KR102106431B1 - Conductive adhesive layer composition for electromagnetic wave shielding film and electromagnetic wave shielding film comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 명세서에는 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물로서, 고분자 수지; 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상; 및 금속 분말;을 포함하고, 상기 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 0.1 내지 10 중량부인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물이 개시된다.Herein, as the conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film, a polymer resin; At least one of a triazine-based compound and an imidazole-based compound; And a metal powder, wherein the content of at least one of the triazine-based compound and the imidazole-based compound is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin, and a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film is disclosed. .

Description

전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물 및 이를 포함하는 전자파 차폐 필름 {CONDUCTIVE ADHESIVE LAYER COMPOSITION FOR ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM COMPRISING THE SAME}Conductive adhesive layer composition for electromagnetic shielding film and electromagnetic shielding film containing the same {CONDUCTIVE ADHESIVE LAYER COMPOSITION FOR ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM AND ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM COMPRISING THE SAME}

본 명세서는 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물로서, 고분자 수지; 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상; 및 금속 분말;을 포함하고, 상기 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 0.1 내지 10 중량부인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물 및 이를 포함하는 전자파 차폐 필름에 관한 것이다.The present specification is a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film, a polymer resin; At least one of a triazine-based compound and an imidazole-based compound; And a metal powder, wherein the content of at least one of the triazine-based compound and the imidazole-based compound is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin, and the conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film includes the same It relates to an electromagnetic wave shielding film.

최근에는 기술의 발전에 따른 기판의 직접도가 상승하면서, 전도성이 우수한 도전성 접착제가 요구되고 있다. 특히, 최근에는 FPCB(FLEXIBLE PRINTED CIRCUITS BOARD)가 여러 분야에 사용되고 있는데, 점차 전자제품이 소형화 및 경량화가 되면서 개발된 전자부품으로 작업성이 뛰어나고, 내열성 및 내곡성, 내약품성이 강하며, 열에 강한 FPCB가 적합하다. Recently, as the directness of the substrate increases due to the development of technology, a conductive adhesive having excellent conductivity is required. In particular, recently, FPCB (FLEXIBLE PRINTED CIRCUITS BOARD) is used in various fields. As electronic products are gradually becoming smaller and lighter, they are developed electronic parts with excellent workability, strong heat resistance, bending resistance, chemical resistance, and strong heat resistance. FPCB is suitable.

구체적으로는 이러한 FPCB는 모든 전자제품의 핵심부품으로서 카메라, COMPUTER 및 주변기기, HAND PHONE, VIDEO & AUDIO기기, CAMCORDER. PRINTER, DVD, TFT LCD, 위성장비, 군사장비, 의료장비 등에서 널리 사용되고 있다. FPCB는 단독으로 3차원 배선이 가능하고, 기기의 소형화 및 경량화가 가능하다. 그리고, FPCB는 반복굴곡에의 높은 내구성을 가지며, 고밀도 배선이 가능하고, 배선의 오류가 없고 조립이 양호하며 신뢰성이 높다. 또한, FPCB는 연속생산 방식으로 제조가 가능한 장점을 가지고 있다.Specifically, these FPCBs are key parts of all electronic products, such as cameras, computer and peripheral devices, hand phones, video and audio devices, and CAMCORDER. It is widely used in PRINTER, DVD, TFT LCD, satellite equipment, military equipment, and medical equipment. FPCB is capable of 3D wiring alone, and it is possible to downsize and lighten the device. And, FPCB has high durability against repeated bending, high-density wiring is possible, there is no wiring error, assembly is good, and reliability is high. In addition, FPCB has the advantage that it can be manufactured in a continuous production method.

FPCB의 경우에는 플렉시블 프린트 배선 판(FPC) 등의 회로 기판 본체와 보강판과 같은 회로 부품 등을 전기적으로 상호 접속하기 위하여 이용하는 도전성 접착시트와 회로 기판 본체와 회로 부품 등이 전기적으로 상호 접속되어 있는 회로 기판에 사용되는 전도성 접착제를 필요로 한다. 이러한, 전도성 접착제는 기판의 홀 충전 등에 이용되는 것으로 열경화성수지에 도전성 입자를 포함하는 것이 일반적으로 사용되며, 상기 도전성 입자로는 금속분말 등이 사용된다. In the case of FPCB, a conductive adhesive sheet used to electrically connect circuit boards such as flexible printed wiring boards (FPCs) and circuit components such as reinforcement plates, circuit boards, and circuit components are electrically interconnected. There is a need for a conductive adhesive used in circuit boards. As such, the conductive adhesive is used to fill the holes of the substrate and the like, and it is generally used to include conductive particles in the thermosetting resin, and metal powder or the like is used as the conductive particles.

점점 기술의 발전에 따른 기판의 직접도가 상승하면서, 전도성이 우수한 전도성 접착제가 요구되고 있으나, 전도성을 발현하면서도, 금속과의 부착력이 우수한 접착제를 제조하는 것이 어렵다. 특히, 차폐 필름의 내열성 평가시 고온에 의하여 발생되는 전도성 접착제의 가스가 금속층으로 인해 절연층으로의 흐름이 차단되고, 이로 인해 접착력이 약한 금속층과 접착제층 사이로 분출되어 서로 박리되는 경우가 발생할 수 있다. 따라서, 전도성이 우수하면서도, 상기 박리가 발생하지 않도록 하는 전도성 접착제 개발이 필요하다. Increasingly, as the directness of the substrate increases with the development of technology, a conductive adhesive having excellent conductivity is required, but it is difficult to manufacture an adhesive having excellent adhesion with a metal while exhibiting conductivity. Particularly, when evaluating the heat resistance of the shielding film, the gas of the conductive adhesive generated by the high temperature may be blocked from flowing to the insulating layer due to the metal layer, and thereby, it may be ejected between the metal layer and the adhesive layer having weak adhesive strength and peeled off from each other. . Therefore, it is necessary to develop a conductive adhesive that is excellent in conductivity and prevents the peeling.

일본 등록 특허 제5525198호Japanese Registered Patent No. 5525198

본 발명은 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상을 특정함 함량으로 포함하여, 금속층과의 배위결합을 통하여 접착력을 향상시킨 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물을 제공하고자 한다. The present invention is to provide a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film containing one or more of a triazine-based compound and an imidazole-based compound in a specific content, and improving adhesion through coordination with a metal layer.

본 발명의 예시적인 구현예들에서는 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물로서, 고분자 수지; 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상; 및 금속 분말;을 포함하고, 상기 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 0.1 내지 10 중량부인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물을 제공한다.In exemplary embodiments of the present invention, a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film, comprising: a polymer resin; At least one of a triazine-based compound and an imidazole-based compound; And a metal powder, wherein the content of at least one of the triazine-based compound and the imidazole-based compound is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin, and provides a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film. .

본 발명의 또다른 예시적인 구현예들에서는 전술한 전도성 접착층 조성물을 포함하는 전도성 접착층; 금속을 포함하는 차폐층; 및 절연층;'을 포함하는 전자파 차폐 필름을 제공한다.In another exemplary embodiment of the present invention, a conductive adhesive layer comprising the aforementioned conductive adhesive layer composition; A shielding layer comprising a metal; And insulating layer; provides an electromagnetic shielding film comprising a.

본 발명의 예시적인 구현예들에 의하면, 상기 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물은 특정함 함량의 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물을 포함하여, 전자파 차폐 필름 내의 전도성 접착층과 맞닿은 차폐층(금속층)의 금속과 배위결합을 함으로써, 서로 박리가 발생되지 않게 한다. According to exemplary embodiments of the present invention, the conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film includes a specific amount of a triazine-based compound and an imidazole-based compound, and a shielding layer (metal layer) contacting the conductive adhesive layer in the electromagnetic wave shielding film. By coordination with the metal, peeling does not occur with each other.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 전자파 차폐 필름이다.1 is an electromagnetic wave shielding film according to an embodiment of the present invention.

본 명세서에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In the present specification, when a part “includes” a certain component, it means that the component may further include other components, not exclude other components, unless otherwise stated.

이하, 본 발명의 예시적인 구현예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명의 예시적인 구현예들에서는, 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물로서, 고분자 수지; 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상; 및 금속 분말;을 포함하고, 상기 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 0.1 내지 10 중량부인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물을 제공한다.In exemplary embodiments of the present invention, as a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film, a polymer resin; At least one of a triazine-based compound and an imidazole-based compound; And a metal powder, wherein the content of at least one of the triazine-based compound and the imidazole-based compound is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin, and provides a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film. .

본 발명의 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물은 금속과 전도성 접착제 간의 부착력을 향상시키기 위하여, 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상을 첨가하여, 금속층의 금속과 배위결합을 유도한다. 보다 구체적으로, 일반적인 전자파 차폐 필름의 내열성 평가시 고온에 의해 발생하는 전도성 접착제의 가스가 금속층으로 인해 절연층으로의 흐름이 차단된다. 이로 인해 접착력이 약한 금속층과 접착제층 사이로 상기 가스가 분출되어 박리가 발생되는 경우가 많다. 본 발명의 경우, 상기 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상과 금속간의 배위결합을 통해 전도성 접착제 조성물과 금속 간 접착력을 향상시켜 금속층과 전도성 접착제층 사이에 박리가 발생되지 않게 하였다.In order to improve the adhesion between the metal and the conductive adhesive, the conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film of the present invention adds one or more of a triazine-based compound and an imidazole-based compound to induce coordination bonding with a metal of the metal layer. More specifically, when evaluating the heat resistance of a general electromagnetic wave shielding film, the gas of the conductive adhesive generated by the high temperature is blocked from flowing to the insulating layer due to the metal layer. Due to this, the gas is often ejected between the weakly adhesive metal layer and the adhesive layer to cause peeling. In the case of the present invention, the adhesion between the conductive adhesive composition and the metal was improved through coordination bonding between at least one of the triazine-based compound and the imidazole-based compound and the metal so that peeling did not occur between the metal layer and the conductive adhesive layer.

예시적인 구현예에서, 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물의 화학식은 하기와 같을 수 있고, 구체적으로 상기 트리아진계 화합물은 Shikoku chemical 사의 VD-5 제품일 수 있고, 상기 이미다졸계 화합물은 Shikoku chemical 사의 2MUSIZ 제품일 수 있다.In an exemplary embodiment, the chemical formula of the triazine-based compound and the imidazole-based compound may be as follows, specifically, the triazine-based compound may be a product of Shikoku Chemical's VD-5, and the imidazole-based compound of Shikoku Chemical It can be a 2MUSIZ product.

Figure 112018080414044-pat00001
Figure 112018080414044-pat00001

[트리아진계 화합물] [이미다졸계 화합물][Triazine-based compound] [Imidazole-based compound]

상기 고분자 수지로는 접착력과 내열성이 우수한 수지라면 종류는 무방하며, 전도성 발현을 위한 금속 분말로는 전기 전도도가 우수한 금속이라면 어떤 것이든 사용이 가능하고, 예컨대, 폴리에스테르계 수지로서 Toyobo VYLON 시리즈 중 1 이상일 수 있다.As the polymer resin, any kind of resin may be used as long as it is a resin having excellent adhesion and heat resistance, and any metal that has excellent electrical conductivity can be used as a metal powder for expressing conductivity. For example, as a polyester resin, among the Toyobo VYLON series It may be 1 or more.

상기 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 0.1 내지 10 중량부일 수 있고, 예컨대, 0.5 내지 9, 1 내지 8, 2 내지 7, 또는 3 내지 6일 수 있다. 상기 함량이 0.1 중량부 미만인 경우 접착력이 미미할 수 있고, 10 중량부 초과인 경우 접착력이 수렴하며 전체 혼합비에서 금속 분말이 줄어들어, 전기 전도도가 저하될 수 있다. The content of at least one of the triazine-based compound and the imidazole-based compound may be 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin, for example, 0.5 to 9, 1 to 8, 2 to 7, or 3 to 6 have. If the content is less than 0.1 parts by weight, the adhesive strength may be insignificant, and if it is more than 10 parts by weight, the adhesive force converges and the metal powder is reduced in the total mixing ratio, so that electrical conductivity may be reduced.

예시적인 구현예에서, 상기 금속 분말의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기분으로 20 내지 40 중량부일 수 있고, 예컨대, 22 내지 38, 24 내지 36, 또는 26 내지 34일 수 있다. 상기 함량이 20 중량부 미만인 경우 전기전도도가 저하될 수 있고, 40 중량부 초과인 경우 상대적으로 고분자 수지 함량이 줄어들어 접착력이 저하될 수 있다.In an exemplary embodiment, the content of the metal powder may be 20 to 40 parts by weight of the polymer resin 100 parts by weight, for example, 22 to 38, 24 to 36, or 26 to 34 parts. If the content is less than 20 parts by weight, the electrical conductivity may be lowered, and if it is more than 40 parts by weight, the polymer resin content may be relatively reduced and the adhesive strength may be reduced.

본 발명의 예시적인 구현예들에서는, 전술한 전도성 접착층 조성물을 포함하는 전도성 접착층; 금속을 포함하는 차폐층; 및 절연층;을 포함하는 전자파 차폐 필름을 제공한다. In exemplary embodiments of the present invention, a conductive adhesive layer comprising the aforementioned conductive adhesive layer composition; A shielding layer comprising a metal; And insulating layer; provides an electromagnetic shielding film comprising a.

첨부된 도 1은 본 발명의 예시적인 형태에 따른 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물의 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film according to an exemplary form of the present invention.

도 1을 참조하여 설명하면, 본 발명에 따른 전자파 차폐 필름은 전도성 접착층 조성물을 포함하는 전도성 접착층(10), 금속을 포함하는 차폐층(20) 및 절연층(30)을 포함하고, 상기 차폐층은 금속층(21) 및 전처리층(22)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, the electromagnetic wave shielding film according to the present invention includes a conductive adhesive layer 10 including a conductive adhesive layer composition, a shielding layer 20 including a metal, and an insulating layer 30, and the shielding layer A silver metal layer 21 and a pretreatment layer 22 may be included.

예시적인 구현예에서, 상기 전자파 차폐 필름은 연성인쇄회로기판(FPCB)용일 수 있고, 고속 전송용일 수 있다. 보다 구체적으로 상기 전자파 차폐 필름은 전기전자 부품 및 무선통신용 안테나에 적용될 수 있다. In an exemplary embodiment, the electromagnetic wave shielding film may be for a flexible printed circuit board (FPCB), or may be for high-speed transmission. More specifically, the electromagnetic wave shielding film may be applied to electric and electronic components and antennas for wireless communication.

본 발명의 전자파 차폐 필름은 80dB(@1.5GHz) 이상의 차폐율을 나타내기 위해 전자파 차폐층에 금속을 포함하고, 상기 금속과 전도성 접착제 간의 약한 부착력을 해결하기 위해 전도성 접착제에 트리아진 화합물 또는 이미다졸계 화합물을 첨가하여 금속과의 배위결합을 유도하여 부착력을 향상시켰다. The electromagnetic wave shielding film of the present invention includes a metal in the electromagnetic wave shielding layer to exhibit a shielding rate of 80 dB (@ 1.5 GHz) or higher, and a triazine compound or imida in the conductive adhesive to solve the weak adhesion between the metal and the conductive adhesive The adhesion was improved by inducing a coordination bond with the metal by adding a sol-based compound.

예시적인 구현예에서, 상기 차폐층에는 전자파 차단 특성이 있는 금속이라면 제한되지 않고 사용할 수 있으며, 바람직하게는 구리(Cu)일 수 있다. 상기 금속층을 형성하는 방식은 도금, 증착, 금속호일 등 만족하는 두께를 제조할 수 있다면 이에 제한되지 않는다. 상기 차폐층의 두께는 2 내지 4㎛일 수 있다. 상기 두께가 2um 미만일 경우 80dB(@1.5GHz) 이상의 차폐율이 구현이 어렵고, 4um 초과일 경우 유연성이 떨어져 작업성이 좋지 않다.In an exemplary embodiment, the shielding layer may be used as long as it is a metal having electromagnetic wave shielding properties, and may be copper (Cu). The method of forming the metal layer is not limited to this, as long as it can produce a satisfactory thickness such as plating, vapor deposition, and metal foil. The thickness of the shielding layer may be 2 to 4㎛. When the thickness is less than 2um, shielding rate of 80dB (@ 1.5GHz) or more is difficult to implement, and when it is more than 4um, the flexibility is poor and workability is poor.

예시적인 구현예에서, 상기 절연층은 PI 필름 또는 PI 바니시(PI Varnish) 모두 사용 가능하며, 절연특성 및 내열성이 확보되는 경우라면 어떤 것을 사용해도 무방하다. 상기 절연층의 두께는 10 내지 15㎛일 수 있고, 상기 두께가 5um 초과인 경우 절연 특성 및 단차 추종성이 저하될 수 있고, 15um 초과인 경우 충진성이 저하될 수 있다.In an exemplary embodiment, the insulating layer may be a PI film or a PI varnish, and any insulating material and heat resistance may be used. The thickness of the insulating layer may be 10 to 15㎛, when the thickness is more than 5um, the insulating properties and step followability may be lowered, and when it is more than 15um, the filling property may be lowered.

예시적인 구현예에서, 상기 전도성 접착층 조성물에 포함된 트리아진계 화합물 또는 이미다졸계 화합물은 차폐층에 포함된 금속과 배위결합할 수 있다. 전술한 바와 같이, 상기 전도성 접착층 조성물 내의 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상과 차폐층에 포함된 금속 간의 배위결합을 통해 전도성 접착제 조성물과 금속 간 접착력을 향상시켜 금속층과 전도성 접착제층 사이에 박리가 발생되지 않게 하였다.In an exemplary embodiment, the triazine-based compound or the imidazole-based compound included in the conductive adhesive layer composition may coordinate with the metal contained in the shielding layer. As described above, through coordination bonding between at least one of the triazine-based compound and the imidazole-based compound in the conductive adhesive layer composition and the metal contained in the shielding layer, the adhesion between the conductive adhesive composition and the metal is improved to improve the adhesion between the metal layer and the conductive adhesive layer. No peeling occurred.

또한, 상기 전도성 접착층 조성물에 포함된 트리아진계 화합물 또는 이미다졸계 화합물은 차폐층에 포함된 금속 뿐만 아니라 차폐필름이 부착되는 FPCB 표면에 노출된 동박 적층판(CCL)의 구리와도 배위결합하여 부착력이 증가될 수 있다. 따라서, 상기 전도성 접착층에 포함된 화합물은 양쪽 금속층에 모두 작용할 수 있다. In addition, the triazine-based compound or imidazole-based compound included in the conductive adhesive layer composition coordinates with the copper contained in the copper foil laminate (CCL) exposed on the FPCB surface to which the shielding film is attached, as well as the metal contained in the shielding layer. Can be increased. Therefore, the compound included in the conductive adhesive layer can act on both metal layers.

예시적인 구현예에서, 상기 차폐층은 금속층 및 전처리층을 포함할 수 있고, 상기 전처리층은 Ni/Cr로 전처리된 것일 수 있다. 상기 전처리로 인해 절연층과 금속층 사이의 부착력을 향상시킬 수 있다. In an exemplary embodiment, the shielding layer may include a metal layer and a pretreatment layer, and the pretreatment layer may be pretreated with Ni / Cr. Due to the pre-treatment, adhesion between the insulating layer and the metal layer can be improved.

실시예Example

전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물 제조Preparation of conductive adhesive layer composition for electromagnetic wave shielding film

하기 표 1의 조성으로, 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물을 제조하였다. 구체적으로, 전도성 접착층은 폴리에스테르 수지 100 중량부(Toyobo VYLON series), 구리분말 30 중량부, 트리아진계 화합물(VD-5/Shikoku chemical) 0.05~15(표 1의 화합물 함량) 중량부 비율로 혼합 후, 교반기(Agitator mixer)를 사용하여 1000 RPM, 1시간 이상 교반을 진행한다. 교반 후 10분간 감압 탈포(Degassing)를 진행하여 접착층 조성물을 제조한다. With the composition of Table 1, a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film was prepared. Specifically, the conductive adhesive layer is mixed at a weight ratio of 100 parts by weight of polyester resin (Toyobo VYLON series), 30 parts by weight of copper powder, and triazine-based compound (VD-5 / Shikoku chemical) 0.05 to 15 (compound content in Table 1) After that, the agitator (Agitator mixer) was used to perform stirring at least 1000 RPM for 1 hour. After stirring, degassing was performed under reduced pressure for 10 minutes to prepare an adhesive layer composition.

트리아진계 화합물
(중량부)
Triazine-based compound
(Parts by weight)
고분자 수지(폴리에스테르 수지)
(중량부)
Polymer resin (polyester resin)
(Parts by weight)
금속 분말
(중량부)
Metal powder
(Parts by weight)
실시예 1Example 1 0.10.1 100100 3030 실시예 2Example 2 1One 100100 3030 실시예 3Example 3 55 100100 3030 실시예 4Example 4 1010 100100 3030 비교예 1Comparative Example 1 00 100100 3030 비교예 2Comparative Example 2 0.050.05 100100 3030 비교예 3Comparative Example 3 1111 100100 3030 비교예 4Comparative Example 4 1515 100100 3030

전자파 차폐용 필름 제조Electromagnetic shielding film production

절연층으로 12.5um PI Film을 사용하였고, PI Film에 Ni/Cr을 증착하여 전처리층을 형성하고, 차폐층인 Cu 도금을 2-3um 진행하였다. A 12.5um PI film was used as the insulating layer, and Ni / Cr was deposited on the PI film to form a pretreatment layer, and Cu plating, a shielding layer, was performed 2-3um.

상기 방법에 따라 제조된 필름을 코팅용 필름으로 하여, 폴리에스테르 수지/구리 분말/트리아진 또는 이미다졸 화합물이 혼합된 코팅액을 Comma 코팅을 진행하고 건조하여 전도성 접착층을 형성하였다.Using the film prepared according to the above method as a coating film, a coating solution in which a polyester resin / copper powder / triazine or imidazole compound was mixed was subjected to comma coating and dried to form a conductive adhesive layer.

전자파 차폐용 필름 성능 평가Evaluation of film performance for electromagnetic shielding

상기 실시예에서 제조된 전자파 차폐용 필름에 대하여, 하기와 같이 납조테스트 및 전기저항 값을 측정하여 판정 여부(납조 10s 이상, 저항 0.0 이하)를 나타내었다. 구체적으로, 제조된 차폐 필름을 시험용 쿠폰에 핫 프레스(Hot Press) (155℃, 45kg/cm2, 80min)로 부착하여 평가용 시료를 제작하였다. 프레스된 시료는 전기저항 테스터기를 사용하여 시험용 쿠폰의 노출된 구리면에 전기저항 수치를 측정하였다. 이후 평가용 시료를 288℃ 로 세팅된 납조(Solder bath)에 플로팅(Floating, 시편을 띄우는 방식)하여, 차폐 필름이 부풀거나 탈락되는 시간을 확인하면서, 차폐 필름의 외관변화를 관찰하였다.With respect to the electromagnetic wave shielding film produced in the above example, it was determined whether or not it was determined by measuring a lead test and an electric resistance value (lead 10s or more and resistance 0.0 or less) as follows. Specifically, the prepared shielding film was attached to a test coupon using a hot press (155 ° C, 45 kg / cm 2 , 80 min) to prepare a sample for evaluation. The pressed sample was measured for electrical resistance on the exposed copper surface of the test coupon using an electrical resistance tester. Subsequently, the sample for evaluation was floated in a solder bath set at 288 ° C (floating), and the change in appearance of the shielding film was observed while confirming the time for the shielding film to swell or fall off.

트리아진계 화합물
(중량부
Triazine-based compound
(Parts by weight
납조테스트
(sec)
(288℃)
Lead test
(sec)
(288 ℃)
전기 저항(Ω)Electrical resistance 판정
(납조 10s이상/
저항 0.0이하)
Judgment
(More than 10 s
Resistance 0.0 or less)
실시예 1Example 1 0.10.1 2525 0.00.0 합격pass 실시예 2Example 2 1One 4040 0.00.0 합격pass 실시예 3Example 3 55 4141 0.00.0 합격pass 실시예 4Example 4 1010 4242 0.00.0 합격pass 비교예 1Comparative Example 1 00 77 0.00.0 불합격fail 비교예 2Comparative Example 2 0.050.05 88 0.00.0 불합격fail 비교예 3Comparative Example 3 1111 4141 0.10.1 불합격fail 비교예 4Comparative Example 4 1515 4040 0.20.2 불합격fail

상기 표를 참조하면, 트리아진계 화합물을 0.1 내지 10 중량부 이내로 포함한 전도성 접착제 조성물을 이용하여 제조된 전자파 차폐 필름은 납조테스트 및 전기 저항 측정에서 모두 합격점을 받았으나, 이를 아예 포함하지 않거나 상기 범위 외의 함량으로 포함한 비교예 1 내지 4의 경우 납조테스트 결과가 좋지 않거나, 전기 저항이 0.0 초과로 불합격점을 받았다. Referring to the above table, the electromagnetic wave shielding film prepared by using the conductive adhesive composition containing the triazine-based compound within 0.1 to 10 parts by weight received both passing points in the lead bath test and electrical resistance measurement, but does not include it at all or the content outside the above range In the case of Comparative Examples 1 to 4, including, the lead test result was not good, or the electrical resistance exceeded 0.0, and thus failed.

10: 전도성 접착층
20: 차폐층
30: 절연층
21: 금속층
22: 전처리층
100: 전자파 차폐 필름
10: conductive adhesive layer
20: shielding layer
30: insulating layer
21: metal layer
22: pretreatment layer
100: electromagnetic wave shielding film

Claims (9)

전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물로서,
고분자 수지;
트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상; 및
금속 분말;을 포함하고,
상기 트리아진계 화합물 및 이미다졸계 화합물 중 하나 이상의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 0.1 내지 10 중량부이며,
상기 금속 분말의 함량은 상기 고분자 수지 100 중량부를 기준으로 20 내지 40 중량부인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름용 전도성 접착층 조성물.
As a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film,
Polymer resins;
At least one of a triazine-based compound and an imidazole-based compound; And
Metal powder; containing,
The content of at least one of the triazine-based compound and the imidazole-based compound is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin,
The content of the metal powder is characterized in that 20 to 40 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer resin, a conductive adhesive layer composition for an electromagnetic wave shielding film.
삭제delete 제1항에 따른 전도성 접착층 조성물을 포함하는 전도성 접착층;
금속을 포함하는 차폐층; 및
절연층;을 포함하는 전자파 차폐 필름.
A conductive adhesive layer comprising the conductive adhesive layer composition according to claim 1;
A shielding layer comprising a metal; And
Insulation layer; containing electromagnetic shielding film.
제3항에 있어서,
상기 전자파 차폐 필름은 연성인쇄회로기판(FPCB)용인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름.
According to claim 3,
The electromagnetic wave shielding film, characterized in that for the flexible printed circuit board (FPCB), electromagnetic wave shielding film.
제3항에 있어서,
상기 전자파 차폐 필름은 고속 전송용인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름.
According to claim 3,
The electromagnetic wave shielding film, characterized in that for high-speed transmission, electromagnetic wave shielding film.
제3항에 있어서,
상기 차폐층의 두께는 2 내지 4㎛인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름.
According to claim 3,
The thickness of the shielding layer is characterized in that 2 to 4㎛, electromagnetic wave shielding film.
제3항에 있어서,
상기 절연층의 두께는 10 내지 15㎛인 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름.
According to claim 3,
The thickness of the insulating layer is characterized in that 10 to 15㎛, electromagnetic wave shielding film.
제3항에 있어서,
상기 전도성 접착층 조성물에 포함된 트리아진계 화합물 또는 이미다졸계 화합물은 차폐층에 포함된 금속과 배위결합하는 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름.
According to claim 3,
Triazine-based compound or imidazole-based compound included in the conductive adhesive layer composition is characterized in that it coordinates with the metal contained in the shielding layer, electromagnetic wave shielding film.
제3항에 있어서,
상기 차폐층은 Ni/Cr로 전처리된 것을 특징으로 하는, 전자파 차폐 필름.
According to claim 3,
The shielding layer is characterized in that the pre-treatment with Ni / Cr, electromagnetic shielding film.
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