JP6375847B2 - タッチパネルセンサおよびその製造方法、タッチパネルセンサ用基板 - Google Patents
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Description
本発明は、透明電極層の骨見えを好適に抑制することができるタッチパネルセンサ、およびこれに用いるタッチパネルセンサ用基板、ならびにタッチパネルセンサの製造方法に関する。
今日、入力手段として、タッチパネルセンサが広く用いられている。タッチパネルセンサは、多くの場合、液晶表示装置やプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置、例えば券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機等に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルセンサは表示装置の表示面に配置され、これにより、タッチパネルセンサは表示装置に対する極めて直接的な入力を可能にする。
タッチパネルセンサは、表示装置とともに用いられることから、透明性が求められ、タッチパネルセンサを構成する電極には、例えばＩＴＯ等の透明電極層が用いられている。この透明電極層は、通常、透明基板上に所定のパターン形状で形成される。この場合、タッチパネルセンサにおいては、透明電極層が形成されている領域と透明電極層が形成されていない領域とで光の反射率、透過率、透過光の色等の光学特性が異なることにより、透明電極層のパターン形状がタッチパネルセンサ操作者に観察される、いわゆる透明電極層の骨見えが生じるという問題がある。
この問題に対しては、例えば、透明基板と透明電極層との間にインデックスマッチング層（屈折率調整層）を形成することが提案されている（例えば特許文献１〜２参照）。
特許文献１には、透明樹脂基体上に所定の屈折率および膜厚を有する中間屈折率層を設け、中間屈折率層上に透明導電膜を形成した液晶ディスプレイ用樹脂基板が提案されている。中間屈折率層の材料としては、アルミナ等の中間屈折率材料単体、シリカ等の低屈折率材料とジルコニア、チタニア等の高屈折率材料とを混合させた中間屈折率材料、ＳｉＯｘＮｙ等の金属酸窒化物が例示されている。
特許文献２には、基材と、基材上に形成されたインデックスマッチング層と、インデックスマッチング層上に形成され、パターニングされた透明導電体とを有するタッチパネルセンサであって、インデックスマッチング層が、基材上に形成された高屈折率層と、高屈折率層上に形成された低屈折率層とを有し、透明導電体の屈折率は、高屈折率層の屈折率よりも小さく、低屈折率層の屈折率よりも大きいタッチパネルセンサが提案されている。高屈折率層の材料としては五酸化ニオブが例示され、低屈折率層の材料としては二酸化珪素が例示されている。
しかしながら、特許文献１、２に記載されているように、無機材料を用いる場合には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法等により屈折率調整層を形成するため、真空成膜装置を必要とし、製造コストが高くなるという問題がある。
そこで、有機材料を用いて塗布法により屈折率調整層を形成することが検討されている。有機材料を含む屈折率調整層としては、例えば、樹脂を含有するものや、屈折率調整粒子および有機材料を含むものが挙げられる。また、屈折率調整層については、厚さが厚いとタッチパネルセンサの透過率が低下したり、色がついたりする場合があることから、より薄膜で形成することが望ましい。また、屈折率調整層は、通常、透明基板上の全域にベタ状に形成されるものである。
ところで、タッチパネルセンサの非アクティブエリアにおいては、引き出し配線、外部接続端子等を隠すため、例えば額縁状等の加飾層を設けることが望ましい。また、近年ではタッチパネルセンサ自体の意匠性を高めるため、加飾層の色味については、より微妙な調整が要求される場合がある。
本発明者らは、安価で透明電極層の骨見えを十分に抑制可能なタッチパネルセンサについての開発を進める中で、タッチパネルセンサにおいて操作面側から観察される加飾層の色味が実際に調整された色味と異なる場合があり、タッチパネルセンサに十分な意匠性を付与することが困難となる場合があることを知見した。本発明は上記知見に基づきなされたものである。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、意匠性が良好で安価なタッチパネルセンサ、およびこれに用いられるタッチパネルセンサ用基板、ならびに意匠性が良好なタッチパネルセンサを安価に形成することが可能なタッチパネルセンサの製造方法を提供することを主目的とする。
上記目的を達成するために、本発明者等が鋭意研究を重ねた結果、タッチパネルセンサにおいて操作面側から観察される加飾層の色味が実際に調整された色味と異なる要因として、屈折率調整層における光の干渉の影響があることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成され、有機層のみを有する屈折率調整層と、上記透明基板上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含有する加飾層と、上記屈折率調整層上にパターン状に形成され、金属酸化物を含有する透明電極層とを有し、上記屈折率調整層および上記加飾層が同一平面上に形成されていることを特徴とするタッチパネルセンサを提供する。
本発明によれば、屈折率調整層と加飾層とが同一平面上に形成されていることにより、本発明のタッチパネルセンサの意匠性を良好なものとすることができる。また、屈折率調整層が有機層のみを有することから、安価なタッチパネルセンサとすることができる。
上記発明においては、上記加飾層が淡色を呈することが好ましい。加飾層が淡色を呈する場合は、屈折率調整層における光の干渉の影響による加飾層の色味の違いが、操作者に観察されやすい。そのため、屈折率調製層と加飾層と同一平面上に形成することにより、タッチパネルセンサの意匠性をより良好にすることができるからである。
本発明は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成され、有機層のみを有する屈折率調整層と、上記透明基板上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含有する加飾層とを有し、上記屈折率調整層および上記加飾層が同一平面上に形成されていることを特徴とするタッチパネルセンサ用基板を提供する。
本発明によれば、屈折率調整層と加飾層とが同一平面上に形成されていることにより、本発明のタッチパネルセンサ用基板をタッチパネルセンサとした際、意匠性を良好なものとすることができる。また、屈折率調整層が有機層のみを有することから、安価なタッチパネルセンサ用基板とすることができる。
本発明は、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を全面硬化させることにより、有機層のみを有する屈折率調整層を形成する屈折率調整層形成工程と、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、上記屈折率調整層上にレジスト層をパターン状に形成するレジスト層形成工程と、上記レジスト層が形成された上記屈折率調整層における露出部分をエッチングすることにより上記屈折率調整層をパターニングするエッチング工程と、上記エッチング工程後に上記レジスト層を剥離するレジスト層剥離工程と、色材および有機材料を含む加飾層用樹脂組成物を用いて、上記透明基板上に加飾層をパターン状に形成する加飾層形成工程と、上記屈折率調整層上に金属酸化物を含む透明電極層をパターン状に形成する透明電極層形成工程とを有し、上記屈折率調整層と上記加飾層とを同一平面上に形成することを特徴とするタッチパネルセンサの製造方法を提供する。
本発明によれば、上記屈折率調整層形成工程、レジスト層形成工程、エッチング工程およびレジスト層剥離工程を有することにより、有機層のみを有する屈折率調整層をパターン状に形成することができる。よって、無機材料を用いて屈折率調整層をパターン状に形成する場合に比べて、安価にタッチパネルセンサを製造することができる。また、屈折率調整層と加飾層とを同一平面上に形成することにより、意匠性が良好なタッチパネルセンサを製造することができる。
本発明のタッチパネルセンサは、意匠性が良好で安価であるといった効果を奏する。また、本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、意匠性が良好なタッチパネルセンサを安価に製造することができるといった効果を奏する。
以下、本発明のタッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ用基板、およびタッチパネルセンサの製造方法の詳細について説明する。
Ａ．タッチパネルセンサ
本発明のタッチパネルセンサは、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成され、有機層のみを有する屈折率調整層と、上記透明基板上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含有する加飾層と、上記屈折率調整層上にパターン状に形成され、金属酸化物を含有する透明電極層とを有し、上記屈折率調整層および上記加飾層が同一平面上に形成されていることを特徴とするものである。
本発明のタッチパネルセンサは、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成され、有機層のみを有する屈折率調整層と、上記透明基板上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含有する加飾層と、上記屈折率調整層上にパターン状に形成され、金属酸化物を含有する透明電極層とを有し、上記屈折率調整層および上記加飾層が同一平面上に形成されていることを特徴とするものである。
ここで、屈折率調整層と加飾層とが同一平面上に形成されているとは、屈折率調整層と加飾層とが同一の層表面上、または同一部材の表面上に形成されていることをいう。
本発明のタッチパネルセンサについて図を用いて説明する。
図１（ａ）〜（ｃ）は本発明のタッチパネルセンサの一例を示す概略平面図および断面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図、図１（ｃ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、本発明のタッチパネルセンサ１０は、透明基板２と、透明基板２上にパターン状に形成され、有機層のみを有する屈折率調整層３と、透明基板２上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含有する加飾層４と、屈折率調整層３上にパターン状に形成され、金属酸化物を含有する透明電極層５とを有し、屈折率調整層３および加飾層４が同一平面上に形成されていることを特徴とするものである。タッチパネルセンサ１０においては、屈折率調整層３はアクティブエリア１１内に配置され、加飾層４はアクティブエリア１１の外側である非アクティブエリア１２に配置される。また、屈折率調整層３は、屈折率の異なる２層の有機層３１、３２の積層体で構成される。また、タッチパネルセンサ１０は、アクティブエリア１１内に配置され、屈折率調整層３の同一面上にパターン状に形成され、互いに絶縁された第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂと、屈折率調整層３上にパターン状に形成され、第２電極１３ｂ同士を接続する第２導電部１４ｂと、第２導電部１４ｂを覆うように形成された絶縁層１７と、絶縁層１７上にパターン状に形成され、第１電極１３ａ同士を接続する第１導電部１４ａと、非アクティブエリア１２に配置され、加飾層４上にパターン状に形成され、第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂにそれぞれ接続された取り出し配線１５および取り出し配線１５に接続された外部接続端子１６とを有している。なお、説明を容易にするため、図１（ａ）において絶縁層、加飾層を省略している。
このタッチパネルセンサ１０において、第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂ、ならび
に第２電極１３ｂ同士を接続する第２導電部１４ｂは、透明電極層５となっている。
図１（ａ）〜（ｃ）は本発明のタッチパネルセンサの一例を示す概略平面図および断面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図、図１（ｃ）は図１（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、本発明のタッチパネルセンサ１０は、透明基板２と、透明基板２上にパターン状に形成され、有機層のみを有する屈折率調整層３と、透明基板２上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含有する加飾層４と、屈折率調整層３上にパターン状に形成され、金属酸化物を含有する透明電極層５とを有し、屈折率調整層３および加飾層４が同一平面上に形成されていることを特徴とするものである。タッチパネルセンサ１０においては、屈折率調整層３はアクティブエリア１１内に配置され、加飾層４はアクティブエリア１１の外側である非アクティブエリア１２に配置される。また、屈折率調整層３は、屈折率の異なる２層の有機層３１、３２の積層体で構成される。また、タッチパネルセンサ１０は、アクティブエリア１１内に配置され、屈折率調整層３の同一面上にパターン状に形成され、互いに絶縁された第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂと、屈折率調整層３上にパターン状に形成され、第２電極１３ｂ同士を接続する第２導電部１４ｂと、第２導電部１４ｂを覆うように形成された絶縁層１７と、絶縁層１７上にパターン状に形成され、第１電極１３ａ同士を接続する第１導電部１４ａと、非アクティブエリア１２に配置され、加飾層４上にパターン状に形成され、第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂにそれぞれ接続された取り出し配線１５および取り出し配線１５に接続された外部接続端子１６とを有している。なお、説明を容易にするため、図１（ａ）において絶縁層、加飾層を省略している。
このタッチパネルセンサ１０において、第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂ、ならび
に第２電極１３ｂ同士を接続する第２導電部１４ｂは、透明電極層５となっている。
本発明によれば、屈折率調整層と加飾層とが同一平面上に形成されていることにより、本発明のタッチパネルセンサの意匠性を良好なものとすることができる。
上述したように、本発明者らは、タッチパネルセンサにおいて操作面側から観察される加飾層の色味が実際に調整された色味と異なる場合があることを知見した。また、屈折率調整層による光の干渉の影響がその要因であることを見出した。すなわち、従来から図７に示すように、屈折率調整層３は透明基板２上にベタ状に形成される場合が多いことから、加飾層４は屈折率調整層３上に形成される場合が多い。そのため、タッチパネルセンサにおいて、屈折率調整層および加飾層が形成された面とは反対側の面を操作面とした場合、操作者からは屈折率調整層を介して加飾層が観察される。この際、屈折率調整層による光の干渉により、加飾層において実際に呈される色と異なる色が操作者に観察されることを見出した。なお、この点は、本発明において初めて見出されたものである。
これに対して、本発明によれば、屈折率調整層と加飾層とが同一平面上に形成されていることにより、タッチパネルセンサの操作面側からは、加飾層は屈折率調整層を介することなく操作者から観察される。よって、屈折率調整層による光の干渉が、加飾層の色味に影響を与えないようにすることができる。したがって、タッチパネルセンサの意匠に合わせて、加飾層の色味を調整しやすくすることができる。
また、本発明によれば、屈折率調整層が有機層のみを有するため、タッチパネルセンサの製造コストを安価なものとすることができる。
ところで、タッチパネルセンサの構成として、図８に示すように、透明基板２と、透明基板２上にパターン状に形成された加飾層４と、透明基板２および加飾層４を覆うように形成された屈折率調整層３とを有する構成とした場合も、操作面側からは屈折率調整層を介して加飾層が観察されないようにすることができるため、タッチパネルセンサの意匠性については良好なものとすることができるとも考えられる。しかしながら、この場合、加飾層４表面と透明基板２表面との段差を有することから、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を用いた塗布法により、屈折率調整層を均一な厚さで形成することが困難であり、加飾層近傍における屈折率調整層の厚さが厚くなる場合がある。また、屈折率調整層は厚さにより光学特性が大きく変化するため、図８に示すように、部分的に厚さが異なる場合、操作面側からは干渉縞が観察される場合がある。また、加飾層の厚さについては、加飾層の呈する色が淡色である程、遮光性等を付与するために厚く形成する必要があることから、屈折率調整層の形成面の段差は大きくなる。そのため、屈折率調整層の厚さを均一にすることがより困難となることが懸念される。
これに対して、本発明においては、屈折率調整層と加飾層とを同一平面上に形成することにより、屈折率調整層が形成される面については、段差を有さないものとすることができる。よって、屈折率調整層の厚さを均一なものとすることができる。
これに対して、本発明においては、屈折率調整層と加飾層とを同一平面上に形成することにより、屈折率調整層が形成される面については、段差を有さないものとすることができる。よって、屈折率調整層の厚さを均一なものとすることができる。
以下、本発明のタッチパネルセンサの詳細について説明する。
１．屈折率調整層
本発明における屈折率調整層は、上記透明基板上にパターン状に形成され、有機層のみを含むものである。
本発明における屈折率調整層は、上記透明基板上にパターン状に形成され、有機層のみを含むものである。
屈折率調整層は、本発明のタッチパネルセンサにおいて、透明電極層が形成されている領域と透明電極層が形成されていない領域との光学特性を合わせることにより、透明電極層の骨見えを抑制するために設けられる層である。
本発明においては、屈折率調整層は、透明基板上におけるアクティブエリアにパターン状に形成される。また、図１（ｂ）、（ｃ）に示すように、屈折率調整層３は、アクティブエリアの全域に形成されていてもよく、図２に示すように、アクティブエリアにおいて透明電極層５が形成されていない領域にパターン状に形成されていてもよい。通常は、アクティブエリアの全域に形成される。
なお、図２は本発明のタッチパネルセンサの他の例を示す概略断面図であり、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面に相当する断面図である。
なお、図２は本発明のタッチパネルセンサの他の例を示す概略断面図であり、図１（ａ）のＡ−Ａ線断面に相当する断面図である。
屈折率調整層の配置としては、透明基板上に屈折率調整層が形成されていればよく、通常は、図１（ｂ）、（ｃ）に示すように透明基板２の片面のみに屈折率調整層３が形成される。
本発明における屈折率調整層は、透明電極層の骨見えを抑制することができるものであれば特に限定されず、透明基板上に形成された１層の有機層で構成されていてもよく、透明基板上に形成され、屈折率の異なる複数の有機層が積層されているものであってもよい。中でも、本発明においては、屈折率調整層は、透明基板上に形成され、屈折率の異なる複数の有機層が積層されたものであることが好ましく、また、各有機層の厚さが１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であることが好ましい。屈折率調整層が上記構成を有する場合は、屈折率調整層の薄膜で形成することができ、透明電極層の骨見えについても好適に抑制することができるからである。
ここで、屈折率の異なる複数の有機層が積層されているとは、複数の有機層の積層体において、隣接する有機層の屈折率が異なることをいい、隣接しない有機層の屈折率が同じである場合も含む概念である。例えば、３層の有機層が積層されている場合、１層目および２層目の有機層の屈折率が異なり、２層目および３層目の有機層の屈折率が異なっていればよく、１層目の有機層および３層目の有機層の屈折率は同じであっても異なっていてもよい。
屈折率調整層が、屈折率の異なる複数の有機層が積層されたものである場合、高屈折率層および低屈折率層を少なくとも有するものである。有機層の積層数としては、２層以上であればよく、例えば２層、３層等とすることができる。屈折率調整層が２層の有機層の積層体で構成される場合、屈折率調整層としては、例えば、透明基板上に形成された高屈折率層と、高屈折率層上に形成された低屈折率層とを有するもの、透明基板上に形成された低屈折率層と、低屈折率層上に形成された高屈折率層とを有するものが挙げられる。有機層の積層数、屈折率調整層の層構成、高屈折率層および低屈折率層の積層順等については、透明基板およびタッチパネルセンサにおける透明電極層の屈折率、透明電極層の厚さ等に応じて適宜選択することができる。
中でも、屈折率調整層は２層の有機層が積層されたものであることが好ましい。屈折率調整層を少ない層数で構成することができるため、タッチパネルセンサの製造工程をより簡便にすることができ、製造コストを削減することができるからである。
高屈折率層および低屈折率層の屈折率としては、透明電極層の骨見え抑制効果が得られればよく、各有機層の厚さ、有機層の積層数、屈折率調整層の層構成、高屈折率層および低屈折率層の積層順、透明基板およびタッチパネルセンサにおける透明電極層の屈折率、透明電極層の厚さ等に応じて適宜調整される。
屈折率調整層が２層の有機層の積層体で構成される場合であって、屈折率調整層が、透明基板上に形成された高屈折率層と、高屈折率層上に形成された低屈折率層とを有する場合、高屈折率層の屈折率は、透明基板および低屈折率層よりも高ければよい。また、低屈折率層の屈折率は、高屈折率層および透明電極層よりも低ければよい。
また、屈折率調整層が２層の有機層の積層体で構成される場合であって、屈折率調整層が、透明基板上に形成された低屈折率層と、低屈折率層上に形成された高屈折率層とを有する場合、低屈折率層の屈折率は、透明基板よりも高く、高屈折率層よりも低ければよい。
屈折率調整層が２層の有機層の積層体で構成される場合であって、屈折率調整層が、透明基板上に形成された高屈折率層と、高屈折率層上に形成された低屈折率層とを有する場合、高屈折率層の屈折率は、透明基板および低屈折率層よりも高ければよい。また、低屈折率層の屈折率は、高屈折率層および透明電極層よりも低ければよい。
また、屈折率調整層が２層の有機層の積層体で構成される場合であって、屈折率調整層が、透明基板上に形成された低屈折率層と、低屈折率層上に形成された高屈折率層とを有する場合、低屈折率層の屈折率は、透明基板よりも高く、高屈折率層よりも低ければよい。
具体的には、高屈折率層の屈折率は、１．７０〜１．９０の範囲内であることが好ましく、中でも１．７０〜１．８５の範囲内であることが好ましい。
また、低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．６０の範囲内であることが好ましく、中でも１．５０〜１．６０の範囲内であることが好ましい。
ここで、高屈折率層および低屈折率層の屈折率は、有機層を５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
また、低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．６０の範囲内であることが好ましく、中でも１．５０〜１．６０の範囲内であることが好ましい。
ここで、高屈折率層および低屈折率層の屈折率は、有機層を５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
また、屈折率調整層が１層の有機層を有する場合は、透明基板の屈折率と異なる屈折率を有するように、屈折率が調整されていればよい。この場合、屈折率調整層の屈折率は、透明基板の屈折率よりも高くてもよく、低くてもよい。
有機層に用いられる有機材料としては、透明性を有し、所定の屈折率を示す有機層を得ることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば樹脂が挙げられる。樹脂としては、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂を挙げることができ、例えば熱硬化樹脂や電離放射線硬化樹脂が挙げられる。
ここで、「電離放射線硬化樹脂」とは、電離放射線の照射により硬化した樹脂をいう。
「電離放射線」とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものをいい、例えば、紫外線や電子線の他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線が挙げられる。
電離放射線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を挙げることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。
ここで、「電離放射線硬化樹脂」とは、電離放射線の照射により硬化した樹脂をいう。
「電離放射線」とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものをいい、例えば、紫外線や電子線の他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線が挙げられる。
電離放射線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を挙げることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。
熱硬化樹脂としては、透明性を有し、所定の屈折率を示す有機層を得ることができるものであればよく、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができる。
紫外線硬化樹脂としては、所定の屈折率を示す有機層を得ることができるものであればよく、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂等を挙げることができる。
有機層は屈折率調整粒子を含有していてもよい。有機材料に屈折率調整粒子を添加することによって、有機層の屈折率を調整することができる。屈折率調整粒子としては、高屈折率層に用いられる高屈折率粒子、低屈折率層に用いられる低屈折率粒子が挙げられる。中でも、高屈折率層は、屈折率の調整が容易であることから、有機材料および高屈折率粒子を含有することが好ましい。
なお、有機層が屈折率調整粒子を含有する場合、有機層は表面に屈折率調整粒子による凹凸を有していてもよい。
なお、有機層が屈折率調整粒子を含有する場合、有機層は表面に屈折率調整粒子による凹凸を有していてもよい。
高屈折率層に用いられる高屈折率粒子としては、上記の屈折率を満たす高屈折率層を得ることができるものであれば特に限定されるものではない。中でも、高屈折率粒子の屈折率は１．５〜２．８程度であることが好ましい。
このような高屈折率粒子としては、金属酸化物粒子を挙げることができ、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：１．７９〜２．０４）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜２．０５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、β−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、γ−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３、屈折率：２．４）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．３〜２．７）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：１．９５〜２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９〜２．０）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率：１．９０）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３、屈折率：１．８７）等が挙げられる。これらの金属酸化物粒子は１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
このような高屈折率粒子としては、金属酸化物粒子を挙げることができ、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：１．７９〜２．０４）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜２．０５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、β−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、γ−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３、屈折率：２．４）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．３〜２．７）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：１．９５〜２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９〜２．０）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率：１．９０）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３、屈折率：１．８７）等が挙げられる。これらの金属酸化物粒子は１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
低屈折率層に用いられる低屈折率粒子としては、上記の屈折率を満たす低屈折率層を得ることができるものであれば特に限定されるものではなく、無機系、有機系のいずれも用いることができる。中でも、屈折率が低いことから、中空粒子や多孔質粒子が好ましく用いられる。中空粒子および多孔質粒子としては、例えば、多孔質シリカ粒子、中空シリカ粒子、多孔質ポリマー粒子、中空ポリマー粒子が挙げられる。
また、高屈折率粒子および低屈折率粒子は、表面処理されたものであってもよい。粒子に表面処理を施すことにより、樹脂や溶媒との親和性が向上し、粒子の分散が均一となり、粒子同士の凝集が生じにくくなるので、有機層の透過率の低下や、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物の塗布性、塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理された高屈折率粒子および低屈折率粒子としては、例えば特開２０１３−１４
２８１７号公報に記載されているものを挙げることができる。
表面処理された高屈折率粒子および低屈折率粒子としては、例えば特開２０１３−１４
２８１７号公報に記載されているものを挙げることができる。
高屈折率粒子および低屈折率粒子の平均粒径としては、例えば５ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であることが好ましい。平均粒径が上記範囲内にあれば、有機層の透明性を損なうことがなく、良好な粒子の分散状態が得られる。なお、平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、また粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、平均粒径は、有機層の断面の顕微鏡観察による平均粒径をいう。顕微鏡観察による平均粒径は、例えば、１００倍で顕微鏡観察を行い、画像処理ソフト等により任意の粒子の粒子径を１００個測定して個数平均することにより得られる。
ここで、平均粒径は、有機層の断面の顕微鏡観察による平均粒径をいう。顕微鏡観察による平均粒径は、例えば、１００倍で顕微鏡観察を行い、画像処理ソフト等により任意の粒子の粒子径を１００個測定して個数平均することにより得られる。
高屈折率粒子および低屈折粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。
高屈折率層における樹脂および高屈折率粒子の含有量としては、高屈折率層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜設定される。また、低屈折率層における樹脂および低屈折率粒子の含有量としては、有機層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜設定される。例えば、高屈折率粒子または低屈折率粒子の含有量としては、有機層に含まれる樹脂１００質量部当たり、２０質量部〜９０質量部の範囲内、中でも４０質量部〜８０質量部の範囲内、特に６０質量部〜８０質量部の範囲内であることが好ましい。粒子の含有量が多いと、有機層が脆くなったり有機層の形成が困難になったりする場合がある。また、粒子の含有量が少ないと、有機層の屈折率を調整することが困難になる場合がある。
有機層が有機材料として紫外線硬化樹脂を含有する場合、光重合開始剤を含有していてもよい。光重合開始剤としては、一般的なものから適宜選択することができる。
各有機層の厚さは、１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内であり、各有機層の屈折率、有機層の積層数、屈折率調整層の層構成、高屈折率層および低屈折率層の積層順、透明基板およびタッチパネルセンサにおける透明電極層の屈折率、透明電極層の厚さ等に応じて適宜調整される。例えば屈折率調整層が２層の有機層で構成される場合、２層の有機層のうち少なくとも１層の有機層の厚さが１５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましく、２層の有機層の厚さがそれぞれ２０ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。有機層の厚さが厚すぎると、透明電極層の骨見え抑制効果が十分に得られない場合があるからである。また、有機層の厚さが薄すぎると、透明基板上に有機層を均一に形成することが困難になるからである。
なお、有機層が屈折率調整粒子を含有する場合であって、有機層が表面に屈折率調整粒子による凹凸を有する場合には、上記の有機層の厚さは、屈折率調整粒子による凸部が存在しない部分の有機層の厚さをいう。
なお、有機層が屈折率調整粒子を含有する場合であって、有機層が表面に屈折率調整粒子による凹凸を有する場合には、上記の有機層の厚さは、屈折率調整粒子による凸部が存在しない部分の有機層の厚さをいう。
ここで、有機層の厚さについては、一般的な測定方法によって測定することができる。厚さの測定方法としては、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察像を用いて測定する方法、触針で表面をなぞり凹凸を検出することによって厚さを算出する触針式の方法や、分光反射スペクトルに基づいて厚さを算出する光学式の方法等を挙げることができる。具体的には、ケーエルエー・テンコール株式会社製の触針式厚さ計Ｐ−１５を用いて厚さを測定することができる。なお、厚さとして、対象となる部材の複数箇所における厚さ測定結果の平均値が用いられてもよい。
屈折率調整層全体の厚さとしては、屈折率調整層を構成する各有機層が所定の厚さを有していればよいが、４０ｎｍ〜７０ｎｍの範囲内であることが好ましい。屈折率調整層全体の厚さが薄すぎると、透明基板上に均一な屈折率調整層を形成することが困難となり、屈折率調整層全体の厚さが厚すぎると、透過率の低下や色味の影響が懸念されるからである。
屈折率調整層の透過率としては、８０％以上であることが好ましく、中でも９０％以上であることが好ましく、特に９５％以上であることが好ましい。屈折率調整層の透過率が低いと、本発明のタッチパネルセンサを表示装置とともに用いた場合に、表示画像が見にくくなる可能性があるからである。
ここで、屈折率調整層の透過率は、例えばヘイズメーター（商品名：ＮＤＨ２０００、日本電色工業株式会社製）を用いて測定された全光線透過率である。
ここで、屈折率調整層の透過率は、例えばヘイズメーター（商品名：ＮＤＨ２０００、日本電色工業株式会社製）を用いて測定された全光線透過率である。
屈折率調整層の設計方法としては、公知の方法を適用することができ、例えば以下の方法を挙げることができる。
まず、タッチパネルセンサにおいて、透明電極層が形成されている領域と透明電極層が形成されていない領域との反射率の差、透過率の差および透過色差がそれぞれ所望の値となるように光学特性の目標値を設定する。次に、屈折率調整層を構成する各有機層の厚さおよび屈折率と、本発明のタッチパネルセンサに用いられる透明電極層の厚さおよび屈折率とに基づいて、シミュレーションにより透明電極層が形成されている領域と透明電極層が形成されていない領域との反射率の差、透過率の差、透過色差の光学特性の値を求める。次に、屈折率調整層の各有機層の厚さおよび屈折率を可変のパラメータとして、上記の光学特性の目標値を達成することが可能な屈折率調整層の各有機層の厚さおよび屈折率を算出する。これにより、屈折率調整層を設計することができる。上記シミュレーションは、例えば、サイバネットシステムズ（株）製の薄膜設計ソフトウェア（ＯＰＴＡＳ−ＦＩＬＭ）を用いて行うことができる。屈折率調整層の設計方法の詳細については、特開２０１２−１４６２１７号公報に記載の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
まず、タッチパネルセンサにおいて、透明電極層が形成されている領域と透明電極層が形成されていない領域との反射率の差、透過率の差および透過色差がそれぞれ所望の値となるように光学特性の目標値を設定する。次に、屈折率調整層を構成する各有機層の厚さおよび屈折率と、本発明のタッチパネルセンサに用いられる透明電極層の厚さおよび屈折率とに基づいて、シミュレーションにより透明電極層が形成されている領域と透明電極層が形成されていない領域との反射率の差、透過率の差、透過色差の光学特性の値を求める。次に、屈折率調整層の各有機層の厚さおよび屈折率を可変のパラメータとして、上記の光学特性の目標値を達成することが可能な屈折率調整層の各有機層の厚さおよび屈折率を算出する。これにより、屈折率調整層を設計することができる。上記シミュレーションは、例えば、サイバネットシステムズ（株）製の薄膜設計ソフトウェア（ＯＰＴＡＳ−ＦＩＬＭ）を用いて行うことができる。屈折率調整層の設計方法の詳細については、特開２０１２−１４６２１７号公報に記載の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
屈折率調整層の形成方法としては、透明基板上に所望のパターン状に有機層を均一に形成することができれば特に限定されない。屈折率調整層の形成方法については、後述する「Ｃ．タッチパネルセンサの製造方法」の項で説明するため、ここでの説明は省略する。
２．加飾層
本発明における加飾層は、上記透明基板上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含むものである。加飾層は、後述するタッチパネルセンサにおける引き出し配線、外部接続端子を隠すとともに、タッチパネルセンサに意匠性を付与する層である。また、加飾層は、文字、図形、記号等の標章を表示するものとしても用いることができる。
本発明における加飾層は、上記透明基板上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含むものである。加飾層は、後述するタッチパネルセンサにおける引き出し配線、外部接続端子を隠すとともに、タッチパネルセンサに意匠性を付与する層である。また、加飾層は、文字、図形、記号等の標章を表示するものとしても用いることができる。
本発明における加飾層は、屈折率調整層と同一平面上に形成されるものである。また、加飾層は、タッチパネルセンサにおけるアクティブエリアの外側の非アクティブエリアに形成される。加飾層としては、額縁状に形成されていることが好ましい。
また、本発明においては、屈折率調整層と加飾層とが接して形成されていてもよい。この場合、屈折率調整層と加飾層との位置関係としては、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、屈折率調整層３と加飾層４との形成面における境界Ｐからアクティブエリア１１側のみに屈折率調整層３が形成されていることが好ましい。この場合、加飾層４は、図３（ａ）に示すように境界Ｐにおいて屈折率調整層３上に形成されていてもよく、図３（ｂ）に示すように境界Ｐにおいて屈折率調整層３上に形成されていなくてもよい。図３（ａ）に示すように境界Ｐにおいて屈折率調整層３上に形成されている場合、屈折率調整層３と加飾層４との重なり部分の幅については、タッチパネルセンサの意匠性を低下させない程度であればよい。
加飾層が呈する色としては、本発明のタッチパネルセンサの用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、淡色であることが好ましく、白色であることがより好ましい。加飾層が淡色を呈する場合は、屈折率調整層における光の干渉の影響による加飾層の色味のちがいが、操作者に観察されやすい。そのため、屈折率調製層と加飾層と同一平面上に形成することにより、タッチパネルセンサの意匠性をより良好にすることができるからである。
ここで、淡色とは、白色ならびに白色および他の色の混色をいう。また、加飾層が淡色を呈するとは、加飾層の色材として、白色顔料を含むことをいう。
ここで、淡色とは、白色ならびに白色および他の色の混色をいう。また、加飾層が淡色を呈するとは、加飾層の色材として、白色顔料を含むことをいう。
また、上記加飾層が呈する色としては、淡色の中では、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、Ｌ＊が６０〜１００の範囲内、中でも６５〜９９の範囲内、特に７０〜９８の範囲内であることが好ましく、ａ＊が−７〜７の範囲内、中でも−６〜６の範囲内、特に−５〜５の範囲内であることが好ましく、ｂ＊が−７〜７の範囲内、中でも−６〜６の範囲内、特に−５〜５の範囲内であることが好ましい。
加飾層が白色顔料のみを含みニュートラルの白色もしくはニュートラルの白色に近い白色を呈する場合だけでなく、加飾層が、白色顔料と少量の着色顔料（青色顔料・赤色顔料・緑色顔料・黄色顔料・紫顔料・黒顔料）等を添加したものである場合も同様に有効であるからである。
加飾層が白色顔料のみを含みニュートラルの白色もしくはニュートラルの白色に近い白色を呈する場合だけでなく、加飾層が、白色顔料と少量の着色顔料（青色顔料・赤色顔料・緑色顔料・黄色顔料・紫顔料・黒顔料）等を添加したものである場合も同様に有効であるからである。
また、加飾層が呈する色としては、白色の中では、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、Ｌ＊が７０〜１００の範囲内、中でも７３〜９９の範囲内、特に７５〜９８の範囲内であることが好ましく、ａ＊が−３〜３の範囲内、中でも−２〜２の範囲内、特に−１〜１の範囲内であることが好ましく、ｂ＊が−３〜３の範囲内、中でも−２〜２の範囲内、特に−１〜１の範囲内であることが好ましい。ニュートラルの白色に近いほど、屈折率調整層の光の干渉の影響により、所望の色とは異なる色に観察されやすくなるからである。
なお、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は、ＪＩＳ ８７８１−４：２０１３における規格である。また、本発明においては、上記各数値については、コニカミノルタ社製 分光測色計ＣＭ−２６００ｄを用いて測定することができる。
また、ニュートラルな白色とは、ａ＊＝０、ｂ＊＝０である白色をいう。
なお、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は、ＪＩＳ ８７８１−４：２０１３における規格である。また、本発明においては、上記各数値については、コニカミノルタ社製 分光測色計ＣＭ−２６００ｄを用いて測定することができる。
また、ニュートラルな白色とは、ａ＊＝０、ｂ＊＝０である白色をいう。
加飾層に用いられる色材としては、タッチパネルセンサの用途に応じて適宜選択することができ、例えば黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料等の着色顔料を用いることができる。着色顔料は１種単独で用いてもよく、同種類の色または異なる色の着色顔料を複数種類用いてもよい。
加飾層に用いられる有機材料としては、加飾層の形成方法に応じて適宜選択される。
例えばフォトリソグラフィ法により加飾層を形成する場合、有機材料としては、感光性樹脂が用いられる。感光性樹脂としては、一般的なものを用いることができ、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、環化ゴム等の反応性ビニル基等の光反応性基を有する感光性樹脂が挙げられる。感光性樹脂は１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
例えばフォトリソグラフィ法により加飾層を形成する場合、有機材料としては、感光性樹脂が用いられる。感光性樹脂としては、一般的なものを用いることができ、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、環化ゴム等の反応性ビニル基等の光反応性基を有する感光性樹脂が挙げられる。感光性樹脂は１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
アクリル系樹脂の場合、例えばアルカリ可溶性樹脂、多官能アクリレート系モノマー、光重合開始剤、その他添加剤等を含有する感光性樹脂組成物を樹脂成分として用いることができる。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えばベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合体等のメタクリル酸エステル共重合体、ビスフェノールフルオレン構造を有するエポキシアクリレート等のカルド樹脂等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
多官能アクリレート系モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
なお、本発明において、（メタ）アクリレートとは、メタクリレートまたはアクリレートのいずれかであることを意味する。
光重合開始剤としては、例えばアルキルフェノン系、オキシムエステル系、トリアジン系、チタネート系等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
感光性樹脂組成物は、上記の他、光増感剤、分散剤、界面活性剤、安定剤、レベリング剤等の公知の各種添加剤を含むことができる。
また、加飾層には、カラーフィルタの着色層に用いられるカラーレジストを用いることもできる。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えばベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合体等のメタクリル酸エステル共重合体、ビスフェノールフルオレン構造を有するエポキシアクリレート等のカルド樹脂等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
多官能アクリレート系モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
なお、本発明において、（メタ）アクリレートとは、メタクリレートまたはアクリレートのいずれかであることを意味する。
光重合開始剤としては、例えばアルキルフェノン系、オキシムエステル系、トリアジン系、チタネート系等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
感光性樹脂組成物は、上記の他、光増感剤、分散剤、界面活性剤、安定剤、レベリング剤等の公知の各種添加剤を含むことができる。
また、加飾層には、カラーフィルタの着色層に用いられるカラーレジストを用いることもできる。
また、例えば印刷法により加飾層を形成する場合、有機材料としては、上記の屈折率調整層に用いられるものを使用することができる。
加飾層の厚さについては、タッチパネルセンサの用途に応じて適宜選択することができる。本発明においては、例えば、加飾層の厚さとしては、５μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも６μｍ〜４５μｍの範囲内、特に７μｍ〜４０μｍの範囲内であることが好ましい。
加飾層の厚さが厚すぎると、透明電極層の断線が生じやすくなる可能性があるからであり、加飾層の厚さが薄すぎると、本発明のタッチパネルセンサに十分な意匠性を付与することが困難となる可能性があるからである。
また、加飾層の厚さとしては、上述した範囲の中でも、より厚いことが好ましい。発明において、屈折率調整層と加飾層とを同一平面上に形成することにより、屈折率調整層が形成される面については、段差を有さないものとすることができることの効果を高く発揮することができるからである。また、加飾層の呈する色が淡色である場合は、例えば、加飾層が黒色を呈する場合に比べて、所望の色を付与するためにその厚みを厚くする必要があるからである。
加飾層の厚さが厚すぎると、透明電極層の断線が生じやすくなる可能性があるからであり、加飾層の厚さが薄すぎると、本発明のタッチパネルセンサに十分な意匠性を付与することが困難となる可能性があるからである。
また、加飾層の厚さとしては、上述した範囲の中でも、より厚いことが好ましい。発明において、屈折率調整層と加飾層とを同一平面上に形成することにより、屈折率調整層が形成される面については、段差を有さないものとすることができることの効果を高く発揮することができるからである。また、加飾層の呈する色が淡色である場合は、例えば、加飾層が黒色を呈する場合に比べて、所望の色を付与するためにその厚みを厚くする必要があるからである。
また、加飾層の形成方法としては、一般的なタッチパネルセンサの形成方法において用いられる方法と同様とすることができ、例えば、フォトリソグラフィ法、印刷法等を挙げることができる。
３．透明基板
本発明における透明基板は、上記屈折率調整層、加飾層および透明電極層を支持するものである。
本発明における透明基板は、上記屈折率調整層、加飾層および透明電極層を支持するものである。
透明基板としては、タッチパネルセンサの支持基板として用いることができるものであれば特に限定されるものではなく、例えばガラス基板、樹脂基板等を用いることができる。ガラス基板の場合には、タッチパネルセンサの強度を高めることができ、また加熱温度等の製造条件の設定範囲を広くすることができる。一方、樹脂基板の場合には、タッチパネルセンサの軽量化を図ることができ、また有機層のみで構成される屈折率調整層との密着性を高めることができる。
透明基板は、可撓性を有していてもよく有さなくてもよい。
透明基板は、可撓性を有していてもよく有さなくてもよい。
透明基板の透過率としては、８０％以上であることが好ましく、中でも９０％以上であることが好ましい。
ここで、透明基板の透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５で規定する方法により測定した値（全光線）とする。
ここで、透明基板の透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５で規定する方法により測定した値（全光線）とする。
透明基板の屈折率としては、透明基板の材料等に応じて異なるものであるが、通常、１．４０〜１．６０の範囲内であり、中でも１．４５〜１．５５の範囲内であることが好ましい。
ここで、透明基板の屈折率は、５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
ここで、透明基板の屈折率は、５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
透明基板の厚さは、タッチパネルセンサの支持基板として用いることができれば特に限定されないが、一般的には２０μｍ〜１５００μｍ程度である。
４．透明電極層
本発明における透明電極層は、屈折率調整層上にパターン状に形成され、金属酸化物を含有するものである。
本発明における透明電極層は、屈折率調整層上にパターン状に形成され、金属酸化物を含有するものである。
金属酸化物としては、透明電極に用いられる一般的な導電性材料であれば特に限定されるものではなく、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系等が挙げられる。また、これらの金属酸化物が２種以上複合された材料も用いることができる。
透明電極層の厚さとしては、所望の導電性を有する透明電極層を得ることができれば特に限定されるものではなく、例えば、１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内、中でも２０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内、特に３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。透明電極層の厚さが薄すぎると、電極として十分に機能しない場合がある。また、透明電極層の厚さが厚すぎると、透明電極層にクラック、剥離等が生じやすくなる場合がある。
ここで、透明電極層の厚さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察像を用いて測定することができる。
ここで、透明電極層の厚さは、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察像を用いて測定することができる。
透明電極層の屈折率としては、透明電極層の材料に応じて適宜決定されるものであり、通常、透明基板の屈折率よりも高くなる。具体的には、透明電極層の屈折率は、１．７０〜２．２０程度であり、中でも１．８０〜２．００の範囲内であることが好ましい。
ここで、透明電極層の屈折率は、５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
ここで、透明電極層の屈折率は、５５０ｎｍの波長においてエリプソメータを用いて測定して算出された値である。
透明電極層の形成方法としては、フォトリソグラフィ法を好適に用いることができる。具体的には、上記屈折率調整層が形成された透明基板を準備し、屈折率調整層上の全面に透明電極層を形成する。次に、透明電極層上にレジスト層を形成し、パターン露光および現像して、レジストパターンを形成する。次に、透明電極層の露出部分をエッチングして、レジストパターンを剥離する。これにより、所定のパターン状に透明電極層を形成することができる。
透明電極層の成膜方法としては、一般的な方法を用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いる方法を挙げることができる。
また、透明電極層のエッチングに用いられるエッチング液としては、透明電極層を構成する金属酸化物に応じて適宜設定されるものである。具体的には、透明電極層がＩＴＯからなる場合には、塩化第二鉄と塩酸との混合水溶液や塩酸、シュウ酸、臭化水素酸等を用いることができる。
レジストについては、一般的なフォトリソグラフィ法に用いられているものと同様とすることができる。また、レジストの現像液、レジストの剥離液としては、例えば、水酸化カリウム水溶液等を挙げることができる。
また、透明電極層のエッチングに用いられるエッチング液としては、透明電極層を構成する金属酸化物に応じて適宜設定されるものである。具体的には、透明電極層がＩＴＯからなる場合には、塩化第二鉄と塩酸との混合水溶液や塩酸、シュウ酸、臭化水素酸等を用いることができる。
レジストについては、一般的なフォトリソグラフィ法に用いられているものと同様とすることができる。また、レジストの現像液、レジストの剥離液としては、例えば、水酸化カリウム水溶液等を挙げることができる。
透明電極層は、本発明のタッチパネルセンサを構成する電極であればよく、このような電極としては、後述するように、例えばセンサ電極、導電部、取り出し配線、外部接続端子等が挙げられる。中でも、透明電極層は、少なくともセンサ電極であることが好ましい。
５．タッチパネルセンサの電極
本発明のタッチパネルセンサを構成する電極としては、タッチパネルセンサの形態に応じて適宜選択することができる。例えばタッチパネルセンサが静電容量方式の場合、電極としては、アクティブエリア内に形成されるセンサ電極および導電部、アクティブエリアの外側に形成される取り出し配線および外部接続端子を挙げることができる。以下、取り出し配線および外部接続端子を配線層と称して説明する場合がある。
本発明のタッチパネルセンサを構成する電極としては、タッチパネルセンサの形態に応じて適宜選択することができる。例えばタッチパネルセンサが静電容量方式の場合、電極としては、アクティブエリア内に形成されるセンサ電極および導電部、アクティブエリアの外側に形成される取り出し配線および外部接続端子を挙げることができる。以下、取り出し配線および外部接続端子を配線層と称して説明する場合がある。
（１）センサ電極
本発明におけるセンサ電極は、アクティブエリア内に形成され、接触位置を検出するために用いられるものであり、互いに絶縁された第１電極および第２電極を有するものである。
なお、第１電極および第２電極が互いに絶縁されているとは、両電極が電気的に接続されていないことをいう。
本発明におけるセンサ電極は、アクティブエリア内に形成され、接触位置を検出するために用いられるものであり、互いに絶縁された第１電極および第２電極を有するものである。
なお、第１電極および第２電極が互いに絶縁されているとは、両電極が電気的に接続されていないことをいう。
センサ電極は、上記透明電極層であってもよく、透明電極層でなくてもよいが、透明電極層であることが好ましい。
センサ電極の平面視形状、平面視外形形状としては、例えば、特開２０１１−２１０１７６号公報、特開２０１０−２３８０５２号公報、特許第４６１０４１６号公報、特開２０１０-２８６８８６号公報、特開２００４-１９２０９３号公報、特開２０１０-２７７３９２号公報や特開２０１１−１２９５０１号公報、特開２０１３−１５６７７３号公報、特開２０１３−１４３０５９号公報に挙げられるような一般的なタッチパネルセンサに用いられるものと同様とすることができる。
センサ電極の平面視形状としては、開口部を含まない面状であることが好ましい。また、センサ電極の平面視外形形状としては、具体的には長方形、平面視略正方形形状等の多角形状等とすることができる。
センサ電極の平面視形状としては、開口部を含まない面状であることが好ましい。また、センサ電極の平面視外形形状としては、具体的には長方形、平面視略正方形形状等の多角形状等とすることができる。
また、第１電極および第２電極の透明基板に対する形成箇所としては、タッチパネルセンサのアクティブエリア内であって両電極が絶縁されるように形成されていれば特に限定されない。例えば図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、透明基板２上に屈折率調整層３が形成され、屈折率調整層３上に第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂの両方が形成されていてもよく、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、透明基板２上に屈折率調整層３が形成され、屈折率調整層３上に第２電極１３ｂが形成され、絶縁層１７を介して第１電極１３ａが形成されていてもよい。また、図示しないが、透明基板および屈折率調整層を有する基板を２枚準備し、各基板の屈折率調整層上にそれぞれ第１電極および第２電極を別々に形成してもよい。この場合、少なくとも操作側に配置される基板については、上記加飾層を有する。
なお、図４（ａ）、（ｂ）は本発明のタッチパネルセンサの他の例を示す概略平面図および断面図であり、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。図４（ａ）、（ｂ）に示す例においては、第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂ、ならびに第１電極１３ａ同士を接続する第１導電部１４ａおよび第２電極１３ｂ同士を接続する第２導電部１４ｂが、透明電極層５となっている。図４（ａ）において説明を容易にするため絶縁層を省略している。
センサ電極の形成方法としては、センサ電極が上記透明電極層である場合、上記透明電極層の形成方法と同様とすることができる。
（２）導電部
本発明における導電部は、上記センサ電極を構成する第１電極間および第２電極間をそれぞれ接続する第１導電部および第２導電部を有するものである。通常、第１導電部および第２導電部はその一部が平面視上重なるように形成される。
本発明における導電部は、上記センサ電極を構成する第１電極間および第２電極間をそれぞれ接続する第１導電部および第２導電部を有するものである。通常、第１導電部および第２導電部はその一部が平面視上重なるように形成される。
導電部は、上記透明電極層であってもよく、透明電極層でなくてもよい。
導電部が上記透明電極層ではない場合、導電部に用いられる導電性材料としては、例えば、アルミニウム、モリブデン、銀、クロム等の金属およびその合金等を用いることができる。
導電部が上記透明電極層ではない場合、導電部に用いられる導電性材料としては、例えば、アルミニウム、モリブデン、銀、クロム等の金属およびその合金等を用いることができる。
導電部の平面視外形形状としては、一般的なタッチパネルセンサと同様とすることができ、例えば、センサ電極の平面視外形形状より幅の狭いライン形状、センサ電極の平面視外形形状と同等の幅を有するライン形状等とすることができる。
また、第１導電部および第２導電部の形成箇所としては、第１電極間および第２電極間をそれぞれ安定的に接続でき、かつ、両者が絶縁されるように形成されるものであれば特に限定されるものではない。例えば、既に説明した図４に示すように第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂが異なる表面上または異なる部材上に形成されている場合には、第１導電部１４ａおよび第２導電部１４ｂをそれぞれ第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂと同一表面上に形成することができる。また、図１に示すように第１電極１３ａおよび第２電極１３ｂの両者が屈折率調整層３の同一表面上に形成されている場合には、第１導電部１４ａおよび第２導電部１４ｂの少なくとも一方を絶縁層１７を介して形成することができる。
導電部の形成方法としては、導電部が上記透明電極層である場合、上記透明電極層の形成方法と同様とすることができる。また、導電部が上記透明電極層ではない場合、導電部の形成方法としては、フォトリソグラフィ法の他、インクジェット法を挙げることができる。
（３）取り出し配線
本発明における取り出し配線は、上記センサ電極に接続されるものである。
本発明における取り出し配線は、上記センサ電極に接続されるものである。
取り出し配線の形成箇所としては、本発明のタッチパネルセンサの種類や用途等に応じて適宜設定されるものであるが、本発明のタッチパネルセンサが表示装置に用いられる場合には、通常、非アクティブエリアに取り出し配線が形成される。
取り出し配線としては、上記透明電極層であってもよく、透明電極層でなくてもよい。通常、取り出し配線は透明電極層でないことが好ましい。
取り出し配線が上記透明電極層ではない場合、取り出し配線に用いられる導電性材料としては、銀、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等を例示することができる。金属合金としては、ＡＰＣ、すなわち銀・パラジウム合金が汎用される。また、金属の複合体としては、ＭＡＭ（Ｍｏ−Ａｌ−Ｍｏ、すなわちモリブデン・アルミニウム・モリブデンの３層構造体）等も適用可能である。
取り出し配線が上記透明電極層ではない場合、取り出し配線に用いられる導電性材料としては、銀、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体、あるいはこれらのいずれかを主体とする合金等を例示することができる。金属合金としては、ＡＰＣ、すなわち銀・パラジウム合金が汎用される。また、金属の複合体としては、ＭＡＭ（Ｍｏ−Ａｌ−Ｍｏ、すなわちモリブデン・アルミニウム・モリブデンの３層構造体）等も適用可能である。
取り出し配線の線幅としては、一般的なタッチパネルセンサと同様とすることができ、例えば、０．０１ｍｍ〜０．２ｍｍ程度とすることができる。
（４）外部接続端子
本発明における外部接続端子は、上記取り出し配線に接続され、例えば、フレキシブルプリント配線基板等のタッチパネルセンサの外部の構成との接続に用いられるものである。
本発明における外部接続端子は、上記取り出し配線に接続され、例えば、フレキシブルプリント配線基板等のタッチパネルセンサの外部の構成との接続に用いられるものである。
外部接続端子の形成箇所および外部接続端子が透明電極層でない場合の導電性材料としては、タッチパネルセンサに一般的に用いられるものとすることができ、具体的には、上記取り出し配線と同様とすることができる。
外部接続端子の端子幅、厚さおよび平面視形状や、外部接続端子部内における外部接続端子間の間隔については、一般的なタッチパネルセンサと同様とすることができる。具体的には、特開２０１１−２１０１７６号公報に記載されるものと同様とすることができる。
外部接続端子の端子幅、厚さおよび平面視形状や、外部接続端子部内における外部接続端子間の間隔については、一般的なタッチパネルセンサと同様とすることができる。具体的には、特開２０１１−２１０１７６号公報に記載されるものと同様とすることができる。
６．その他の構成
本発明のタッチパネルセンサは、上記の透明基板と屈折率調整層と透明電極層と加飾層とを有するものであればよく、必要に応じて他の構成を有していてもよい。
本発明のタッチパネルセンサは、上記の透明基板と屈折率調整層と透明電極層と加飾層とを有するものであればよく、必要に応じて他の構成を有していてもよい。
（１）絶縁層
本発明においては、必要に応じて絶縁層が形成されていてもよい。絶縁層は、上記センサ電極を構成する第１電極および第２電極間や、上記導電部を構成する第１導電部および第２導電部間の短絡を防止するために形成されるものである。
絶縁層の詳細については、例えば特開２０１３−２１０７３３号公報に記載のものと同様とすることができる。
本発明においては、必要に応じて絶縁層が形成されていてもよい。絶縁層は、上記センサ電極を構成する第１電極および第２電極間や、上記導電部を構成する第１導電部および第２導電部間の短絡を防止するために形成されるものである。
絶縁層の詳細については、例えば特開２０１３−２１０７３３号公報に記載のものと同様とすることができる。
（２）オーバーコート層
本発明においては、センサ電極、導電部および取り出し配線を覆うようにオーバーコート層が形成されていてもよい。
オーバーコート層としては、絶縁性および透明性を有するものであればよい。絶縁性および透明性を有する被覆層の材料としては、例えばアクリル樹脂等の有機材料や酸化ケイ素等の無機材料等を挙げることができる。
本発明においては、センサ電極、導電部および取り出し配線を覆うようにオーバーコート層が形成されていてもよい。
オーバーコート層としては、絶縁性および透明性を有するものであればよい。絶縁性および透明性を有する被覆層の材料としては、例えばアクリル樹脂等の有機材料や酸化ケイ素等の無機材料等を挙げることができる。
（３）赤外線吸収層
本発明においては、センサ電極、導電部および配線層を覆うように赤外線吸収層が形成されていてもよい。赤外線吸収層としては、絶縁性および透明性を有するものであれば特に限定されず、一般的なタッチパネルセンサに用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明においては、センサ電極、導電部および配線層を覆うように赤外線吸収層が形成されていてもよい。赤外線吸収層としては、絶縁性および透明性を有するものであれば特に限定されず、一般的なタッチパネルセンサに用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
（４）前面板
本発明においては、タッチパネルセンサの操作面側の最表面に前面板が配置されていてもよい。前面板としては、タッチパネルセンサに用いられる一般的なものを使用することができる。
本発明においては、透明基板が前面板を兼ねることが好ましい。この場合、前面板一体型タッチパネルセンサとすることができる。
本発明においては、タッチパネルセンサの操作面側の最表面に前面板が配置されていてもよい。前面板としては、タッチパネルセンサに用いられる一般的なものを使用することができる。
本発明においては、透明基板が前面板を兼ねることが好ましい。この場合、前面板一体型タッチパネルセンサとすることができる。
７．用途
本発明のタッチパネルセンサは、表示装置用のタッチパネルセンサとして用いられることが好ましい。本発明のタッチパネルセンサを用いた表示装置は、例えば、表示パネルと、表示パネルの表面上に配置されたタッチパネルセンサとを有するものである。
本発明のタッチパネルセンサは、表示装置用のタッチパネルセンサとして用いられることが好ましい。本発明のタッチパネルセンサを用いた表示装置は、例えば、表示パネルと、表示パネルの表面上に配置されたタッチパネルセンサとを有するものである。
タッチパネルセンサおよび表示パネルは、通常、接着層を介して貼合される。接着層には、例えばＯＣＡと称される光学用透明接着剤を用いることができる。
表示パネルとしては、タッチパネルセンサを適用可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば液晶パネル、有機ＥＬパネル、電子ペーパー等のフラットディスプレイパネルが挙げられる。
Ｂ．タッチパネルセンサ用基板
本発明のタッチパネルセンサ用基板は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成され、有機層のみを含む屈折率調整層と、上記透明基板上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含む加飾層とを有し、上記屈折率調整層と上記加飾層とが同一平面上に形成されていることを特徴とするものである。
本発明のタッチパネルセンサ用基板は、透明基板と、上記透明基板上にパターン状に形成され、有機層のみを含む屈折率調整層と、上記透明基板上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含む加飾層とを有し、上記屈折率調整層と上記加飾層とが同一平面上に形成されていることを特徴とするものである。
本発明のタッチパネルセンサ用基板について図を用いて説明する。
図５は、本発明のタッチパネルセンサ用基板の一例を示す概略断面図である。図５に示すように、本発明のタッチパネルセンサ用基板１は、透明基板２と、透明基板２上にパターン状に形成され、屈折率の異なる２層の有機層３１、３２の積層体で構成され、有機層のみを含む屈折率調整層３と、透明基板２上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含む加飾層４とを有し、屈折率調整層３と加飾層４とが同一平面上に形成されていることを特徴とするものである。
図５は、本発明のタッチパネルセンサ用基板の一例を示す概略断面図である。図５に示すように、本発明のタッチパネルセンサ用基板１は、透明基板２と、透明基板２上にパターン状に形成され、屈折率の異なる２層の有機層３１、３２の積層体で構成され、有機層のみを含む屈折率調整層３と、透明基板２上にパターン状に形成され、色材および有機材料を含む加飾層４とを有し、屈折率調整層３と加飾層４とが同一平面上に形成されていることを特徴とするものである。
本発明によれば、屈折率調整層と加飾層とが同一平面上に形成されていることにより、本発明のタッチパネルセンサ用基板をタッチパネルセンサとした際に、意匠性を良好なものとすることができる。
本発明における透明基板、屈折率調整層、加飾層については、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
Ｃ．タッチパネルセンサの製造方法
本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を全面硬化させることにより、有機層のみを有する屈折率調整層を形成する屈折率調整層形成工程と、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、上記屈折率調整層上にレジスト層をパターン状に形成するレジスト層形成工程と、上記レジスト層が形成された上記屈折率調整層における露出部分をエッチングすることにより上記屈折率調整層をパターニングするエッチング工程と、上記エッチング工程後に上記レジスト層を剥離するレジスト層剥離工程と、色材および有機材料を含む加飾層用樹脂組成物を用いて、上記透明基板上に加飾層をパターン状に形成する加飾層形成工程と、上記屈折率調整層上に金属酸化物を含む透明電極層をパターン状に形成する透明電極層形成工程とを有し、上記屈折率調整層と上記加飾層とを同一平面上に形成することを特徴とする製造方法である。
本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を全面硬化させることにより、有機層のみを有する屈折率調整層を形成する屈折率調整層形成工程と、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、上記屈折率調整層上にレジスト層をパターン状に形成するレジスト層形成工程と、上記レジスト層が形成された上記屈折率調整層における露出部分をエッチングすることにより上記屈折率調整層をパターニングするエッチング工程と、上記エッチング工程後に上記レジスト層を剥離するレジスト層剥離工程と、色材および有機材料を含む加飾層用樹脂組成物を用いて、上記透明基板上に加飾層をパターン状に形成する加飾層形成工程と、上記屈折率調整層上に金属酸化物を含む透明電極層をパターン状に形成する透明電極層形成工程とを有し、上記屈折率調整層と上記加飾層とを同一平面上に形成することを特徴とする製造方法である。
本発明のタッチパネルセンサの製造方法について図を用いて説明する。
図６（ａ）〜（ｆ）は本発明のタッチパネルセンサの製造方法の一例を示す工程図である。本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、図示はしないが、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、塗膜を全面硬化させる。以上により、図６（ａ）に示すように、透明基板２上の全面に有機層のみを有する屈折率調整層３を形成する（屈折率調整層形成工程）。次に、図６（ｂ）に示すように、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、屈折率調整層３上にレジスト層２０をパターン状に形成する（レジスト層形成工程）。次に、図６（ｃ）に示すように、エキシマ紫外線Ｌを用いて、レジスト層２０が形成された屈折率調整層３における露出部分をエッチングすることにより屈折率調整層３をパターニングする（エッチング工程）。次に、図６（ｄ）に示すように、エッチング工程後にレジスト層を剥離する（レジスト層剥離工程）。次に、図６（ｅ）に示すように、色材および有機材料を含む加飾層用樹脂組成物を用いて、透明基板２上に加飾層４をパターン状に形成する（加飾層形成工程）。次に、図６（ｆ）に示すように、加飾層４上に取り出し配線１５および外部接続端子（図示なし）を形成し、屈折率調整層３上に第１電極１３ａ、第２電極（図示なし）、第１導電部１４ａ、第２導電部１４ｂ、絶縁層１７等のタッチパネルセンサの電極を形成する。図６（ｆ）においては、透明電極層５として、屈折率調整層３上に第１電極１３ａ、第２電極（図示なし）、第２導電部１４ｂを形成する例について示している（透明電極層形成工程）。なお、図６（ａ）〜（ｆ）においては、図１（ａ）〜（ｃ）に示すタッチパネルセンサを製造する例を示しており、図６（ａ）〜（ｆ）は図１（ａ）におけるＢ−Ｂ線断面を示している。
図６（ａ）〜（ｆ）は本発明のタッチパネルセンサの製造方法の一例を示す工程図である。本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、図示はしないが、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、塗膜を全面硬化させる。以上により、図６（ａ）に示すように、透明基板２上の全面に有機層のみを有する屈折率調整層３を形成する（屈折率調整層形成工程）。次に、図６（ｂ）に示すように、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、屈折率調整層３上にレジスト層２０をパターン状に形成する（レジスト層形成工程）。次に、図６（ｃ）に示すように、エキシマ紫外線Ｌを用いて、レジスト層２０が形成された屈折率調整層３における露出部分をエッチングすることにより屈折率調整層３をパターニングする（エッチング工程）。次に、図６（ｄ）に示すように、エッチング工程後にレジスト層を剥離する（レジスト層剥離工程）。次に、図６（ｅ）に示すように、色材および有機材料を含む加飾層用樹脂組成物を用いて、透明基板２上に加飾層４をパターン状に形成する（加飾層形成工程）。次に、図６（ｆ）に示すように、加飾層４上に取り出し配線１５および外部接続端子（図示なし）を形成し、屈折率調整層３上に第１電極１３ａ、第２電極（図示なし）、第１導電部１４ａ、第２導電部１４ｂ、絶縁層１７等のタッチパネルセンサの電極を形成する。図６（ｆ）においては、透明電極層５として、屈折率調整層３上に第１電極１３ａ、第２電極（図示なし）、第２導電部１４ｂを形成する例について示している（透明電極層形成工程）。なお、図６（ａ）〜（ｆ）においては、図１（ａ）〜（ｃ）に示すタッチパネルセンサを製造する例を示しており、図６（ａ）〜（ｆ）は図１（ａ）におけるＢ−Ｂ線断面を示している。
本発明によれば、上記屈折率調整層形成工程、レジスト層形成工程、エッチング工程およびレジスト層剥離工程を有することにより、有機層のみを有する屈折率調整層をパターン状に形成することができる。よって、無機材料を用いて屈折率調整層をパターン状に形成する場合に比べて、安価にタッチパネルセンサを製造することができる。また、屈折率調整層と加飾層とを同一平面上に形成することにより、意匠性が良好なタッチパネルセンサを製造することができる。
以下、本発明のタッチパネルセンサの製造方法の各工程について説明する。
１．屈折率調整層形成工程
本発明における屈折率調整層形成工程は、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を全面硬化させることにより、有機層のみを有する屈折率調整層を形成する工程である。
本発明における屈折率調整層形成工程は、屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を全面硬化させることにより、有機層のみを有する屈折率調整層を形成する工程である。
透明基板については、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。また、本発明においては透明基板として、複数のタッチパネルセンサを多面付けで形成可能な大型基板を用いてもよい。また、透明基板の形態としては、ロール状であってもよく、枚葉であってもよいが、枚葉であることがより好ましい。
屈折率調整層用硬化性樹脂組成物は、樹脂成分と、溶媒とを含有し、必要に応じて、屈折率調整粒子をさらに含有する。
樹脂成分としては、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した硬化樹脂に用いられるものを挙げることができる。また、屈折率調整粒子についても、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
また、溶媒としては、一般的なものを用いることができ、特に限定されないが、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等が好まれる。
屈折率調整層用硬化性樹脂組成物の塗布方法としては、透明基板上の全面に均一に塗膜を形成することできる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、スピンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、バーコート法等を挙げることができる。
塗膜の硬化方法としては、樹脂成分の種類に応じて適宜選択されるものであり、加熱、紫外線や電子線の照射等が挙げられる。また、上記硬化方法としては、塗膜が形成された透明基板を搬送しながら行なう方法であってもよい。
紫外線を照射する場合は、例えば、メタルハライドランプを用いることができる。
また、塗膜の硬化は、大気下で行なってもよく、窒素等の不活性ガスにより大気を置換した環境下で行なってもよい。
紫外線を照射する場合は、例えば、メタルハライドランプを用いることができる。
また、塗膜の硬化は、大気下で行なってもよく、窒素等の不活性ガスにより大気を置換した環境下で行なってもよい。
屈折率調整層については、必要に応じて、硬化後に焼成を行なってもよい。
屈折率調整層として、屈折率の異なる複数の有機層の積層体で構成されたものを形成する場合は、通常、各有機層について塗膜を形成し硬化させて屈折率調整層を形成する。例えば、屈折率調整層が、透明基板上に高屈折率層および低屈折率層の順に積層されたものである場合は、まず、高屈折率層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させて、高屈折率層を形成した後、低屈折率層用硬化性樹脂組成物を高屈折率層上の全面に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより、屈折率調整層を形成することができる。
２．レジスト層形成工程
本発明におけるレジスト層形成工程は、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、上記屈折率調整層上にレジスト層をパターン状に形成する工程である。
本発明におけるレジスト層形成工程は、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、上記屈折率調整層上にレジスト層をパターン状に形成する工程である。
本発明においては、レジスト層をポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成することにより、レジスト層剥離工程において有機層からレジスト層を剥離する際に、有機層にダメージが生じることを抑制することができる。なお、レジスト層としてネガ型感光性樹脂組成物を用いた場合は、所望の有機層のパターンに合わせてネガ型感光性樹脂組成物の塗膜を硬化させてレジスト層を形成する必要があることから、レジスト層と有機層との密着性が強くなりすぎ、レジスト層とともに有機層が剥離されてしまうことや、有機層が劣化することが懸念される。
ポジ型感光性樹脂組成物は、通常、ポジ型感光性樹脂を含むものである。ポジ型感光性樹脂としては、例えば、一般的に使用されるものを用いることができる。例えば、ノボラック樹脂をベース樹脂とした化学増幅型感光性樹脂や、１，４−シス−ポリイソプレン等の環状ゴム系、ポリビニルアルコールおよびケイ皮酸クロライドから合成したもの等のポリケイ皮酸ビニル系、ナフトキノンジアジド化合物等のキノンジアジド系などが挙げられる。
ポジ型感光性樹脂組成物は、必要に応じて、溶媒を含んでいてもよい。溶媒としては、一般的なものを用いることができるため、ここでの説明を省略する。
レジスト層の形成方法としては、屈折率調整層上にレジスト層を形成することができれば特に限定されず、フォトリソグラフィ法を用いて所望のパターン状に形成することができる。また、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット法を用いても形成することができる。
レジスト層をフォトリソグラフィ法を用いて形成する場合、例えば、透明基板上の全面にポジ型感光性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、フォトマスクを用いてパターン露光した後、現像することにより、レジスト層を形成することができる。
ポジ型感光性樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、バーコート法等を挙げることができる。
露光条件については、ポジ型感光性樹脂の種類に応じて適宜選択することができ、一般的な露光装置を用いて露光をすることができる。
現像液としては、ポジ型感光性樹脂を現像することができれば特に限定されないが、例えば、ローム・アンド・ハース社製のＡＬＣ１３５０等が挙げられる。
ポジ型感光性樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、ビードコート法、バーコート法等を挙げることができる。
露光条件については、ポジ型感光性樹脂の種類に応じて適宜選択することができ、一般的な露光装置を用いて露光をすることができる。
現像液としては、ポジ型感光性樹脂を現像することができれば特に限定されないが、例えば、ローム・アンド・ハース社製のＡＬＣ１３５０等が挙げられる。
レジスト層のパターン形状は、通常、所望の屈折率調整層のパターン形状に対応するように、適宜選択される。
レジスト層の厚さとしては、後述するエッチング工程においてレジスト層の下層に位置する屈折率調整層を保護することができれば特に限定されないが、例えば、１μｍ〜４μｍの範囲内、中でも１．１μｍ〜３．５μｍの範囲内、特に１．２μｍ〜３μｍの範囲内であることが好ましい。
レジスト層の厚さが厚すぎると後述するレジスト層剥離工程において、レジスト層を良好に剥離することが困難となる可能性があるからであり、レジスト層の厚さが薄すぎるとエッチング工程において屈折率調整層を十分に保護することが困難となる可能性があるからである。
レジスト層の厚さが厚すぎると後述するレジスト層剥離工程において、レジスト層を良好に剥離することが困難となる可能性があるからであり、レジスト層の厚さが薄すぎるとエッチング工程において屈折率調整層を十分に保護することが困難となる可能性があるからである。
３．エッチング工程
本発明におけるエッチング工程は、上記レジスト層が形成された上記屈折率調整層における露出部分をエッチングすることにより上記屈折率調整層をパターニングする工程である。
本発明におけるエッチング工程は、上記レジスト層が形成された上記屈折率調整層における露出部分をエッチングすることにより上記屈折率調整層をパターニングする工程である。
屈折率調整層のエッチング方法としては、レジスト層が形成された屈折率調整層における露出部分を除去することができる方法であれば特に限定されず、ドライエッチング法であってもよく、ウェットエッチング法であってもよいが、ドライエッチング法であることがより好ましい。屈折率調整層の露出部分を良好に除去することができるからである。
ドライエッチング法としては、例えば、エキシマ紫外線照射、プラズマ照射装置で光を照射し有機物を光分解させることで最表面の膜を分解し除去することができる。本発明においては、中でも、エキシマ紫外線照射により屈折率調整層をエッチングすることが好ましい。上記露出部分については、良好に除去することができるからである。また、レジスト層表面にエキシマ紫外線を照射することにより、後述するレジスト層剥離工程において、レジスト層の剥離が容易になるからである。
ドライエッチング法としては、例えば、エキシマ紫外線照射、プラズマ照射装置で光を照射し有機物を光分解させることで最表面の膜を分解し除去することができる。本発明においては、中でも、エキシマ紫外線照射により屈折率調整層をエッチングすることが好ましい。上記露出部分については、良好に除去することができるからである。また、レジスト層表面にエキシマ紫外線を照射することにより、後述するレジスト層剥離工程において、レジスト層の剥離が容易になるからである。
４．レジスト層剥離工程
本発明におけるレジストレジスト層剥離工程は、上記エッチング工程後に上記レジスト層を剥離する工程である。
レジスト層の剥離方法としては、一般的なフォトリソグラフィ法におけるレジストの剥離方法と同様とすることができる。例えば、レジスト層に紫外線を照射し、現像液に対する溶解性を付与した後に剥離する方法を挙げることができる。
本発明におけるレジストレジスト層剥離工程は、上記エッチング工程後に上記レジスト層を剥離する工程である。
レジスト層の剥離方法としては、一般的なフォトリソグラフィ法におけるレジストの剥離方法と同様とすることができる。例えば、レジスト層に紫外線を照射し、現像液に対する溶解性を付与した後に剥離する方法を挙げることができる。
５．加飾層形成工程
本発明における加飾層形成工程は、色材および有機材料を含む加飾層用樹脂組成物を用いて、上記透明基板上に加飾層をパターン状に形成する工程である。
加飾層の形成方法および加飾層については、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明における加飾層形成工程は、色材および有機材料を含む加飾層用樹脂組成物を用いて、上記透明基板上に加飾層をパターン状に形成する工程である。
加飾層の形成方法および加飾層については、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
６．透明電極層形成工程
本発明における透明電極層形成工程は、上記屈折率調整層上に金属酸化物を含む透明電極層をパターン状に形成する工程である。
透明電極層の形成方法および透明電極層については、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明における透明電極層形成工程は、上記屈折率調整層上に金属酸化物を含む透明電極層をパターン状に形成する工程である。
透明電極層の形成方法および透明電極層については、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
７．その他の工程
本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、屈折率調整層形成工程と、レジスト層形成工程と、エッチング工程と、レジスト層剥離工程と、加飾層形成工程と、透明電極層形成工程とを有していれば特に限定されず、必要な工程を適宜選択して追加することができる。例えば、タッチパネルセンサの電極を形成する工程、絶縁層を形成する工程、オーバーコート層を形成する工程、赤外線吸収層を形成する工程等を挙げることができる。
本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、屈折率調整層形成工程と、レジスト層形成工程と、エッチング工程と、レジスト層剥離工程と、加飾層形成工程と、透明電極層形成工程とを有していれば特に限定されず、必要な工程を適宜選択して追加することができる。例えば、タッチパネルセンサの電極を形成する工程、絶縁層を形成する工程、オーバーコート層を形成する工程、赤外線吸収層を形成する工程等を挙げることができる。
８．タッチパネルセンサ
本発明のタッチパネルセンサの製造方法により、製造されるタッチパネルセンサについては、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
本発明のタッチパネルセンサの製造方法により、製造されるタッチパネルセンサについては、上述した「Ａ．タッチパネルセンサ」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
以下、実施例および比較例を挙げて、本発明のタッチパネルセンサの詳細について説明する。
［準備］
（共重合樹脂溶液の調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３質量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７質量部、トリエチルアミンを０．４質量部、及びハイドロキノンを０．２質量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
（共重合樹脂溶液の調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３質量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７質量部、トリエチルアミンを０．４質量部、及びハイドロキノンを０．２質量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
（硬化性樹脂組成物の調製）
次に下記材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物を得た。
＜硬化性樹脂組成物の組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） １６質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 SR399） ２４質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート180S70） ４質量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
４質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル ５２質量部
次に下記材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物を得た。
＜硬化性樹脂組成物の組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） １６質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 SR399） ２４質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート180S70） ４質量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン
４質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル ５２質量部
（加飾層形成用組成物の調製）
まず、下記材料を混合し、サンドミルにて十分に分散し、白色顔料分散液を調製した。
＜白色顔料分散液の組成＞
・白色顔料 ２３質量部
・高分子分散剤（ビックケミー・ジャパン（株） Disperbyk111） ２質量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル） ７５質量部
まず、下記材料を混合し、サンドミルにて十分に分散し、白色顔料分散液を調製した。
＜白色顔料分散液の組成＞
・白色顔料 ２３質量部
・高分子分散剤（ビックケミー・ジャパン（株） Disperbyk111） ２質量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル） ７５質量部
次に、下記材料を室温で攪拌、混合して加飾層形成用組成物を調製した。
＜加飾層形成用組成物の組成＞
・上記白色顔料分散液 ６１質量部
・上記硬化性樹脂組成物 ２０質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル ３０質量部
＜加飾層形成用組成物の組成＞
・上記白色顔料分散液 ６１質量部
・上記硬化性樹脂組成物 ２０質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル ３０質量部
（屈折率調整層形成用組成物の調製）
次に、下記材料を室温で攪拌、混合して屈折率調整層形成用組成物を調製した。
＜屈折率調整層形成用組成物の組成＞
・屈折率調整用分散液 ８．９質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル ６１．１質量部
・シクロヘキサノールアセテート ３０質量部
屈折率調整用分散液は、屈折率調整粒子として、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子を含む紫外線硬化性樹脂組成物であり、屈折率調整層の屈折率ｎ＝１．５８となるように調合されたものである。
次に、下記材料を室温で攪拌、混合して屈折率調整層形成用組成物を調製した。
＜屈折率調整層形成用組成物の組成＞
・屈折率調整用分散液 ８．９質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル ６１．１質量部
・シクロヘキサノールアセテート ３０質量部
屈折率調整用分散液は、屈折率調整粒子として、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子を含む紫外線硬化性樹脂組成物であり、屈折率調整層の屈折率ｎ＝１．５８となるように調合されたものである。
（屈折率調整層の形成）
透明基板として厚み１．１ｍｍのガラス基板（旭硝子（株） ＡＮ材、屈折率ｎ＝１．５）上に上記屈折率調整層形成用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、上記塗膜を全面露光し膜厚約１００ｎｍの屈折率調整層を形成した。
透明基板として厚み１．１ｍｍのガラス基板（旭硝子（株） ＡＮ材、屈折率ｎ＝１．５）上に上記屈折率調整層形成用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、上記塗膜を全面露光し膜厚約１００ｎｍの屈折率調整層を形成した。
（ポジ膜のパターニング形成）
上記屈折率調整層上にポジレジストＳＣ５００Ｅ（５４％希釈）をスピンコーターにて塗布後パターン露光を行い、続いてローム・アンド・ハース社製のＡＬＣ１３５０社製の現像液を用いて現像を行い、屈折率調整層上に膜厚１μｍのレジスト層をパターニングした。
上記屈折率調整層上にポジレジストＳＣ５００Ｅ（５４％希釈）をスピンコーターにて塗布後パターン露光を行い、続いてローム・アンド・ハース社製のＡＬＣ１３５０社製の現像液を用いて現像を行い、屈折率調整層上に膜厚１μｍのレジスト層をパターニングした。
（薄膜層のパターニング）
上記屈折率調整層が形成された透明基板をエキシマ紫外線照射で３分間エキシマレーザーを照射しドライエッチングを行った。その後、水洗浄を行い薄膜上のポジ膜の除去を行い、２３０℃で２０分間焼成を行い、薄膜のパターニング基板を作成した。
上記屈折率調整層が形成された透明基板をエキシマ紫外線照射で３分間エキシマレーザーを照射しドライエッチングを行った。その後、水洗浄を行い薄膜上のポジ膜の除去を行い、２３０℃で２０分間焼成を行い、薄膜のパターニング基板を作成した。
（加飾層の形成）
上記基板上に加飾層形成用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、膜厚約２５μｍの加飾層形成用層を形成した。上記加飾層形成用層を、超高圧水銀ランプで枠状のパターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、上記透明基板を２２０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して加飾層を形成した。
上記基板上に加飾層形成用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、膜厚約２５μｍの加飾層形成用層を形成した。上記加飾層形成用層を、超高圧水銀ランプで枠状のパターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、上記透明基板を２２０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して加飾層を形成した。
（オーバーコート層の形成）
上記屈折率調整層および加飾層上に上記硬化性樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、膜厚約３μｍの塗膜を塗布した。上記塗膜を、超高圧水銀ランプでパターン露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、上記透明基板を２００℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して加飾層上にオーバーコート層を形成した。
上記屈折率調整層および加飾層上に上記硬化性樹脂組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、膜厚約３μｍの塗膜を塗布した。上記塗膜を、超高圧水銀ランプでパターン露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、上記透明基板を２００℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して加飾層上にオーバーコート層を形成した。
（配線層およびタッチパネルセンサの電極の作製）
次に、加飾層が形成されている領域において、上記オーバーコート層上にフォトリソグラフィ法によりＩＴＯから構成される取り出し配線および外部接続端子をパターン状に形成した。次いで、アクティブエリアにおける屈折率調整層上にフォトリソグラフィ法によりＩＴＯから構成される透明電極層をパターン状に形成し、図１（ａ）〜（ｃ）に例示するような第１電極および第２電極を有するセンサ電極と第２導電部とを形成した。透明電極層の厚さは１３００Åとした。次いで、第２導電部を覆うように絶縁層を形成し、絶縁層上に第１導電部を形成した。
以上により、配線層およびタッチパネルセンサの電極を形成して、タッチパネルセンサを得た。
得られたタッチパネルセンサは、屈折率調整層がパターン状に形成され、屈折率調整層と加飾層とが透明基板上に形成されたものである。
次に、加飾層が形成されている領域において、上記オーバーコート層上にフォトリソグラフィ法によりＩＴＯから構成される取り出し配線および外部接続端子をパターン状に形成した。次いで、アクティブエリアにおける屈折率調整層上にフォトリソグラフィ法によりＩＴＯから構成される透明電極層をパターン状に形成し、図１（ａ）〜（ｃ）に例示するような第１電極および第２電極を有するセンサ電極と第２導電部とを形成した。透明電極層の厚さは１３００Åとした。次いで、第２導電部を覆うように絶縁層を形成し、絶縁層上に第１導電部を形成した。
以上により、配線層およびタッチパネルセンサの電極を形成して、タッチパネルセンサを得た。
得られたタッチパネルセンサは、屈折率調整層がパターン状に形成され、屈折率調整層と加飾層とが透明基板上に形成されたものである。
［比較例１］
透明基板上の全面に屈折率調整層を形成した後、加飾層を形成したこと以外は、実施例と同様にしてタッチパネルセンサを作製した。得られたタッチパネルセンサは、屈折率調整層が透明基板上の全面に形成され、屈折率調整層上に加飾層が形成されたものである。
透明基板上の全面に屈折率調整層を形成した後、加飾層を形成したこと以外は、実施例と同様にしてタッチパネルセンサを作製した。得られたタッチパネルセンサは、屈折率調整層が透明基板上の全面に形成され、屈折率調整層上に加飾層が形成されたものである。
［評価］
実施例および比較例１のタッチパネルセンサにおける屈折率調整層側とは反対側（操作面側）からの加飾層のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値の値を、コニカミノルタ社製 分光測色計ＣＭ−２６００ｄを用いて測定した。結果を表１に示す。なお、測定は、ＳＣＥ（正反射光除去）で行ない、Ｄ６５光源を用いた。
実施例および比較例１のタッチパネルセンサにおける屈折率調整層側とは反対側（操作面側）からの加飾層のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値の値を、コニカミノルタ社製 分光測色計ＣＭ−２６００ｄを用いて測定した。結果を表１に示す。なお、測定は、ＳＣＥ（正反射光除去）で行ない、Ｄ６５光源を用いた。
表１に示すように、透明基板上に屈折率調整層および加飾層の順に積層された構成を有する場合は、透明基板上に屈折率調整層を介さずに加飾層を形成した場合に比べて、ｂ＊値が大きくなり、黄味にシフトすることが確認された。また、目視においても、比較例１においては実施例に比べて、加飾層が黄味がかって観察された。
［比較例２］
透明基板上に加飾層を形成した後、加飾層が形成された透明基板上の全面に屈折率調整層を形成したこと以外は、実施例と同様にしてタッチパネルセンサを得た。得られたタッチパネルセンサは、透明基板に対して、加飾層、屈折率調整層、オーバーコート層、ならびに配線層およびタッチパネルセンサの電極の順に形成され、屈折率調整層がパターン状に形成されていないものである。
透明基板上に加飾層を形成した後、加飾層が形成された透明基板上の全面に屈折率調整層を形成したこと以外は、実施例と同様にしてタッチパネルセンサを得た。得られたタッチパネルセンサは、透明基板に対して、加飾層、屈折率調整層、オーバーコート層、ならびに配線層およびタッチパネルセンサの電極の順に形成され、屈折率調整層がパターン状に形成されていないものである。
［評価］
比較例２で作製したタッチパネルセンサにおいては、加飾層が形成された非アクティブエリアとアクティブエリアの境界において、屈折率調整層による干渉ムラが発生していたのに対し、実施例では干渉ムラは確認されず品位が向上されていることがわかった。
比較例２で作製したタッチパネルセンサにおいては、加飾層が形成された非アクティブエリアとアクティブエリアの境界において、屈折率調整層による干渉ムラが発生していたのに対し、実施例では干渉ムラは確認されず品位が向上されていることがわかった。
１ … タッチパネルセンサ用基板
２ … 透明基板
３ … 屈折率調整層
４ … 加飾層
５ … 透明電極層
１０ … タッチパネルセンサ
１３ａ … 第１電極
１３ｂ … 第２電極
１４ａ … 第１導電部
１４ｂ … 第２導電部
２ … 透明基板
３ … 屈折率調整層
４ … 加飾層
５ … 透明電極層
１０ … タッチパネルセンサ
１３ａ … 第１電極
１３ｂ … 第２電極
１４ａ … 第１導電部
１４ｂ … 第２導電部
Claims (1)
- 屈折率調整層用硬化性樹脂組成物を透明基板上の全面に塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を全面硬化させることにより、有機層のみを有する屈折率調整層を形成する屈折率調整層形成工程と、
ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、前記屈折率調整層上にレジスト層をパターン状に形成するレジスト層形成工程と、
前記レジスト層が形成された前記屈折率調整層における露出部分をエッチングすることにより前記屈折率調整層をパターニングするエッチング工程と、
前記エッチング工程後に前記レジスト層を剥離するレジスト層剥離工程と、
色材および有機材料を含む加飾層用樹脂組成物を用いて、前記透明基板上に加飾層をパターン状に形成する加飾層形成工程と、
前記屈折率調整層上に金属酸化物を含む透明電極層をパターン状に形成する透明電極層形成工程と
を有し、
前記屈折率調整層と前記加飾層とを同一平面上に形成することを特徴とするタッチパネルセンサの製造方法。
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