JP2013161647A5 - - Google Patents

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  1. 試料に荷電粒子線を照射して、当該試料上に配線加工を行う配線方法において、
    前記配線加工を行う配線軌道上にイオン液体を配置し、当該配線軌道に沿って前記荷電粒子線の照射位置を移動することを特徴とする配線方法。
  2. 請求項1において、
    前記試料上に前記イオン液体を滴下し、当該滴下されたイオン液体に前記荷電粒子線を照射することを特徴とする配線方法。
  3. 請求項1において、
    前記試料を配置するための試料台上に、前記イオン液体を配置し、当該イオン液体が配置された位置から、前記試料に向かって前記荷電粒子線の照射位置を移動することを特徴とする配線方法。
  4. 荷電粒子源と、
    荷電粒子線が照射される試料を配置するための試料台と
    当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線の照射位置を移動する移動機構を備えた荷電粒子線装置において、
    前記試料台或いは前記試料上に配置されたイオン液体の移動軌道を設定する入力装置と、
    当該入力装置によって設定された移動軌道に沿って、前記荷電粒子線が照射されるように、前記移動機構を制御する制御装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
  5. 請求項において、
    前記制御装置は、前記移動軌道に沿って前記照射位置が時間の経過に従って順次移動するように前記移動機構を制御することを特徴とする荷電粒子線装置。
  6. 請求項において、
    前記制御装置は、1の照射位置と、その後に照射される照射位置とが重なるように、前記照射位置を移動することを特徴とする荷電粒子線装置。
  7. 請求項において、
    前記移動機構は、前記荷電粒子線の照射位置を偏向する偏向器であることを特徴とする荷電粒子線装置。
  8. 請求項において、
    前記移動機構は、前記試料を移動するための試料ステージであることを特徴とする荷電粒子線装置。
  9. 請求項4において、
    イオン液体を試料の一部に滴下するプローブを備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
  10. 請求項4において、
    前記試料台にイオン液体保持部を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
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