JP2024003431A - Multilayer transmission line plate and semiconductor package - Google Patents

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Etsuo Mizushima
譲 小林
Yuzuru Kobayashi
稔 垣谷
Minoru Kakiya
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Abstract

To provide a multilayer transmission line plate in which transmission loss is suppressed, and a semiconductor package having the multilayer transmission line plate.SOLUTION: There are provided a multilayer transmission line plate which includes a pair of ground layers, an insulation layer having the pair of ground layers on both surfaces, and a signal line provided in the insulation layer, wherein the isolation layer includes a first resin layer, a first composite layer, a second resin layer, a third resin layer, a second composite layer, and a fourth resin layer in this order, the first composite layer and the second composite layer are layers containing a fiber base material and a cured product of a resin composition, the first resin layer, the second resin layer, the third resin layer and the fourth resin layer are layers composed of a cured product of a resin composition containing no fiber base material, the signal line is formed on a surface on the third resin layer side of the second resin layer, the signal line is buried in the third resin layer layered on the second resin layer, and a relative dielectric constant at 10 GHz of the cured product of the resin composition constituting each of the layers has a specific relation; and a semiconductor package having the multilayer transmission line plate.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本実施形態は、多層伝送線路板及び半導体パッケージに関する。 This embodiment relates to a multilayer transmission line board and a semiconductor package.

携帯電話に代表される移動体通信機器、その基地局装置、サーバー、ルーター等のネットワークインフラ機器、大型コンピューターなどの電子機器では、使用する信号の高速化及び大容量化が年々進んでいる。また、上述した電子機器の他に、自動車、交通システム関連等のITS分野及び室内の近距離通信分野でも、高周波無線信号を扱う新規システムの実用化又は実用計画が進んでいる。これに伴い、これらの電子機器に用いられる多層伝送線路板には、高周波信号の伝送損失を低減することが求められている。 BACKGROUND ART The speed and capacity of signals used in mobile communication devices such as mobile phones, network infrastructure devices such as base station devices, servers and routers, and electronic devices such as large computers are increasing year by year. In addition to the above-mentioned electronic devices, new systems that handle high-frequency radio signals are being put into practical use or are being planned to be put into practical use in the field of ITS related to automobiles and transportation systems, and in the field of indoor short-range communication. Accordingly, multilayer transmission line boards used in these electronic devices are required to reduce transmission loss of high frequency signals.

伝送損失を低減する方法として、例えば、信号線の表面粗さを小さくする方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、伝送損失を低減する方法として、基板材料の誘電正接を小さくする方法が検討されている。
As a method of reducing transmission loss, for example, a method of reducing the surface roughness of a signal line has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
Further, as a method of reducing transmission loss, a method of reducing the dielectric loss tangent of the substrate material is being considered.

特開2004-064034号公報Japanese Patent Application Publication No. 2004-064034

しかしながら、上述の通り、近年における伝送損失の低減に対する要求は一層高まりつつあり、上述の方法のみによっては十分に対応することが困難になっている。 However, as mentioned above, the demand for reducing transmission loss has been increasing in recent years, and it has become difficult to sufficiently meet the demand using only the above-mentioned methods.

本実施形態は、このような現状に鑑み、伝送損失が抑制された多層伝送線路板、及び該多層伝送線路板を有する半導体パッケージを提供することを課題とする。 In view of the current situation, the present embodiment aims to provide a multilayer transmission line board with suppressed transmission loss, and a semiconductor package including the multilayer transmission line board.

本発明者等は上記の課題を解決すべく検討を進めた結果、下記の本実施形態により課題を解決できることを見出した。
すなわち、本実施形態は、下記[1]~[8]に関する。
[1]一対のグランド層と、
前記一対のグランド層を両面に有する絶縁層と、
前記絶縁層内に設けられた信号線と、を備え、
前記絶縁層が、第一の樹脂層と、第一の複合層と、第二の樹脂層と、第三の樹脂層と、第二の複合層と、第四の樹脂層と、をこの順で含み、
前記第一の複合層及び前記第二の複合層は、繊維基材及び樹脂組成物の硬化物を含有する層であり、
前記第一の樹脂層、前記第二の樹脂層、前記第三の樹脂層及び前記第四の樹脂層は、繊維基材を含有しない樹脂組成物の硬化物から構成される層であり、
前記信号線は、前記第二の樹脂層の前記第三の樹脂層側の面上に形成され、かつ該信号線は、前記第二の樹脂層に積層された前記第三の樹脂層に埋め込まれており、
前記第一の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R1)及び前記第二の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R2)が、いずれも、前記第一の複合層に含有される樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(C1)より低く、
前記第三の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R3)及び前記第四の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R4)が、いずれも、前記第二の複合層に含有される樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(C2)より低い、多層伝送線路板。
[2]前記比誘電率(C1)と前記比誘電率(R1)との差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R1)〕、前記比誘電率(C1)と前記比誘電率(R2)との差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R2)〕、前記比誘電率(C2)と前記比誘電率(R3)との差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R3)〕、及び前記比誘電率(C2)と前記比誘電率(R4)との差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R4)〕が、いずれも、0.03以上である、上記[1]に記載の多層伝送線路板。
[3]前記比誘電率(R1)、前記比誘電率(R2)、前記比誘電率(R3)及び前記比誘電率(R4)が、いずれも、3.6以下である、上記[1]又は[2]に記載の多層伝送線路板。
[4]前記繊維基材が、ガラスクロスである、上記[1]~[3]のいずれかに記載の多層伝送線路板。
[5]前記第一の複合層の厚さ及び前記第二の複合層の厚さが、いずれも、30~240μmである、上記[1]~[4]のいずれかに記載の多層伝送線路板。
[6]前記第一の樹脂層の厚さ、前記第二の樹脂層の厚さ、前記第三の樹脂層の厚さ及び前記第四の樹脂層の厚さが、いずれも、10~80μmである、上記[1]~[5]のいずれかに記載の多層伝送線路板。
[7]前記信号線が、差動配線である、上記[1]~[6]のいずれかに記載の多層伝送線路板。
[8]上記[1]~[7]のいずれかに記載の多層伝送線路板と、半導体素子と、を有する半導体パッケージ。
The present inventors conducted studies to solve the above problems, and as a result, they found that the problems could be solved by the present embodiment described below.
That is, the present embodiment relates to the following [1] to [8].
[1] A pair of ground layers,
an insulating layer having the pair of ground layers on both sides;
A signal line provided in the insulating layer,
The insulating layer includes a first resin layer, a first composite layer, a second resin layer, a third resin layer, a second composite layer, and a fourth resin layer in this order. Including,
The first composite layer and the second composite layer are layers containing a fiber base material and a cured product of the resin composition,
The first resin layer, the second resin layer, the third resin layer, and the fourth resin layer are layers composed of a cured product of a resin composition that does not contain a fiber base material,
The signal line is formed on a surface of the second resin layer on the third resin layer side, and the signal line is embedded in the third resin layer laminated on the second resin layer. It is
The relative permittivity (R1) at 10 GHz of the cured product of the resin composition constituting the first resin layer and the relative permittivity (R2) at 10 GHz of the cured product of the resin composition constituting the second resin layer are , both of which are lower than the dielectric constant (C1) at 10 GHz of the cured product of the resin composition contained in the first composite layer,
The relative permittivity (R3) at 10 GHz of the cured resin composition constituting the third resin layer and the relative permittivity (R4) at 10 GHz of the cured resin composition constituting the fourth resin layer are , a multilayer transmission line board having a relative dielectric constant (C2) at 10 GHz of a cured product of the resin composition contained in the second composite layer.
[2] The difference between the relative permittivity (C1) and the relative permittivity (R1) [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R1)], the relative permittivity (C1) and the relative permittivity ( R2) [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R2)], the difference between the relative permittivity (C2) and the relative permittivity (R3) [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R3)] and the difference between the relative permittivity (C2) and the relative permittivity (R4) [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R4)] are both 0.03 or more. , the multilayer transmission line board according to [1] above.
[3] The above [1], wherein the relative permittivity (R1), the relative permittivity (R2), the relative permittivity (R3), and the relative permittivity (R4) are all 3.6 or less. Or the multilayer transmission line board according to [2].
[4] The multilayer transmission line board according to any one of [1] to [3] above, wherein the fiber base material is glass cloth.
[5] The multilayer transmission line according to any one of [1] to [4] above, wherein the thickness of the first composite layer and the thickness of the second composite layer are both 30 to 240 μm. Board.
[6] The thickness of the first resin layer, the second resin layer, the third resin layer, and the fourth resin layer are all 10 to 80 μm. The multilayer transmission line board according to any one of [1] to [5] above.
[7] The multilayer transmission line board according to any one of [1] to [6] above, wherein the signal line is a differential wiring.
[8] A semiconductor package comprising the multilayer transmission line board according to any one of [1] to [7] above and a semiconductor element.

本実施形態によれば、伝送損失が抑制された多層伝送線路板、及び該多層伝送線路板を有する半導体パッケージを提供することができる。 According to this embodiment, it is possible to provide a multilayer transmission line board with suppressed transmission loss and a semiconductor package including the multilayer transmission line board.

本実施形態の多層伝送線路板の一例を示す模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a multilayer transmission line board according to the present embodiment. 本実施形態の多層伝送線路板の別の例を示す模式的断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing another example of the multilayer transmission line board of the present embodiment. 比較例1及び2で作製された多層伝送線路板の模式的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of multilayer transmission line boards manufactured in Comparative Examples 1 and 2. 比較例3で作製された多層伝送線路板の模式的断面図である。3 is a schematic cross-sectional view of a multilayer transmission line board manufactured in Comparative Example 3. FIG. 比較例4で作製された多層伝送線路板の模式的断面図である。3 is a schematic cross-sectional view of a multilayer transmission line board manufactured in Comparative Example 4. FIG. 比較例5で作製された多層伝送線路板の模式的断面図である。3 is a schematic cross-sectional view of a multilayer transmission line board manufactured in Comparative Example 5. FIG.

本明細書において、「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
例えば、数値範囲「X~Y」(X、Yは実数)という表記は、X以上、Y以下である数値範囲を意味する。そして、本明細書における「X以上」という記載は、X及びXを超える数値を意味する。また、本明細書における「Y以下」という記載は、Y及びY未満の数値を意味する。
本明細書中に記載されている数値範囲の下限値及び上限値は、それぞれ他の数値範囲の下限値又は上限値と任意に組み合わせられる。
本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の下限値又は上限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
In this specification, a numerical range indicated using "~" indicates a range that includes the numerical values written before and after "~" as the minimum and maximum values, respectively.
For example, the notation of a numerical range "X to Y" (X and Y are real numbers) means a numerical range that is greater than or equal to X and less than or equal to Y. In this specification, the expression "X or more" means X and a numerical value exceeding X. Moreover, the description "Y or less" in this specification means Y and a numerical value less than Y.
The lower and upper limits of the numerical ranges described herein can be arbitrarily combined with the lower and upper limits of other numerical ranges, respectively.
In the numerical ranges described in this specification, the lower limit or upper limit of the numerical range may be replaced with the values shown in the examples.

本明細書に例示する各成分及び材料は、特に断らない限り、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
本明細書において、樹脂組成物中の各成分の含有量は、樹脂組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、樹脂組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「樹脂組成物」とは、後述する各成分の混合物、当該混合物を半硬化させた物を含む。
Each component and material illustrated in this specification may be used alone or in combination of two or more, unless otherwise specified.
In the present specification, the content of each component in the resin composition refers to the content of each component in the resin composition, unless otherwise specified. means the total amount of
In this specification, the term "resin composition" includes a mixture of each component described below and a semi-cured product of the mixture.

本明細書において、「固形分」とは、溶剤以外の成分を意味し、室温で液状、水飴状及びワックス状のものも含む。ここで、本明細書において室温とは25℃を示す。 In this specification, "solid content" means components other than the solvent, and includes those that are liquid, starch syrup-like, and wax-like at room temperature. Here, in this specification, room temperature refers to 25°C.

本明細書に記載されている作用機序は推測であって、本実施形態に係る樹脂組成物の効果を奏する機序を限定するものではない。
本明細書における記載事項を任意に組み合わせた態様も本実施形態に含まれる。
The mechanism of action described in this specification is speculation, and does not limit the mechanism by which the resin composition according to this embodiment exerts its effects.
This embodiment also includes aspects in which the items described in this specification are arbitrarily combined.

[多層伝送線路板]
図1は、本実施形態の多層伝送線路板の一例を示す模式的断面図である。
図1に示すように、多層伝送線路板10は、一対のグランド層11、12と、
一対のグランド層11、12を両面に有する絶縁層13と、
絶縁層13内に設けられた信号線14と、を備える。
[Multilayer transmission line board]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a multilayer transmission line board according to this embodiment.
As shown in FIG. 1, the multilayer transmission line board 10 includes a pair of ground layers 11 and 12,
an insulating layer 13 having a pair of ground layers 11 and 12 on both sides;
A signal line 14 provided within the insulating layer 13.

<グランド層>
グランド層11、12は、絶縁層13の両面に設けられる層である。
グランド層11、12としては、例えば、金属箔から構成される層が挙げられる。
金属箔としては、例えば、銅箔、ニッケル箔、アルミ箔等が挙げられる。これらの中でも、取り扱い性及びコストの観点から、銅箔が好ましい。
金属箔は、防錆性、耐薬品性及び耐熱性の観点から、例えば、ニッケル、錫、亜鉛、クロム、モリブデン、コバルト等によるバリアー層を有していてもよい。
また、金属箔は、絶縁層との接着性を向上させる観点から、例えば、表面粗化処理、シランカップリング剤等による表面処理が施されていてもよい。
<Ground layer>
The ground layers 11 and 12 are layers provided on both sides of the insulating layer 13.
Examples of the ground layers 11 and 12 include layers made of metal foil.
Examples of the metal foil include copper foil, nickel foil, aluminum foil, and the like. Among these, copper foil is preferred from the viewpoint of ease of handling and cost.
The metal foil may have a barrier layer made of, for example, nickel, tin, zinc, chromium, molybdenum, cobalt, etc. from the viewpoint of rust prevention, chemical resistance, and heat resistance.
Further, the metal foil may be subjected to, for example, surface roughening treatment, surface treatment with a silane coupling agent, etc., from the viewpoint of improving adhesiveness with the insulating layer.

金属箔は、市販品の金属箔であってもよい。市販品の金属箔としては、例えば、銅箔である「F2-WS」(古河電気工業株式会社製、商品名、粗化面表面粗さRz=2.0μm)、「FV-WS」(古河電気工業株式会社製、商品名、粗化面表面粗さRz=1.5μm)、「3EC-VLP」(三井金属鉱業株式会社製、商品名、粗化面表面粗さRz=3.0μm)等が挙げられる。 The metal foil may be a commercially available metal foil. Commercially available metal foils include, for example, copper foil "F2-WS" (manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd., trade name, roughened surface roughness Rz = 2.0 μm), "FV-WS" (manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd., product name, roughened surface roughness Rz = 2.0 μm), Denki Kogyo Co., Ltd., product name, roughened surface roughness Rz = 1.5 μm), "3EC-VLP" (Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd., product name, roughened surface roughness Rz = 3.0 μm) etc.

グランド層11、12は、1種の金属材料からなる単層構造であってもよく、複数の金属材料からなる単層構造であってもよい。また、グランド層11、12は、異なる材質の金属層を複数積層した積層構造であってもよい。 The ground layers 11 and 12 may have a single-layer structure made of one kind of metal material, or may have a single-layer structure made of a plurality of metal materials. Further, the ground layers 11 and 12 may have a laminated structure in which a plurality of metal layers made of different materials are laminated.

グランド層11、12の厚さは、特に限定されず、求める性能等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、10~50μmである。 The thickness of the ground layers 11 and 12 is not particularly limited, and may be determined as appropriate depending on the desired performance, and is, for example, 10 to 50 μm.

<絶縁層>
絶縁層13は、第一の樹脂層13R(1)と、第一の複合層13C(1)と、第二の樹脂層13R(2)と、第三の樹脂層13R(3)と、第二の複合層13C(2)と、第四の樹脂層13R(4)と、をこの順で含む。
<Insulating layer>
The insulating layer 13 includes a first resin layer 13R(1), a first composite layer 13C(1), a second resin layer 13R(2), a third resin layer 13R(3), and a third resin layer 13R(3). The second composite layer 13C (2) and the fourth resin layer 13R (4) are included in this order.

本実施形態の多層伝送線路板において、第一の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R1)及び第二の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R2)は、いずれも、第一の複合層に含有される樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(C1)より低い。
また、本実施形態の多層伝送線路板において、第三の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R3)及び第四の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R4)は、いずれも、第二の複合層に含有される樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(C2)より低い。
なお、本実施形態における比誘電率は、実施例に記載の方法によって測定することができる。
In the multilayer transmission line board of this embodiment, the relative permittivity (R1) at 10 GHz of the cured resin composition constituting the first resin layer and the 10 GHz dielectric constant (R1) of the cured resin composition constituting the second resin layer. The relative permittivity (R2) at 10 GHz is lower than the relative permittivity (C1) at 10 GHz of the cured product of the resin composition contained in the first composite layer.
In addition, in the multilayer transmission line board of the present embodiment, the relative dielectric constant (R3) at 10 GHz of the cured resin composition constituting the third resin layer and the cured product of the resin composition constituting the fourth resin layer The relative dielectric constants (R4) at 10 GHz of both are lower than the relative permittivity (C2) at 10 GHz of the cured product of the resin composition contained in the second composite layer.
Note that the dielectric constant in this embodiment can be measured by the method described in Examples.

本実施形態の多層伝送線路板においては、各層の樹脂組成物の硬化物の比誘電率が上記関係を有することによって、伝送損失を抑制することができる。その原因の詳細については定かではないが、以下のように推察される。
本実施形態の多層伝送線路板は、一方のグランド層と信号線との間、及び、他方のグランド層と信号線との間に、各々、絶縁層を有する。そして、当該絶縁層は、グランド層及び信号線の近傍に、各々、比誘電率が相対的に低い樹脂層を有し、当該樹脂層同士の間に相対的に比誘電率が高い樹脂組成物の硬化物を含む複合層を有する。当該構成を有することによって、信号を伝送する際に樹脂層と複合層とでインピーダンスに違いが生じ電圧分配が変わり、信号線及びグランド層の近傍に存在する樹脂層がより高電圧になると考えられる。これによって、伝送信号の電気エネルギーは、信号線及びグランド層近傍に集中するようになり、伝送損失が抑制されたと推測される。
また、本実施形態の多層伝送線路板は、第一の複合層及び第二の複合層を有することによって、機械強度、取り扱い性及び生産性が良好になる傾向にある。
In the multilayer transmission line board of this embodiment, transmission loss can be suppressed because the dielectric constant of the cured product of the resin composition of each layer has the above relationship. Although the details of the cause are not certain, it is inferred as follows.
The multilayer transmission line board of this embodiment has an insulating layer between one ground layer and the signal line, and between the other ground layer and the signal line. The insulating layer has resin layers each having a relatively low dielectric constant in the vicinity of the ground layer and the signal line, and a resin composition having a relatively high dielectric constant between the resin layers. It has a composite layer containing a cured product. With this configuration, when transmitting signals, there is a difference in impedance between the resin layer and the composite layer, which changes the voltage distribution, and it is thought that the resin layer near the signal line and ground layer will have a higher voltage. . As a result, the electrical energy of the transmission signal is concentrated near the signal line and the ground layer, and it is presumed that transmission loss is suppressed.
Moreover, the multilayer transmission line board of this embodiment tends to have good mechanical strength, ease of handling, and productivity by having the first composite layer and the second composite layer.

各層の比誘電率を上記関係に調整する方法は、特に限定されず、公知の方法で行えばよい。例えば、各層の形成に用いる樹脂組成物に含有される成分において、樹脂組成物の硬化物の比誘電率に影響を及ぼす成分の配合比を調整することによって、各層の比誘電率を上記関係に調整すればよい。 The method for adjusting the dielectric constant of each layer to the above relationship is not particularly limited, and any known method may be used. For example, by adjusting the blending ratio of the components contained in the resin composition used to form each layer, which affect the dielectric constant of the cured product of the resin composition, the dielectric constant of each layer can be adjusted to the above relationship. Just adjust it.

比誘電率(C1)及び比誘電率(C2)は、特に限定されないが、伝送損失をより抑制するという観点から、いずれも、好ましくは4.0以下、より好ましくは3.6以下、さらに好ましくは3.4以下である。
また、比誘電率(C1)及び比誘電率(C2)は、特に限定されないが、製造容易性の観点から、2.0以上であってもよく、2.5以上であってもよく、3.0以上であってもよい。
なお、比誘電率(C1)及び比誘電率(C2)のうち、いずれか一方のみが上記範囲であってもよい。
The relative permittivity (C1) and the relative permittivity (C2) are not particularly limited, but from the viewpoint of further suppressing transmission loss, both are preferably 4.0 or less, more preferably 3.6 or less, and even more preferably is 3.4 or less.
In addition, the relative permittivity (C1) and the relative permittivity (C2) are not particularly limited, but from the viewpoint of ease of manufacture, they may be 2.0 or more, 2.5 or more, 3 It may be .0 or more.
Note that only one of the dielectric constant (C1) and the dielectric constant (C2) may be within the above range.

比誘電率(R1)、比誘電率(R2)、比誘電率(R3)及び比誘電率(R4)は、特に限定されないが、伝送損失をより抑制するという観点から、いずれも、好ましくは3.6以下、より好ましくは3.4以下、さらに好ましくは3.2以下である。
また、比誘電率(R1)、比誘電率(R2)、比誘電率(R3)及び比誘電率(R4)は、特に限定されないが、製造容易性の観点から、1.8以上であってもよく、2.3以上であってもよく、2.8以上であってもよい。
なお、比誘電率(R1)、比誘電率(R2)、比誘電率(R3)及び比誘電率(R4)のうち、いずれか1つ、2つ又は3つのみが上記範囲であってもよい。
Relative permittivity (R1), relative permittivity (R2), relative permittivity (R3), and relative permittivity (R4) are not particularly limited, but from the viewpoint of further suppressing transmission loss, each is preferably 3. .6 or less, more preferably 3.4 or less, still more preferably 3.2 or less.
In addition, relative permittivity (R1), relative permittivity (R2), relative permittivity (R3), and relative permittivity (R4) are not particularly limited, but from the viewpoint of ease of manufacture, they should be 1.8 or more. It may be 2.3 or more, or 2.8 or more.
Furthermore, even if only one, two or three of the relative permittivity (R1), relative permittivity (R2), relative permittivity (R3) and relative permittivity (R4) are within the above range. good.

比誘電率(C1)と比誘電率(C2)との差の絶対値は小さいことが好ましく、特に限定されないが、好ましくは0~0.1、より好ましくは0~0.05、さらに好ましくは0~0.02である。 The absolute value of the difference between the relative permittivity (C1) and the relative permittivity (C2) is preferably small, and is not particularly limited, but is preferably 0 to 0.1, more preferably 0 to 0.05, even more preferably It is 0 to 0.02.

比誘電率(R1)と比誘電率(R2)との差の絶対値、比誘電率(R2)と比誘電率(R3)との差の絶対値、比誘電率(R3)と比誘電率(R4)との差の絶対値は小さいことが好ましく、特に限定されないが、好ましくは0~0.1、より好ましくは0~0.05、さらに好ましくは0~0.02である。
なお、比誘電率(R1)と比誘電率(R2)との差の絶対値、比誘電率(R2)と比誘電率(R3)との差の絶対値、比誘電率(R3)と比誘電率(R4)との差の絶対値のうち、いずれか1つ又は2つのみが上記範囲であってもよい。
Absolute value of the difference between relative permittivity (R1) and relative permittivity (R2), absolute value of the difference between relative permittivity (R2) and relative permittivity (R3), relative permittivity (R3) and relative permittivity The absolute value of the difference from (R4) is preferably small, and is not particularly limited, but is preferably 0 to 0.1, more preferably 0 to 0.05, and even more preferably 0 to 0.02.
In addition, the absolute value of the difference between the relative permittivity (R1) and the relative permittivity (R2), the absolute value of the difference between the relative permittivity (R2) and the relative permittivity (R3), and the relative permittivity (R3) Of the absolute values of the difference with the dielectric constant (R4), only one or two may be within the above range.

比誘電率(C1)と比誘電率(R1)との差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R1)〕、比誘電率(C1)と比誘電率(R2)との差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R2)〕、比誘電率(C2)と比誘電率(R3)との差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R3)〕、及び、比誘電率(C2)と比誘電率(R4)との差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R4)〕は、特に限定されないが、伝送損失をより抑制するという観点から、いずれも、好ましくは0.03以上、より好ましくは0.05以上、さらに好ましくは0.08以上である。
また、比誘電率(C1)と比誘電率(R1)との差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R1)〕、比誘電率(C1)と比誘電率(R2)との差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R2)〕、比誘電率(C2)と比誘電率(R3)との差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R3)〕、及び、比誘電率(C2)と比誘電率(R4)との差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R4)〕は、特に限定されないが、製造容易性の観点から、1.0以下であってもよく、0.8以下であってもよく、0.6以下であってもよい。
なお、差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R1)〕、差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R2)〕、差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R3)〕及び差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R4)〕のうち、いずれか1つ、2つ又は3つのみが上記範囲であってもよい。
Difference between relative permittivity (C1) and relative permittivity (R1) [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R1)], difference between relative permittivity (C1) and relative permittivity (R2) [ratio dielectric constant (C1) - relative permittivity (R2)], difference between relative permittivity (C2) and relative permittivity (R3) [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R3)], and relative permittivity The difference between the coefficient (C2) and the relative permittivity (R4) [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R4)] is not particularly limited, but both are preferable from the viewpoint of further suppressing transmission loss. is 0.03 or more, more preferably 0.05 or more, even more preferably 0.08 or more.
Also, the difference between the relative permittivity (C1) and the relative permittivity (R1) [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R1)], the difference between the relative permittivity (C1) and the relative permittivity (R2) [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R2)], difference between relative permittivity (C2) and relative permittivity (R3) [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R3)], and The difference between the relative permittivity (C2) and the relative permittivity (R4) [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R4)] is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of manufacture, it should be 1.0 or less. 0.8 or less, or 0.6 or less.
In addition, the difference [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R1)], the difference [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R2)], the difference [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R3)] )] and the difference [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R4)], only one, two, or three may be within the above range.

次に、絶縁層13に含まれる各層についてより詳細に説明する。 Next, each layer included in the insulating layer 13 will be explained in more detail.

(第一及び第二の複合層)
多層伝送線路板10において、第一の複合層13C(1)は、第一の樹脂層13R(1)と第二の樹脂層13R(2)との間に配置されており、第二の複合層13C(2)は、第三の樹脂層13R(3)と第四の樹脂層13R(4)との間に配置されている。
本実施形態の多層伝送線路板は、第一の複合層及び第二の複合層を有することによって、機械強度、取り扱い性及び生産性が良好になる傾向にある。
(First and second composite layer)
In the multilayer transmission line board 10, the first composite layer 13C(1) is arranged between the first resin layer 13R(1) and the second resin layer 13R(2), and Layer 13C(2) is arranged between third resin layer 13R(3) and fourth resin layer 13R(4).
The multilayer transmission line board of this embodiment tends to have good mechanical strength, ease of handling, and productivity by having the first composite layer and the second composite layer.

第一の複合層13C(1)及び第二の複合層13C(2)は、繊維基材及び樹脂組成物の硬化物を含有する層である。
第一の複合層13C(1)及び第二の複合層13C(2)が含有する繊維基材は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
第一の複合層13C(1)及び第二の複合層13C(2)が含有する樹脂組成物の硬化物は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
The first composite layer 13C(1) and the second composite layer 13C(2) are layers containing a fiber base material and a cured product of a resin composition.
The fiber base materials contained in the first composite layer 13C(1) and the second composite layer 13C(2) may be the same or different.
The cured products of the resin compositions contained in the first composite layer 13C(1) and the second composite layer 13C(2) may be the same or different.

〔繊維基材〕
繊維基材としては、例えば、ヤーンを高密度に編んだもの、開繊された繊維糸が、比誘電率の不均一性をより軽減する観点から好ましい。
繊維基材の材質としては、例えば、紙、コットンリンター等の天然繊維;ガラス繊維、アスベスト等の無機物繊維;アラミド、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン、アクリル等の有機繊維;これらの混合物などが挙げられる。これらの中でも、比誘電率の不均一性をより軽減する観点から、ガラス繊維が好ましい。
ガラス繊維としては、Eガラス、NEガラス、Dガラス、Qガラス等を用いたガラスクロスが好ましい。ガラスクロスは、縦糸と横糸に、含浸する樹脂に近い比誘電率のガラス繊維糸を用いたもの等を用いることで比誘電率の不均一性をさらに軽減できる。また、縦糸と横糸に同種のガラス繊維糸を用いれば、同様に比誘電率の不均一性をより軽減できる。
繊維基材の比誘電率は、比誘電率の不均一性を軽減する観点から、5.0以下であることが好ましく、4.5以下であることがより好ましい。
[Fiber base material]
As the fiber base material, for example, a densely knitted yarn or a spread fiber yarn is preferable from the viewpoint of further reducing the non-uniformity of the relative dielectric constant.
Materials for the fiber base material include, for example, natural fibers such as paper and cotton linters; inorganic fibers such as glass fiber and asbestos; organic fibers such as aramid, polyimide, polyvinyl alcohol, polyester, polytetrafluoroethylene, and acrylic; Examples include mixtures. Among these, glass fiber is preferable from the viewpoint of further reducing non-uniformity in relative dielectric constant.
As the glass fiber, glass cloth using E glass, NE glass, D glass, Q glass, etc. is preferable. The non-uniformity of the dielectric constant can be further reduced by using a glass cloth in which the warp and weft are made of glass fiber threads having a dielectric constant close to that of the resin to be impregnated. Moreover, if the same type of glass fiber yarn is used for the warp and weft, the non-uniformity of the relative permittivity can be further reduced in the same way.
The relative permittivity of the fiber base material is preferably 5.0 or less, more preferably 4.5 or less, from the viewpoint of reducing non-uniformity of the relative permittivity.

〔第一の複合層及び第二の複合層に含有される樹脂組成物の硬化物〕
第一の複合層及び第二の複合層に含有される樹脂組成物の硬化物は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
[Cured product of resin composition contained in first composite layer and second composite layer]
The cured product of the resin composition contained in the first composite layer and the second composite layer is preferably a cured product of a thermosetting resin composition.

熱硬化性樹脂組成物に含有される熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、マレイミド樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、オキセタン樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アリル樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、シリコーン樹脂、トリアジン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性及び導体接着性の観点から、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂が好ましい。
熱硬化性樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of thermosetting resins contained in the thermosetting resin composition include epoxy resins, phenol resins, maleimide resins, cyanate resins, isocyanate resins, benzoxazine resins, oxetane resins, amino resins, unsaturated polyester resins, and allyl resins. resin, dicyclopentadiene resin, silicone resin, triazine resin, melamine resin, etc. Among these, epoxy resins and maleimide resins are preferred from the viewpoint of heat resistance and conductor adhesion.
The thermosetting resin may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂以外に、例えば、エラストマー、硬化剤等の樹脂成分;無機充填材;硬化促進剤;難燃剤;その他の添加剤などを含有していてもよい。
これらは各々について、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
In addition to the thermosetting resin, the thermosetting resin composition may contain, for example, resin components such as an elastomer and a curing agent; an inorganic filler; a curing accelerator; a flame retardant; and other additives.
Each of these may be used alone or in combination of two or more.

第一の複合層13C(1)中における樹脂組成物の硬化物の含有量及び第二の複合層13C(2)中における樹脂組成物の硬化物の含有量は、特に限定されないが、いずれも、好ましくは80質量%以下、より好ましくは70質量%以下、さらに好ましくは60質量%以下である。
また、第一の複合層13C(1)中における樹脂組成物の硬化物の含有量及び第二の複合層13C(2)中における樹脂組成物の硬化物の含有量は、特に限定されないが、いずれも、20質量%以上であってもよく、30質量%以上であってもよく、40質量%以上であってもよい。
なお、第一の複合層13C(1)中における樹脂組成物の硬化物の含有量及び第二の複合層13C(2)中における樹脂組成物の硬化物の含有量のうち、いずれか一方のみが上記範囲であってもよい。
The content of the cured product of the resin composition in the first composite layer 13C(1) and the content of the cured product of the resin composition in the second composite layer 13C(2) are not particularly limited, but both are , preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, still more preferably 60% by mass or less.
Further, the content of the cured product of the resin composition in the first composite layer 13C(1) and the content of the cured product of the resin composition in the second composite layer 13C(2) are not particularly limited, but In any case, the content may be 20% by mass or more, 30% by mass or more, or 40% by mass or more.
Note that only one of the content of the cured product of the resin composition in the first composite layer 13C (1) and the content of the cured product of the resin composition in the second composite layer 13C (2) may be within the above range.

第一の複合層13C(1)の厚さ及び第二の複合層13C(2)の厚さは、特に限定されないが、多層伝送線路板の機械強度の観点から、いずれも、好ましくは30~240μm、より好ましくは40~150μm、さらに好ましくは60~130μmである。
なお、第一の複合層13C(1)の厚さ及び第二の複合層13C(2)の厚さのうち、いずれか一方のみが上記範囲であってもよい。
The thickness of the first composite layer 13C(1) and the thickness of the second composite layer 13C(2) are not particularly limited, but from the viewpoint of mechanical strength of the multilayer transmission line board, both are preferably 30 to 30. The thickness is 240 μm, more preferably 40 to 150 μm, even more preferably 60 to 130 μm.
Note that only one of the thickness of the first composite layer 13C(1) and the thickness of the second composite layer 13C(2) may be within the above range.

第一の複合層13C(1)の厚さと第二の複合層13C(2)の厚さとの差の絶対値は、多層伝送線路板の反りを抑制するという観点から小さい方が好ましく、特に限定されないが、好ましくは0~20μm、より好ましくは0~10μm、さらに好ましくは0~5μmである。 The absolute value of the difference between the thickness of the first composite layer 13C(1) and the thickness of the second composite layer 13C(2) is preferably smaller from the viewpoint of suppressing warping of the multilayer transmission line plate, and especially when limiting However, it is preferably 0 to 20 μm, more preferably 0 to 10 μm, and even more preferably 0 to 5 μm.

第一の複合層13C(1)の10GHzにおける比誘電率及び第二の複合層13C(2)の10GHzにおける比誘電率は、特に限定されないが、伝送損失をより抑制するという観点から、いずれも、好ましくは4.7以下、より好ましくは4.5以下、さらに好ましくは4.3以下である。
また、第一の複合層13C(1)の10GHzにおける比誘電率及び第二の複合層13C(2)の10GHzにおける比誘電率は、特に限定されないが、いずれも、3.0以上であってもよく、3.5以上であってもよく、4.0以上であってもよい。
なお、第一の複合層13C(1)の10GHzにおける比誘電率及び第二の複合層13C(2)の10GHzにおける比誘電率のうち、いずれか一方のみが上記範囲であってもよい。
第一の複合層13C(1)の10GHzにおける比誘電率は、比誘電率(C1)よりも高いことが好ましく、第二の複合層13C(2)の10GHzにおける比誘電率は、比誘電率(C2)よりも高いことが好ましい。
The dielectric constant at 10 GHz of the first composite layer 13C (1) and the dielectric constant at 10 GHz of the second composite layer 13C (2) are not particularly limited, but from the viewpoint of further suppressing transmission loss, both , preferably 4.7 or less, more preferably 4.5 or less, still more preferably 4.3 or less.
Further, the dielectric constant of the first composite layer 13C(1) at 10 GHz and the dielectric constant of the second composite layer 13C(2) at 10 GHz are not particularly limited, but both are 3.0 or more. It may be 3.5 or more, or 4.0 or more.
Note that only one of the dielectric constant at 10 GHz of the first composite layer 13C(1) and the dielectric constant at 10 GHz of the second composite layer 13C(2) may be within the above range.
The dielectric constant of the first composite layer 13C(1) at 10 GHz is preferably higher than the dielectric constant (C1), and the dielectric constant of the second composite layer 13C(2) at 10 GHz is higher than the dielectric constant (C1). It is preferable that it is higher than (C2).

(第一~第四の樹脂層)
多層伝送線路板10において、第一の樹脂層13R(1)は、グランド層12と第一の複合層13C(1)との間に配置されており、第二の樹脂層13R(2)は、第一の複合層13C(1)と第三の樹脂層13R(3)との間に配置されている。
また、第三の樹脂層13R(3)は、第二の樹脂層13R(2)と第二の複合層13C(2)との間に配置されており、第四の樹脂層13R(4)は、第二の複合層13C(2)とグランド層11との間に配置されている。
なお、以下の説明で、「第一の樹脂層13R(1)、第二の樹脂層13R(2)、第三の樹脂層13R(3)及び第四の樹脂層13R(4)」を「第一~第四の樹脂層13R(1)~(4)」と記載する場合がある。
(First to fourth resin layers)
In the multilayer transmission line board 10, the first resin layer 13R(1) is arranged between the ground layer 12 and the first composite layer 13C(1), and the second resin layer 13R(2) is arranged between the ground layer 12 and the first composite layer 13C(1). , is arranged between the first composite layer 13C(1) and the third resin layer 13R(3).
Further, the third resin layer 13R(3) is arranged between the second resin layer 13R(2) and the second composite layer 13C(2), and the fourth resin layer 13R(4) is arranged between the second composite layer 13C(2) and the ground layer 11.
In addition, in the following explanation, "first resin layer 13R (1), second resin layer 13R (2), third resin layer 13R (3), and fourth resin layer 13R (4)" is referred to as ""first to fourth resin layers 13R(1) to (4)" in some cases.

第一~第四の樹脂層13R(1)~(4)は、繊維基材を含有しない樹脂組成物の硬化物から構成される層である。
第一~第四の樹脂層13R(1)~(4)を構成する樹脂組成物の硬化物は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
The first to fourth resin layers 13R(1) to (4) are layers composed of a cured product of a resin composition that does not contain a fiber base material.
The cured products of the resin compositions constituting the first to fourth resin layers 13R(1) to (4) may be the same or different.

〔第一~第四の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物〕
第一~第四の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
第一~第四の樹脂層に使用できる熱硬化性樹脂組成物を構成する成分についての説明は、第一の複合層及び第二の複合層に使用できる熱硬化性樹脂組成物における説明と同じである。各層の比誘電率の調整は、上述の通り、比誘電率に影響を及ぼす成分の配合量の調整によって行えばよい。
[Cured product of resin composition constituting the first to fourth resin layers]
The cured product of the resin composition constituting the first to fourth resin layers is preferably a cured product of a thermosetting resin composition.
The explanation about the components constituting the thermosetting resin composition that can be used for the first to fourth resin layers is the same as the explanation for the thermosetting resin composition that can be used for the first composite layer and the second composite layer. It is. The dielectric constant of each layer may be adjusted by adjusting the blending amount of components that affect the dielectric constant, as described above.

第一~第四の樹脂層13R(1)~(4)の厚さは、特に限定されないが、伝送損失をより抑制するという観点から、いずれも、好ましくは10~80μm、より好ましくは15~60μm、さらに好ましくは20~40μmである。
なお、第一~第四の樹脂層13R(1)~(4)の厚さのうち、いずれか1つ、2つ又は3つのみが上記範囲であってもよい。
The thickness of the first to fourth resin layers 13R(1) to (4) is not particularly limited, but from the viewpoint of further suppressing transmission loss, each thickness is preferably 10 to 80 μm, more preferably 15 to 80 μm. The thickness is 60 μm, more preferably 20 to 40 μm.
Note that only one, two or three of the thicknesses of the first to fourth resin layers 13R(1) to (4) may fall within the above range.

第一の樹脂層13R(1)の厚さと第二の樹脂層13R(2)の厚さとの差の絶対値、第二の樹脂層13R(2)の厚さと第三の樹脂層13R(3)の厚さとの差の絶対値、及び第三の樹脂層13R(3)の厚さと第四の樹脂層13R(4)の厚さとの差の絶対値は、多層伝送線路板の反りを抑制するという観点から小さい方が好ましく、特に限定されないが、いずれも、好ましくは0~20μm、より好ましくは0~10μm、さらに好ましくは0~5μmである。
なお、第一の樹脂層13R(1)の厚さと第二の樹脂層13R(2)の厚さとの差の絶対値、第二の樹脂層13R(2)の厚さと第三の樹脂層13R(3)の厚さとの差の絶対値、及び第三の樹脂層13R(3)の厚さと第四の樹脂層13R(4)の厚さとの差の絶対値のうち、いずれか1つ又は2つのみが上記範囲であってもよい。
The absolute value of the difference between the thickness of the first resin layer 13R(1) and the thickness of the second resin layer 13R(2), the thickness of the second resin layer 13R(2) and the third resin layer 13R(3 ), and the absolute value of the difference between the thickness of the third resin layer 13R (3) and the thickness of the fourth resin layer 13R (4), suppress warping of the multilayer transmission line board. The smaller the better from the point of view of this, and although not particularly limited, it is preferably 0 to 20 μm, more preferably 0 to 10 μm, and even more preferably 0 to 5 μm.
The absolute value of the difference between the thickness of the first resin layer 13R(1) and the thickness of the second resin layer 13R(2), the thickness of the second resin layer 13R(2) and the third resin layer 13R (3), and the absolute value of the difference between the thickness of the third resin layer 13R(3) and the fourth resin layer 13R(4), or Only two may be within the above range.

第一の樹脂層13R(1)の厚さは、基板の機械的強度の観点から、第一の複合層13C(1)の厚さよりも小さいことが好ましい。
また、第二の樹脂層13R(2)の厚さは、基板の機械的強度の観点から、第一の複合層13C(1)の厚さよりも小さいことが好ましい。
また、第三の樹脂層13R(3)の厚さは、基板の機械的強度の観点から、第二の複合層13C(2)の厚さよりも小さいことが好ましい。
また、第四の樹脂層13R(4)の厚さは、基板の機械的強度の観点から、第二の複合層13C(2)の厚さよりも小さいことが好ましい。
The thickness of the first resin layer 13R(1) is preferably smaller than the thickness of the first composite layer 13C(1) from the viewpoint of the mechanical strength of the substrate.
Further, the thickness of the second resin layer 13R(2) is preferably smaller than the thickness of the first composite layer 13C(1) from the viewpoint of the mechanical strength of the substrate.
Further, the thickness of the third resin layer 13R(3) is preferably smaller than the thickness of the second composite layer 13C(2) from the viewpoint of the mechanical strength of the substrate.
Further, the thickness of the fourth resin layer 13R(4) is preferably smaller than the thickness of the second composite layer 13C(2) from the viewpoint of the mechanical strength of the substrate.

第一の複合層13C(1)の厚さと第一の樹脂層13R(1)の厚さとの差〔第一の複合層-第一の樹脂層〕、第一の複合層13C(1)の厚さと第二の樹脂層13R(2)の厚さとの差〔第一の複合層-第二の樹脂層〕、第二の複合層13C(2)の厚さと第三の樹脂層13R(3)の厚さとの差〔第二の複合層-第三の樹脂層〕、及び第二の複合層13C(2)の厚さと第四の樹脂層13R(4)の厚さとの差〔第二の複合層-第四の樹脂層〕は、特に限定されないが、いずれも、好ましくは10~150μm、より好ましくは30~100μm、さらに好ましくは50~80μmである。
なお、上記厚さの差〔第一の複合層-第一の樹脂層〕、上記厚さの差〔第一の複合層-第二の樹脂層〕、上記厚さの差〔第二の複合層-第三の樹脂層〕及び上記厚さの差〔第二の複合層-第四の樹脂層〕のうち、いずれか1つ、2つ又は3つのみが上記範囲であってもよい。
The difference between the thickness of the first composite layer 13C(1) and the thickness of the first resin layer 13R(1) [first composite layer-first resin layer], The difference between the thickness and the thickness of the second resin layer 13R(2) [first composite layer - second resin layer], the difference between the thickness of the second composite layer 13C(2) and the third resin layer 13R(3) ) [second composite layer - third resin layer], and the difference between the thickness of the second composite layer 13C (2) and the thickness of the fourth resin layer 13R (4) [second composite layer-fourth resin layer] is not particularly limited, but preferably has a thickness of 10 to 150 μm, more preferably 30 to 100 μm, and even more preferably 50 to 80 μm.
Note that the above thickness difference [first composite layer - first resin layer], the above thickness difference [first composite layer - second resin layer], the above thickness difference [second composite layer], layer - third resin layer] and the above-mentioned thickness difference [second composite layer - fourth resin layer], only one, two or three of them may be within the above range.

第三の樹脂層13R(3)の厚さは、信号線14を埋め込むために、信号線14の厚さよりも大きいことが好ましい。 The thickness of the third resin layer 13R(3) is preferably greater than the thickness of the signal line 14 in order to embed the signal line 14.

絶縁層13は、絶縁層として、第一~第四の樹脂層13R(1)~(4)、第一の複合層(C1)及び第二の複合層(C2)のみを有していてもよいし、さらに、これら以外の絶縁層を有していてもよい。
絶縁層13において、第二の樹脂層13R(2)と第三の樹脂層13R(3)とは、信号線14を形成する位置以外において、直接積層された構成を有する。また、第一の樹脂層13R(1)とグランド層12、及び、第四の樹脂層13R(4)とグランド層11とは直接積層された構成を有する。
一方、第一の樹脂層13R(1)と第一の複合層13C(1)とは直接積層されていてもよく、他の層を介していてもよいが、直接積層されていることが好ましい。
また、第一の複合層13C(1)と第二の樹脂層13R(2)とは直接積層されていてもよく、他の層を介していてもよいが、直接積層されていることが好ましい。
また、第三の樹脂層13R(3)と第二の複合層13C(2)とは直接積層されていてもよく、他の層を介していてもよいが、直接積層されていることが好ましい。
また、第二の複合層13C(2)と第四の樹脂層13R(4)とは直接積層されていてもよく、他の層を介していてもよいが、直接積層されていることが好ましい。
The insulating layer 13 may have only the first to fourth resin layers 13R (1) to (4), the first composite layer (C1), and the second composite layer (C2) as insulating layers. Alternatively, it may further include an insulating layer other than these.
In the insulating layer 13, the second resin layer 13R(2) and the third resin layer 13R(3) have a structure in which they are directly laminated at a position other than the position where the signal line 14 is formed. Further, the first resin layer 13R(1) and the ground layer 12, and the fourth resin layer 13R(4) and the ground layer 11 have a structure in which they are directly laminated.
On the other hand, the first resin layer 13R(1) and the first composite layer 13C(1) may be directly laminated or may have another layer interposed therebetween, but it is preferable that they are directly laminated. .
Further, the first composite layer 13C(1) and the second resin layer 13R(2) may be directly laminated or may have another layer interposed therebetween, but it is preferable that they are directly laminated. .
Further, the third resin layer 13R(3) and the second composite layer 13C(2) may be directly laminated or may be interposed with another layer, but it is preferable that they are directly laminated. .
Further, the second composite layer 13C(2) and the fourth resin layer 13R(4) may be directly laminated or may have another layer interposed therebetween, but it is preferable that they are directly laminated. .

<信号線>
信号線14は、第二の樹脂層13R(2)の第三の樹脂層13R(3)側の面上に形成され、かつ第二の樹脂層13R(2)に積層された第三の樹脂層13R(3)に埋め込まれている。
<Signal line>
The signal line 14 is formed on the surface of the second resin layer 13R(2) on the third resin layer 13R(3) side, and is formed on the third resin layer laminated on the second resin layer 13R(2). It is embedded in layer 13R(3).

信号線14を形成する材料は、特に限定されず、例えば、グランド層に適用可能な金属箔を使用することができる。また、信号線14は、めっきにより形成されたものであってもよい。
信号線14の断面視における形状は、特に限定されないが、例えば、矩形である。
信号線14の厚さは、特に限定されず、求める性能等に応じて適宜決定すればよいが、例えば、5~35μmである。
The material forming the signal line 14 is not particularly limited, and for example, a metal foil that can be used as a ground layer can be used. Further, the signal line 14 may be formed by plating.
The shape of the signal line 14 in cross-section is not particularly limited, but is, for example, rectangular.
The thickness of the signal line 14 is not particularly limited, and may be determined as appropriate depending on the desired performance, and is, for example, 5 to 35 μm.

図1に示す多層伝送線路板10において、信号線14は単線であるが、本実施形態の多層伝送線路板が有する信号線の形態は特に限定されず、例えば、差動配線であってもよい。
図2に、差動配線14aを有する多層伝送線路板20を示す。
図2に示す多層伝送線路板20は、図1の多層伝送線路板10において、単一配線である信号線14を差動配線14aに変えた構成を有する。
In the multilayer transmission line board 10 shown in FIG. 1, the signal line 14 is a single wire, but the form of the signal line included in the multilayer transmission line board of this embodiment is not particularly limited, and may be a differential wiring, for example. .
FIG. 2 shows a multilayer transmission line board 20 having differential wiring 14a.
The multilayer transmission line board 20 shown in FIG. 2 has a configuration in which the signal line 14, which is a single wiring, in the multilayer transmission line board 10 of FIG. 1 is replaced with a differential wiring 14a.

<多層伝送線路板の製造方法>
次に、本実施形態の多層伝送線路板の製造方法を、図1に示す多層伝送線路板10を例にして説明するが、本実施形態の多層伝送線路板の製造方法は、所望する構成を有する多層伝送線路板を製造できる方法であれば如何なる方法であってもよい。
<Method for manufacturing multilayer transmission line board>
Next, a method for manufacturing a multilayer transmission line board according to the present embodiment will be explained using the multilayer transmission line board 10 shown in FIG. 1 as an example. Any method may be used as long as it can manufacture a multilayer transmission line board having the following structure.

多層伝送線路板10は、例えば、第一の複合層13C(1)及び第二の複合層13C(2)を形成するためのプリプレグ、及び、第一~第四の樹脂層13R(1)~(4)を形成するための樹脂フィルムを用いて製造することができる。 The multilayer transmission line board 10 includes, for example, prepreg for forming the first composite layer 13C(1) and the second composite layer 13C(2), and the first to fourth resin layers 13R(1) to (4) It can be manufactured using a resin film for forming.

プリプレグとしては、例えば、所定の樹脂組成物を有機溶剤で希釈した樹脂ワニスを、繊維基材に含浸及び乾燥する方法によって製造することができる。
プリプレグは市販品を使用してもよく、市販品のプリプレグとしては、例えば、昭和電工マテリアルズ株式会社製の「GWA-900G」、「GWA-910G」、「GHA-679G」、「GHA-679G(S)」、「GZA-71G」(いずれも商品名)等が挙げられる。
The prepreg can be produced, for example, by a method in which a fiber base material is impregnated with a resin varnish obtained by diluting a predetermined resin composition with an organic solvent and then dried.
Commercially available prepregs may be used. Examples of commercially available prepregs include "GWA-900G", "GWA-910G", "GHA-679G", and "GHA-679G" manufactured by Showa Denko Materials Co., Ltd. (S)” and “GZA-71G” (all product names).

樹脂フィルムとしては、例えば、所定の樹脂組成物を有機溶剤で希釈した樹脂ワニスを支持体に塗布し、乾燥する方法によって製造することができる。
樹脂フィルムは市販品を使用してもよく、市販品の樹脂フィルムとしては、例えば、昭和電工マテリアルズ株式会社製の「AS-400HS」(商品名)等が挙げられる。
The resin film can be produced, for example, by applying a resin varnish prepared by diluting a predetermined resin composition with an organic solvent to a support and drying it.
A commercially available resin film may be used, and examples of commercially available resin films include "AS-400HS" (trade name) manufactured by Showa Denko Materials Co., Ltd.

多層伝送線路板10は、例えば、下記(1)~(3)を含む方法によって製造することができる。
(1)第一の複合層13C(1)を形成するためのプリプレグ1枚の一方の面に、第一の樹脂層13R(1)を形成するための樹脂フィルム1枚、他方の面に第二の樹脂層13R(2)を形成するための樹脂フィルム1枚を重ね、さらに、両面に銅箔を配置してから、加熱加圧成形することによって、グランド層12としての銅箔、第一の樹脂層13R(1)、第一の複合層13C(1)、第二の樹脂層13R(2)及び銅箔をこの順に有する両面銅張積層板を形成する。
(2)上記(1)で得られた両面銅張積層板の第二の樹脂層13R(2)側の銅箔を、エッチングによってパターニングして、信号線14を形成する。
(3)上記(2)で形成した信号線14上に、第三の樹脂層13R(3)を形成するための樹脂フィルム1枚、第二の複合層13C(2)を形成するためのプリプレグ1枚、第四の樹脂層13R(4)を形成するための樹脂フィルム1枚及びグランド層11を形成するための銅箔をこの順に重ね、加熱加圧成形することによって、多層伝送線路板10を得る。
その後、必要に応じて、穴あけ、スルーホールメッキ等を施してもよい。
加熱加圧成形の方法及び条件は、使用する材料等を考慮して、公知の方法及び条件を適用することができる。
図2に示す多層伝送線路板20等の多層伝送線路板10以外の構成を有する本実施形態の多層伝送線路板についても、上記に準ずる方法によって製造することができる。
The multilayer transmission line board 10 can be manufactured, for example, by a method including the following (1) to (3).
(1) One sheet of prepreg for forming the first composite layer 13C (1), one sheet of resin film for forming the first resin layer 13R (1) on one side, and a sheet of prepreg for forming the first composite layer 13C (1) on the other side. One resin film for forming the second resin layer 13R(2) is stacked, copper foil is placed on both sides, and then heat and pressure molding is performed. A double-sided copper-clad laminate having the resin layer 13R(1), the first composite layer 13C(1), the second resin layer 13R(2), and copper foil in this order is formed.
(2) The copper foil on the second resin layer 13R(2) side of the double-sided copper-clad laminate obtained in (1) above is patterned by etching to form the signal line 14.
(3) One resin film for forming the third resin layer 13R(3) and prepreg for forming the second composite layer 13C(2) on the signal line 14 formed in (2) above. One resin film for forming the fourth resin layer 13R (4) and a copper foil for forming the ground layer 11 are stacked in this order and heated and pressure molded to form the multilayer transmission line board 10. get.
Thereafter, drilling, through-hole plating, etc. may be performed as necessary.
As the method and conditions for heat and pressure molding, known methods and conditions can be applied in consideration of the materials to be used.
The multilayer transmission line board of this embodiment having a configuration other than the multilayer transmission line board 10, such as the multilayer transmission line board 20 shown in FIG. 2, can also be manufactured by a method similar to the above.

本実施形態の多層伝送線路板は、1GHz以上の高周波信号を扱う電子機器に好適に用いられ、特に10GHz以上の高周波信号又は30GHz以上の高周波信号を扱う電子機器に好適に用いられる。 The multilayer transmission line board of this embodiment is suitably used for electronic equipment that handles high frequency signals of 1 GHz or more, and particularly for electronic equipment that handles high frequency signals of 10 GHz or more or 30 GHz or more.

[半導体パッケージ]
本実施形態の半導体パッケージは、本実施形態の多層伝送線路板と、半導体素子と、を有する半導体パッケージである。
本実施形態の半導体パッケージは、例えば、本実施形態の多層伝送線路板に、公知の方法によって、半導体素子、メモリ等を搭載することによって製造することができる。
[Semiconductor package]
The semiconductor package of this embodiment is a semiconductor package that includes the multilayer transmission line plate of this embodiment and a semiconductor element.
The semiconductor package of this embodiment can be manufactured by, for example, mounting a semiconductor element, a memory, etc. on the multilayer transmission line board of this embodiment by a known method.

以下、実施例に基づいて本実施形態をさらに詳細に説明するが、本実施形態は、以下の実施例に限定されない。 Hereinafter, this embodiment will be described in more detail based on Examples, but this embodiment is not limited to the following Examples.

[比誘電率の測定方法]
各例で用いたプリプレグ又は樹脂フィルムの形成材料である樹脂組成物を、厚さ38μmのPETフィルム(帝人株式会社製、商品名:G2-38)に塗布した後、170℃で5分間加熱乾燥して、Bステージ状態の樹脂フィルムを作製した。この樹脂フィルムをPETフィルムから剥離した後、粉砕してBステージ状態の樹脂粉末とし、厚さ0.8mm×長さ50mm×幅35mmのサイズに型抜きしたテフロン(登録商標)シートに投入した。次いで、該樹脂粉末を投入したテフロン(登録商標)シートの上下に、厚さ18μmのロープロファイル銅箔(三井金属鉱業株式会社製、商品名:3EC-VLP-18)を配置し、加熱加圧成形前の積層物を得た。なおロープロファイル銅箔は、M面を樹脂粉末側にして配置した。続いて、該積層物を、温度230℃、圧力2.0MPa、時間120分間の条件で加熱加圧成形し、樹脂粉末を樹脂板に成形及び硬化させることで、両面銅箔付き樹脂板を作製した。得られた両面銅箔付き樹脂板の樹脂板部分の厚さは0.8mmであった。
上記で得られた両面銅箔付き樹脂板を銅エッチング液である過硫酸アンモニウム(三菱ガス化学株式会社製)10質量%溶液に浸漬することにより銅箔を除去し、試験片を作製した。次いで、スプリットポスト誘電体共振器法に準拠して、雰囲気温度25℃にて10GHz帯で、上記試験片の比誘電率を測定した。
[Method of measuring relative permittivity]
The prepreg used in each example or the resin composition used as the resin film forming material was applied to a 38 μm thick PET film (manufactured by Teijin Ltd., product name: G2-38), and then heated and dried at 170°C for 5 minutes. In this way, a resin film in a B-stage state was produced. After this resin film was peeled from the PET film, it was crushed to obtain resin powder in a B-stage state, and the resin was placed in a Teflon (registered trademark) sheet cut into a size of 0.8 mm thick x 50 mm long x 35 mm wide. Next, 18 μm thick low profile copper foil (trade name: 3EC-VLP-18, manufactured by Mitsui Mining & Mining Co., Ltd.) was placed above and below the Teflon (registered trademark) sheet containing the resin powder, and heated and pressed. A laminate was obtained before molding. Note that the low profile copper foil was placed with the M side facing the resin powder side. Subsequently, the laminate was heated and pressure-molded at a temperature of 230° C., a pressure of 2.0 MPa, and a time of 120 minutes to form and harden the resin powder into a resin plate, thereby producing a resin plate with double-sided copper foil. did. The thickness of the resin plate portion of the obtained resin plate with copper foil on both sides was 0.8 mm.
The copper foil was removed by immersing the resin plate with copper foil on both sides obtained above in a 10% by mass solution of ammonium persulfate (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), which is a copper etching solution, to prepare a test piece. Next, the dielectric constant of the test piece was measured at an ambient temperature of 25° C. and a 10 GHz band according to the split post dielectric resonator method.

[多層伝送線路板の製造]
次に各例における多層伝送線路板の製造方法について説明する。
なお、各例において、銅箔は、三井金属鉱業株式会社製、商品名「3EC-VLP-18」(粗化処理面表面粗さRz:3.0μm、厚さ18μm)を使用した。
また、各構成部材を積層一体化処理する際の加熱加圧条件は、温度230℃、圧力3.0MPa、時間80分の条件とした。
[Manufacture of multilayer transmission line board]
Next, a method for manufacturing a multilayer transmission line board in each example will be explained.
In each example, the copper foil used was manufactured by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd. under the trade name "3EC-VLP-18" (roughened surface roughness Rz: 3.0 μm, thickness 18 μm).
The heating and pressurizing conditions for laminating and integrating each component were a temperature of 230° C., a pressure of 3.0 MPa, and a time of 80 minutes.

実施例1~3
実施例1~3の多層伝送線路板は、絶縁層の構成が表1に記載の構成になるように以下の手順で製造した。
なお、実施例1及び2で製造した多層伝送線路板の模式的断面図を図1に示し、実施例3で製造した多層伝送線路板の模式的断面図を図2に示す。
Examples 1 to 3
The multilayer transmission line boards of Examples 1 to 3 were manufactured according to the following procedure so that the structure of the insulating layer was as shown in Table 1.
Note that a schematic cross-sectional view of the multilayer transmission line plate manufactured in Examples 1 and 2 is shown in FIG. 1, and a schematic cross-sectional view of the multilayer transmission line plate manufactured in Example 3 is shown in FIG.

表1に記載の樹脂フィルム1枚、プリプレグ1枚及び樹脂フィルム1枚をこの順に重ね、さらに、その両外側に銅箔を重ね合わせてから積層一体化処理を施し、グランド層12としての銅箔、第一の樹脂層13R(1)、第一の複合層13C(1)、第二の樹脂層13R(2)及び銅箔をこの順に有する両面銅張積層板を形成した。
次いで、上記で製作した両面銅張積層板の第二の樹脂層13R(2)側の銅箔をエッチングによってパターニングして、単一配線である信号線14又は差動配線である信号線14aを形成した。
上記で形成した信号線上に、表1に記載の樹脂フィルム1枚、プリプレグ1枚、樹脂フィルム1枚及び銅箔をこの順に重ね合わせて積層一体化処理を施して、図1又は図2に示す構成を有する多層伝送線路板を得た。
その後、得られた多層伝送線路板に穴あけ、スルーホールメッキを施した後、両面をエッチングによってパターニングして、後述する伝送損失の測定に用いるプロービングパターンを形成した。
One resin film, one prepreg, and one resin film listed in Table 1 are stacked in this order, and then copper foil is stacked on both sides of the film, and then a lamination integration process is performed to form the copper foil as the ground layer 12. A double-sided copper-clad laminate having the first resin layer 13R(1), the first composite layer 13C(1), the second resin layer 13R(2), and copper foil in this order was formed.
Next, the copper foil on the second resin layer 13R(2) side of the double-sided copper-clad laminate produced above is patterned by etching to form the signal line 14, which is a single wiring, or the signal line 14a, which is a differential wiring. Formed.
On the signal line formed above, one resin film, one prepreg, one resin film, and copper foil listed in Table 1 are laminated in this order and laminated and integrated, as shown in FIG. 1 or 2. A multilayer transmission line board having the following structure was obtained.
Thereafter, the obtained multilayer transmission line board was drilled and through-hole plated, and then both sides were patterned by etching to form a probing pattern used for measurement of transmission loss, which will be described later.

比較例1及び2
比較例1及び2の多層伝送線路板は、絶縁層の構成が表1に記載の構成になるように以下の手順で製造した。なお、比較例1及び2で製造した多層伝送線路板の模式的断面図を図3に示す。
表1に示すプリプレグの両面に銅箔を重ね合わせから積層一体化処理を施すことによって、グランド層12としての銅箔、絶縁層13C及び銅箔をこの順に有する積層板を得た。
次に、上記で得た積層板の銅箔をエッチングでパターニングすることによって、絶縁層13C上に信号線14を形成した。
上記で形成した信号線14上に、表1に記載のプリプレグ1枚及び銅箔をこの順に重ね合わせて積層一体化処理を施して、図3に示す構成を有する多層伝送線路板を得た。
Comparative examples 1 and 2
The multilayer transmission line boards of Comparative Examples 1 and 2 were manufactured according to the following procedure so that the structure of the insulating layer was as shown in Table 1. Note that FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of the multilayer transmission line boards manufactured in Comparative Examples 1 and 2.
By superimposing copper foil on both sides of the prepreg shown in Table 1 and performing a lamination integration process, a laminate having copper foil as the ground layer 12, an insulating layer 13C, and a copper foil in this order was obtained.
Next, the signal line 14 was formed on the insulating layer 13C by patterning the copper foil of the laminate obtained above by etching.
On the signal line 14 formed above, one sheet of prepreg and copper foil listed in Table 1 were laminated in this order and laminated and integrated, to obtain a multilayer transmission line board having the configuration shown in FIG. 3.

比較例3
比較例3の多層伝送線路板は、絶縁層の構成が表1に記載の構成になるように以下の手順で製造した。なお、比較例3で製造した多層伝送線路板の模式的断面図を図4に示す。
表1に示すプリプレグを2枚重ね、その両面に銅箔を重ね合わせ、積層一体化処理を施すことによって、グランド層12、絶縁層13C、絶縁層13C及び銅箔をこの順に有する積層板を得た。
次に、上記で得た積層板の銅箔をエッチングでパターニングすることによって、絶縁層13C上に信号線14を形成した。
上記で形成した信号線14上に、表1に記載のプリプレグ2枚及び銅箔をこの順に重ね合わせて積層一体化処理を施して、図4に示す構成を有する多層伝送線路板を得た。
Comparative example 3
The multilayer transmission line board of Comparative Example 3 was manufactured according to the following procedure so that the structure of the insulating layer was as shown in Table 1. Note that a schematic cross-sectional view of the multilayer transmission line plate manufactured in Comparative Example 3 is shown in FIG.
By overlapping two sheets of prepreg shown in Table 1, overlapping copper foil on both sides, and performing a lamination integration process, a laminate having the ground layer 12, insulating layer 13C, insulating layer 13C, and copper foil in this order is obtained. Ta.
Next, the signal line 14 was formed on the insulating layer 13C by patterning the copper foil of the laminate obtained above by etching.
On the signal line 14 formed above, two sheets of prepreg and copper foil listed in Table 1 were laminated in this order and subjected to a lamination integration process to obtain a multilayer transmission line board having the configuration shown in FIG. 4.

比較例4
比較例4の多層伝送線路板は、比較例1の多層伝送線路板において、信号線14を、差動配線14aに変えたこと以外は、比較例1の多層伝送線路板と同様にして製造した。なお、比較例4で製造した多層伝送線路板の模式的断面図を図5に示す。
Comparative example 4
The multilayer transmission line board of Comparative Example 4 was manufactured in the same manner as the multilayer transmission line board of Comparative Example 1, except that the signal line 14 in the multilayer transmission line board of Comparative Example 1 was changed to the differential wiring 14a. . Note that a schematic cross-sectional view of the multilayer transmission line plate manufactured in Comparative Example 4 is shown in FIG.

比較例5
比較例5の多層伝送線路板は、絶縁層の構成が表1に記載の構成になるように以下の手順で製造した。なお、比較例5で製造した多層伝送線路板の模式的断面図を図6に示す。
表1に記載の樹脂フィルムを1枚、プリプレグ1を1枚、樹脂フィルムを1枚この順に重ね、さらに、その両外側に銅箔を重ね合わせてから積層一体化処理を施し、銅箔、樹脂層13R、複合層13C、樹脂層13R及び銅箔をこの順に有する両面銅張積層板を形成した。
次いで、上記で製作した両面銅張積層板の一方の銅箔をエッチングによってパターニングして、差動配線14aを形成した。
上記で形成した差動配線14a上に、表1に記載のプリプレグ2を1枚と銅箔をこの順に重ね合わせて積層一体化処理を施して、図6に示す構成を有する多層伝送線路板を得た。
Comparative example 5
The multilayer transmission line board of Comparative Example 5 was manufactured according to the following procedure so that the structure of the insulating layer was as shown in Table 1. Note that a schematic cross-sectional view of the multilayer transmission line plate manufactured in Comparative Example 5 is shown in FIG.
One resin film listed in Table 1, one prepreg 1, and one resin film are stacked in this order, and then copper foil is stacked on both outsides of the film, and then an integrated lamination process is applied to the copper foil and resin film. A double-sided copper-clad laminate having layer 13R, composite layer 13C, resin layer 13R, and copper foil in this order was formed.
Next, one copper foil of the double-sided copper-clad laminate produced above was patterned by etching to form differential wiring 14a.
On the differential wiring 14a formed above, one sheet of prepreg 2 listed in Table 1 and a copper foil are laminated in this order and laminated and integrated, thereby producing a multilayer transmission line board having the configuration shown in FIG. Obtained.

[伝送損失の測定方法]
各例で得られた多層伝送線路板の伝送損失は、ネットワークアナライザー(アジレント・テクノロジー株式会社製、商品名「N5227A」)を用いて以下の手順で測定した。
上記各例で製造した多層伝送線路板のプロービングパターンに、多層伝送線路板の信号線への入力側及び出力側のプローブを取り付け、所定の周波数の信号を入力し、出力信号を測定することによって、各周波数における伝送損失を測定した。
なお、プロービングパターンの影響は、TRL校正(Thru-Reflect-Line校正)によって校正した。
伝送損失はマイナスの値であり、その絶対値が小さいほど伝送損失が小さいことを意味する。
[Method of measuring transmission loss]
The transmission loss of the multilayer transmission line board obtained in each example was measured using a network analyzer (manufactured by Agilent Technologies, trade name "N5227A") according to the following procedure.
By attaching probes on the input side and output side to the signal line of the multilayer transmission line plate to the probing pattern of the multilayer transmission line plate manufactured in each of the above examples, inputting a signal of a predetermined frequency, and measuring the output signal. , we measured the transmission loss at each frequency.
Note that the influence of the probing pattern was corrected by TRL calibration (Thru-Reflect-Line calibration).
The transmission loss is a negative value, and the smaller the absolute value, the smaller the transmission loss.

表1に記載のプリプレグ及び樹脂フィルムの詳細は以下の通りである。
プリプレグ1~4:昭和電工マテリアルズ株式会社製、商品名「GHA-679G(S)」(但し、表1に記載の厚さ及び樹脂組成物の含有量を有するもの。)
樹脂フィルム1:昭和電工マテリアルズ株式会社製、商品名「AS-400HS」
樹脂フィルム2:昭和電工マテリアルズ株式会社製、商品名「AS-400HS」に使用される樹脂組成物に対してエポキシ樹脂を固形分全量に対して10質量%添加して、樹脂フィルムにしたもの。
Details of the prepreg and resin film listed in Table 1 are as follows.
Prepreg 1 to 4: Manufactured by Showa Denko Materials Co., Ltd., trade name "GHA-679G(S)" (provided that it has the thickness and resin composition content listed in Table 1).
Resin film 1: Manufactured by Showa Denko Materials Co., Ltd., product name “AS-400HS”
Resin film 2: A resin film made by adding 10% by mass of epoxy resin to the total solid content of the resin composition used in the product name "AS-400HS" manufactured by Showa Denko Materials Co., Ltd. .

表1の結果から、本実施形態の実施例1~3の多層伝送線路板は、比較例1~5の多層伝送線路板よりも伝送損失を抑制できていることが分かる。 From the results in Table 1, it can be seen that the multilayer transmission line plates of Examples 1 to 3 of the present embodiment are able to suppress transmission loss more than the multilayer transmission line plates of Comparative Examples 1 to 5.

10、20、30、40、50、60 多層伝送線路板
11、12 グランド層
13 絶縁層
13C 複合層
13C(1) 第一の複合層
13C(2) 第二の複合層
13R 樹脂層
13R(1) 第一の樹脂層
13R(2) 第二の樹脂層
13R(3) 第三の樹脂層
13R(4) 第四の樹脂層
14 信号線
14a 差動配線
10, 20, 30, 40, 50, 60 Multilayer transmission line board 11, 12 Ground layer 13 Insulating layer 13C Composite layer 13C (1) First composite layer 13C (2) Second composite layer 13R Resin layer 13R (1 ) First resin layer 13R (2) Second resin layer 13R (3) Third resin layer 13R (4) Fourth resin layer 14 Signal line 14a Differential wiring

Claims (8)

一対のグランド層と、
前記一対のグランド層を両面に有する絶縁層と、
前記絶縁層内に設けられた信号線と、を備え、
前記絶縁層が、第一の樹脂層と、第一の複合層と、第二の樹脂層と、第三の樹脂層と、第二の複合層と、第四の樹脂層と、をこの順で含み、
前記第一の複合層及び前記第二の複合層は、繊維基材及び樹脂組成物の硬化物を含有する層であり、
前記第一の樹脂層、前記第二の樹脂層、前記第三の樹脂層及び前記第四の樹脂層は、繊維基材を含有しない樹脂組成物の硬化物から構成される層であり、
前記信号線は、前記第二の樹脂層の前記第三の樹脂層側の面上に形成され、かつ該信号線は、前記第二の樹脂層に積層された前記第三の樹脂層に埋め込まれており、
前記第一の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R1)及び前記第二の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R2)が、いずれも、前記第一の複合層に含有される樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(C1)より低く、
前記第三の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R3)及び前記第四の樹脂層を構成する樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(R4)が、いずれも、前記第二の複合層に含有される樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(C2)より低い、多層伝送線路板。
A pair of ground layers,
an insulating layer having the pair of ground layers on both sides;
A signal line provided in the insulating layer,
The insulating layer includes a first resin layer, a first composite layer, a second resin layer, a third resin layer, a second composite layer, and a fourth resin layer in this order. Including,
The first composite layer and the second composite layer are layers containing a fiber base material and a cured product of the resin composition,
The first resin layer, the second resin layer, the third resin layer, and the fourth resin layer are layers composed of a cured product of a resin composition that does not contain a fiber base material,
The signal line is formed on a surface of the second resin layer on the third resin layer side, and the signal line is embedded in the third resin layer laminated on the second resin layer. It is
The relative permittivity (R1) at 10 GHz of the cured product of the resin composition constituting the first resin layer and the relative permittivity (R2) at 10 GHz of the cured product of the resin composition constituting the second resin layer are , both of which are lower than the dielectric constant (C1) at 10 GHz of the cured product of the resin composition contained in the first composite layer,
The relative permittivity (R3) at 10 GHz of the cured resin composition constituting the third resin layer and the relative permittivity (R4) at 10 GHz of the cured resin composition constituting the fourth resin layer are , a multilayer transmission line board having a relative dielectric constant (C2) at 10 GHz of a cured product of the resin composition contained in the second composite layer.
前記比誘電率(C1)と前記比誘電率(R1)との差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R1)〕、前記比誘電率(C1)と前記比誘電率(R2)との差〔比誘電率(C1)-比誘電率(R2)〕、前記比誘電率(C2)と前記比誘電率(R3)との差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R3)〕、及び前記比誘電率(C2)と前記比誘電率(R4)との差〔比誘電率(C2)-比誘電率(R4)〕が、いずれも、0.03以上である、請求項1に記載の多層伝送線路板。 The difference between the relative permittivity (C1) and the relative permittivity (R1) [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R1)], the relative permittivity (C1) and the relative permittivity (R2) [relative permittivity (C1) - relative permittivity (R2)], difference between the relative permittivity (C2) and the relative permittivity (R3) [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R3)] ], and the difference between the relative permittivity (C2) and the relative permittivity (R4) [relative permittivity (C2) - relative permittivity (R4)] are both 0.03 or more. 1. The multilayer transmission line board according to 1. 前記比誘電率(R1)、前記比誘電率(R2)、前記比誘電率(R3)及び前記比誘電率(R4)が、いずれも、3.6以下である、請求項1又は2に記載の多層伝送線路板。 The relative permittivity (R1), the relative permittivity (R2), the relative permittivity (R3), and the relative permittivity (R4) are all 3.6 or less, according to claim 1 or 2. multilayer transmission line board. 前記繊維基材が、ガラスクロスである、請求項1又は2に記載の多層伝送線路板。 The multilayer transmission line board according to claim 1 or 2, wherein the fiber base material is glass cloth. 前記第一の複合層の厚さ及び前記第二の複合層の厚さが、いずれも、30~240μmである、請求項1又は2に記載の多層伝送線路板。 The multilayer transmission line board according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the first composite layer and the thickness of the second composite layer are both 30 to 240 μm. 前記第一の樹脂層の厚さ、前記第二の樹脂層の厚さ、前記第三の樹脂層の厚さ及び前記第四の樹脂層の厚さが、いずれも、10~80μmである、請求項1又は2に記載の多層伝送線路板。 The thickness of the first resin layer, the second resin layer, the third resin layer, and the fourth resin layer are all 10 to 80 μm. The multilayer transmission line board according to claim 1 or 2. 前記信号線が、差動配線である、請求項1又は2に記載の多層伝送線路板。 The multilayer transmission line board according to claim 1 or 2, wherein the signal line is a differential wiring. 請求項1又は2に記載の多層伝送線路板と、半導体素子と、を有する半導体パッケージ。 A semiconductor package comprising the multilayer transmission line board according to claim 1 or 2 and a semiconductor element.
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