JP2013156353A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マスクホルダー3に保持された矩形状のフォトマスク7のマスクパターンを介して、前記フォトマスク7に対向して配置された被露光体に露光光を照射し、該被露光体を露光する露光装置であって、前記フォトマスク7は、外周端面の互いに対向する位置に対向させて少なくとも1対の突部材14を備え、前記マスクホルダー3は、中央領域に開口10を有する枠体11の外側面11bに前記フォトマスク7の前記突部材14に対応してチャック手段13を備えた構造をなし、前記チャック手段13により前記突部材14を捕らえて前記マスクホルダー3の保持面11aに前記フォトマスク7を固定するものである。
【選択図】図2
Description
先ず、図示省略のマスクチェンジャーによってフォトマスク7が、搬送手段1の上面とマスクホルダー3の下面との間を搬送手段1のY方向側方からマスクホルダー3の下側まで運ばれ、マスクホルダー3の保持面11aに対して位置付けられる。
このチャック手段13は、同図(a)に示すように枠体11の互いに対向する外側面11bに上端部を回動可能に軸支されると共に、同図(b)に示すようにバネ部材18により上記外側面11b側に付勢されて少なくとも1対設けられ、同図(c)に示すように対向配置された突部材14をフォトマスク7の両側方から矢印で示すように挟んで留めるクリップである。
3…マスクホルダー
6…カラーフィルタ基板(被露光体)
7…フォトマスク
7a…外周端面
10…開口
11…枠体
11a…保持面(被露光体側の端面)
11b…外側面
12…吸引孔
13…チャック手段
14…突部材
15…マスクパターン
18…バネ部材
Claims (5)
- マスクホルダーに保持されたフォトマスクのマスクパターンを介して、前記フォトマスクに対向して配置された被露光体に露光光を照射し、該被露光体を露光する露光装置であって、
前記フォトマスクは、外周端面の互いに対向する位置に対向させて少なくとも1対の突部材を備え、
前記マスクホルダーは、中央領域に開口を有する枠体の外側面に前記フォトマスクの前記突部材に対応してチャック手段を備えた構造をなし、
前記チャック手段により前記突部材を捕らえて前記マスクホルダーの前記被露光体側の端面に前記フォトマスクを固定する、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記フォトマスクの前記突部材は、磁性材料からなり、
前記マスクホルダーの前記チャック手段は、前記突部材を磁力により吸着するマグネットチャックであることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記マスクホルダーの前記チャック手段は、前記枠体の互いに対向する外側面に上端部を回動可能に軸支されると共に、バネ部材により前記外側面側に付勢されて少なくとも1対設けられ、対向して配置された前記突部材を前記フォトマスクの両側方から挟んで留めるクリップであることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記マスクホルダーの前記被露光体側の端面には、別に備えた吸引ポンプに連結させて吸引孔が設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記被露光体を一方向に搬送する搬送手段をさらに設けたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012015482A JP5853334B2 (ja) | 2012-01-27 | 2012-01-27 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2012015482A JP5853334B2 (ja) | 2012-01-27 | 2012-01-27 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2013156353A true JP2013156353A (ja) | 2013-08-15 |
JP5853334B2 JP5853334B2 (ja) | 2016-02-09 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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