未満を示す。
C:6GHzの電磁波を照射したときに、35dB以上40dB未満を示す。
D:6GHzの電磁波を照射したときに、35dB未満を示す。
なお、一般に電磁波シールド性は、40dB(電磁波を99%以上遮断する)以上であれば良好である。
(4) Electromagnetic wave shielding property (transmission attenuation rate) In accordance with ASTM D4935, using a coaxial tube type shielding effect measuring system manufactured by Keycom Corporation, the electromagnetic wave is irradiated under conditions of 100 MHz to 6 GHz, and the electromagnetic wave is attenuated by the electromagnetic wave shielding sheet. The amount of attenuation to be measured was measured, and the electromagnetic shielding properties were evaluated according to the following criteria. Note that the measured value of attenuation is expressed in decibels (unit dB).
[Evaluation criteria]
A: 45 dB or more when irradiated with 6 GHz electromagnetic waves in the microwave region.
B: 40 dB or more and less than 45 dB when irradiated with 6 GHz electromagnetic waves.
C: 35 dB or more and less than 40 dB when irradiated with 6 GHz electromagnetic waves.
D: Less than 35 dB when irradiated with 6 GHz electromagnetic waves.
In general, the electromagnetic wave shielding property is good as long as it is 40 dB (or more than 99% of electromagnetic waves are blocked).

(5)特性インピーダンス測定
ポリイミドフィルム(厚さ12.5μm)の両面に銅箔(厚さ18μm、銅メッキ厚さ10μm)を積層した両面2層CCLを用意し、さらにその両面にポリイミド12.5μmと接着剤25μmとで構成されるカバーレイを積層した。その際、一方の銅箔に、2本の信号配線(信号回路)を形成するとともに、それに平行なグランド配線(グランド回路)を、信号配線の両サイドに2本形成することによって、コプレーナ構造のフレキシブルプリント配線板を得た。
なお、この際、信号配線の線幅を0.05mm、グランド配線の線幅を0.5mm、各信号配線とグランド配線との線間をそれぞれ0.05mm、回路長を100mmとした。
このフレキシブルプリント配線板の回路形成面に、幅10mm×長さ95mmの電磁波シールドシートを表1の条件で圧着して、電磁波シールド層付き配線板を得た。この電磁波シールド層付き配線板に対して、ネットワークアナライザE5071C(アジレント・ジャパン社製)を用いて、特性インピーダンスの測定を行った。
電磁波シールド層付き配線板における電磁波シールドシートの圧着前後の特性インピーダンスの変化率( = シールドシート被着後の特性インピーダンス / シールドシート被着前の特性インピーダンス)を算出し、以下の基準に従って評価した。
[評価基準]
A:85%以上、100%以下
B:70%以上、85%未満
C:55%以上、70%未満
D:55%未満
(5) Characteristic impedance measurement A double-sided two-layer CCL is prepared by laminating a copper foil (thickness 18 μm, copper plating thickness 10 μm) on both sides of a polyimide film (thickness 12.5 μm), and polyimide 12.5 μm on both sides. And a coverlay composed of 25 μm adhesive. At that time, two signal wirings (signal circuits) are formed on one copper foil, and two ground wirings (ground circuits) parallel to the signal wirings are formed on both sides of the signal wiring. A flexible printed wiring board was obtained.
At this time, the line width of the signal wiring was 0.05 mm, the line width of the ground wiring was 0.5 mm, the distance between each signal wiring and the ground wiring was 0.05 mm, and the circuit length was 100 mm.
An electromagnetic wave shielding sheet having a width of 10 mm and a length of 95 mm was crimped to the circuit forming surface of the flexible printed wiring board under the conditions shown in Table 1 to obtain a wiring board with an electromagnetic wave shielding layer. With respect to this wiring board with an electromagnetic wave shielding layer, characteristic impedance was measured using a network analyzer E5071C (manufactured by Agilent Japan).
The rate of change of the characteristic impedance before and after pressure bonding of the electromagnetic wave shielding sheet in the wiring board with the electromagnetic wave shielding layer (= characteristic impedance after attaching the shield sheet / characteristic impedance before attaching the shield sheet) was calculated and evaluated according to the following criteria.
[Evaluation criteria]
A: 85% or more, 100% or less B: 70% or more, less than 85% C: 55% or more, less than 70% D: less than 55%

(6)接合層のはみ出し性の評価
得られた電磁波シールドシートを、厚さが50μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製「カプトン200EN」)に重ね合わせて、加熱温度:150℃、圧力:5kgf/cm2、処理時間:30minの条件で圧着処理を行った。圧着処理後、導電層の縁部からはみ出した接合層のはみ出し部を拡大鏡を用いて観察するとともに、はみ出し部の平均幅を測定し、以下の基準に従ってはみ出し性を評価した。
[評価基準]
A:はみ出し部の平均幅が、0.5mm未満である。
B:はみ出し部の平均幅が、0.5mm以上、1mm未満である。
C:はみ出し部の平均幅が、1mm以上、1.5mm未満である。
D:はみ出し部の平均幅が、1.5mm以上である。
また、接合層の厚さの違いによるはみ出し性を評価するため、以下に示す実施例についても、上記と同様に評価した。
(6) Evaluation of protruding property of bonding layer The obtained electromagnetic wave shielding sheet was superposed on a polyimide film having a thickness of 50 μm (“Kapton 200EN” manufactured by Toray DuPont), heating temperature: 150 ° C., pressure: 5 kgf The pressure bonding process was performed under the conditions of / cm 2 and processing time: 30 min. After the crimping process, the protruding portion of the bonding layer that protruded from the edge of the conductive layer was observed using a magnifying glass, the average width of the protruding portion was measured, and the protruding property was evaluated according to the following criteria.
[Evaluation criteria]
A: The average width of the protruding portion is less than 0.5 mm.
B: The average width of the protruding portion is 0.5 mm or more and less than 1 mm.
C: The average width of the protruding portion is 1 mm or more and less than 1.5 mm.
D: The average width of the protruding portion is 1.5 mm or more.
Moreover, in order to evaluate the protrusion property by the difference in the thickness of a joining layer, also about the Example shown below, it evaluated similarly to the above.

[実施例11]
接合層(A−1)を下記の方法で作成した接合層(A−4)に変更した以外は、実施例1と同様に電磁波シールドシートを作製した。
上記第2の剥離性フィルムの剥離処理面上に、接合層(A−1)の熱硬化性樹脂組成物溶液を塗工、乾燥し、乾燥膜厚10μmの接合層(A−4)を形成した。
[Example 11]
An electromagnetic wave shielding sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the joining layer (A-1) was changed to the joining layer (A-4) prepared by the following method.
On the release-treated surface of the second peelable film, the thermosetting resin composition solution of the joining layer (A-1) is applied and dried to form a joining layer (A-4) having a dry film thickness of 10 μm. did.

[実施例12]
接合層(A−1)を下記の方法で作成した接合層(A−5)に変更した以外は、実施例1と同様に電磁波シールドシートを作製した。
上記第2の剥離性フィルムの剥離処理面上に、接合層(A−1)の熱硬化性樹脂組成物溶液を塗工、乾燥し、乾燥膜厚40μmの接合層(A−5)を形成した。
[Example 12]
An electromagnetic wave shielding sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the joining layer (A-1) was changed to the joining layer (A-5) prepared by the following method.
On the release treatment surface of the second peelable film, the thermosetting resin composition solution of the joining layer (A-1) is applied and dried to form a joining layer (A-5) having a dry film thickness of 40 μm. did.

Figure 2013168643
Figure 2013168643

Figure 2013168643
Figure 2013168643

表1の結果より、実施例1〜10の電磁波シールドシートは、接合層と導電層の2層構成でありながら、比較例4に示す絶縁フィルム(PETフィルム)/銀蒸着層/導電性接着剤層/接合層/導電層という5層構成の電磁波シールドシートと同等の物性(耐熱性、接着性、電磁波シールド性およびインピーダンス特性)を得つつ、薄層化を実現することができた。また、表2に示すように、本発明で用いられる接合層では、その厚さによらず、接合層のはみ出しを抑制することができることが確認された。   From the results of Table 1, the electromagnetic wave shielding sheets of Examples 1 to 10 have a two-layer configuration of a bonding layer and a conductive layer, but the insulating film (PET film) / silver vapor deposition layer / conductive adhesive shown in Comparative Example 4 It was possible to realize a thin layer while obtaining the same physical properties (heat resistance, adhesiveness, electromagnetic wave shielding properties and impedance characteristics) as the five-layered electromagnetic wave shielding sheet of layer / bonding layer / conductive layer. Further, as shown in Table 2, it was confirmed that the bonding layer used in the present invention can suppress the protrusion of the bonding layer regardless of its thickness.

Claims (8)

信号配線を有する配線板に接着して用いられる電磁波シールドシートであって、
ガラス転移温度が0〜150℃の熱硬化性樹脂組成物を含有し、温度150℃かつ圧力1kg/cm2の条件で流動可能な絶縁性を備える接合層と、
前記接合層の一方の面に設けられ、複数の開口部を備える導電層とを有することを特徴とする電磁波シールドシート。
An electromagnetic wave shielding sheet used by adhering to a wiring board having signal wiring,
A bonding layer comprising a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of 0 to 150 ° C. and having an insulating property capable of flowing under conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 1 kg / cm 2 ;
An electromagnetic wave shielding sheet comprising a conductive layer provided on one surface of the bonding layer and having a plurality of openings.
当該電磁波シールドシートと前記配線板とを、前記導電層が前記配線板に接触するように重ね合わせ、温度150℃かつ圧力5kg/cm2の条件で前記配線板と接着したとき、前記配線板を前記電磁波シールドシート側から見たときに、前記導電層の縁部から前記接合層がはみ出したはみ出し部が形成され、前記はみ出し部の平均幅が1mm未満である請求項1に記載の電磁波シールドシート。 When the electromagnetic wave shielding sheet and the wiring board are overlapped so that the conductive layer is in contact with the wiring board and bonded to the wiring board at a temperature of 150 ° C. and a pressure of 5 kg / cm 2 , the wiring board is 2. The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein when viewed from the electromagnetic shielding sheet side, an protruding portion is formed in which the bonding layer protrudes from an edge portion of the conductive layer, and an average width of the protruding portion is less than 1 mm. . 前記複数の開口部は、平面形状が同一の開口部を含む請求項1に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein the plurality of openings include openings having the same planar shape. 前記複数の開口部は、等間隔で配置されている請求項1に記載の電磁波シールドシート。   The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein the plurality of openings are arranged at equal intervals. 前記接合層の平面積を100とした場合、前記導電層の前記複数の開口部を除く部分の平面積は、0.05〜0.8である請求項1に記載の電磁波シールドシート。   2. The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein when the plane area of the bonding layer is 100, the plane area of the conductive layer excluding the plurality of openings is 0.05 to 0.8. 前記配線板は、さらにグランド配線を有し、
前記導電層の一部は、前記グランド配線に直接接続される接続部を構成している請求項1に記載の電磁波シールドシート。
The wiring board further includes ground wiring,
The electromagnetic wave shielding sheet according to claim 1, wherein a part of the conductive layer constitutes a connection portion that is directly connected to the ground wiring.
信号配線と、前記信号配線を覆う絶縁層とを有する配線板、および、ガラス転移温度が0〜150℃の熱硬化性樹脂組成物を含有し、温度150℃かつ圧力1kg/cm2の条件で流動可能な絶縁性を備える接合層と、前記接合層の一方の面に設けられ、複数の開口部を備える導電層とを有する電磁波シールドシートを用意し、
前記電磁波シールドシートと前記配線板とを、前記配線板の絶縁層と前記電磁波シールドシートの前記導電層とが接触するように、重ね合わせ、
少なくとも前記電磁波シールドシートを加熱しつつ、前記電磁波シールドシートと前記配線板とを互いに接近する方向に加圧することにより、前記接合層を流動させて、前記導電層の前記複数の開口部を通じて前記絶縁層と接着して電磁波シールド層を形成することを特徴とする電磁波シールド層付き配線板の製造方法。
A wiring board having a signal wiring and an insulating layer covering the signal wiring, and a thermosetting resin composition having a glass transition temperature of 0 to 150 ° C., under conditions of a temperature of 150 ° C. and a pressure of 1 kg / cm 2 Preparing an electromagnetic wave shielding sheet having a bonding layer having a fluid insulating property, and a conductive layer provided on one surface of the bonding layer and having a plurality of openings;
The electromagnetic shielding sheet and the wiring board are overlapped so that the insulating layer of the wiring board and the conductive layer of the electromagnetic shielding sheet are in contact with each other,
At least the electromagnetic wave shielding sheet is heated and the electromagnetic wave shielding sheet and the wiring board are pressurized in a direction approaching each other, thereby causing the bonding layer to flow and the insulation through the openings of the conductive layer. A method of manufacturing a wiring board with an electromagnetic wave shielding layer, characterized in that an electromagnetic wave shielding layer is formed by bonding to the layer.
前記配線板は、さらに、前記絶縁層によって覆われたグランド配線を有し、前記絶縁層は、前記グランド配線の一部が露出したビアを有しており、
前記電磁波シールドシートと前記配線板とを接着する際に、前記導電層の一部を前記ビアを介して前記グランド配線に直接接続する請求項7に記載の電磁波シールド層付き配線板の製造方法。
The wiring board further includes a ground wiring covered with the insulating layer, and the insulating layer includes a via in which a part of the ground wiring is exposed,
The method for manufacturing a wiring board with an electromagnetic wave shielding layer according to claim 7, wherein a part of the conductive layer is directly connected to the ground wiring through the via when the electromagnetic shielding sheet and the wiring board are bonded.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015111669A (en) * 2013-11-07 2015-06-18 東洋インキScホールディングス株式会社 Electromagnetic wave shield sheet and printed wiring board
JP2015126230A (en) * 2013-12-26 2015-07-06 インクテック カンパニー, リミテッドInktec Co., Ltd. Production method of electromagnetic wave shielding film and electromagnetic wave shielding film produced by that method methodformanufacturingelectromagneticinterferenceshieldingfilmandelectromagneticinterferenceshieldingfilmmanufacturedthereof
JP5975195B1 (en) * 2014-10-03 2016-08-23 Dic株式会社 SHIELD FILM, SHIELD PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR PRODUCING THEM
JP2017052251A (en) * 2015-09-11 2017-03-16 王子ホールディングス株式会社 Printing sheet, printing sheet with peeling layer, and decorative sheet
JP2017052252A (en) * 2015-09-11 2017-03-16 王子ホールディングス株式会社 Printing sheet, printing sheet with peeling layer, and decorative sheet
JP2019220620A (en) * 2018-06-21 2019-12-26 東洋インキScホールディングス株式会社 Electromagnetic wave shield sheet and printed wiring board
CN111065196A (en) * 2018-10-16 2020-04-24 信越聚合物株式会社 Electromagnetic wave shielding film and method for manufacturing same, and printed wiring board with electromagnetic wave shielding film and method for manufacturing same
KR20200144492A (en) 2019-06-18 2020-12-29 토요잉크Sc홀딩스주식회사 Electromagnetic shielding sheet, printed circuit board having electromagnetic shielding structure
KR20210015660A (en) 2019-08-01 2021-02-10 토요잉크Sc홀딩스주식회사 Electromagnetic wave shielding sheet and electromagnetic wave shielding circuit board
KR20210015661A (en) 2019-08-01 2021-02-10 토요잉크Sc홀딩스주식회사 Electromagnetic wave shielding sheet and electromagnetic wave shielding wiring circuit board
KR102245048B1 (en) * 2019-11-15 2021-04-28 (주)루미글로벌 Flexible electric wire for wearable el products and its manufacturing method
WO2023175469A1 (en) * 2022-03-17 2023-09-21 Ricoh Company, Ltd. Method of forming electromagnetic-wave shield, method of manufacturing structure, and structure

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6690773B1 (en) * 2019-12-18 2020-04-28 東洋インキScホールディングス株式会社 Electromagnetic wave shielding sheet, and electromagnetic wave shielding wiring circuit board

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04101316U (en) * 1991-02-20 1992-09-01 古河電気工業株式会社 Screened flat cable
JPH05235495A (en) * 1992-02-21 1993-09-10 Sumitomo Electric Ind Ltd Flexible printed wiring board with shield
JP2004095566A (en) * 2002-07-08 2004-03-25 Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd Shield film, shielded flexible printed wiring board, and their manufacturing methods
JP2004273577A (en) * 2003-03-06 2004-09-30 Sumitomo Electric Printed Circuit Inc Shield film and its manufacturing method
JP2009206188A (en) * 2008-02-26 2009-09-10 Panasonic Electric Works Co Ltd Flexible printed wiring board
JP2011114100A (en) * 2009-11-25 2011-06-09 Diatex Co Ltd Usage of thin body and method for adjusting characteristic impedance of wiring member

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05343820A (en) * 1992-06-04 1993-12-24 Toshiba Corp Circuit board for multichip module
JP4135122B2 (en) * 1998-04-15 2008-08-20 日立化成工業株式会社 Method for manufacturing electromagnetic shielding filter
JP5286740B2 (en) * 2007-10-19 2013-09-11 東洋インキScホールディングス株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet using the same, and flexible printed wiring board with reinforcing material

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04101316U (en) * 1991-02-20 1992-09-01 古河電気工業株式会社 Screened flat cable
JPH05235495A (en) * 1992-02-21 1993-09-10 Sumitomo Electric Ind Ltd Flexible printed wiring board with shield
JP2004095566A (en) * 2002-07-08 2004-03-25 Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd Shield film, shielded flexible printed wiring board, and their manufacturing methods
JP2004273577A (en) * 2003-03-06 2004-09-30 Sumitomo Electric Printed Circuit Inc Shield film and its manufacturing method
JP2009206188A (en) * 2008-02-26 2009-09-10 Panasonic Electric Works Co Ltd Flexible printed wiring board
JP2011114100A (en) * 2009-11-25 2011-06-09 Diatex Co Ltd Usage of thin body and method for adjusting characteristic impedance of wiring member

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015111669A (en) * 2013-11-07 2015-06-18 東洋インキScホールディングス株式会社 Electromagnetic wave shield sheet and printed wiring board
JP2017143275A (en) * 2013-12-26 2017-08-17 インクテック カンパニー, リミテッドInktec Co., Ltd. Production method of electromagnetic wave shielding film and electromagnetic wave shielding film produced by the method
JP2015126230A (en) * 2013-12-26 2015-07-06 インクテック カンパニー, リミテッドInktec Co., Ltd. Production method of electromagnetic wave shielding film and electromagnetic wave shielding film produced by that method methodformanufacturingelectromagneticinterferenceshieldingfilmandelectromagneticinterferenceshieldingfilmmanufacturedthereof
CN110177450A (en) * 2013-12-26 2019-08-27 Inktec株式会社 The manufacturing method of electromagnetic shielding film and the thus electromagnetic shielding film of method manufacture
JP5975195B1 (en) * 2014-10-03 2016-08-23 Dic株式会社 SHIELD FILM, SHIELD PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR PRODUCING THEM
JP2017052251A (en) * 2015-09-11 2017-03-16 王子ホールディングス株式会社 Printing sheet, printing sheet with peeling layer, and decorative sheet
JP2017052252A (en) * 2015-09-11 2017-03-16 王子ホールディングス株式会社 Printing sheet, printing sheet with peeling layer, and decorative sheet
JP2019220620A (en) * 2018-06-21 2019-12-26 東洋インキScホールディングス株式会社 Electromagnetic wave shield sheet and printed wiring board
CN111065196A (en) * 2018-10-16 2020-04-24 信越聚合物株式会社 Electromagnetic wave shielding film and method for manufacturing same, and printed wiring board with electromagnetic wave shielding film and method for manufacturing same
KR20200144492A (en) 2019-06-18 2020-12-29 토요잉크Sc홀딩스주식회사 Electromagnetic shielding sheet, printed circuit board having electromagnetic shielding structure
KR20200145812A (en) 2019-06-18 2020-12-30 토요잉크Sc홀딩스주식회사 Electromagnetic shielding sheet, printed circuit board having electromagnetic shielding structure
KR20210015660A (en) 2019-08-01 2021-02-10 토요잉크Sc홀딩스주식회사 Electromagnetic wave shielding sheet and electromagnetic wave shielding circuit board
KR20210015661A (en) 2019-08-01 2021-02-10 토요잉크Sc홀딩스주식회사 Electromagnetic wave shielding sheet and electromagnetic wave shielding wiring circuit board
KR102245048B1 (en) * 2019-11-15 2021-04-28 (주)루미글로벌 Flexible electric wire for wearable el products and its manufacturing method
WO2023175469A1 (en) * 2022-03-17 2023-09-21 Ricoh Company, Ltd. Method of forming electromagnetic-wave shield, method of manufacturing structure, and structure

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Publication number Publication date
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