JP2013161343A - タッチパネル付液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、一対の偏光板の間にタッチパネルが配置された構造を有する場合も、良好な表示コントラストを示すことが可能なタッチパネル付液晶表示装置を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、樹脂から構成される絶縁性層を有するタッチパネルと、液晶セルと、上記液晶セルの両側に配置された一対の偏光板とを有し、上記タッチパネルが上記一対の偏光板の間に配置されているタッチパネル付液晶表示装置であって、上記タッチパネルは、上記タッチパネルのＲｔｈが上記タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈが０〜４．０の範囲内となるように調整されたものであることを特徴とするタッチパネル付液晶表示装置を提供することにより、上記目的を達成する。
【選択図】図１
【解決手段】本発明は、樹脂から構成される絶縁性層を有するタッチパネルと、液晶セルと、上記液晶セルの両側に配置された一対の偏光板とを有し、上記タッチパネルが上記一対の偏光板の間に配置されているタッチパネル付液晶表示装置であって、上記タッチパネルは、上記タッチパネルのＲｔｈが上記タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈが０〜４．０の範囲内となるように調整されたものであることを特徴とするタッチパネル付液晶表示装置を提供することにより、上記目的を達成する。
【選択図】図１
Description
本発明は、良好な表示コントラストを示し、薄膜・軽量でコスト的にも有利なタッチパネル付液晶表示装置に関するものである。
今日、入力手段として、タッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルは表示装置の表示面上に配置され、これにより、タッチパネルは表示装置に対する極めて直接的な入力を可能にする。
このようなタッチパネルとしては、様々な方式のものが実用化されている。このなかで、静電容量方式と呼ばれるものは、タッチパネルとして、第１透明電極／電極間絶縁層／第２透明電極の層構造を有するもの、さらには、上記第２透明電極を覆うように保護層が形成されたものが知られており、タッチパネルの表面のタッチパネル面に微弱な電流を流して電界を形成し、指等の導電体が軽く触れた場合の静電容量値の変化を電圧の低下等に変換して検知し、その接触位置を検出するものである。
また、従来のタッチパネルは、通常、表示装置とは別個に製造され、表示装置上に重ねて配置されて用いられる（例えば、特許文献１〜２等）。しかしながら、タッチパネル自体を表示装置の全面に接着して使用しなければならず、表示装置自体の厚みが増す、あるいは、コストがかかるという問題点があった。
上述した問題点を解決すべく、液晶表示装置とタッチパネルとの基材を共有させ、液晶表示装置自体の厚みを薄くする試みやコスト削減を可能にする試みが提案されている（例えば特許文献３）。このようなタッチパネル付液晶表示装置としては、具体的には、観察者側の偏光板と観察者側の液晶セル用基材との間にタッチパネルが配置されたオンセル構造や、液晶セル内部にタッチパネルが配置されたインセル構造を有するものが提案されている。
しかしながら、上記オンセル構造や上記インセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置は、別個に形成されたタッチパネルが液晶表示装置上に配置されたアウトセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置に比べて表示コントラストが低下するという問題がある。
しかしながら、上記オンセル構造や上記インセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置は、別個に形成されたタッチパネルが液晶表示装置上に配置されたアウトセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置に比べて表示コントラストが低下するという問題がある。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、上記オンセル構造または上記インセル構造を有する場合も、良好な表示コントラストを示すことが可能なタッチパネル付液晶表示装置を提供することを主目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、樹脂から構成される絶縁性層を有するタッチパネルと、液晶セルと、上記液晶セルの両側に配置された一対の偏光板とを有し、上記タッチパネルが上記一対の偏光板の間に配置されているタッチパネル付液晶表示装置であって、上記タッチパネルは、上記タッチパネルの厚み方向のレターデーションが上記タッチパネル付液晶表示装置全体の厚み方向のレターデーションが０〜４．０の範囲内となるように調整されたものであることを特徴とするタッチパネル付液晶表示装置を提供する。
本発明によれば、上述のように厚み方向のレターデーションが調整されたタッチパネルを有することにより、上記タッチパネルを一対の偏光板の間に配置した場合も、良好な表示コントラストを示すことが可能なタッチパネル付液晶表示装置とすることができる。よって、良好な表示コントラストを有し、薄膜、軽量で、コスト的にも有利なタッチパネル付液晶表示装置を得ることができる。
本発明においては、上記樹脂が、アクリル樹脂またはカルド樹脂を含有することが好ましい。タッチパネルの厚み方向のレターデーションを好適に調整することが可能となるからである。
本発明は、一対の偏光板の間にタッチパネルが配置された構造、すなわち上記オンセル構造または上記インセル構造を有する場合も、良好な表示コントラストを示すことが可能なタッチパネル付液晶表示装置を得ることができるといった作用効果を奏する。
以下、本発明のタッチパネル付液晶表示装置について説明する。
本発明のタッチパネル付液晶表示装置は、樹脂から構成される絶縁性層を有するタッチパネルと、液晶セルと、上記液晶セルの両側に配置された一対の偏光板とを有し、上記タッチパネルが上記一対の偏光板の間に配置されているものであって、上記タッチパネルは、上記タッチパネルの厚み方向のレターデーションが上記タッチパネル付液晶表示装置全体の厚み方向のレターデーションが０〜４．０の範囲内となるように調整されたものであることを特徴とする。
本発明のタッチパネル付液晶表示装置は、樹脂から構成される絶縁性層を有するタッチパネルと、液晶セルと、上記液晶セルの両側に配置された一対の偏光板とを有し、上記タッチパネルが上記一対の偏光板の間に配置されているものであって、上記タッチパネルは、上記タッチパネルの厚み方向のレターデーションが上記タッチパネル付液晶表示装置全体の厚み方向のレターデーションが０〜４．０の範囲内となるように調整されたものであることを特徴とする。
本発明において、タッチパネルの厚み方向のレターデーション（以下、「厚み方向のレターデーション」を「Ｒｔｈ」と称して説明する場合がある。）とは、タッチパネルの面内における進相軸方向（屈折率が最も小さい方向）の屈折率Ｎｘ、および、遅相軸方向（屈折率が最も大きい方向）の屈折率Ｎｙと、厚み方向の屈折率Ｎｚと、タッチパネルの厚みｄ（ｎｍ）とにより、Ｒｔｈ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｝×ｄの式で表される値である。
本発明に用いられるタッチパネルの膜厚は、一般的な膜厚測定機によって測定することができる。一例として、KLA Tencor株式会社の触針式膜厚測定機P・15が挙げられる。
また、本発明に用いられるタッチパネルのＲｔｈは、例えば位相差層測定装置（AXOMETRICS社製AxoscanTM Mueller Matrix Polarimeter）を用いて測定することができる。
また、タッチパネル付液晶表示装置のＲｔｈとは、タッチパネル付液晶表示装置の面内における進相軸方向（屈折率が最も小さい方向）の屈折率Ｎｘ、および、遅相軸方向（屈折率が最も大きい方向）の屈折率Ｎｙと、厚み方向の屈折率Ｎｚと、タッチパネル付液晶表示装置の厚みｄ（ｎｍ）とにより、Ｒｔｈ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｝×ｄの式で表される値である。タッチパネル付液晶表示装置のＲｔｈの測定方法については上述したタッチパネルのＲｔｈの測定方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、タッチパネル付液晶表示装置のその他の構成のＲｔｈについても同様である。
本発明に用いられるタッチパネルの膜厚は、一般的な膜厚測定機によって測定することができる。一例として、KLA Tencor株式会社の触針式膜厚測定機P・15が挙げられる。
また、本発明に用いられるタッチパネルのＲｔｈは、例えば位相差層測定装置（AXOMETRICS社製AxoscanTM Mueller Matrix Polarimeter）を用いて測定することができる。
また、タッチパネル付液晶表示装置のＲｔｈとは、タッチパネル付液晶表示装置の面内における進相軸方向（屈折率が最も小さい方向）の屈折率Ｎｘ、および、遅相軸方向（屈折率が最も大きい方向）の屈折率Ｎｙと、厚み方向の屈折率Ｎｚと、タッチパネル付液晶表示装置の厚みｄ（ｎｍ）とにより、Ｒｔｈ＝｛（Ｎｘ＋Ｎｙ）／２−Ｎｚ｝×ｄの式で表される値である。タッチパネル付液晶表示装置のＲｔｈの測定方法については上述したタッチパネルのＲｔｈの測定方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、タッチパネル付液晶表示装置のその他の構成のＲｔｈについても同様である。
図１は、本発明のタッチパネル付液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。図１に例示するように、本発明のタッチパネル付液晶表示装置１００は、樹脂から構成される絶縁性層１を有するタッチパネル１０と、一対の液晶セル用基材３１α、３１β、および一対の液晶セル用基材３１α、３１βの間に形成された液晶層３２を有する液晶セル３０と、上記液晶セル３０の両側に配置された一対の偏光板４０α、４０βとを有し、上記タッチパネル１０が上記一対の偏光板４０α、４０βの間に配置されているものである。また、タッチパネル１０は、タッチパネル１０のＲｔｈがタッチパネル付液晶表示装置１００全体のＲｔｈが上述した数値範囲内となるように調整されているものである。また、図１に例示するタッチパネル付液晶表示装置１００は、タッチパネル１０が偏光板４０αと液晶セル用基材３１αとの間に配置されているオンセル構造を有する。また、タッチパネル付液晶表示装置１００はバックライト５０を有していてもよい。
図２（ａ）〜（ｃ）は、図１に例示されるタッチパネル付液晶表示装置に用いられるタッチパネルの一例を示す概略平面図である。図１および図２（ａ）〜（ｃ）に例示するように、タッチパネル１０は、液晶セル用基材３１α上にパターン状に形成された第１透明電極２１と、液晶セル用基材３１α上に形成され、第１透明電極２１に接続された第１透明電極用配線２１’と、第１透明電極２１および第１透明電極用配線２１’を覆うように形成された電極間絶縁層１１と、電極間絶縁層１１上にパターン状に形成された第２透明電極２２と、電極間絶縁層１１上に形成され、第２透明電極２２に接続された第２透明電極用配線２２’と、第２透明電極２２および第２透明電極用配線２２’を覆うように形成されたオーバーコート層１２とを有するものである。また、タッチパネル１０における絶縁性層１は、電極間絶縁層１１とオーバーコート層１２との両方を指すものである。
また、図２（ａ）は液晶セル用基材３１α上に形成された第１透明電極２１および第１透明電極用配線２１’を例示する平面図であり、図２（ｂ）は電極間絶縁層１１上に形成された第２透明電極２２および第２透明電極用配線２２’を例示する平面図であり、図２（ｃ）は図１におけるタッチパネル１００を平面視上から観察した場合を例示する平面図である。なお、図２（ｃ）では、説明のため、電極間絶縁層およびオーバーコート層を省略して説明している。また、図１におけるタッチパネル１０部分の概略断面図は、図２（ｃ）のＡ−Ａ線断面図を示している。
また、図２（ａ）は液晶セル用基材３１α上に形成された第１透明電極２１および第１透明電極用配線２１’を例示する平面図であり、図２（ｂ）は電極間絶縁層１１上に形成された第２透明電極２２および第２透明電極用配線２２’を例示する平面図であり、図２（ｃ）は図１におけるタッチパネル１００を平面視上から観察した場合を例示する平面図である。なお、図２（ｃ）では、説明のため、電極間絶縁層およびオーバーコート層を省略して説明している。また、図１におけるタッチパネル１０部分の概略断面図は、図２（ｃ）のＡ−Ａ線断面図を示している。
図３は、本発明のタッチパネル付液晶表示装置の他の例を示す概略断面図である。図３に例示するタッチパネル付液晶表示装置１００は、タッチパネル１０が液晶セル３０内に配置され、液晶セル用基材３１β上に配置されているインセル構造を有する。なお、図３において説明していない符号については図１と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明によれば、上述のようにＲｔｈが調整されたタッチパネルを有することにより、上記タッチパネルを一対の偏光板の間に配置した場合も、良好な表示コントラストを示すことが可能なタッチパネル付液晶表示装置とすることができる。よって、良好な表示コントラストを有し、薄膜、軽量で、コスト的にも有利なタッチパネル付液晶表示装置を得ることができる。また、タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈをタッチパネルのＲｔｈにより調整することから、液晶セルおよび偏光板については、各構成のＲｔｈを調整する必要がなく、従来と同様の構成を用いることができるため、従来の液晶表示装置における表示コントラスト以外の優れた表示特性や電気的特性等を損なわないという利点を有する。
ここで、上述した従来のオンセル構造、またはインセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置は、アウトセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置に比べて表示コントラストが低下するという問題がある。この理由については、以下のように推測される。
すなわち、タッチパネルを配置する前の液晶表示装置は、通常、その全体のＲｔｈが０となるように設計されているものである。また、アウトセル構造のタッチパネル付液晶表示装置は、タッチパネル自体がＲｔｈを有する（タッチパネルのＲｔｈ≠０）場合も、タッチパネルは偏光板の液晶セル側とは反対側に配置される、すなわち一対の偏光板の間には配置されないため、表示コントラストに影響しないものと考えられる。
これに対し、上述したオンセル構造およびインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置はいずれも、一対の偏光板の内側にタッチパネルが配置されることから、タッチパネル自体がＲｔｈを有する（タッチパネルのＲｔｈ≠０）場合、タッチパネルのＲｔｈにより位相差ズレが生じ、その結果、偏光板から光漏れが生じて表示コントラストが低下することが推測される。
すなわち、タッチパネルを配置する前の液晶表示装置は、通常、その全体のＲｔｈが０となるように設計されているものである。また、アウトセル構造のタッチパネル付液晶表示装置は、タッチパネル自体がＲｔｈを有する（タッチパネルのＲｔｈ≠０）場合も、タッチパネルは偏光板の液晶セル側とは反対側に配置される、すなわち一対の偏光板の間には配置されないため、表示コントラストに影響しないものと考えられる。
これに対し、上述したオンセル構造およびインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置はいずれも、一対の偏光板の内側にタッチパネルが配置されることから、タッチパネル自体がＲｔｈを有する（タッチパネルのＲｔｈ≠０）場合、タッチパネルのＲｔｈにより位相差ズレが生じ、その結果、偏光板から光漏れが生じて表示コントラストが低下することが推測される。
本発明者らは、オンセル構造およびインセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置についても、従来の液晶表示装置と同様に、タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈ＝０となるような設計とすることを試みた。しかしながら、タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈは、タッチパネル付液晶表示装置の各構成のＲｔｈに応じて変化するものであり、タッチパネル付液晶表示装置の各構成のＲｔｈは、各構成に用いられる材料、厚み等により変化するものである。したがって、タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈ＝０とするには、各構成の材料、厚み等を調整する必要が生じることから多大な労力および時間を要するという問題や、また各構成の材料および厚みを調整したタッチパネル付液晶表示装置において、表示コントラスト以外の表示特性、電気的特性等を従来の液晶表示装置と同等、またはそれ以上とすることは困難となる可能性があるという問題がある。
上記実情に鑑みて、本発明者らは、従来と同様の設計を行った液晶表示装置を用いた場合であっても、良好な表示コントラストを示すことが可能となるように、タッチパネルのＲｔｈを調整することにより、タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈを調整することを試みた。
まず、本発明らは、タッチパネルを配置する前の液晶表示装置の表示コントラストに対する、オンセル構造またはインセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置の表示コントラストの低下率（以下、表示コントラストの低下率と称する場合がある。）と、実際の視認性との関係を調べたところ、上記表示コントラストの低下率が１０％を超える場合は、視認性について以下の問題が生じることを知見した。すなわち、上記表示コントラストの低下率が１０％を超えることにより、暗室ではタッチパネル付液晶表示装置の液晶を黒表示で点灯しても、通常のコントラストの液晶表示装置（タッチパネルを配置しない状態の液晶表示装置）に比べ、明らかに画面から光が漏れてきており、黒表示部分が灰色に視認されるようになるため、白表示部分と黒表示部分とを明確に表示できなくなる問題がある。また、この場合、特に白表示部分と黒表示部分との境界を明確に表示することが困難となる問題がある。
また、タッチパネルは携帯端末への利用が望まれているところ、上記携帯端末は外環境の変化によっても表示の見え方が変わることから、上述した問題は特に深刻なものとなる。
まず、本発明らは、タッチパネルを配置する前の液晶表示装置の表示コントラストに対する、オンセル構造またはインセル構造を有するタッチパネル付液晶表示装置の表示コントラストの低下率（以下、表示コントラストの低下率と称する場合がある。）と、実際の視認性との関係を調べたところ、上記表示コントラストの低下率が１０％を超える場合は、視認性について以下の問題が生じることを知見した。すなわち、上記表示コントラストの低下率が１０％を超えることにより、暗室ではタッチパネル付液晶表示装置の液晶を黒表示で点灯しても、通常のコントラストの液晶表示装置（タッチパネルを配置しない状態の液晶表示装置）に比べ、明らかに画面から光が漏れてきており、黒表示部分が灰色に視認されるようになるため、白表示部分と黒表示部分とを明確に表示できなくなる問題がある。また、この場合、特に白表示部分と黒表示部分との境界を明確に表示することが困難となる問題がある。
また、タッチパネルは携帯端末への利用が望まれているところ、上記携帯端末は外環境の変化によっても表示の見え方が変わることから、上述した問題は特に深刻なものとなる。
上記知見を得た本発明者らは、鋭意研究を行った結果、表示コントラストの低下率を１０％以下とすることが可能なタッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈが０〜４．０の範囲内であることを見出した。本発明は、良好な表示コントラストを発現することが可能な液晶表示装置全体のＲｔｈが０〜４．０の範囲内であることを見出した点、およびタッチパネルを用いてタッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈを調整する点に大きな特徴を有する。
以下、本発明のタッチパネル付液晶表示装置の詳細について説明する。
以下、本発明のタッチパネル付液晶表示装置の詳細について説明する。
Ｉ．タッチパネル
本発明におけるタッチパネルは、樹脂から構成される絶縁性層を有し、タッチパネル付液晶表示装置において一対の偏光板の間に配置されるものである。
また、本発明におけるタッチパネルは、通常、液晶セル用基材上に形成される。より具体的には、タッチパネルが観察者側の偏光板と観察側の液晶セル用基材との間に配置される場合は、タッチパネルは液晶セル用基材の観察者側の面に形成される（図１参照）。
一方、タッチパネルが液晶セル内に配置される場合は、液晶セル用基材として用いられる共通電極基板または画素電極基板のうち、共通電極基板側に形成されてもよく、画素電極基板側に形成されてもよい。
本発明におけるタッチパネルは、樹脂から構成される絶縁性層を有し、タッチパネル付液晶表示装置において一対の偏光板の間に配置されるものである。
また、本発明におけるタッチパネルは、通常、液晶セル用基材上に形成される。より具体的には、タッチパネルが観察者側の偏光板と観察側の液晶セル用基材との間に配置される場合は、タッチパネルは液晶セル用基材の観察者側の面に形成される（図１参照）。
一方、タッチパネルが液晶セル内に配置される場合は、液晶セル用基材として用いられる共通電極基板または画素電極基板のうち、共通電極基板側に形成されてもよく、画素電極基板側に形成されてもよい。
本発明におけるタッチパネルの方式としては、各種の方式を適用することが可能であるが、なかでも、静電容量方式であることが好ましく、投影型静電容量方式であることが好ましい。
そこで、以下、本発明におけるタッチパネルが投影型静電容量方式のタッチパネルである場合を例に説明する。
そこで、以下、本発明におけるタッチパネルが投影型静電容量方式のタッチパネルである場合を例に説明する。
本発明におけるタッチパネルは、図１、図２、図３、図４および図５等に例示するように、液晶セル用基材３１αまたは液晶セル用基材３１β上に形成された第１透明電極２１と、第１透明電極２１に接続された第１透明電極用配線２１’と、第１透明電極２１上に形成された電極間絶縁層１１と、電極間絶縁層１１上に形成された第２透明電極２２と、第２透明電極２２に接続された第２透明電極用配線２２’と、第２透明電極２２上に形成されたオーバーコート層１２とを有するものである。
なお、図４は、本発明のタッチパネル付液晶表示装置の他の例を示す概略断面図であり、図５（ａ）〜（ｃ）は、図４に例示されるタッチパネル付液晶表示装置に用いられるタッチパネルの他の例を示す概略平面図である。また、図５（ａ）は液晶セル用基材３１α上に形成された第１透明電極２１、第１透明電極用配線２１’および第２透明電極用配線２２’を示す平面図であり、図５（ｂ）は液晶セル用基材３１αおよび第１透明電極２１上に形成された電極間絶縁層１１の一例を示す平面図であり、図５（ｃ）は図４におけるタッチパネルを平面視上で観察した場合を例示する平面図である。なお、図５（ｂ）では、説明のため、第１透明電極２１および第１透明電極用配線２１’を破線で示し、図５（ｃ）では電極間絶縁層１１を破線で示し、オーバーコート層を省略して説明している。また、図４におけるタッチパネルの概略断面図は、図５（ｃ）のＢ−Ｂ線断面図である。
なお、図４は、本発明のタッチパネル付液晶表示装置の他の例を示す概略断面図であり、図５（ａ）〜（ｃ）は、図４に例示されるタッチパネル付液晶表示装置に用いられるタッチパネルの他の例を示す概略平面図である。また、図５（ａ）は液晶セル用基材３１α上に形成された第１透明電極２１、第１透明電極用配線２１’および第２透明電極用配線２２’を示す平面図であり、図５（ｂ）は液晶セル用基材３１αおよび第１透明電極２１上に形成された電極間絶縁層１１の一例を示す平面図であり、図５（ｃ）は図４におけるタッチパネルを平面視上で観察した場合を例示する平面図である。なお、図５（ｂ）では、説明のため、第１透明電極２１および第１透明電極用配線２１’を破線で示し、図５（ｃ）では電極間絶縁層１１を破線で示し、オーバーコート層を省略して説明している。また、図４におけるタッチパネルの概略断面図は、図５（ｃ）のＢ−Ｂ線断面図である。
また、本発明における絶縁性層は電極間絶縁層及びオーバーコート層を指すものである。
１．タッチパネルのＲｔｈの調整方法
本発明におけるタッチパネルのＲｔｈの調整方法としては、タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈを０〜４．０の範囲内とすることができる調整方法であれば特に限定されないが、タッチパネルのＲｔｈを０〜４．０の範囲内に調整することが好ましい。従来の液晶表示装置は、通常、その全体のＲｔｈが０となるように調整されていることから、タッチパネルのＲｔｈを上記範囲内とすることにより、本発明における液晶セルおよび偏光板については従来から構成を変更させることなく、用いることが可能となるからである。
本発明におけるタッチパネルのＲｔｈの調整方法としては、タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈを０〜４．０の範囲内とすることができる調整方法であれば特に限定されないが、タッチパネルのＲｔｈを０〜４．０の範囲内に調整することが好ましい。従来の液晶表示装置は、通常、その全体のＲｔｈが０となるように調整されていることから、タッチパネルのＲｔｈを上記範囲内とすることにより、本発明における液晶セルおよび偏光板については従来から構成を変更させることなく、用いることが可能となるからである。
タッチパネルのＲｔｈの調整方法としては、そのＲｔｈを０〜４．０の範囲内に調整することができれば特に限定されないが、絶縁性層のＲｔｈを調整することが好ましい。ここで、タッチパネルのＲｔｈは、第１透明電極のＲｔｈ、第２透明電極のＲｔｈ、および絶縁性層のＲｔｈの総和に相当するものであるが、第１透明電極および第２透明電極のＲｔｈは極めて小さく、タッチパネルのＲｔｈは絶縁性層のＲｔｈに大きく依存するものである。したがって、絶縁性層のＲｔｈを調整することにより、タッチパネルのＲｔｈを好適に調整することができる。
また、絶縁性層のＲｔｈを調整する場合、上述した電極間絶縁性層およびオーバーコート層のうち少なくとも一方の層のＲｔｈを調整すればよいが、電極間絶縁層およびオーバーコート層の両方のＲｔｈを調整することが好ましい。タッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈを好適に調整することができるからである。
絶縁性層のＲｔｈは、絶縁性層に用いられる樹脂の種類と絶縁性層の厚みによって決定されるものであることから、絶縁性層のＲｔｈの調整方法としては、絶縁性層に用いられる樹脂を選択する方法であってもよく、絶縁性層の厚みを変化させる方法であってもよいが、絶縁性層に用いられる樹脂を選択する方法であることが好ましい。絶縁性層の厚みを変化させる場合は、絶縁性層の厚みがより薄いほど、そのＲｔｈは０に近い値とすることが可能であるが、絶縁性層を薄くしすぎた場合は、絶縁性を確保できないことや、絶縁性層がタッチパネル付液晶表示装置から剥離してしまうことが懸念される。一方、絶縁性層に用いられる樹脂により絶縁性層のＲｔｈを調整する場合には、電極間絶縁層やオーバーコート層の機能を損なうことがない程度の厚みで形成することができる。なお、絶縁性層に用いられる樹脂については、後述するため、ここでの説明は省略する。
２．タッチパネルの各構成
（１）絶縁性層
本発明における絶縁性層は、樹脂から構成されるものである。また、上記絶縁性層としては、具体的には電極間絶縁層と、オーバーコート層とを挙げることができる。
（１）絶縁性層
本発明における絶縁性層は、樹脂から構成されるものである。また、上記絶縁性層としては、具体的には電極間絶縁層と、オーバーコート層とを挙げることができる。
（ａ）電極間絶縁層
電極間絶縁層は、第１透明電極上に配置され、第１透明電極と第２透明電極とを絶縁するものである。
電極間絶縁層は、第１透明電極上に配置され、第１透明電極と第２透明電極とを絶縁するものである。
上記電極間絶縁層に用いられる樹脂としては、本発明のタッチパネル付液晶表示装置全体のＲｔｈを０〜４．０の範囲内とすることが可能なものであれば特に限定されず、具体的には、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、カルド樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等を挙げることができる。本発明においては、上述した樹脂のなかでも、樹脂のＲｔｈ≧０を示し、かつ単位厚み当たりの樹脂のＲｔｈが小さいものであることが好ましい。電極間絶縁層を従来と同様の厚みで形成することが可能となるからである。より具体的には、電極間絶縁層のＲｔｈと後述するオーバーコート層のＲｔｈの総和が、０〜４．０の範囲内となるような樹脂であることが好ましい。
また、上述した樹脂のなかでも、汎用性のある樹脂であることが好ましい。本発明のタッチパネル付液晶表示装置を生産性の高いものとすることができるからである。
また、上述した樹脂のなかでも、汎用性のある樹脂であることが好ましい。本発明のタッチパネル付液晶表示装置を生産性の高いものとすることができるからである。
このような樹脂としては、アクリル樹脂またはカルド樹脂を挙げることができる。
アクリル樹脂としては、例えばカルボキシル基を含有するアクリレート系重合体の一部を、ビニル基を有するモノマーで置換したものが挙げられる。具体例としては、例えば、アクリル酸、もしくはメタクリル酸等のカルボキシル基を含有する（メタ）アクリル系モノマーを共重合を含めて付加重合して得られたポリマーのカルボキシル基の一部をグリシジルメタクリレートで反応させて得られるものが挙げられる。
カルド樹脂としては、下記化学式１に示される骨格を基本骨格として持つ化合物をもつ樹脂であれば特に限定されないが、例えばビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物と、アクリル酸とを反応させることにより、下記化学式２で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート樹脂などが挙げられる。
化学式１中、Ｒ１及びＲ２は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又はハロゲン原子である。
化学式２中、Ｒ１及びＲ２は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又はハロゲン原子であり、Ｒ３は水素原子又はメチル基である。
上記電極間絶縁層の材料として上述したアクリル樹脂またはカルド樹脂を用いる場合、アクリル樹脂またはカルド樹脂のみを用いてもよく、上述した他の樹脂と混合させて用いてもよい。アクリル樹脂またはカルド樹脂と他の樹脂とを混合させて用いる場合、電極間絶縁層中に含有されるアクリル樹脂またはカルド樹脂の含有量としては、例えば、５０質量％〜９８質量％の範囲内、なかでも６０質量％〜９８質量％の範囲内、特に７０質量％〜９８質量％の範囲内であることが好ましい。上記アクリル樹脂またはカルド樹脂の含有量を上記範囲内とすることにより、電極間絶縁層を通常の厚みで形成した場合も、タッチパネルのＲｔｈを好適に調整することができるからである。
本発明における電極間絶縁層の厚みとしては、後述する第１透明電極および第２透明電極を絶縁することが可能な程度の厚みであれば特に限定されないが、０．５μｍ〜１０μｍの範囲内、なかでも０．５μｍ〜５μｍの範囲内、特に１μｍ〜４μｍの範囲内であることが好ましい。電極間絶縁層の厚みが上記範囲に満たない場合は、電極間絶縁層に所望の絶縁性を付与することが困難となる可能性や、電極間絶縁層が剥離する可能性があるからである。一方、電極間絶縁層の厚みが上記範囲を超える場合は、タッチパネル付液晶表示装置の薄膜化、軽量化を達成することができない可能性があるからである。
電極間絶縁層としては、第１透明電極と第２透明電極とを絶縁することが可能であればよく、図１に例示するように、第１透明電極２１が形成された液晶セル用基材３１α上に連続的に電極間絶縁層１１が形成されてもよく、図４および図５（ｂ）に例示するように、第１透明電極２１が形成された液晶セル用基材３１α上にパターン状に電極間絶縁層１１が形成されていてもよい。
また、電極間絶縁層１１は図１に例示するように、第１透明電極用配線２１’上に形成されていてもよい。
また、図６に例示するように、第２透明電極２２をブリッジ状に形成する場合は、図７に例示するように、第２透明電極２２の形成部分にコンタクトホールＲを有するように、電極間絶縁層１１が形成されてもよい。なお、図６は本発明のタッチパネル付液晶表示装置の他の例を示す概略断面図であり、図７（ａ）〜（ｂ）は、図６に例示されるタッチパネル付液晶表示装置に用いられるタッチパネルの例を示す概略平面図であり、図７（ａ）は第１透明電極２１上に形成された電極間絶縁層１１を示す平面図、図７（ｂ）は電極間絶縁層１１上にブリッジ状に形成された第２透明電極を示す平面図である。また、図６および図７において説明していない符号については、図４および図５と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、電極間絶縁層１１は図１に例示するように、第１透明電極用配線２１’上に形成されていてもよい。
また、図６に例示するように、第２透明電極２２をブリッジ状に形成する場合は、図７に例示するように、第２透明電極２２の形成部分にコンタクトホールＲを有するように、電極間絶縁層１１が形成されてもよい。なお、図６は本発明のタッチパネル付液晶表示装置の他の例を示す概略断面図であり、図７（ａ）〜（ｂ）は、図６に例示されるタッチパネル付液晶表示装置に用いられるタッチパネルの例を示す概略平面図であり、図７（ａ）は第１透明電極２１上に形成された電極間絶縁層１１を示す平面図、図７（ｂ）は電極間絶縁層１１上にブリッジ状に形成された第２透明電極を示す平面図である。また、図６および図７において説明していない符号については、図４および図５と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
電極間絶縁層の形成方法については、一般的なタッチパネルに用いられる電極間絶縁層の形成方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
（ｂ）オーバーコート層
本発明におけるオーバーコート層は第２透明電極上に形成されるものである。また、オーバーコート層は、通常、第１透明電極、第１透明電極用配線、電極間絶縁層、第２透明電極、および第２透明電極用配線を覆うように形成される。
本発明におけるオーバーコート層は第２透明電極上に形成されるものである。また、オーバーコート層は、通常、第１透明電極、第１透明電極用配線、電極間絶縁層、第２透明電極、および第２透明電極用配線を覆うように形成される。
上記オーバーコート層に用いられる樹脂については、上述した電極間絶縁層に用いられる樹脂と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明におけるオーバーコート層の厚みとしては、第２透明電極等を保護することが可能な程度の厚みであれば特に限定されないが、０．５μｍ〜１０μｍの範囲内、なかでも０．５μｍ〜５μｍの範囲内、特に１．０μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。オーバーコート層の厚みが上記範囲に満たない場合は、第２透明電極を保護することが困難となる可能性や、オーバーコート層が剥離する可能性があるからである。一方、オーバーコート層の厚みが上記範囲を超える場合は、タッチパネル付液晶表示装置の薄膜化、軽量化を達成することができない可能性があるからである。
オーバーコート層の形成方法については、一般的なタッチパネルに用いられるオーバーコート層の形成方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
（２）タッチパネル
本発明におけるタッチパネルは、上述した絶縁性層以外に、通常、第１透明電極、第１透明電極用配線、第２透明電極、および第２透明電極用配線を有する。また、上記各構成に用いられる材料については、一般的なタッチパネルに用いられるものと同様とすることができる。
本発明におけるタッチパネルは、上述した絶縁性層以外に、通常、第１透明電極、第１透明電極用配線、第２透明電極、および第２透明電極用配線を有する。また、上記各構成に用いられる材料については、一般的なタッチパネルに用いられるものと同様とすることができる。
具体的には、上記第１透明電極および第２透明電極を構成する金属材料（透明電極材料）としては、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物を挙げることができる。本発明においては、これらの金属酸化物が２種以上複合されてもよい。
第１透明電極および第２透明電極は、パターン状に形成される。第１透明電極および第２透明電極としては、例えば図２（ａ）〜（ｃ）に例示するように整列する複数のダイヤ形状がｘ方向またはｙ方向に直線状に連結された列を有するパターン形状の透明電極を組みわせて用いてもよく、図５（ａ）〜（ｃ）に例示するように整列する複数のダイヤ形状が、ｙ方向において独立に整列する列とｘ方向に直線状に連結された列とが交互に形成されるパターン形状を有する透明電極と、ｙ方向に独立に整列する複数のダイヤ形状を連結するブリッジ状のパターン形状を有する透明電極とを組み合わせて用いてもよい。また、第１透明電極および第２透明電極のパターン形状については、上述したパターン形状に限定されず、一般的なタッチパネルに用いられるものと同様とすることができる。
また、第１透明電極用配線および第２透明電極用配線を構成する金属材料としては、上述した透明電極材料が用いられてもよく、透明電極材料より高い電気伝導率を有する金属材料が用いられてもよい。例としては、アルミニウム、モリブデン、パラジウム、銀、クロム、銅等の金属及びそれらを主成分とする合金、あるいはそれら合金を含む積層体が挙げられる。
第１透明電極、第１透明電極用配線、第２透明電極、および第２透明電極用配線の形成方法については、一般的な電極、配線の形成方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
３．その他
上述した説明においては、タッチパネルが投影型静電容量方式のタッチパネルである例について説明したが、投影型静電容量方式以外のタッチパネルであっても上述したタッチパネルのＲｔｈの調整方法や、絶縁性層に用いられる樹脂等を適用することが可能である。また、本発明に用いられるタッチパネルの形成方法については、特に限定されず、一般的なタッチパネルの形成方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
上述した説明においては、タッチパネルが投影型静電容量方式のタッチパネルである例について説明したが、投影型静電容量方式以外のタッチパネルであっても上述したタッチパネルのＲｔｈの調整方法や、絶縁性層に用いられる樹脂等を適用することが可能である。また、本発明に用いられるタッチパネルの形成方法については、特に限定されず、一般的なタッチパネルの形成方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
ＩＩ．液晶セル
本発明における液晶セルは、通常、一対の液晶セル用基材と、一対の液晶セル用基材の間に形成された液晶層とを有するものである。
本発明における液晶セルは、通常、一対の液晶セル用基材と、一対の液晶セル用基材の間に形成された液晶層とを有するものである。
本発明における液晶セルとしては、透過型液晶表示装置用の液晶セルであってもよく、反射型液晶表示装置用の液晶セルであってもよく、半透過半反射型用の液晶セルであってもよい。
本発明における一対の液晶セル用基材は、通常、透明基材および共通電極を有する共通電極基板と、透明基材および画素電極を有する画素電極基板とが用いられる。また、共通電極基板および画素電極基板の液晶層側表面にはいずれも配向膜が形成される。
透明基材、共通電極、画素電極、および配向膜については一般的な液晶表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
透明基材、共通電極、画素電極、および配向膜については一般的な液晶表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明におけるタッチパネル付液晶表示装置がオンセル構造を有する場合、タッチパネルは、通常、共通電極基板における透明基材の共通電極側とは反対側の面、または画素電極基板における透明基材の画素電極側とは反対側の面に配置される。
一方、本発明におけるタッチパネル付液晶表示装置がインセル構造を有する場合、タッチパネルは、通常、共通電極基板または画素電極基板の透明基材および配向膜の間に配置される。
一方、本発明におけるタッチパネル付液晶表示装置がインセル構造を有する場合、タッチパネルは、通常、共通電極基板または画素電極基板の透明基材および配向膜の間に配置される。
また、液晶層については、一般的に液晶表示装置に用いられる液晶層として公知のものを用いることができる。液晶層としては、セル中における液晶分子の配列の態様によって、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢ、ＥＣＢ、ＳＴＮおよびＴＮ等のあらゆる方式のものが知られているが、本発明においては、いずれの方式の液晶層であっても好適に用いることができる。
また、本発明における液晶セルは、カラーフィルタ層やＴＦＴ等が形成されていてもよい。カラーフィルタ層、ＴＦＴについては一般的な液晶表示装置に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明における液晶セルの形成方法については、一般的な液晶セルの形成方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
本発明における液晶セルの形成方法については、一般的な液晶セルの形成方法と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
ＩＩＩ．偏光板
次に、本発明における偏光板について説明する。
本発明における偏光板は、液晶セルの両側に配置されるものである。また、上記偏光板は、通常、偏光子と、偏光子の両側に配置された偏光板保護フィルムとからなるものである。上記偏光板に用いられる偏光子、および偏光板保護フィルムとしては一般的な液晶表示装置の偏光板に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
次に、本発明における偏光板について説明する。
本発明における偏光板は、液晶セルの両側に配置されるものである。また、上記偏光板は、通常、偏光子と、偏光子の両側に配置された偏光板保護フィルムとからなるものである。上記偏光板に用いられる偏光子、および偏光板保護フィルムとしては一般的な液晶表示装置の偏光板に用いられるものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
ＩＶ．その他の構成
本発明のタッチパネル付液晶表示装置は、上述したタッチパネル、液晶セル、および一対の偏光板を有していれば特に限定されず、必要な構成を適宜選択して追加することができる。このような構成としては、例えば、バックライト等を挙げることができる。
本発明のタッチパネル付液晶表示装置は、上述したタッチパネル、液晶セル、および一対の偏光板を有していれば特に限定されず、必要な構成を適宜選択して追加することができる。このような構成としては、例えば、バックライト等を挙げることができる。
Ｖ．タッチパネル付液晶表示装置
本発明のタッチパネル付液晶表示装置は、上述した構成を有するものであり、液晶表示装置全体のＲｔｈが０〜４．０の範囲内を示すものである。本発明においては、なかでも、液晶表示装置全体のＲｔｈが０〜３．１の範囲内、特に０〜１．５の範囲内を示すことが好ましい。一対の偏光板の間にタッチパネルを配置することによる表示コントラストの低下率をより小さいものとすることができ、良好な表示を行うことが可能となる。
本発明のタッチパネル付液晶表示装置は、上述した構成を有するものであり、液晶表示装置全体のＲｔｈが０〜４．０の範囲内を示すものである。本発明においては、なかでも、液晶表示装置全体のＲｔｈが０〜３．１の範囲内、特に０〜１．５の範囲内を示すことが好ましい。一対の偏光板の間にタッチパネルを配置することによる表示コントラストの低下率をより小さいものとすることができ、良好な表示を行うことが可能となる。
本発明のタッチパネル付液晶表示装置の形態としては、透過型液晶表示装置であってもよく、反射型液晶表示装置であってもよく、半透過半反射型液晶表示装置であってもよい。
本発明のタッチパネル付液晶表示装置の製造方法としては、特に限定されず、例えば、一般的な液晶表示装置の製造方法においてタッチパネルを有する液晶セル用基材を適用する方法を挙げることができる。
本発明のタッチパネル付液晶表示装置の用途としては、例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機等を挙げることができる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
以下、実施例および比較例を挙げて、本発明について説明する。
［実施例１］
・タッチパネルの作製
（液晶セル用基材の準備）
まず、透明基板としてのガラス基板（無アルカリガラス、ＮＨテクノグラス社製、ＮＡ３５）５５０ｍｍ×６５０ｍｍを準備し、超純水を用いて界面活性剤処理し、引き続き超音波洗浄処理により洗浄した。なお、上記ガラス基板に、タッチパネル部材が５０面取りできるよう設計して以下の通り作成し、そのうちの任意の一面を実施例１とした。
・タッチパネルの作製
（液晶セル用基材の準備）
まず、透明基板としてのガラス基板（無アルカリガラス、ＮＨテクノグラス社製、ＮＡ３５）５５０ｍｍ×６５０ｍｍを準備し、超純水を用いて界面活性剤処理し、引き続き超音波洗浄処理により洗浄した。なお、上記ガラス基板に、タッチパネル部材が５０面取りできるよう設計して以下の通り作成し、そのうちの任意の一面を実施例１とした。
（透明電極用配線の作製）
外周配線部の抵抗を補助する金属配線（透明電極用配線）を以下の手順で作製した。まず、ＡＰＣ（銀、銅、およびパラジウムを含む合金）を上記ガラス基板全面にスパッタにより３０ｎｍの厚さで製膜した。引き続き、ポジ感光性材料（ＡＺマテリアルズ社製）を用い、フォトリソグラフィの手法により、有効表示エリア外に金属配線パターンと電極取り出し部のパターンを形成した。さらにエッチャントとしてリン酸、硝酸、酢酸系混合溶液を用い、ＡＰＣの不要部分を除去し、引き続いて不要となったポジ感光性材料を苛性ソーダで剥離して金属配線を作製した。
外周配線部の抵抗を補助する金属配線（透明電極用配線）を以下の手順で作製した。まず、ＡＰＣ（銀、銅、およびパラジウムを含む合金）を上記ガラス基板全面にスパッタにより３０ｎｍの厚さで製膜した。引き続き、ポジ感光性材料（ＡＺマテリアルズ社製）を用い、フォトリソグラフィの手法により、有効表示エリア外に金属配線パターンと電極取り出し部のパターンを形成した。さらにエッチャントとしてリン酸、硝酸、酢酸系混合溶液を用い、ＡＰＣの不要部分を除去し、引き続いて不要となったポジ感光性材料を苛性ソーダで剥離して金属配線を作製した。
（第１透明電極の作製）
次に製版された金属配線上に、第１透明電極を形成するために、スパッタにより全面に３０ｎｍの厚さでＩＴＯを製膜した。そして、金属配線と同様のポジ感光性材料を用いてフォトリソグラフィの手法により、整列する複数のダイヤ形状が、ｙ方向において、独立に整列する列と、ｘ方向に直線状に連結された列とが交互に形成されるパターンを形成した（図５（ａ）参照）。さらにＩＴＯのエッチャントとしてはシュウ酸系溶液を用い、ＩＴＯの不要部分を除去し、次いで金属配線と同様に不要となったポジ感光性材料を剥離することにより、第１透明電極を形成した。
次に製版された金属配線上に、第１透明電極を形成するために、スパッタにより全面に３０ｎｍの厚さでＩＴＯを製膜した。そして、金属配線と同様のポジ感光性材料を用いてフォトリソグラフィの手法により、整列する複数のダイヤ形状が、ｙ方向において、独立に整列する列と、ｘ方向に直線状に連結された列とが交互に形成されるパターンを形成した（図５（ａ）参照）。さらにＩＴＯのエッチャントとしてはシュウ酸系溶液を用い、ＩＴＯの不要部分を除去し、次いで金属配線と同様に不要となったポジ感光性材料を剥離することにより、第１透明電極を形成した。
（電極間絶縁層の作製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
＜硬化性樹脂組成物の組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） １６重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）２４重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０） ４重量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
４重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル ５２重量部
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） １６重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）２４重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０） ４重量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
４重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル ５２重量部
上記硬化性樹脂組成物を、上述の通り製膜した第１透明電極を備えるガラス基板上であって、該第１透明電極面に直接に、スピンコート法により塗工して塗膜を形成した。引き続き減圧乾燥装置にて０．０２ｔｏｒｒまで減圧して溶剤を部分的に除去し、さらに９０℃のホットプレート上で４５秒間加熱（プリベーク）して、完全に溶剤成分を除去した。基板を室温まで冷却した後、後工程で形成予定の第２透明電極であるＩＴＯ配線のブリッジ部分にコンタクトホールを設置したパターン（図７（ａ）参照）のフォトマスクを適用し、プロキシアライナーにより３６５ｎｍで２００ｍＪの露光量で露光処理した。
上述のとおり露光処理が終了した塗膜面を、現像液であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド２．３８ｗｔ％（ＴＭＡＨ、東京応化工業社製：ＮＭＤ−３）でディップ現像し、未露光部分を除去してパターンを形成した。さらに露光後の基板は加熱炉（アドバンテスト社製ＦＵＷ２１０ＰＡ）中、大気雰囲気下で２３０℃１時間加熱（ポストベーク）して硬化させ、膜厚１．５μｍのパターニングされた電極間絶縁層を第１透明電極上に形成した。
上述のとおり露光処理が終了した塗膜面を、現像液であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド２．３８ｗｔ％（ＴＭＡＨ、東京応化工業社製：ＮＭＤ−３）でディップ現像し、未露光部分を除去してパターンを形成した。さらに露光後の基板は加熱炉（アドバンテスト社製ＦＵＷ２１０ＰＡ）中、大気雰囲気下で２３０℃１時間加熱（ポストベーク）して硬化させ、膜厚１．５μｍのパターニングされた電極間絶縁層を第１透明電極上に形成した。
（第２透明電極の作製）
さらに上記電極間絶縁層上に、ブリッジ部を構成する第２透明電極を形成するために、ＩＴＯを用い、スパッタにより全面に５０ｎｍの厚さで製膜し、第１透明電極と同様にポジ感光性材料を用いフォトリソグラフィの手法により所定の位置に複数のブリッジが形成されるパターンで第２透明電極（図７（ｂ）参照）を形成した。
さらに上記電極間絶縁層上に、ブリッジ部を構成する第２透明電極を形成するために、ＩＴＯを用い、スパッタにより全面に５０ｎｍの厚さで製膜し、第１透明電極と同様にポジ感光性材料を用いフォトリソグラフィの手法により所定の位置に複数のブリッジが形成されるパターンで第２透明電極（図７（ｂ）参照）を形成した。
（表面保護層（オーバーコート層）の作製）
上記硬化性樹脂組成物を用い、電極間絶縁層と同様の製膜手法により、第２透明電極を形成した基材面に厚さ１．５μｍの表面保護層を製膜した。
上記硬化性樹脂組成物を用い、電極間絶縁層と同様の製膜手法により、第２透明電極を形成した基材面に厚さ１．５μｍの表面保護層を製膜した。
・カラーフィルタ層の作製
（遮光部の作製）
下記に示すとおり、着色材料として顔料を用い、分散液組成物（顔料、分散剤及び溶剤を含有する）にビーズを加え、分散機で３時間分散させ、その後ビーズを取り除いた分散液とクリアレジスト組成物（ポリマー、モノマー、添加剤、開始剤及び溶剤を含有する）とを混合して、遮光部形成用レジストを調製した。尚、分散機としては、ペイントシェーカーを用いた。
（遮光部の作製）
下記に示すとおり、着色材料として顔料を用い、分散液組成物（顔料、分散剤及び溶剤を含有する）にビーズを加え、分散機で３時間分散させ、その後ビーズを取り除いた分散液とクリアレジスト組成物（ポリマー、モノマー、添加剤、開始剤及び溶剤を含有する）とを混合して、遮光部形成用レジストを調製した。尚、分散機としては、ペイントシェーカーを用いた。
＜遮光層形成用レジストの組成＞
・黒顔料（大日精化工業（株）製ＴＭブラック＃９５５０） １４．０重量部
・分散剤（ビックケミー（株）製Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１１１） １．２重量部
・ポリマー（昭和高分子（株）製ＶＲ６０） ２．８重量部
・モノマー（サートマー（株）製ＳＲ３９９） ３．５重量部
・添加剤（綜研化学（株）製Ｌ−２０） ０．７重量部
・開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１） １．６重量部
・開始剤（４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン） ０．３重量部
・開始剤（２，４−ジエチルチオキサントン） ０．１重量部
・溶剤（エチレングリコールモノブチルエーテル） ７５．８重量部
・黒顔料（大日精化工業（株）製ＴＭブラック＃９５５０） １４．０重量部
・分散剤（ビックケミー（株）製Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１１１） １．２重量部
・ポリマー（昭和高分子（株）製ＶＲ６０） ２．８重量部
・モノマー（サートマー（株）製ＳＲ３９９） ３．５重量部
・添加剤（綜研化学（株）製Ｌ−２０） ０．７重量部
・開始剤（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１） １．６重量部
・開始剤（４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン） ０．３重量部
・開始剤（２，４−ジエチルチオキサントン） ０．１重量部
・溶剤（エチレングリコールモノブチルエーテル） ７５．８重量部
次に表面保護層を備えるガラス基板の、該表面保護層を搬送面側として設置し、ガラス基板上に直接に、一般的な液晶表示装置における遮光部の形成手法に倣い、上記遮光部形成用レジストを用いて遮光部を形成した。より具体的にはガラス基板表面を洗浄し、次いで、上記遮光部形成用レジストをガラス基板表面に塗工し、次いで、乾燥、露光、現像、加熱の一連のプロセスからなるフォトリソグラフィの手法により、格子状のパターンで構成される遮光部を形成した。
（着色層の製膜）
次いで、一般的な液晶表示装置における着色層の形成手法に倣い、赤色画素、緑色画素、青色画素が帯状のパターンで順に繰り返される配列となるよう構成される着色層を形成した。これによって一枚のガラス基板において５０面の整列するタッチパネル部材を得た。最後に、上記５０面に裁断し、裁断された任意の１面からなるタッチパネル部材を実施例１とした。
次いで、一般的な液晶表示装置における着色層の形成手法に倣い、赤色画素、緑色画素、青色画素が帯状のパターンで順に繰り返される配列となるよう構成される着色層を形成した。これによって一枚のガラス基板において５０面の整列するタッチパネル部材を得た。最後に、上記５０面に裁断し、裁断された任意の１面からなるタッチパネル部材を実施例１とした。
具体的な着色層の形成手順について以下説明する。
上記のようにして遮光部を形成した基板上に、下記組成の赤色着色樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布（塗布厚み２．５μｍ）し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。次いで、赤色着色樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色着色樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を１８０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素を形成すべき領域に赤色のレリーフパターンを形成した。
次に、下記組成の緑色着色樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、緑色画素を形成すべき領域に緑色のレリーフパターンを形成した。さらに、下記組成の青色着色樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、青色画素を形成すべき領域に青色のレリーフパターンを形成し、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色からなる着色層を形成した。
上記のようにして遮光部を形成した基板上に、下記組成の赤色着色樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布（塗布厚み２．５μｍ）し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。次いで、赤色着色樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色着色樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を１８０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素を形成すべき領域に赤色のレリーフパターンを形成した。
次に、下記組成の緑色着色樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、緑色画素を形成すべき領域に緑色のレリーフパターンを形成した。さらに、下記組成の青色着色樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、青色画素を形成すべき領域に青色のレリーフパターンを形成し、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色からなる着色層を形成した。
＜赤色着色樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（ＢＴ−ＣＦ、ＣＳＣ製） ４．９重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（ＡＴＹ−ＴＲ、ＤＩＣ製） ２．３重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０（Ｙ−５６８８、Ｌａｎｘｅｓｓ製）２．８重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物 ５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル ８２重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（ＢＴ−ＣＦ、ＣＳＣ製） ４．９重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（ＡＴＹ−ＴＲ、ＤＩＣ製） ２．３重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０（Ｙ−５６８８、Ｌａｎｘｅｓｓ製）２．８重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物 ５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル ８２重量部
＜緑色着色樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８（ＤＩＣ製） ６．９重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０（Ｙ−５６８８、Ｌａｎｘｅｓｓ製）３．１重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物 ５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル ８２重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８（ＤＩＣ製） ６．９重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０（Ｙ−５６８８、Ｌａｎｘｅｓｓ製）３．１重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物 ５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル ８２重量部
＜青色着色樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（ＥＰ−ＣＦ、ＤＩＣ製） ９重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット（Ｖｉｏｌｅｔ ＲＥ、大日精化製） １重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物 ５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル ８２重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（ＥＰ−ＣＦ、ＤＩＣ製） ９重量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット（Ｖｉｏｌｅｔ ＲＥ、大日精化製） １重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤 ３重量部
・上記硬化性樹脂組成物 ５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル ８２重量部
（スペーサの形成）
上記のようにして遮光部および着色層を形成した基板上に、上記硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布（JSR製 NN780）、乾燥し塗布膜を形成した。上記硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を２００℃の雰囲気中に３０分間放置することにより加熱処理を施して、上端部面積が１００μｍ２で３．８μｍの固定スペーサを形成した。
上記のようにして遮光部および着色層を形成した基板上に、上記硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布（JSR製 NN780）、乾燥し塗布膜を形成した。上記硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。その後基板を２００℃の雰囲気中に３０分間放置することにより加熱処理を施して、上端部面積が１００μｍ２で３．８μｍの固定スペーサを形成した。
・タッチパネル付液晶表示装置の作製
上記のようにして得られたカラーフィルタの膜形成表面に、ポリイミドよりなる配向膜を形成した。次いでＴＦＴを形成したガラス基板上にＴＮ液晶を必要量滴下し、上記カラーフィルタを重ね合わせ、ＵＶ硬化性樹脂をシール材として用い、常温で０．３ｋｇｆ/ｃｍ２の圧力をかけながら４００ｍＪ/ｃｍ２の照射量で露光することにより接合して、セル組みし、その後さらに外側両面に偏光板を貼り付け実施例１のタッチパネル付液晶表示装置を得た。実施例１のタッチパネル付液晶表示装置は、オンセル構造である。
上記のようにして得られたカラーフィルタの膜形成表面に、ポリイミドよりなる配向膜を形成した。次いでＴＦＴを形成したガラス基板上にＴＮ液晶を必要量滴下し、上記カラーフィルタを重ね合わせ、ＵＶ硬化性樹脂をシール材として用い、常温で０．３ｋｇｆ/ｃｍ２の圧力をかけながら４００ｍＪ/ｃｍ２の照射量で露光することにより接合して、セル組みし、その後さらに外側両面に偏光板を貼り付け実施例１のタッチパネル付液晶表示装置を得た。実施例１のタッチパネル付液晶表示装置は、オンセル構造である。
［実施例２］
電極間保護層及び表面保護層を以下のように変更したこと以外は、実施例１と同様にオンセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
電極間保護層及び表面保護層を以下のように変更したこと以外は、実施例１と同様にオンセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
（電極間保護層及び表面保護層の調整）
５００ｍｌの四口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂２３１ｇ（エポキシ当量２３１）と、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド４５０ｍｇ、２，６−ジ−イソブチルフェノール１００ｍｇと、アクリル酸７２．０ｇとを、乾燥空気を吹き込み（２５ｍｌ／分）、かつ、温度９０℃〜１００℃で加熱しながら、撹拌下に反応させた。次に、溶液が白濁したまま徐々に１２０℃まで昇温して撹拌を続けると、溶液は次第に透明粘稠になった。この溶液の酸価を随時測定し、２．０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満になるまで加熱攪拌を続けた。酸価が目標（酸価：０．８）に達するまでに８時間を要した。そして、室温まで冷却し、無色透明な固体を得た。次いで、上記の得られたビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート樹脂（化学式２）３０３ｇにセロソルブアセテート２ｋｇを加えて溶液とした後、１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸３８ｇとベンゾフェノンテトラカルボン二酸無水物８０．５ｇ、及び臭化テトラエチルアンモニウム１ｇとを混合し、徐々に昇温して１１０℃〜１１５℃で２時間反応させ、生成物（化合物１）〔ｍ／ｎ＝５０／５０〕を得た。酸無水物の反応はＩＲスペクトルの１７８０ｃｍ−１ピークの消失により確認した。
次に攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを装着した四口フラスコに塩化メチレン５０ｇとγ−ブチロラクトン１７．２ｇ（０．２ｍｏｌ）とを仕込み、得られた溶液を１０℃に冷却しながら、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体０．８０ｍｏｌ（０．００６２ｍｏｌ）を添加した。次に、反応液温度を５℃〜１０℃に保ちながら、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（エポキシ当量２６０）２６．０ｇ（０．１当量）と塩化メチレン２００ｇの混合液を攪拌下に５時間かけて滴下し、反応を行った。滴下終了後、更に３時間温度を一定に保ちながら攪拌を行った後、トリエチルアミン（反応停止剤）０．７２ｇ（０．００７２ｍｏｌ）を加え、次に過剰のγ−ブチロラクトンを除去するために反応液を６％水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌで２回アルカリ洗浄し、更に蒸留水５００ｍｌで２回洗浄を行った。有機層を分離し、硫酸マグネシウムで脱水した後、脱溶媒することによりγ−ブチロラクトンカルド型付加体（化合物２）を得た。得られた生成物の収量は３０．４ｇ（収率は８８％）であった。
５００ｍｌの四口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂２３１ｇ（エポキシ当量２３１）と、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド４５０ｍｇ、２，６−ジ−イソブチルフェノール１００ｍｇと、アクリル酸７２．０ｇとを、乾燥空気を吹き込み（２５ｍｌ／分）、かつ、温度９０℃〜１００℃で加熱しながら、撹拌下に反応させた。次に、溶液が白濁したまま徐々に１２０℃まで昇温して撹拌を続けると、溶液は次第に透明粘稠になった。この溶液の酸価を随時測定し、２．０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満になるまで加熱攪拌を続けた。酸価が目標（酸価：０．８）に達するまでに８時間を要した。そして、室温まで冷却し、無色透明な固体を得た。次いで、上記の得られたビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート樹脂（化学式２）３０３ｇにセロソルブアセテート２ｋｇを加えて溶液とした後、１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸３８ｇとベンゾフェノンテトラカルボン二酸無水物８０．５ｇ、及び臭化テトラエチルアンモニウム１ｇとを混合し、徐々に昇温して１１０℃〜１１５℃で２時間反応させ、生成物（化合物１）〔ｍ／ｎ＝５０／５０〕を得た。酸無水物の反応はＩＲスペクトルの１７８０ｃｍ−１ピークの消失により確認した。
次に攪拌機、コンデンサー、温度計及び滴下ロートを装着した四口フラスコに塩化メチレン５０ｇとγ−ブチロラクトン１７．２ｇ（０．２ｍｏｌ）とを仕込み、得られた溶液を１０℃に冷却しながら、三フッ化ホウ素−ジエチルエーテル錯体０．８０ｍｏｌ（０．００６２ｍｏｌ）を添加した。次に、反応液温度を５℃〜１０℃に保ちながら、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（エポキシ当量２６０）２６．０ｇ（０．１当量）と塩化メチレン２００ｇの混合液を攪拌下に５時間かけて滴下し、反応を行った。滴下終了後、更に３時間温度を一定に保ちながら攪拌を行った後、トリエチルアミン（反応停止剤）０．７２ｇ（０．００７２ｍｏｌ）を加え、次に過剰のγ−ブチロラクトンを除去するために反応液を６％水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌで２回アルカリ洗浄し、更に蒸留水５００ｍｌで２回洗浄を行った。有機層を分離し、硫酸マグネシウムで脱水した後、脱溶媒することによりγ−ブチロラクトンカルド型付加体（化合物２）を得た。得られた生成物の収量は３０．４ｇ（収率は８８％）であった。
以下に示した配合割合で混合した樹脂組成物を用い、実施例１における電極間絶縁層および表面保護層の形成方法と同様にして、実施例２の電極間保護層及び表面保護層を得た。
＜樹脂組成物の組成＞
・上記化合物１ ２０重量部
・上記化合物２ ４重量部
・ベンゾイルパーオキサイド ０．３５重量部
・Ｉｒｇ９０７ ０．３５重量部
・セロソルブアセテート ７５．３重量部
・上記化合物１ ２０重量部
・上記化合物２ ４重量部
・ベンゾイルパーオキサイド ０．３５重量部
・Ｉｒｇ９０７ ０．３５重量部
・セロソルブアセテート ７５．３重量部
［実施例３］
表面保護層の膜厚を４μｍに変更した以外は、実施例１と同様にしてオンセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
表面保護層の膜厚を４μｍに変更した以外は、実施例１と同様にしてオンセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
［実施例４］
カラーフィルタ層、スペーサ層および配向膜を表面保護層側に作製し、液晶セル内にタッチパネルが配置されるように液晶セルを組立てたこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル付液晶表示装置を作製した。実施例４のタッチパネル付液晶表示装置はインセル構造である。
カラーフィルタ層、スペーサ層および配向膜を表面保護層側に作製し、液晶セル内にタッチパネルが配置されるように液晶セルを組立てたこと以外は、実施例１と同様にしてタッチパネル付液晶表示装置を作製した。実施例４のタッチパネル付液晶表示装置はインセル構造である。
［実施例５］
カラーフィルタ層、スペーサ層および配向膜を表面保護層側に作製し、液晶セル内にタッチパネルが配置されるように液晶セルを組立てたこと以外は、実施例２と同様にしてインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
カラーフィルタ層、スペーサ層および配向膜を表面保護層側に作製し、液晶セル内にタッチパネルが配置されるように液晶セルを組立てたこと以外は、実施例２と同様にしてインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
［実施例６］
カラーフィルタ層、スペーサ層および配向膜を表面保護層側に作製し、液晶セル内にタッチパネルが配置されるように液晶セルを組立てたこと以外は、実施例３と同様にしてインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
カラーフィルタ層、スペーサ層および配向膜を表面保護層側に作製し、液晶セル内にタッチパネルが配置されるように液晶セルを組立てたこと以外は、実施例３と同様にしてインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
［比較例１］
実施例１と同様の方法で、液晶セル用基材の準備、透明電極用配線の作製、第１透明電極の作製を行った。次に、電極間絶縁層を実施例２と同様の材料と方法を用いて作製した。その後、実施例１と同様の方法で第２透明電極を作製し、実施例２と同様の材料および方法を用いて、膜厚０．７５μｍで表面保護層の作製し、タッチパネル層とした。
その後、実施例１と同様の方法でカラーフィルタ層を別途の透明基板に作製し、カラーフィルタの膜形成表面に、ポリイミドよりなる配向膜を形成した。次いでＴＦＴを形成したガラス基板上にＴＮ液晶を必要量滴下し、上記カラーフィルタを重ね合わせ、ＵＶ硬化性樹脂をシール材として用い、常温で０．３ｋｇｆ/ｃｍ２の圧力をかけながら４００ｍＪ/ｃｍ２の照射量で露光することにより接合して、セル組みし、さらに外側両面に偏光板を貼り付け、液晶表示装置を得た。この液晶表示装置上にタッチパネル層をＵＶ硬化性樹脂をシール材として用い、張り合わせた。以上の手順により、タッチパネル付液晶表示装置を得た。比較例１のタッチパネル付液晶表示装置は、アウトセル構造である。
実施例１と同様の方法で、液晶セル用基材の準備、透明電極用配線の作製、第１透明電極の作製を行った。次に、電極間絶縁層を実施例２と同様の材料と方法を用いて作製した。その後、実施例１と同様の方法で第２透明電極を作製し、実施例２と同様の材料および方法を用いて、膜厚０．７５μｍで表面保護層の作製し、タッチパネル層とした。
その後、実施例１と同様の方法でカラーフィルタ層を別途の透明基板に作製し、カラーフィルタの膜形成表面に、ポリイミドよりなる配向膜を形成した。次いでＴＦＴを形成したガラス基板上にＴＮ液晶を必要量滴下し、上記カラーフィルタを重ね合わせ、ＵＶ硬化性樹脂をシール材として用い、常温で０．３ｋｇｆ/ｃｍ２の圧力をかけながら４００ｍＪ/ｃｍ２の照射量で露光することにより接合して、セル組みし、さらに外側両面に偏光板を貼り付け、液晶表示装置を得た。この液晶表示装置上にタッチパネル層をＵＶ硬化性樹脂をシール材として用い、張り合わせた。以上の手順により、タッチパネル付液晶表示装置を得た。比較例１のタッチパネル付液晶表示装置は、アウトセル構造である。
［比較例２］
電極間絶縁層及び表面保護層を実施例３と同様の材料と方法で製膜した以外は、比較例１と同様の方法で、アウトセル型のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
電極間絶縁層及び表面保護層を実施例３と同様の材料と方法で製膜した以外は、比較例１と同様の方法で、アウトセル型のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
［比較例３］
電極間保護層及び表面保護層を以下のように変更したこと以外は、比較例１と同様の方法で、アウトセル型のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
電極間保護層及び表面保護層を以下のように変更したこと以外は、比較例１と同様の方法で、アウトセル型のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
（電極間保護層及び表面保護層の調整）
撹拌装置、滴下ロート、温度計、コンデンサー及びチッソ置換装置を付した１Ｌのフラスコ内を窒素ガスにより置換した後、脱水精製した５００Ｌのジエチレングリコールモノメチルエーテル及び０．１３２ｍｏｌの３，３’−ジアミノジフェニルスルホン（３，３’−ＤＤＳ）を投入し、この溶液を３０℃〜３５℃に保ちつつ、０．１５１ｍｏｌの３，３’、４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）を滴下ロートから３０分間で添加し、この温度で５時間反応を行った。その後０．０３０２ｍｏｌの３−アミノプロピルトリエトキシシランを添加し、さらに２時間反応を行うことにより淡黄色透明な電極間保護層および表面保護層用の樹脂組成物が得られた。この樹脂組成物の回転粘度は１６０センチポアズであった。ここで回転粘度とはＥ型粘度計（株式会社東京計器製VISCONIC EMD）を使用して温度２５℃で測定した粘度である。
撹拌装置、滴下ロート、温度計、コンデンサー及びチッソ置換装置を付した１Ｌのフラスコ内を窒素ガスにより置換した後、脱水精製した５００Ｌのジエチレングリコールモノメチルエーテル及び０．１３２ｍｏｌの３，３’−ジアミノジフェニルスルホン（３，３’−ＤＤＳ）を投入し、この溶液を３０℃〜３５℃に保ちつつ、０．１５１ｍｏｌの３，３’、４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（ＢＴＤＡ）を滴下ロートから３０分間で添加し、この温度で５時間反応を行った。その後０．０３０２ｍｏｌの３−アミノプロピルトリエトキシシランを添加し、さらに２時間反応を行うことにより淡黄色透明な電極間保護層および表面保護層用の樹脂組成物が得られた。この樹脂組成物の回転粘度は１６０センチポアズであった。ここで回転粘度とはＥ型粘度計（株式会社東京計器製VISCONIC EMD）を使用して温度２５℃で測定した粘度である。
［比較例４］
電極間絶縁層及び表面保護層を比較例３と同様の材料と方法で製膜した以外は、実施例１と同様の方法でオンセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
電極間絶縁層及び表面保護層を比較例３と同様の材料と方法で製膜した以外は、実施例１と同様の方法でオンセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
［比較例５］
表面保護層の膜厚を２．１５μｍで作製した以外は比較例４と同様の方法でオンセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
表面保護層の膜厚を２．１５μｍで作製した以外は比較例４と同様の方法でオンセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
［比較例６］
電極間絶縁層及び表面保護層は比較例４と同様の方法で作製し、それ以外は実施例４と同様の方法でインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
電極間絶縁層及び表面保護層は比較例４と同様の方法で作製し、それ以外は実施例４と同様の方法でインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
［比較例７］
電極間絶縁層及び表面保護層は、比較例５と同様の方法で、それ以外は実施例４と同様の方法でインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
電極間絶縁層及び表面保護層は、比較例５と同様の方法で、それ以外は実施例４と同様の方法でインセル構造のタッチパネル付液晶表示装置を作製した。
［評価］
（Ｒｔｈの測定方法）
タッチパネル付液晶表示装置のＲｔｈの測定は、AXOMETRICS社製AxoscanTM Mueller Matrix Polarimeterを用いて実施した。タッチパネル付液晶表示装置の液晶の配向を白表示の状態にして、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍでのＲｔｈを測定し、平均した値を本件のＲｔｈ値とした。結果を表１に示す。
（Ｒｔｈの測定方法）
タッチパネル付液晶表示装置のＲｔｈの測定は、AXOMETRICS社製AxoscanTM Mueller Matrix Polarimeterを用いて実施した。タッチパネル付液晶表示装置の液晶の配向を白表示の状態にして、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍでのＲｔｈを測定し、平均した値を本件のＲｔｈ値とした。結果を表１に示す。
（表示コントラストの測定方法）
表示コントラスト（ＣＲ）は、輝度計（（株）トプコン製 ＳＲ−３ＡＲ）を用いて実施した。タッチパネル付液晶表示装置の液晶の配向が白表示時の輝度をＹ１、黒表示時の輝度をＹ２とし、表示コントラストは、Ｙ１÷Ｙ２で表される値とした。結果を表１に示す。
また、比較例１において、タッチパネル層を配置する前の液晶表示装置の表示コントラストについても同様に測定した。タッチパネル層の配置する前の液晶表示装置の表示コントラストに対する、実施例１〜６および比較例１〜７におけるタッチパネル付液晶表示装置の表示コントラストの低下率（ＣＲ低下率）を求めた。結果を表１に示す。
表示コントラスト（ＣＲ）は、輝度計（（株）トプコン製 ＳＲ−３ＡＲ）を用いて実施した。タッチパネル付液晶表示装置の液晶の配向が白表示時の輝度をＹ１、黒表示時の輝度をＹ２とし、表示コントラストは、Ｙ１÷Ｙ２で表される値とした。結果を表１に示す。
また、比較例１において、タッチパネル層を配置する前の液晶表示装置の表示コントラストについても同様に測定した。タッチパネル層の配置する前の液晶表示装置の表示コントラストに対する、実施例１〜６および比較例１〜７におけるタッチパネル付液晶表示装置の表示コントラストの低下率（ＣＲ低下率）を求めた。結果を表１に示す。
実施例１〜６のタッチパネル付液晶表示装置おいては、いずれも比較例１〜３のアウトセル型のタッチパネル付液晶表示装置と同様にコントラスト低下率が１０％以下となり、白表示部分および黒表示部分の境界を明確に区別することができ、一対の偏光板の間にタッチパネルを配置したことによる視認性の低下の少ないものとすることができた（表１中、合で示す）。
一方、比較例４〜７のタッチパネル付液晶表示装置においては、コントラスト低下率が１０％を超え、黒表示部分が灰色に見え、白表示部分および黒表示部分を明確に区別することができず、特に、両表示部分の境界を明確に表示することができず、一対の偏光板の間にタッチパネルを配置したことによる視認性の低下が確認された（表１中、否で示す）。
一方、比較例４〜７のタッチパネル付液晶表示装置においては、コントラスト低下率が１０％を超え、黒表示部分が灰色に見え、白表示部分および黒表示部分を明確に区別することができず、特に、両表示部分の境界を明確に表示することができず、一対の偏光板の間にタッチパネルを配置したことによる視認性の低下が確認された（表１中、否で示す）。
１ … 絶縁性層
１０ … タッチパネル
３０ … 液晶セル
４０α、４０β … 偏光板
１０ … タッチパネル
３０ … 液晶セル
４０α、４０β … 偏光板
Claims (2)
- 樹脂から構成される絶縁性層を有するタッチパネルと、
液晶セルと、
前記液晶セルの両側に配置された一対の偏光板とを有し、
前記タッチパネルが前記一対の偏光板の間に配置されているタッチパネル付液晶表示装置であって、
前記タッチパネルは、前記タッチパネルの厚み方向のレターデーションが前記タッチパネル付液晶表示装置全体の厚み方向のレターデーションが０〜４．０の範囲内となるように調整されたものであることを特徴とするタッチパネル付液晶表示装置。 - 前記樹脂が、アクリル樹脂またはカルド樹脂を含有することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル付液晶表示装置。
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