JP2013158704A - 酸化処理方法および酸化処理システム - Google Patents

Abstract

【課題】酸化処理剤による処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる技術を提供することを課題とする。
【解決手段】処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う、酸化処理剤を用いた酸化処理方法であって、処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる結露発生工程（ステップＳ１１）を具備し、処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態で、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う（ステップＳ１２）、酸化処理剤を用いた酸化処理方法とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、酸化処理方法および酸化処理システムの技術に関する。

従来、処理室内の処理対象を酸化処理して、これを殺菌、洗浄、または、脱臭等する酸化処理方法または酸化処理システムの技術は種々知られている。
前記酸化処理方法または前記酸化処理システムによって酸化処理される処理対象には、例えば、医療機器や手術室内やクリーンルームや電子部品や電気製品等の固体の表面がある。

また、前記酸化処理方法または前記酸化処理システムには、オゾンや過酸化水素等の酸化処理剤を用いて処理室内の処理対象の酸化処理を行うものがある（特許文献１参照）。
前記酸化処理方法または前記酸化処理システムでは、処理室内に酸化処理剤（例えば、オゾンガスや過酸化水素ガス等）が供給されると、当該酸化処理剤が処理室内の処理対象表面に接触することによって、処理対象表面の酸化が行われる。

特開昭６３−５９９６１号公報

しかしながら、前記酸化処理方法または前記酸化処理システムでは、処理室内に供給された酸化処理剤（オゾンガスや過酸化水素ガス等）のうち多くのものが、処理室内の処理対象表面に接触せずに処理室内を浮遊し、処理対象表面の酸化を行う前に処理室内から排気され、または、処理室内で酸素となる場合がある。
このため、前記酸化処理方法または前記酸化処理システムでは、酸化処理剤による処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができない場合があった。

本発明は以上の如き状況に鑑みてなされたものであり、酸化処理剤による処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる技術を提供することを課題とする。

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。

即ち、請求項１においては、処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う、酸化処理剤を用いた酸化処理方法であって、前記処理室内の処理対象表面に前記処理室内の水分を結露させる結露発生工程を具備し、前記処理室内の処理対象表面に結露が生じた状態で、前記処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行うものである。

請求項２においては、前記結露発生工程は、前記処理室内の温度を低下させることによって行われるものである。

請求項３においては、前記結露発生工程は、前記処理室内に供給される酸化処理剤の温度を上昇させることによって行われるものである。

請求項４においては、前記処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行った後、前記処理室内の処理対象表面の結露を除去する結露除去工程を具備するものである。

請求項５においては、前記結露除去工程は、前記処理室内の温度を上昇させることによって行われるものである。

請求項６においては、前記酸化処理剤は、過酸化水素ガスとオゾンガスとの混合ガスであるとしたものである。

請求項７においては、前記酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素水との混合流体であるとしたものである。

請求項８においては、前記酸化処理剤は、オゾンガスであるとしたものである。

請求項９においては、処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行うように構成される、酸化処理システムであって、前記処理室内の処理対象表面に前記処理室内の水分を結露させる結露発生装置を具備し、前記処理室内の処理対象表面に結露が生じた状態で、前記処理室内の処理対象表面を前記酸化処理剤によって酸化させる処理を行うように構成されるものである。

請求項１０においては、前記処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行った後、前記処理室内の処理対象表面の結露を除去する結露除去装置を具備するものである。

本発明の効果として、以下に示すような効果を奏する。

即ち、本発明によれば、酸化処理剤による処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる。

本発明の第一実施形態に係る酸化処理システムの全体的な構成を示した模式図。 本発明の第一実施形態に係る酸化処理システムにおける処理室内の処理対象表面の酸化処理を行う一連の動作を示したフローチャート図。 本発明の第一実施形態に係る酸化処理システムの全体的な構成を示した模式図。 本発明の第二実施形態に係る酸化処理システムの全体的な構成を示した模式図。 本発明の第二実施形態に係る酸化処理システムにおける処理室内の処理対象表面の酸化処理を行う一連の動作を示したフローチャート図。 同じくフローチャート図。 同じくフローチャート図。 本発明の第二実施形態に係る酸化処理システムの全体的な構成を示した模式図。 同じく模式図。 同じく模式図。 同じく模式図。 同じく模式図。 本発明の第三実施形態に係る酸化処理システムの全体的な構成を示した模式図。 本発明の第三実施形態に係る酸化処理システムの混合器を示した断面図。〜図。 本発明の第三実施形態に係る酸化処理システムにおける処理室内の処理対象表面の酸化処理を行う一連の動作を示したフローチャート図。 本発明の第四実施形態に係る酸化処理システムの全体的な構成を示した模式図。 本発明の第四実施形態に係る酸化処理システムの混合器を示した断面図。〜図。 本発明の第四実施形態に係る酸化処理システムのノズルを示した断面図。〜図。 本発明の第四実施形態に係る酸化処理システムにおける処理室内の処理対象表面の酸化処理を行う一連の動作を示したフローチャート図。 同じくフローチャート図。

次に、本発明の実施形態に係る、酸化処理剤を用いた酸化処理方法（以下、「酸化処理方法」という）、および、酸化処理システム１、について図１から図３を用いて説明する。

まず、第一実施形態に係る酸化処理システム１について説明する。
酸化処理システム１は、図１に示すように、処理室２を具備し、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行うものである。酸化処理システム１によって処理対象表面が酸化処理されることにより、処理対象表面の殺菌、洗浄、または、脱臭等が行われる。
酸化処理システム１で用いられる酸化処理剤は、オゾン（Ｏ３）ガスである。

酸化処理システム１の処理室２内では、酸化処理剤を用いて処理対象表面が酸化処理される。
酸化処理システム１の処理室２には、例えば、精密機械工業、半導体工業、医薬品工業等の製造設備や研究施設のクリーンルームやアイソレータ、手術室、殺菌装置の殺菌室、歯科・眼科等の医院の居室、洗浄装置の洗浄室、食品製造工場、ホテルの客室、介護施設、病院等の不特定多数が集う各種施設、食堂・レストラン等の厨房、または、有害な化学物質や微生物が残留した施設等がある。
酸化処理システム１の処理室２は、排気口２ａを有する。酸化処理システム１の処理室２は、排気口２ａに過酸化水素分解触媒およびオゾン分解触媒が設けられて構成される。

処理対象とは、酸化処理剤を用いてその表面が酸化処理されるものを示す。
処理対象表面には、精密機械工業、半導体工業、医薬品工業等の製造設備や研究施設のクリーンルームやアイソレータの内壁の表面、手術室の内壁の表面、殺菌装置の殺菌室の内壁の表面、歯科・眼科等の医院の居室の内壁の表面、洗浄装置の洗浄室の内壁の表面、食品製造工場の内壁、ホテルの客室の内壁表面、介護施設もしくは病院等の不特定多数が集う各種施設の内壁表面、食堂・レストラン等の厨房の内壁表面、または、有害な化学物質や微生物が残留した施設内の内壁表面等がある。また、処理対象表面には、クリーンルーム内やアイソレータ内、手術室内、殺菌装置の殺菌室内、歯科・眼科等の医院の居室内、洗浄装置の洗浄室内、食品製造工場内、ホテルの客室内、介護施設もしくは病院等の不特定多数が集う各種施設内、食堂・レストラン等の厨房内、または、有害な化学物質や微生物が残留した施設内等に配置されるもの、例えば、クリーンルームやアイソレータ内の装置や工具の表面、手術室内の手術用具の表面、殺菌装置の殺菌室内の衣類や容器の表面、歯科・眼科等の医院の居室内の設置品や機器類の表面、洗浄装置の洗浄室内の電子部品や電気製品等の表面、食品製造工場に設置された製造機器、食品工場内の雰囲気中の浮遊菌、治具類、ケーキ、パイ、もしくは、そば等の原材料、ホテルの客室内のカーテン、ベッド等の調度品、介護施設もしくは病院等の不特定多数が集う各種施設内の調度品、食堂・レストラン等の厨房内の調度品や食器類の表面及び排気される臭い物質、または、有害な化学物質や微生物が残留した施設内の設置物の表面等がある。
このように、酸化処理システム１では、半導体の表面処理のように処理対象表面そのものの処理（酸化処理）が行われる。また、酸化処理システム１では、処理対象表面に付着した化学物質または微生物の処理（酸化処理）が行われて、処理対象表面の臭い物質の低減（脱臭）、処理対象表面の有害物質の無害化、処理対象表面の微生物の殺菌等が行われる。

なお、オゾンは強力な酸化剤であり、微生物である細菌やウイルスに対する強い不活化効果を示すことが知られている。また、オゾンに加湿等の方法で水分を追加させることにより、より強力な酸化力をもつＯＨラジカルを生成し、より強力な殺菌効果が得られることも知られている。
オゾンを用いた脱臭は、大気汚染処理として排気の脱臭、排煙処理、室内の空気浄化あるいは、浴室、病院、老人施設等でも利用されている。臭い物質を構成する硫化物や有機酸等を、オゾンの強い酸化反応を利用して分解するのが脱臭原理である。一般に、オゾンは−ＳＨ、＝Ｓ、−ＮＨ２、＝ＮＨ、−ＯＨ、−ＣＨＯを持つ化合物との反応性が大きい。悪臭物質の多くはこれらの基を持つので、オゾンによる脱臭は、多くの悪臭物質に対し効果を持つことになる。
オゾンは、各種難分解性化学物質とも、強力な酸化力により分解することが知られている。例えば、塩素系農薬、有機リン系農薬、尿素系農薬等に対する水中での処理に関する報告もある。

酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３と、結露発生装置２１と、結露除去装置２２と、を具備する。

酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３は、オゾンガスを発生させる装置である。
酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３には、酸素に放電することによりオゾンガスを発生するもの（放電式オゾンガス発生装置）、または、酸素に紫外線を照射することによってオゾンガスを発生するもの（紫外線式オゾンガス発生装置）等がある。
酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３と処理室２内とがオゾンガス供給管６を介して接続されて、構成される。

そして、酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３の供給ポンプや酸素発生装置が作動することによって、オゾンガス発生装置３で発生されたオゾンガスがオゾンガス供給管６を介してオゾンガス発生装置３から処理室２内に供給されるように、構成される。
酸化処理システム１は、オゾンガスが処理室２内に供給されることによって、処理室２内の気体（オゾン、酸素等）が処理室２の排気口２ａから排気されるように構成される。

酸化処理システム１の結露発生装置２１は、処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる装置である。

酸化処理システム１の結露除去装置２２は、処理室２内の処理対象表面の結露を除去する装置である。

次に、第一実施形態に係る酸化処理システム１における処理室内２の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う一連の動作について説明する。

前記酸化処理システム１の一連の動作は、図２に示すように、結露発生工程（ステップＳ１１）と、酸化処理工程（ステップＳ１２）と、結露除去工程（ステップＳ１３）と、を具備するものである。

ステップＳ１１は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる工程である。
ステップＳ１１では、酸化処理システム１の結露発生装置２１を作動させて、処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させるように行われる。
このとき、酸化処理システム１の処理室２内に、予め水蒸気等の水分を供給して処理室２内の湿度を上昇させることによって、処理室２内の処理対象表面に容易に結露させることができる。
ステップＳ１１において酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させた後、ステップＳ１２に移行する。

ステップＳ１２は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う工程である。
ステップＳ１２では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ１１）で、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガス（酸化処理剤）を供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ１２において酸化処理システム１の処理室２内にオゾンガスが供給されると、処理室２内のオゾンガス濃度が上昇する。そして、酸化処理システム１の処理室２内に供給されたオゾンガスが処理室２内の処理対象表面に到達すると、当該処理対象表面が酸化されることとなる。このとき、酸化処理システム１の処理室２内に供給されたオゾンガスは、処理対象表面の水分（結露）の存在によってオゾンの反応が促進されることとなる。
ステップＳ１２においてオゾンガス（酸化処理剤）によって処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ１３に移行する。

ステップＳ１３は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去する工程である。
ステップＳ１３では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面をオゾンガス（酸化処理剤）によって酸化させる処理（ステップＳ１２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行われる。

以上のように、酸化処理システム１は、結露発生装置２１を具備し、処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ１１）で、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤（オゾンガス）によって酸化させる処理を行う（ステップＳ１２）ように構成される。
そして、酸化処理システム１では、処理室２内に酸化処理剤（オゾンガス）が供給されて処理室２内の処理対象表面に到達すると、処理対象表面の水分（結露）の存在によってオゾン（酸化処理剤）の反応が促進されることとなる。
このようにして、酸化処理システム１では、処理室２内の酸化処理剤（オゾンガス）が当該処理対象表面に到達して、当該処理対象表面が酸化されることとなる。
したがって、酸化処理システム１によれば、酸化処理剤（オゾンガス）による処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる。

酸化処理システム１の酸化処理剤はオゾンガスである。
このため、酸化処理システム１では、処理室２内の処理対象表面の結露されて湿度が高くなるため、オゾンによる処理対象表面の殺菌効果を向上させることができる。

酸化処理システム１は、結露除去装置２２を具備し、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤（オゾンガス）によって酸化させる処理（ステップＳ１２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように構成される。
このように、酸化処理システム１では、結露除去装置２２によって処理室２内の処理対象表面の結露を除去するため、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤（オゾンガス）によって酸化させる処理の後に処理対象表面の結露を拭取る等の処理が不要となる。
したがって、酸化処理システム１によれば、酸化処理システム１が処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を処理対象表面に結露が生じた状態で行う構成であっても、当該処理対象表面を酸化させる処理の後処理の繁雑さを解消することができる。

酸化処理システム１の結露発生装置２１は、処理室２内の温度を低下させることによって、処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させるように構成される。
酸化処理システム１の結露発生装置２１は、例えば、処理室２内の温度を低下させる冷却装置として構成され、処理室２内の壁、床、または、天井等に配置される。
そして、酸化処理システム１は、結露発生装置２１を作動させて処理室２内の温度を低下させて処理室２内の処理対象表面を冷却して、当該処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる（ステップＳ１１）ように構成される。
このようにして、酸化処理システム１では、容易に、処理室２内の処理対象表面に結露せることができる。

酸化処理システム１の結露除去装置２２は、処理室２内の温度を上昇させることによって、処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を除去させるように構成される。
酸化処理システム１の結露除去装置２２は、例えば、処理室２内の温度を上昇させる加熱装置として構成され、処理室２内の壁、床、または、天井等に配置される。
そして、酸化処理システム１の結露除去装置２２は、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の温度を上昇させて処理室２内の処理対象表面を加熱して、処理室２内の当該処理対象表面の結露を除去させる（ステップＳ１３）ように構成される。
このようにして、酸化処理システム１では、容易に、処理室２内の処理対象表面の結露を除去させることができる。

また、図３に示すように、酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３が処理室２内に配置されて構成されてもよい。このとき、酸化処理システム１は、オゾンガス供給管６を要さず、オゾンガス供給管６を備えない構成とされる。
したがって、このように酸化処理システム１が構成されることにより、酸化処理システム１の全体的な構成をコンパクトにすることができる。
なお、このときの酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３は、耐オゾン性を有するように構成される。

次に、本発明の実施形態に係る、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる酸化処理方法について、図２を用いて説明する。

酸化処理方法は、図２に示すように、結露発生工程（ステップＳ１１）と、酸化処理工程（ステップＳ１２）と、結露除去工程（ステップＳ１３）と、を具備する。

ステップＳ１１は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる工程である。
ステップＳ１１では、酸化処理システム１の結露発生装置２１を作動させて、処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させるように行われる。
このとき、例えば、酸化処理システム１の処理室２内に、予め水蒸気等の水分を供給して処理室２内の湿度を上昇させることによって、処理室２内の処理対象表面に容易に結露させることができる。
ステップＳ１１において酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させた後、ステップＳ１２に移行する。

ステップＳ１２は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う工程である。
ステップＳ１２では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ１１）で、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガス（酸化処理剤）を供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ１２において酸化処理システム１の処理室２内にオゾンガスが供給されると、処理室２内のオゾンガス濃度が上昇する。そして、酸化処理システム１の処理室２内に供給されたオゾンガスが処理室２内の処理対象表面に到達すると、当該処理対象表面が酸化されることとなる。このとき、酸化処理システム１の処理室２内に供給されたオゾンガスは、処理対象表面の水分（結露）の存在によってオゾンの反応が促進されることとなる。
ステップＳ１２においてオゾンガス（酸化処理剤）によって処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ１３に移行する。

ステップＳ１３は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去する工程である。
ステップＳ１３では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面をオゾンガス（酸化処理剤）によって酸化させる処理（ステップＳ１２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行われる。

以上のように、酸化処理方法は、結露発生工程（ステップＳ１１）を具備し、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態で、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤（オゾンガス）によって酸化させる処理を行う（ステップＳ１２）。
そして、酸化処理方法では、酸化処理システム１の処理室２内に酸化処理剤（オゾンガス）が供給されて処理室２内の処理対象表面に到達すると、処理対象表面の水分（結露）の存在によってオゾン（酸化処理剤）の反応が促進されることとなる。
このようにして、酸化処理方法では、酸化処理システム１の処理室２内の酸化処理剤（オゾンガス）が当該処理対象表面に到達して、当該処理対象表面が酸化されることとなる。
したがって、酸化処理方法によれば、酸化処理剤（オゾンガス）による処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる。

酸化処理方法の酸化処理剤はオゾンガスである。
このため、酸化処理方法では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露されて湿度が高くなるため、オゾンによる処理対象表面の殺菌効果を向上させることができる。

酸化処理方法は、結露除去工程（ステップＳ１３）を具備し、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤（オゾンガス）によって酸化させる処理を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行う。
このように、酸化処理方法では、酸化処理システム１の結露除去装置２２によって処理室２内の処理対象表面の結露を除去するため、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤（オゾンガス）によって酸化させる処理の後に処理対象表面の結露を拭取る等の処理が不要となる。
したがって、酸化処理方法によれば、酸化処理方法が処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を処理対象表面に結露が生じた状態で行う構成であっても、当該処理対象表面を酸化させる処理の後処理の繁雑さを解消することができる。

酸化処理方法の結露発生工程（ステップＳ１１）は酸化処理システム１の、処理室２内の温度を低下させることによって行われる。
そして、酸化処理方法は、酸化処理システム１の結露発生装置２１を作動させて処理室２内の温度を低下させて処理室２内の処理対象表面を冷却して、当該処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる（ステップＳ１１）。
このようにして、酸化処理方法では、容易に、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させることができる。

酸化処理方法の結露除去工程（ステップＳ１３）は、酸化処理システム１の処理室２内の温度を上昇させることによって行われる。
そして、酸化処理方法は、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の温度を上昇させて処理室２内の処理対象表面を加熱して、処理室２内の当該処理対象表面の結露を除去させる（ステップＳ１３）。
このようにして、酸化処理方法では、容易に、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去させることができる。

次に、第二実施形態に係る酸化処理システム１について、図４乃至図１２を用いて説明する。
なお、第二実施形態に係る酸化処理システム１の説明は、第一実施形態に係る酸化処理システム１と同様の構成の部分については適宜省略し、第一実施形態に係る酸化処理システム１の構成と異なる部分を中心に説明する。

酸化処理システム１で用いられる酸化処理剤は、オゾンガスおよび過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）ガスである。
酸化処理システム１は、図４に示すように、処理室２と、オゾンガス発生装置３と、過酸化水素ガス発生装置４と、ファン５と、結露発生装置２１と、結露除去装置２２と、を具備する。
酸化処理システム１の処理室２は、排気口２ａにオゾン分解触媒および過酸化水素分解触媒が設けられて構成される。
酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３と、過酸化水素ガス発生装置４と、ファン５とは、処理室２外に配置される。

酸化処理システム１の処理室２内では、オゾンガスと過酸化水素ガスとを用いて処理対象表面が酸化処理される。
処理対象とは、オゾンガスと過酸化水素ガスとを用いてその表面が酸化処理されるものを示す。

酸化処理システム１の過酸化水素ガス発生装置４は、過酸化水素ガスを発生させる装置である。
酸化処理システム１の過酸化水素ガス発生装置４は、過酸化水素水（例えば、３５ｗｔ％過酸化水素水）を蒸発させて、過酸化水素ガスを発生させるように構成される。なお、酸化処理システム１では、過酸化水素ガス発生装置４において過酸化水素ガスを発生するために用いられる過酸化水素水は、求められる効果、用途、または、過酸化水素ガス発生装置４の仕様等に応じて、適切な濃度のものが選択されて用いられてもよい。
酸化処理システム１は、過酸化水素ガス発生装置４と処理室２内とが過酸化水素ガス供給管７を介して接続されて、構成される。

酸化処理システム１のファン５は、過酸化水素ガス発生装置４に外気を供給して、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に、当該外気とともに過酸化水素ガスを供給するものである。
酸化処理システム１のファン５は、処理室２外に配置される。酸化処理システム１のファン５は、過酸化水素ガス発生装置４の上流側に配置される。
酸化処理システム１は、ファン５と過酸化水素ガス発生装置４とが配管８を介して接続されて、構成される。

そして、酸化処理システム１は、ファン５が作動することによって、配管８を介してファン５から過酸化水素ガス発生装置４に外気が供給され、当該外気とともに過酸化水素ガス発生装置４で発生された過酸化水素ガスが過酸化水素ガス供給管７を介して過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に供給されるように、構成される。
また、酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３の供給ポンプや酸素発生装置等が作動することによって、オゾンガス発生装置３で発生されたオゾンガスがオゾンガス供給管６を介してオゾンガス発生装置３から処理室２内に供給されるように、構成される。
酸化処理システム１は、過酸化水素ガスまたはオゾンガスが処理室２内に供給されることによって、処理室２内の気体（過酸化水素、オゾン、酸素等）が処理室２の排気口２ａから排気されるように構成される。

次に、第二実施形態に係る酸化処理システム１における処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う一連の動作について説明する。

前記酸化処理システム１の一連の動作は、図５に示すように、結露発生工程（ステップＳ２１）と、酸化処理工程（ステップＳ２２）と、結露除去工程（ステップＳ２３）と、を具備するものである。

ステップＳ２１は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる工程である。
ステップＳ２１において酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させた後、ステップＳ２２に移行する。
なお、ステップＳ２１は、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガス（酸化処理剤）を供給して、過酸化水素ガスが含む水分によって処理室２内の湿度を上昇させた状態で行うこともできる。

ステップＳ２２は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う工程である。
ステップＳ２２では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ２１）で、過酸化水素ガスおよび／またはオゾンガス（酸化処理剤）を処理室２内に供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ２２は、図６に示すように、促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）を備える。

ステップＳ２２１は、過酸化水素ガスの過酸化水素とオゾンガスのオゾンとが反応して生成されるラジカルによって処理室２内の処理対象表面を酸化させる工程である。
ステップＳ２２１では、酸化処理システム１の過酸化水素ガス発生装置４からの過酸化水素ガスと、オゾンガス発生装置３からのオゾンガスと、をそれぞれ処理室２内に供給して、処理室２内においてラジカルを生成して、処理対象表面の促進酸化（ＡＯＰ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ Ｐｒｏｃｅｓｓ））が行われる。促進酸化とは、ラジカルを利用して処理対象表面の有機物またはその他の物質を分解するものであることが知られている。
ステップＳ２２１では、酸化処理システム１の処理室２内に過酸化水素ガスとオゾンガスとが供給されると、処理室２内で過酸化水素とオゾンとが反応して、処理室２でラジカルが生成される。前記オゾンと過酸化水素とが反応して生成されるラジカルには、ＯＨラジカル（ヒドロキシカルラジカル）がある。
そして、ステップＳ２２１では、前記酸化処理システム１の処理室２内で生成されたラジカルによって処理対象表面が酸化されることとなる。
このようにして、ステップＳ２２（ステップＳ２２１）において処理対象表面を酸化させる。
ステップＳ２２（ステップＳ２２１）において処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ２３に移行する。

ステップＳ２３は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去する工程である。
ステップＳ２３では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を過酸化水素ガスまたはオゾンガス（酸化処理剤）によって酸化させる処理（ステップＳ２２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行われる。

以上のように、酸化処理システム１は、過酸化水素ガスの過酸化水素とオゾンガスのオゾンとが反応して生成されるラジカルによって、処理室２の処理対象表面を酸化させる（ステップＳ２２１）ように構成される。
つまり、酸化処理システム１は、過酸化水素とオゾンとが水中に溶解された処理水中に処理対象を浸漬させて、処理対象表面の酸化処理（促進酸化）を行うものではない。
このため、酸化処理システム１では、処理対象が処理水中に浸漬させることに適さないもの（例えば、電子部品や電気製品等）であっても、前記多量の水分によって当該処理対象が故障することを防止することができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、処理水中に処理対象を浸漬させて酸化処理を行うことに適さない処理対象であっても、容易に、ラジカルによる処理対象表面の酸化を行うことができる。

また、ステップＳ２２は、図７に示すように、促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）に加えて、過酸化水素処理工程（ステップＳ２２０）を備えることもできる。

ステップＳ２２０は、過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させる工程である。
ステップＳ２２０は、ステップＳ２２１の前に行われる。
ステップＳ２２０では、酸化処理システム１の過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガスを供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ２２０において酸化処理システム１の処理室２内に過酸化水素ガスが供給されると、処理室２内の過酸化水素濃度が上昇し、当該過酸化水素ガスによって処理室２内（処理室２内の処理対象表面、処理室２の内壁、および、処理室２内の雰囲気）が酸化されることとなる。また、酸化処理システム１の処理室２内において過酸化水素ガスが処理対象表面に到達すると、処理対象表面が酸化されて処理対象表面に酸化膜が形成されることとなる。
なお、酸化処理システム１では、ステップＳ２２０は、前述のように、ステップＳ２１において処理室２内に供給された過酸化水素ガスによっても行うこともできる。つまり、酸化処理システム１では、処理室２内に供給される過酸化水素ガスが含む水分（処理室２内の水分）によって、ステップＳ２１とステップＳ２２０とを同時に行うこともできる。
ステップＳ２２０において過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ２２１に移行する。

このときにおけるステップＳ２２１は、ステップＳ２２０において処理対象表面を酸化させた後、オゾンガスを供給することによってラジカルを生成して当該ラジカルによって処理対象表面を酸化させる（促進酸化を行う）。
ステップＳ２２１は、ステップＳ２２０において過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させた後、オゾンガスを供給することによってラジカルを生成して当該ラジカルによって対象表面を酸化させる（促進酸化を行う）工程である。
ステップＳ２２１では、ステップＳ２２０において処理対象表面を酸化させた後、酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給することによって、処理室２内においてラジカルを生成して、前記ラジカルによって処理対象表面を酸化させる。
ステップＳ２２１では、酸化処理システム１の処理室２内にオゾンガスが供給されると、処理室２内の処理対象表面または処理室内の雰囲気中に残存する過酸化水素とオゾンとが反応して、処理室２内でラジカルが生成される。
そして、ステップＳ２２１では、前記酸化処理システム１の処理室２内で生成されたラジカルによって処理対象表面が酸化されることとなる。
このようにして、ステップＳ２２（ステップＳ２２０およびステップＳ２２１）において処理対象表面の酸化が行われる。
ステップＳ２２（ステップＳ２２０およびステップＳ２２１）において処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ２３に移行する。

以上のように、酸化処理システム１は、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガスを供給して処理対象表面を酸化させた後（ステップＳ２２０）、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給することによってラジカルを生成して、前記ラジカルによって処理対象表面を酸化させる（ステップＳ２２１）ように構成される。
そして、酸化処理システム１では、まず、過酸化水素処理工程（ステップＳ２２０）において過酸化水素が処理室２内で酸化反応するので、促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）において処理室２内でのオゾンの酸化反応が抑制されることとなる。
このため、酸化処理システム１では、処理室２内において、過酸化水素と反応してラジカルを生成するためのオゾンの量を十分に確保することができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、ラジカルによって処理対象表面を酸化させる処理（酸化促進処理）を効果的に行うことができる。

またこのため、酸化処理システム１では、過酸化水素と反応してラジカルを生成するために要する処理室２内へのオゾンガスの供給量を低減させることができる。
よって、酸化処理システム１では、オゾンガスの供給能力の低い小型または軽量のオゾンガス発生装置３でも、酸化処理システム１を実現することができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、オゾンガス発生装置３を小型または軽量のものにして、酸化処理システム１の小型化・軽量化を図ることができる。

酸化処理システム１は、過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させた後（ステップＳ２２０）、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内への過酸化水素ガスの供給を停止した状態で、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給するように構成してもよい。

また、酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給しながら過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガスを供給することによって処理室２内で前記ラジカルを生成して、前記ラジカルによって処理対象表面を酸化させる（ステップＳ２２１）ように構成してもよい。
このように構成することにより、酸化処理システム１では、処理室２内（処理室２内の処理対象表面、および、処理室２内の雰囲気）での過酸化水素濃度を高くすることができ、処理室２内でのラジカルの生成量を増加させることができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、ラジカルによって処理対象表面を酸化させる処理（酸化促進処理）をより効果的に行うことができる。
このとき、酸化処理システム１は、過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させた後（ステップＳ２２０）、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内への過酸化水素ガスの供給を継続して、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給するように構成してもよい。
またこのとき、酸化処理システム１は、過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させた後（ステップＳ２２０）、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内への過酸化水素ガスの供給を停止した状態で、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給し、その後、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内への過酸化水素ガスを供給するように構成してもよい。

酸化処理システム１の結露発生装置２１は、処理室２内に供給される過酸化水素ガス（酸化処理剤）の温度を上昇させることによって、処理室２内の処理対象表面に結露させる処理を行うように構成されてもよい。
このとき、酸化処理システム１の結露発生装置２１は、例えば、過酸化水素ガス供給管７内の温度を上昇させる加熱装置として構成され、過酸化水素ガス供給管７内に配置される。
そして、酸化処理システム１の結露発生装置２１は、結露発生装置２１を作動させて過酸化水素ガス供給管７内の温度を上昇させて過酸化水素ガス供給管７内の過酸化水素ガス（酸化処理剤）の温度を上昇させて、当該処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる（ステップＳ２１）ように構成される。
このようにして、酸化処理システム１では、容易に、処理室２内の処理対象表面に結露せることができる。

ここで、酸化処理システム１では、過酸化水素ガスとオゾンガスとを処理室２内に供給すると、多量のオゾンガスが処理室２内から排気されるため、処理室２内のオゾン濃度を高くすることが困難な場合がある。
そこで、酸化処理システム１は、図８に示すように、ファン５が外気を吸引せずに処理室２内の気体（オゾンガスまたは過酸化水素ガス）を吸引するように構成されて、処理室２内の少なくとも一部の気体（オゾンガスまたは過酸化水素ガス）が循環するように、構成してもよい。
このとき、酸化処理システム１のファン５は、処理室２内の気体を吸引して、過酸化水素ガス発生装置４に当該処理室２内の気体を供給して、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に当該処理室２内の気体とともに過酸化水素ガスを供給するように構成される。
酸化処理システム１の処理室２は、吸引口２ｂを備える。酸化処理システム１の処理室２の吸引口２ｂは、処理室２内の気体がファン５に吸引されて処理室２内から取出されるものである。
酸化処理システム１は、処理室２内の吸引口２ｂとファン５と吸引管１４を介して接続されて、構成される。

そして、酸化処理システム１は、ファン５が作動することによって、吸引管１４を介して処理室２内から処理室２内の気体がファン５に供給されて、配管８を介してファン５から過酸化水素ガス発生装置４に前記処理室２内の気体が供給され、当該処理室２内の気体とともに過酸化水素ガス発生装置４で発生された過酸化水素ガスが過酸化水素ガス供給管７を介して過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に供給されるように、構成される。
このようにして、酸化処理システム１では、処理室２内の少なくとも一部の気体がファン５に吸引されてファン５を介して循環する。そして、酸化処理システム１では、ファン５からは外気とともに過酸化水素ガスが処理室２内に供給されない（外気が処理室２内に供給されない）。
このため、酸化処理システム１では、処理室２内の気体（オゾンガス）が処理室２の排気口２ａから排気され難くなる。
したがって、処理システム１によれば、多量のオゾンガスが処理室２内（排気口２ａ）から排気されず、容易に、処理室２内のオゾン濃度を高くすることができる。

また、図９に示すように、酸化処理システム１は、過酸化水素ガス発生装置４が処理室２内に配置されて構成されてもよい。このとき、酸化処理システム１は、過酸化水素ガス供給管７を要さず、過酸化水素ガス供給管７を備えない構成とされる。
このため、酸化処理システム１では、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガスを供給する供給管（過酸化水素ガス供給管７）を要さず、過酸化水素ガス発生装置４で発生させた過酸化水素ガスが前記供給管内で結露することが生じない。
このようにして、酸化処理システム１では、過酸化水素ガス発生装置４で発生させた過酸化水素ガスを無駄なく処理室２内に供給することができる。したがって、このように酸化処理システム１が構成されることにより、処理室２内に供給されない過酸化水素ガスが生じることを防止することができる。
また、このように酸化処理システム１が構成されることにより、酸化処理システム１の全体的な構成をコンパクトにすることができる。
なお、このときの酸化処理システム１の過酸化水素ガス発生装置４は、耐オゾン性及び耐過酸化水素性を有するように構成される。

さらに、図１０に示すように、酸化処理システム１は、過酸化水素ガス発生装置４とファン５とが処理室２内に配置されて構成されてもよい。
このとき、酸化処理システム１のファン５は、処理室２内においてオゾンガスまたは過酸化水素ガスを拡散させる拡散ファンとして構成される。つまり、酸化処理システム１は、外気を酸化水素ガス発生装置４に供給して過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に当該外気とともに過酸化水素ガスを供給するためのファンを要さない、構成とされる。
このため、酸化処理システム１では、前記ファンから外気とともに過酸化水素ガスが供給されず、処理室２内の過酸化水素ガスとオゾンガスとが処理室２の排気口２ａから容易に排気されないこととなる。
したがって、酸化処理システム１によれば、容易に、処理室２内のオゾン濃度を高くすることができる。
またこのため、酸化処理システム１では、処理室２内においてオゾンガスがファン５によって拡散されることとなり、処理室２内の場所によってオゾン濃度のバラつきが生じることを抑制することができる。
なお、このときの酸化処理システム１のファン５は、耐オゾン性及び耐過酸化水素性を有するように構成される。

また、図１１に示すように、酸化処理システム１は、過酸化水素ガス発生装置４とオゾンガス発生装置３とが処理室２内に配置されて構成されてもよい。
このとき、酸化処理システム１は、オゾンガス供給管６を要さず、オゾンガス供給管６を備えない構成とされる。
したがって、このように酸化処理システム１が構成されることにより、酸化処理システム１の全体的な構成をさらにコンパクトにすることができる。

また、図１２に示すように、酸化処理システム１は、過酸化水素ガス発生装置４とオゾンガス発生装置３とファン５とが処理室２内に配置されて構成されてもよい。
このとき、酸化処理システム１のファン５は、処理室２内においてオゾンガスまたは過酸化水素ガスを拡散させる拡散ファンとして構成される。つまり、酸化処理システム１は、外気を酸化水素ガス発生装置４に供給して過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に当該外気とともに過酸化水素ガスを供給するためのファンを要さない、構成とされる。
このため、酸化処理システム１では、前記ファンから外気とともに過酸化水素ガスが供給されず、処理室２内の過酸化水素ガスとオゾンガスとが処理室２の排気口２ａから容易に排気されないこととなる。
したがって、酸化処理システム１によれば、容易に、処理室２内のオゾン濃度を高くすることができる。
またこのため、酸化処理システム１では、処理室２内においてオゾンガスがファン５によって拡散されることとなり、処理室２内の場所によってオゾン濃度のバラつきが生じることを抑制することができる。

また、酸化処理システム１の酸化処理剤はオゾンガスおよび過酸化水素ガスである。
そして、酸化処理システム１は、結露発生工程（ステップＳ２１）において、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガスを供給することによって処理室２内の湿度を過酸化水素ガスが含む水分によって上昇させた状態で行うこともできる。
このように結露発生工程（ステップＳ２１）を行うことにより、酸化処理システム１では、前記処理室２内に供給される過酸化水素ガスが含む水分を利用して、より確実に、処理室２内の処理対象表面に結露させることができる。

酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３が紫外線式オゾンガス発生装置の場合には、他のものに比べて圧力損失が少ないため、供給ポンプに代えてファンを用いてオゾンガス発生装置３を構成することができ、オゾンガス発生装置３を耐オゾン性及び耐過酸化水素性有するように構成することを容易に行うことができる。

次に、本発明の実施形態に係る、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる酸化処理方法について、図５乃至図７を用いて説明する。

酸化処理方法は、図５に示すように、結露発生工程（ステップＳ２１）と、酸化処理工程（ステップＳ２２）と、結露除去工程（ステップＳ２３）と、を具備する。

ステップＳ２１は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる工程である。
ステップＳ２１において酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させた後、ステップＳ２２に移行する。

ステップＳ２２は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う工程である。
ステップＳ２２では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ２１）で、過酸化水素ガスまたはオゾンガス（酸化処理剤）を処理室２内に供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ２２は、図６に示すように、促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）を備える。

ステップＳ２２１は、過酸化水素ガスの過酸化水素とオゾンガスのオゾンとが反応して生成されるラジカルによって処理室２内の処理対象表面を酸化させる工程である。
ステップＳ２２１では、酸化処理システム１の過酸化水素ガス発生装置４からの過酸化水素ガスと、オゾンガス発生装置３からのオゾンガスと、をそれぞれ処理室２内に供給して、処理室２内においてラジカルを生成して、処理対象表面の促進酸化が行われる。
ステップＳ２２１では、酸化処理システム１の処理室２内に過酸化水素ガスとオゾンガスとが供給されると、処理室２内で過酸化水素とオゾンとが反応して、処理室２内でラジカルが生成される。
そして、ステップＳ２２１では、前記酸化処理システム１の処理室２内で生成されたラジカルによって処理対象表面が酸化されることとなる。
このようにして、ステップＳ２２（ステップＳ２２１）において処理対象表面を酸化させる。
ステップＳ２２（ステップＳ２２１）において処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ２３に移行する。

ステップＳ２３は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去する工程である。
ステップＳ２３では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を過酸化水素ガスまたはオゾンガス（酸化処理剤）によって酸化させる処理（ステップＳ２２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行われる。

以上のように、酸化処理方法では、過酸化水素ガスの過酸化水素とオゾンガスのオゾンとが反応して生成されるラジカルによって、処理室２の処理対象表面を酸化させる（ステップＳ２２１）。
つまり、酸化処理方法は、過酸化水素とオゾンとが水中に溶解された処理水中に処理対象を浸漬させて、処理対象表面の酸化処理（促進酸化）を行うものではない。
このため、酸化処理方法では、処理対象が処理水中に浸漬させることに適さないもの（例えば、電子部品や電気製品等）であっても、前記多量の水分によって当該処理対象が故障することを防止することができる。
したがって、酸化処理方法によれば、処理水中に処理対象を浸漬させて酸化処理を行うことに適さない処理対象であっても、容易に、ラジカルによる処理対象表面の酸化を行うことができる。

また、ステップＳ２２は、図７に示すように、促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）に加えて、過酸化水素処理工程（ステップＳ２２０）を備えることもできる。
ステップＳ２２０は、過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させる工程である。
ステップＳ２２０は、ステップＳ２２１の前に行われる。
ステップＳ２２０では、酸化処理システム１の過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガスを供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ２２０において酸化処理システム１の処理室２内に過酸化水素ガスが供給されると、処理室２内の過酸化水素濃度が上昇し、当該過酸化水素ガスによって処理室２内（処理室２内の処理対象表面、処理室２の内壁、および、処理室２内の雰囲気）が酸化されることとなる。また、酸化処理システム１の処理室２内において過酸化水素ガスが処理対象表面に到達すると、処理対象表面が酸化されて処理対象表面に酸化膜が形成されることとなる。
ステップＳ２２０において過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ２２１に移行する。

このときにおけるステップＳ２２１は、ステップＳ２２０において処理対象表面を酸化させた後、オゾンガスを供給することによってラジカルを生成して当該ラジカルによって処理対象表面を酸化させる（促進酸化を行う）。
ステップＳ２２１では、ステップＳ２２０において処理対象表面を酸化させた後、酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給することによって、処理室２内においてラジカルを生成して、前記ラジカルによって処理対象表面を酸化させる。
ステップＳ２２１では、酸化処理システム１の処理室２内にオゾンガスが供給されると、処理室２内の処理対象表面または処理室内の雰囲気中に残存する過酸化水素とオゾンとが反応して、処理室２内でラジカルが生成される。
そして、ステップＳ２２１では、前記酸化処理システム１の処理室２内で生成されたラジカルによって処理対象表面が酸化されることとなる。
このようにして、ステップＳ２２（ステップＳ２２０およびステップＳ２２１）において処理対象表面の促進酸化が行われる。
ステップＳ２２（ステップＳ２２０およびステップＳ２２１）において処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ２３に移行する。

以上のように、酸化処理方法は、過酸化水素処理工程（ステップＳ２２０）と、促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）と、を具備し、過酸化水素ガスとオゾンガスとを用いて処理対象表面を酸化させる処理を行う。つまり、酸化処理方法は、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガスを供給して処理対象表面を酸化させた後（ステップＳ２２０）、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給することによってラジカルを生成して、前記ラジカルによって処理対象表面を酸化させる（ステップＳ２２１）。
そして、酸化処理方法では、まず、過酸化水素処理工程（ステップＳ２２０）において過酸化水素が処理室２内で酸化反応するので、促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）において処理室２内でのオゾンの酸化反応が抑制されることとなる。
このため、酸化処理システム１では、処理室２内において、過酸化水素と反応してラジカルを生成するためのオゾンの量を十分に確保することができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、ラジカルによって処理対象表面を酸化させる処理（酸化促進処理）を効果的に行うことができる。

またこのため、酸化処理方法では、過酸化水素と反応してラジカルを生成するために要する酸化処理システム１の処理室２内へのオゾンガスの供給量を低減させることができる。
よって、酸化処理方法では、オゾンガスの供給能力の低い小型または軽量のオゾンガス発生装置３でも、酸化処理方法を行うことができる。

酸化処理方法の促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）は、過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させた後（ステップＳ２２０）、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内への過酸化水素ガスの供給を停止した状態で、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給して行ってもよい。

また、酸化処理方法の促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）は、酸化処理装置１のオゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給しながら過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に過酸化水素ガスを供給することによって処理室２内で前記ラジカルを生成して、前記ラジカルによって処理対象表面を酸化させるように行ってもよい。
このように促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）を行うことにより、酸化処理方法では、酸化処理システム１の処理室２内（処理室２内の処理対象表面、および、処理室２内の雰囲気）での過酸化水素濃度を高くすることができ、処理室２内でのラジカル生成量を増加させることができる。
したがって、酸化処理方法によれば、ラジカルによって処理対象表面を酸化させる処理（酸化促進処理）を効果的に行うことができる。
このとき、酸化処理方法の促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）は、過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させた後（ステップＳ２２０）、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内への過酸化水素ガスの供給を継続して、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給するように行ってもよい。
またこのとき、酸化処理方法の促進酸化処理工程（ステップＳ２２１）は、過酸化水素ガスによって処理対象表面を酸化させた後（ステップＳ２２０）、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内への過酸化水素ガスの供給を停止した状態で、オゾンガス発生装置３から処理室２内にオゾンガスを供給し、その後、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内への過酸化水素ガスを供給するように行ってもよい。

酸化処理方法の結露発生工程（ステップＳ２１）は、酸化処理システム１の処理室２内に供給される過酸化水素ガス（酸化処理剤）の温度を上昇させることによって行われてもよい。
このとき、酸化処理システム１の結露発生装置２１は、例えば、過酸化水素ガス供給管７内の温度を上昇させる加熱装置として構成され、過酸化水素ガス供給管７内に配置される。
そして、酸化処理方法では、酸化処理システム１の結露発生装置２１を作動させて過酸化水素ガス供給管７内の温度を上昇させて過酸化水素ガス供給管７内の過酸化水素ガス（酸化処理剤）の温度を上昇させて、当該処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる（ステップＳ２１）。
このようにして、酸化処理方法では、容易に、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露せることができる。

また、酸化処理方法の酸化処理剤はオゾンガスおよび過酸化水素ガスである。
そして、酸化処理方法では、結露発生工程（ステップＳ２１）において、過酸化水素ガス発生装置４から処理室２内に供給することによって処理室２内の湿度を上昇させた状態で行うこともできる。
このように結露発生工程（ステップＳ２１）を行うことにより、酸化処理方法によれば、前記処理室２内に供給される過酸化水素ガスが含む水分を利用して、より確実に、処理室２内の処理対象表面に結露させることができる。

次に、第三実施形態に係る酸化処理システム１について、図１３乃至図１５を用いて説明する。
なお、第三実施形態に係る酸化処理システム１の説明は、第一実施形態および第二実施形態に係る酸化処理システム１と同様の構成の部分については適宜省略し、第一実施形態および第二実施形態に係る酸化処理システム１の構成と異なる部分を中心に説明する。

酸化処理システム１で用いられる酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素ガスとの混合ガスである。
酸化処理システム１は、図１３に示すように、処理室２と、オゾンガス発生装置３と、過酸化水素ガス発生装置４と、ファン５と、混合器３０と、結露発生装置２１と、結露除去装置２２と、を具備する。
酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３と、過酸化水素ガス発生装置４と、混合器３０と、ファン５とは、処理室２外に配置される。

酸化処理システム１の処理室２内では、過酸化水素ガスとオゾンガスとの混合ガス（酸化処理剤）を用いて、処理対象表面が酸化処理される。
処理対象とは、過酸化水素ガスとオゾンガスとの混合ガスを用いてその表面が酸化処理されるものを示す。

酸化処理システム１のファン５は、過酸化水素ガス発生装置４に外気を供給して、過酸化水素ガス発生装置４から混合器３０に、当該外気とともに過酸化水素ガスを供給するものである。

酸化処理システム１の混合器３０は、オゾンガス発生装置３で発生されたオゾンガスと、過酸化水素ガス発生装置４で発生された過酸化水素ガスと、を混合させて混合ガスとし、当該混合ガスを処理室２内に供給するように構成される。酸化処理システム１の混合器３０は、処理室２内よりも狭い空間内でオゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとするように構成される。
酸化処理システム１の混合器３０は、処理室２の上流側に配置される。酸化処理システム１の混合器３０は、オゾンガス発生装置３および過酸化水素ガス発生装置４の下流側に配置される。
酸化処理システム１は、混合器３０と処理室２内とが混合ガス供給管９を介して接続されて、構成される。

酸化処理システム１の混合器３０は、例えば図１４に示すように、円筒部材３１と複数個の混合羽根３２とを備え、処理室２内よりも狭い空間内でオゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとするスタテックミキサとして構成される。

ここで、混合ガスは、オゾンガスと過酸化水素ガスとが混合されてなるものである。
混合ガスでは、オゾンガスと過酸化水素ガスとが反応してラジカルが生成される。

そして、酸化処理システム１は、ファン５が作動することによって、配管８を介してファン５から過酸化水素ガス発生装置４に外気が供給され、当該外気とともに過酸化水素ガス発生装置４で発生された過酸化水素ガスが過酸化水素ガス供給管７を介して過酸化水素ガス発生装置４から混合器３０に供給されるように、構成される。
また、酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３の供給ポンプが作動することによって、オゾンガス発生装置３で発生されたオゾンガスがオゾンガス供給管６を介してオゾンガス発生装置３から混合器３０に供給されるように、構成される。
さらに、酸化処理システム１は、オゾンガスと過酸化水素ガスとが混合器３０で混合されて、当該混合ガスが混合ガス供給管９を介して混合器３０から処理室２に供給されるように、構成される。
酸化処理システム１は、混合ガスが処理室２内に供給されることによって、処理室２内の気体（過酸化水素、オゾン、酸素等）が処理室２の排気口２ａから排気されるように構成される。

次に、第三実施形態に係る酸化処理システム１における処理室内２の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う一連の動作について説明する。

前記酸化処理システム１の一連の動作は、図１５に示すように、混合工程（ステップＳ３０）と、結露発生工程（ステップＳ３１）と、酸化処理工程（ステップＳ３２）と、結露除去工程（ステップＳ３３）と、を具備するものである。

ステップＳ３０は、オゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとする工程である。
ステップＳ３０では、酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３を作動させてオゾンガスを混合器３０に供給するとともに、過酸化水素ガス発生装置４を作動させて過酸化水素を混合器３０に供給することで、オゾンガスと過酸化水素ガスとを混合器３０で混合するように行われる。このとき、酸化処理システム１の混合器３０においては、処理室２内よりも狭い空間内でオゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとする。
ステップＳ３０では、オゾンガスと過酸化水素ガスとが混合器３０で混合されると、混合ガスとなる。混合ガスでは、オゾンガスと過酸化水素ガスとが反応して、ラジカルが生成される。
ステップＳ３０においてオゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとした後、ステップＳ３１に移行する。

ステップＳ３１は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる工程である。
ステップＳ３１において酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させた後、ステップＳ３２に移行する。
なお、ステップＳ３１では、混合器３０から処理室２内に混合ガス（酸化処理剤）を供給して、混合ガスの過酸化水素ガスが含む水分によって処理室２内の湿度を上昇させた状態で行うともできる。

ステップＳ３２は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う工程である。
ステップＳ３２では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ３１）で、混合ガス（酸化処理剤）を処理室２内に供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ３２において混合ガス（酸化処理剤）によって処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ３３に移行する。

ステップＳ３３は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去する工程である。
ステップＳ３３では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を混合ガス（酸化処理剤）によって酸化させる処理（ステップＳ３２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行われる。

以上のように、酸化処理システム１は、混合器３０を具備する。酸化処理システム１の混合器３０は、処理室２内よりも狭い空間内でオゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとし、混合ガスを処理室２内に供給するように、構成される。
このため、酸化処理システム１では、オゾンガスと過酸化水素ガスとが、処理室２内で混合される場合よりもそれぞれ高い濃度で、混合器３０において混合されて混合ガスとなる。
よって、酸化処理システム１では、オゾンガスと過酸化水素ガスとを処理室２内で混合させるものよりも、オゾンガスと過酸化水素ガスとの混合効率を向上させることができ、ラジカルを効率よく生成することができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、処理室２内に供給された混合ガスのラジカルによる処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる。

またこのように、酸化処理システム１では、ラジカルが効率よく生成されるので、オゾンガスと過酸化水素ガスとを処理室２内で混合させるものよりも、処理室２から排気されるオゾンの量と過酸化水素の量がそれぞれ少なくなり、処理室２の排気口２ａから排気されるオゾンと過酸化水素との量を減少させることができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、処理室２の排気口２ａに設けられる過酸化水素分解触媒およびオゾン分解触媒を少なくすることができる。

酸化処理システム１の酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素ガスとの混合ガスである。
そして、酸化処理システム１では、結露発生工程（ステップＳ３１）において、混合器３０から処理室２内に混合ガスを供給することによって処理室２内の湿度を混合ガスの過酸化水素ガスが含む水分によって上昇させた状態で行うこともできる。
このように結露発生工程（ステップＳ３１）を行うことにより、酸化処理システム１では、前記処理室２内に供給される混合ガスの過酸化水素ガスが含む水分を利用して、より確実に、処理室２内の処理対象表面に結露させることができる。

次に、本発明の実施形態に係る、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる酸化処理方法について、図１５を用いて説明する。

酸化処理方法は、図１５に示すように、混合工程（ステップＳ３０）と、結露発生工程（ステップＳ３１）と、酸化処理工程（ステップＳ３２）と、結露除去工程（ステップＳ３３）と、を具備する。

ステップＳ３０は、オゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとする工程である。
ステップＳ３０では、酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３を作動させてオゾンガスを混合器３０に供給するとともに、過酸化水素ガス発生装置４を作動させて過酸化水素を混合器３０に供給することで、オゾンガスと過酸化水素ガスとを混合器３０で混合するように行われる。このとき、酸化処理システム１の混合器３０においては、処理室２内よりも狭い空間内でオゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとする。
ステップＳ３０では、オゾンガスと過酸化水素ガスとが混合器３０で混合されると、混合ガスとなる。混合ガスでは、オゾンガスと過酸化水素ガスとが反応して、ラジカルが生成される。
ステップＳ３０においてオゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとした後、ステップＳ３１に移行する。

ステップＳ３１は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる工程である。
ステップＳ３１において酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させた後、ステップＳ３２に移行する。
なお、ステップＳ３１では、混合器３０から処理室２内に混合ガス（酸化処理剤）を供給して、混合ガスの過酸化水素ガスが含む水分によって処理室２内の湿度を上昇させた状態で行うともできる。

ステップＳ３２は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う工程である。
ステップＳ３２では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ３１）で、混合ガス（酸化処理剤）を処理室２内に供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ３２において混合ガス（酸化処理剤）によって処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ３３に移行する。

ステップＳ３３は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去する工程である。
ステップＳ３３では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を混合ガス（酸化処理剤）によって酸化させる処理（ステップＳ３２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行われる。

以上のように、酸化処理方法は、混合工程（ステップＳ３０）を具備する。酸化処理方法は、混合工程では、処理室２内よりも狭い空間（混合器３０）内でオゾンガスと過酸化水素ガスとを混合させて混合ガスとし、混合ガスを処理室２内に供給する。
このため、酸化処理方法では、オゾンガスと過酸化水素ガスとが、処理室２内で混合される場合よりもそれぞれ高い濃度で、混合器３０において混合されて混合ガスとなる。
よって、酸化処理方法は、では、オゾンガスと過酸化水素ガスとを処理室２内で混合させるものよりも、オゾンガスと過酸化水素ガスとの混合効率を向上させることができ、ラジカルを効率よく生成することができる。
したがって、酸化処理方法は、によれば、処理室２内に供給された混合ガスのラジカルによる処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる。

酸化処理システム１の酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素ガスとの混合ガスである。
そして、酸化処理システム１では、結露発生工程（ステップＳ３１）において、混合器３０から処理室２内に混合ガスを供給することによって処理室２内の湿度を混合ガスの過酸化水素ガスが含む水分によって上昇させた状態で行うこともできる。
このように結露発生工程（ステップＳ３１）を行うことにより、酸化処理システム１では、前記処理室２内に供給される混合ガスの過酸化水素ガスが含む水分を利用して、より確実に、処理室２内の処理対象表面に結露させることができる。

次に、第四実施形態に係る酸化処理システム１について、図１６乃至図２０を用いて説明する。
なお、第四実施形態に係る酸化処理システム１の説明は、第一実施形態、第二実施形態、および、第三実施形態に係る酸化処理システム１と同様の構成の部分については適宜省略し、第一実施形態、第二実施形態、および、第三実施形態に係る酸化処理システム１の構成と異なる部分を中心に説明する。

酸化処理システム１で用いられる酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素水との混合流体である。
酸化処理システム１は、図１６に示すように、処理室２と、オゾンガス発生装置３と、コンプレッサ１０と、混合器４０と、貯留槽１１と、ノズル５０と、結露発生装置２１と、結露除去装置２２と、を具備する。
酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３と、過酸化水素ガス発生装置４と、混合器４０と、ファン５とは、処理室２外に配置される。
酸化処理システム１の処理室２内では、オゾンガスと過酸化水素水との混合流体（酸化処理剤）を用いて、処理対象表面が酸化処理される。
処理対象とは、オゾンガスと過酸化水素水との混合流体を用いてその表面が酸化処理されるものを示す。

酸化処理システム１のコンプレッサ１０は、空気圧縮機であり、圧縮された空気流を吐出可能に構成される。
酸化処理システム１のコンプレッサ１０は、処理室２およびノズル５０の上流側に配置される。

酸化処理システム１の混合器４０は、オゾンガス発生装置３で発生されたオゾンガスと、コンプレッサ１０から吐出される空気と、を混合させて混合気とし、当該混合気（オゾンガス）をノズル５０に供給するように構成される。酸化処理システム１の混合器４０は、処理室２内よりも狭い空間内でオゾンガスと空気とを混合させて混合気とするように構成される。
酸化処理システム１の混合器４０は、処理室２およびノズル５０の上流側に配置される。酸化処理システム１の混合器４０は、オゾンガス発生装置３およびコンプレッサ１０の下流側に配置される。

酸化処理システム１の貯留槽１１は、過酸化水素水が貯留されるものである。
酸化処理システム１の貯留槽１１には、高濃度の過酸化水素水（例えば、３５ｗｔ％過酸化水素水）が貯留される。なお、酸化処理システム１では、過酸化水素ガス発生装置４において過酸化水素ガスを発生するために用いられる過酸化水素水は、求められる効果、用途、または、過酸化水素ガス発生装置４の仕様等に応じて、適切な濃度のものが選択されて用いられてもよい。
酸化処理システム１の貯留槽１１は、処理室２およびノズル５０の上流側に配置される。酸化処理システム１の貯留槽１１は、オゾンガス発生装置３およびコンプレッサ１０の下流側に配置される。

酸化処理システム１のノズル５０は、二流体ノズルであり、混合気（オゾンガス）と過酸化水素水とを混合させて混合流体として、当該混合流体（過酸化水素水）を霧化して処理室２内に噴霧するように構成される。酸化処理システム１のノズル５０は、処理室２内よりも狭い空間内で混合気（オゾンガス）と過酸化水素水とを混合させて混合流体とするように構成される。
酸化処理システム１のノズル５０は、処理室２内に配置される。酸化処理システム１のノズル５０は、オゾンガス発生装置３、コンプレッサ１０、混合器４０、および、貯留槽１１の下流側に配置される。

酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３と混合器４０とがオゾンガス供給管６を介して接続されて、構成される。
酸化処理システム１は、コンプレッサ１０と混合器４０とが空気供給管１４を介して接続されて、構成される。
酸化処理システム１は、混合器４０とノズル５０とが混合気供給管１２を介して接続されて、構成される。
酸化処理システム１は、貯留槽１１とノズル５０とが過酸化水素水供給管１３を介して接続されて、構成される。

酸化処理システム１の混合器４０は、例えば、オゾンガスが空気に吸引されるようにして、オゾンガスと空気とが混合するように（アスピレータのように）構成される。
このとき、酸化処理システム１の混合器４０は、図１７に示すように、オゾンガス流路４１と、空気流路４２と、混合気流路４３と、を有して構成される。
酸化処理システム１の混合器４０のオゾンガス流路４１は、オゾンガス供給管６を介して供給されたオゾンガスが混合器４０内を流通する流路である。酸化処理システム１の空気流路４２は、空気供給管１４を介して供給された空気が混合器４０内を流通する流路である。酸化処理システム１の混合気流路４３は、混合気が混合器４０内を流通して、混合気供給管１２に流出する流路である。
酸化処理システム１の混合器４０は、オゾンガス流路４１と空気流路４２とがそれぞれ混合気流路４３に連通され、混合気流路４３にてオゾンガスと空気とが混合されるように構成される。
酸化処理システム１の混合器４０は、オゾンガス流路４１と混合気流路４３との連通する部分（オゾンガス流路４１の終端）の開口面積が混合気流路４３の断面積に比べて小さく形成されて、構成される。

酸化処理システム１のノズル５０は、例えば、図１８に示すように、混合気流路５１と、過酸化水素水流路５２と、渦流室５３と、噴霧口５４と、を有して構成される。
酸化処理システム１のノズル５０の混合気流路５１は、混合気供給管１２を介して供給された混合気がノズル５０内を流通する流路である。酸化処理システム１のノズル５０の過酸化水素水流路５２は、過酸化水素水供給管１３を介して供給された過酸化水素水がノズル５０内を流通する流路である。酸化処理システム１のノズル５０の渦流室５３は、前記ノズル５０内に供給された過酸化水素水がノズル５０内において渦状に旋回するように流通する流路である。酸化処理システム１のノズル５０の噴霧口５４は、混合気（オゾンガス）と過酸化水素水とが混合されてなる混合流体（過酸化水素水）を霧化して噴霧する開口である。

酸化処理システム１のノズル５０は、混合気流路５１と渦流室５３とが連通され、過酸化水素水流路５２と渦流室５３とが連通され、渦流室５３と噴霧口５４とが連通されて構成される。
酸化処理システム１のノズル５０は、渦流室５３で、混合気（オゾンガス）と過酸化水素水とが混合されて混合流体とされるように構成される。また、酸化処理システム１のノズル５０は、渦流室５３で、旋回力が付与された過酸化水素水に混合気が吹付けられて混合流体（過酸化水素水）が霧化されて、当該霧化された混合流体が噴霧口５４から噴霧されるように構成される。

そして、酸化処理システム１は、コンプレッサ１０が作動することによって、空気供給管１４を介してコンプレッサ１０から混合器４０に空気が供給されるように構成される。
酸化処理システム１は、オゾンガス発生装置３の供給ポンプが作動することによって、オゾンガス発生装置３で発生された高濃度のオゾンガスがオゾンガス供給管６を介してオゾンガス発生装置３から混合器４０に供給されるように、構成される。
酸化処理システム１は、高濃度のオゾンガスと空気とが混合器４０で混合されて混合気（中濃度のオゾンガス）とされ、当該混合気が混合気供給管１２を介して混合器４０からノズル５０に供給されるように、構成される。
酸化処理システム１は、貯留槽１１の高濃度の過酸化水素水が、高濃度の過酸化水素水のまま、過酸化水素水供給管１３を介して貯留槽１１からノズル５０に供給されるように、構成される。
酸化処理システム１は、ノズル５０で、混合気（中濃度のオゾンガス）と高濃度の過酸化水素水とが混合されて混合流体とされるとともに霧化されて、これを処理室２内に噴霧するように、構成される。
酸化処理システム１は、処理室２内の気体（過酸化水素、オゾン、酸素等）が処理室２の排気口２ａから排気されるように構成される。

次に、第四実施形態に係る酸化処理システム１における処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う一連の動作について説明する。

前記酸化処理システム１の一連の動作は、図１９に示すように、混合工程（ステップＳ４０）と、結露発生工程（ステップＳ４１）と、酸化処理工程（ステップＳ４２）と、結露除去工程（ステップＳ４３）と、を具備するものである。

ステップＳ４０は、図２０に示すように、オゾンガス混合工程（ステップＳ４００）と、過酸化水素水混合工程（ステップＳ４０１）と、を備える。

ステップＳ４００は、オゾンガスと空気とを混合させて混合気とする工程である。
ステップＳ４００では、酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３を作動させてオゾンガスを混合器４０に供給するとともに、コンプレッサ１０を作動させて空気を混合器４０に供給することで、オゾンガスと空気とを混合器４０内で混合するように行われる。
ステップＳ４００では、オゾンガスと空気とが混合器４０で混合されると、混合気となる。
ステップＳ４００においてオゾンガスと空気とを混合させて混合気とした後、ステップＳ４０１に移行する。

ステップＳ４０１は、混合気（オゾンガス）と過酸化水素水とを混合させて混合流体とする工程である。
ステップＳ４０１では、混合器４０から供給される混合気（オゾンガス）と貯留槽１１から供給される過酸化水素水とをノズル５０内で混合するように行われる。
ステップＳ４０１では、混合器４０（オゾンガス）と過酸化水素水とがノズル５０で混合されると、混合流体となる。混合流体では、オゾンガスと過酸化水素水とが反応して、ラジカルが生成される。
このようにして、ステップＳ４０が行われる。
ステップＳ４０においてオゾンガスと空気とを混合させて混合気とし（ステップＳ４００）、当該混合気（オゾンガス）と過酸化水素水とを混合させて混合流体とした後（ステップＳ４０１）、ステップＳ４１に移行する。

ステップＳ４１は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる工程である。
ステップＳ４１において酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させた後、ステップＳ４２に移行する。
なお、ステップＳ４１は、混合器４０から処理室２内に混合流体（酸化処理剤）を供給し、混合流体の過酸化水素水が含む水分によって処理室２内の湿度を上昇させた状態で行うこともできる。

ステップＳ４２は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う工程である。
ステップＳ４２では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ４１）で、混合ガス（酸化処理剤）を処理室２内に供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ４２において混合ガス（酸化処理剤）によって処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ４３に移行する。

ステップＳ４３は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去する工程である。
ステップＳ４３では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を混合ガス（酸化処理剤）によって酸化させる処理（ステップＳ４２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行われる。

以上のように、酸化処理システム１は、ノズル５０を具備する。酸化処理システム１のノズル５０は、混合気（中濃度のオゾンガス）と高濃度の過酸化水素水とを混合させて混合流体として、当該混合流体（過酸化水素水）を霧化して処理室２内に噴霧するように、構成される
このため、酸化処理システム１では、濃度の高いオゾンガスと過酸化水素水とがノズル５０おいて混合されて混合流体とし、処理室２に噴霧されることとなる。
よって、酸化処理システム１では、オゾンと過酸化水素とを処理室２内で混合させるものよりも、オゾンと過酸化水素との混合効率を向上させることができ、ラジカルを効率よく生成することができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、処理室２内に供給された混合流体のラジカルによる処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる。

またこのように、酸化処理システム１では、ラジカルが効率よく生成されるので、オゾンガスと過酸化水素水とを処理室２内で混合させるものよりも、処理室２から排気されるオゾンの量と過酸化水素の量がそれぞれ少なくなり、処理室２の排気口２ａから排気されるオゾンと過酸化水素との量を減少させることができる。
したがって、酸化処理システム１によれば、処理室２の排気口２ａに設けられる過酸化水素分解触媒およびオゾン分解触媒を少なくすることができる。

酸化処理システム１の酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素水との混合流体である。
そして、酸化処理システム１では、結露発生工程（ステップＳ４１）において、ノズル５０から処理室２内に混合流体を供給することによって処理室２内の湿度を混合流体の過酸化水素水が含む水分によって上昇させた状態で行うこともできる。
このように結露発生工程（ステップＳ４１）を行うことにより、酸化処理システム１では、前記処理室２内に供給される混合流体の過酸化水素水が含む水分を利用して、より確実に、処理室２内の処理対象表面に結露させることができる。

次に、本発明の実施形態に係る、処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる酸化処理方法について、図１９または図２０を用いて説明する。

酸化処理方法は、図１９に示すように、混合工程（ステップＳ４０）と、結露発生工程（ステップＳ４１）と、酸化処理工程（ステップＳ４２）と、結露除去工程（ステップＳ４３）と、を具備する。

ステップＳ４０は、図２０に示すように、オゾンガス混合工程（ステップＳ４００）と、過酸化水素水混合工程（ステップＳ４０１）と、を備える。

ステップＳ４００は、オゾンガスと空気とを混合させて混合気とする工程である。
ステップＳ４００では、酸化処理システム１のオゾンガス発生装置３を作動させてオゾンガスを混合器４０に供給するとともに、コンプレッサ１０を作動させて空気を混合器４０に供給することで、オゾンガスと空気とを混合器４０内で混合するように行われる。
ステップＳ４００では、オゾンガスと空気とが混合器４０で混合されると、混合気となる。
ステップＳ４００においてオゾンガスと空気とを混合させて混合気とした後、ステップＳ４０１に移行する。

ステップＳ４０１は、混合気（オゾンガス）と過酸化水素水とを混合させて混合流体とする工程である。
ステップＳ４０１では、混合器４０から供給される混合気（オゾンガス）と貯留槽１１から供給される過酸化水素水とをノズル５０内で混合するように行われる。
ステップＳ４０１では、混合器４０（オゾンガス）と過酸化水素水とがノズル５０で混合されると、混合流体となる。混合流体では、オゾンガスと過酸化水素水とが反応して、ラジカルが生成される。
このようにして、ステップＳ４０が行われる。
ステップＳ４０においてオゾンガスと空気とを混合させて混合気とし（ステップＳ４００）、当該混合気（オゾンガス）と過酸化水素水とを混合させて混合流体とした後（ステップＳ４０１）、ステップＳ４１に移行する。

ステップＳ４１は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に処理室２内の水分を結露させる工程である。
ステップＳ４１において酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露させた後、ステップＳ４２に移行する。
なお、ステップＳ４１では、混合器４０から処理室２内に混合流体（酸化処理剤）を供給し、混合流体の過酸化水素水が含む水分によって処理室２内の湿度を上昇させた状態で行うこともできる。

ステップＳ４２は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う工程である。
ステップＳ４２では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面に結露が生じた状態（ステップＳ４１）で、混合ガス（酸化処理剤）を処理室２内に供給して、処理室２内の処理対象表面を酸化させるように行われる。
ステップＳ４２において混合ガス（酸化処理剤）によって処理対象表面を酸化させ後、ステップＳ４３に移行する。

ステップＳ４３は、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面の結露を除去する工程である。
ステップＳ４３では、酸化処理システム１の処理室２内の処理対象表面を混合ガス（酸化処理剤）によって酸化させる処理（ステップＳ４２）を行った後、結露除去装置２２を作動させて処理室２内の処理対象表面の結露を除去するように行われる。

以上のように、酸化処理方法は、過酸化水素水混合工程（ステップＳ４０１）と、酸化処理工程（ステップＳ４２）と、を具備する。そして、酸化処理方法では、酸化処理システム１のノズル５０において、混合気（中濃度のオゾンガス）と高濃度の過酸化水素水とを混合させて混合流体とし（ステップＳ４０１）、当該混合流体（過酸化水素水）を霧化して処理室２内に噴霧する（ステップＳ４２）。
このため、酸化処理方法では、濃度の高いオゾンガスと過酸化水素水とがノズル５０おいて混合されて混合流体とし、処理室２に噴霧されることとなる。
よって、酸化処理方法では、オゾンと過酸化水素とを処理室２内で混合させるものよりも、オゾンと過酸化水素との混合効率を向上させることができ、ラジカルを効率よく生成することができる。
したがって、酸化処理方法によれば、処理室２内に供給された混合流体のラジカルによる処理対象表面の酸化処理効果を確実に得ることができる。

酸化処理方法の酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素水との混合流体である。
酸化処理方法の酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素水との混合流体である。
そして、酸化処理方法では、結露発生工程（ステップＳ４１）において、混合器４０から処理室２内に混合流体を供給することによって処理室２内の湿度を混合流体の過酸化水素水が含む水分によって上昇させた状態で行うこともできる。
このように結露発生工程（ステップＳ４１）を行うことにより、酸化処理システム１では、前記処理室２内に供給される混合流体の過酸化水素水が含む水分を利用して、より確実に、処理室２内の処理対象表面に結露させることができる。

１ 酸化処理システム
２ 処理室
３ オゾンガス発生装置
４ 過酸化水素ガス発生装置
５ ファン
１０ コンプレッサ
１１ 貯留槽
２１ 結露発生装置
２２ 結露除去装置
３０ 混合器
４０ 混合器
５０ ノズル

Claims (10)

1. 処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う、酸化処理剤を用いた酸化処理方法であって、
   前記処理室内の処理対象表面に前記処理室内の水分を結露させる結露発生工程を具備し、
   前記処理室内の処理対象表面に結露が生じた状態で、前記処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行う、
   酸化処理剤を用いた酸化処理方法。
2. 前記結露発生工程は、前記処理室内の温度を低下させることによって行われる、
   請求項１に記載の酸化処理剤を用いた酸化処理方法。
3. 前記結露発生工程は、前記処理室内に供給される酸化処理剤の温度を上昇させることによって行われる、
   請求項１に記載の酸化処理剤を用いた酸化処理方法。
4. 前記処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行った後、前記処理室内の処理対象表面の結露を除去する結露除去工程を具備する、
   請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の酸化処理剤を用いた酸化処理方法。
5. 前記結露除去工程は、前記処理室内の温度を上昇させることによって行われる、
   請求項４に記載の酸化処理剤を用いた酸化処理方法。
6. 前記酸化処理剤は、過酸化水素ガスとオゾンガスとの混合ガスである、
   請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の酸化処理剤を用いた酸化処理方法。
7. 前記酸化処理剤は、オゾンガスと過酸化水素水との混合流体である、
   請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の酸化処理剤を用いた酸化処理方法。
8. 前記酸化処理剤は、オゾンガスである、
   請求項１、請求項２、請求項４、または、請求項５のいずれか一項に記載の酸化処理剤を用いた酸化処理方法。
9. 処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行うように構成される、酸化処理システムであって、
   前記処理室内の処理対象表面に前記処理室内の水分を結露させる結露発生装置を具備し、
   前記処理室内の処理対象表面に結露が生じた状態で、前記処理室内の処理対象表面を前記酸化処理剤によって酸化させる処理を行うように構成される、
   酸化処理システム。
10. 前記処理室内の処理対象表面を酸化処理剤によって酸化させる処理を行った後、前記処理室内の処理対象表面の結露を除去する結露除去装置を具備する、
    請求項９に記載の酸化処理システム。

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