JP2011029525A

JP2011029525A - 露光装置

Info

Publication number: JP2011029525A
Application number: JP2009176114A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Kanda; 宏幸神田; Manabu Minegishi; 学峯岸; Kazumasa Seki; 一政関
Original assignee: Hitachi High Technologies Corp; Hitachi High Tech Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2009-07-29
Filing date: 2009-07-29
Publication date: 2011-02-10
Anticipated expiration: 2029-07-29
Also published as: JP5117456B2

Abstract

【課題】吸着エリアが狭い大型のマスクであっても、マスクホルダへのマスク吸着安定性が確保される近接露光装置を提供する。
【解決手段】近接露光装置において、第一のマスクリフタ１０１Ｘおよび第二のマスクリフタ１０１Ｙの両者でマスク１００をマスクホルダ１０４へ押しつけてマスク１００を保持し、マスクプッシャでマスク１００の位置合わせを行なった後、第二のマスクリフタ１０１Ｙでマスク１００を保持したまま、第一のマスクリフタ１０１Ｘを下降後上昇させ、その後、第一のマスクリフタ１０１Ｘでマスク１００を保持したまま、第二のマスクリフタ１０１Ｙを下降後上昇させ、マスクとマスクリフタとの間のストレスを解除する。
【選択図】図２Ａ

Description

本発明は、大型のマスクを用いて近接露光を行なう露光装置に関する。

マスクの搬送機構やセッティング機構を有する近接露光装置については、例えば、特許文献１に開示されている。

特開２００６−８６３３２号公報

近接露光を行なう露光装置の概略図を図７に示す。本装置では、露光用ステージが２つあり、それぞれのステージ上に載せられた基板が交互に露光される構成を有する。本装置を用いて露光する際の露光用基板の装置内での動きや、露光の手順について説明する。なお、符号２１５は露光装置２００と搬送ライン２１０との間の露光用基板２２０の出し入れを示す。

図８は、露光用基板が露光装置内で移動する手順を示すフロー図である。まず、露光用の基板２２０が搬送ライン２１０で運ばれてくると、Ｌ搬送用ロボット２０４−１により搬送ライン２１０から温度調節プレート（温調プレート）２０６へ搬送される（Ｓ８０１）。次に、前の露光用基板がＬステージ２０３−１から搬送ライン２１０に払いだされた後、露光用基板２２０は温調プレート２０６からＬステージ２０３−１へと搬送される（Ｓ８０２）。

次に、Ｒステージ２０３−２に載っていた前の露光用基板の露光が終了してＲステージ２０３−２がマスク設置部２０７の下から移動した後、露光用基板２２０が載ったＬステージ２０３−１がマスク設置部２０７の下へ移動する（Ｓ８０３）。符号２０４−２はＲ搬送用ロボットである。

引き続き、ランプハウス２０５から導かれた紫外光により基板２２０を露光する（Ｓ８０４）。次に、Ｌステージ２０３−１をマスク設置部２０７の下から移動する（Ｓ８０５）。その後、基板２２０を搬送ライン２１０へ搬送し（Ｓ８０６）、露光処理が終了する。

次に、露光用基板２２０がマスク設置部２０７下部へ搬送されてから露光されるまでの手順を、図９を用いて説明する。基板２２０がマスク設置部２０７の下へ移動すると、間隔調整用カメラやアライメント用カメラがセットされる（Ｓ９０１）。次に、間隔調整用カメラを用いてマスクと基板２２０との間の間隔が１５０〜３００μｍとなるようにマスク側の高さ方向（ｚ方向）駆動機構を用いて調整する（Ｓ９０２）。

次に、基板２２０とマスクとのアライメントをとる（Ｓ９０３）。このアライメントの様子を図５Ａ、図５Ｂを用いて説明する。

図５Ａはマスクの概略平面図であり、図５Ｂはマスクと基板のアライメントの様子を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。マスク１００の露光エリア１４０の四隅に設けられたアライメントマーク１４１と、基板２２０に設けられたアライメントマーク１４２とが、基準位置に移動しセットされているアライメント用カメラ１５０の視野内となるようにＬステージ２０３−１の位置（ｘ方向、ｙ方向、θ方向）を調整する。符号１４５はパターンエリア、符号１４６は吸着エリア、符号１４７は吸着エリア１４６と露光エリア１４０との間に設けられているマージンエリアである。なお、マスク１００はマスクホルダ１０４に設けられたマスク吸着穴１０３によりマスクホルダ１０４に吸着１３０されている。

その後、間隔調整用カメラやアライメント用カメラを露光領域から退避させ（Ｓ９０４）、露光を行なう（Ｓ９０５）。露光は、ランプハウス２０５から導かれ、照度が５０ｍＷ／ｃｍ^２（平方センチメートル）程度の紫外線（ＵＶ）を用いて数秒間行なう。基板２２０が、例えば４つの露光領域を有している場合には、更に、基板２２０の他の３つの所定領域を露光するために、Ｌステージ２０３−１を移動して残り３回の露光を行ない、露光処理が終了する。なお、露光回数は基板の大きさ（露光領域の数）により変わることはいうまでもない。

上記露光装置２００を用いて露光処理を行なう際に、次世代用の大型マスクを用いた場合、マスクホルダへ取り付ける際のマスク吸着の安定性が低下する。具体的には、吸着不良が１００回に１回程度発生する。現状のマスクでは問題ないものの、マスク寸法はそのままで露光エリアを拡大するために吸着エリアを縮小する、或いはマスクを大型化する際に吸着エリアが拡大されない場合には問題になると考えられる。

特許文献１には、大型サイズの基板を使用してもマスク保持機構が大型にならず、小型化を図ることのできる近接露光装置のマスク搬送装置が開示されている。しかしながら、上記マスクホルダへのマスクの吸着安定性に関する教示や示唆はない。

本発明の目的は、吸着エリアが狭い大型のマスクであっても、マスクホルダへのマスク吸着安定性が確保される近接露光用の露光装置を提供することにある。

上記目的を達成するための一形態として、マスクホルダと、矩形状マスクの第一の辺および前記第１の辺に対向する第３の辺を下方から前記マスクホルダへ押し付けて前記マスクを保持する第一のマスクリフタと、前記マスクの第一の辺と直交し互いに対向する第２の辺および第４の辺を下方から前記マスクホルダに押し付けて前記マスクを保持する第二のマスクリフタと、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの動作を制御する制御部と、前記マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャと、前記マスクに形成されたパターンが転写される基板を載せるためのステージと、を有する近接露光を行なう露光装置において、前記制御部は、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの両者で前記マスクを前記マスクホルダへ押しつけて前記マスクを保持し、前記マスクプッシャで前記マスクの位置合わせを行なった後、前記第二のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第一のマスクリフタを下降後上昇させる機能と、前記第一のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第二のマスクリフタを下降後上昇させる機能と、を更に有することを特徴とする露光装置とする。

また、マスクホルダと、矩形状マスクの第一の辺および前記第１の辺に対向する第３の辺を下方から前記マスクホルダへ押し付けて前記マスクを保持する第一のマスクリフタと、前記マスクの第一の辺と直交し互いに対向する第２の辺および第４の辺を下方から前記マスクホルダに押し付けて前記マスクを保持する第二のマスクリフタと、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの動作を制御する制御部と、前記マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャと、前記マスクに形成されたパターンが転写される基板を載せるためのステージと、を有する近接露光を行なう露光装置において、前記制御部は、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの両者で前記マスクを前記マスクホルダへ押しつけて前記マスクを保持し、前記マスクプッシャで前記マスクの位置合わせを行なった後、前記第二のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第一のマスクリフタを下降後上昇させる機能、を更に有することを特徴とする露光装置とする。

また、温度調節プレートと、露光用基板を載せる露光用ステージと、前記露光用基板を搬送ラインから前記温度調節プレートへ、また、前記温度調節プレートから前記露光用ステージへ、また、前記露光用ステージから前記搬送ラインへ前記基板を搬送する搬送ロボットと、前記露光用ステージに載せられた前記基板へ転写するパターンが形成されたマスクがセットされるマスク設置部と、前記マスクを露光するためのランプハウスとを備えた近接露光を行なう露光装置において、前記マスク設置部は、マスクホルダと、矩形状マスクの第一の辺および前記第１の辺に対向する第３の辺を下方から前記マスクホルダへ押し付けて前記マスクを保持する第一のマスクリフタと、前記マスクの第一の辺と直交し互いに対向する第２の辺および第４の辺を下方から前記マスクホルダに押し付けて前記マスクを保持する第二のマスクリフタと、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの動作を制御する制御部と、前記マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャと、を有し、前記制御部は、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの両者で前記マスクを前記マスクホルダへ押しつけて前記マスクを保持し、前記マスクプッシャで前記マスクの位置合わせを行なった後、前記第二のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第一のマスクリフタを下降後上昇させる機能と、前記第一のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第二のマスクリフタを下降後上昇させる機能と、を更に有することを特徴とする露光装置とする。

吸着エリアが狭い大型のマスクであっても、マスクホルダへのマスク吸着安定性が確保される近接露光用の露光装置を提供することができる。

第１の実施例に係る露光装置のマスク取付部の概略平面図である。第１の実施例に係る露光装置のマスク取付部の概略側面図（一部断面図）である。第１の実施例に係る露光装置におけるマスク取付け手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。第１の実施例に係る露光装置におけるマスク取付け手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。第１の実施例に係る露光装置におけるマスク取付け手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。第１の実施例に係る露光装置におけるマスク取付け手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。第１の実施例に係る露光装置におけるマスクＸリフタ及びＹマスクリフタの動きとマスク吸着の関係を示す説明図である。マスクの取付け位置調整の様子を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。マスクの概略平面図である。マスクと基板のアライメントの様子を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。マスクをマスクホルダで保持する手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。マスクをマスクホルダで保持する手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。マスクをマスクホルダで保持する手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。マスクをマスクホルダで保持する手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。露光装置の構成を示す概略平面図である。露光用基板が露光装置内で移動する手順を示すフロー図である。露光用基板がマスク下部へ搬送されてから露光されるまでの手順を示すフロー図である。マスクリフタ用シリンダおよび制御部の概略図である。

発明者等は、大型マスクを用いて、マスクホルダ１０４へのマスク取付不良の発生原因について検討を行なった。まず、マスク１００をマスクホルダ１０４に取付けるまでの手順を見直した。図４、図６Ａ〜図６Ｄ、図７を用いて取付け手順を説明する。

まず、マスクストッカ２０１に保管されているマスク１００がマスク搬送ロボット２０２により、マスク設置部２０７へ搬送される（図７）。マスク設置部において、マスク１００はマスクホルダ１０４の下部へ搬送され、停止する（図６Ａ、マスクを支える搬送ロボットのアームは図示せず）。符号１０３はマスク吸着穴を示す。次に、樹脂を主成分とするパッド１０１−１が先端に取り付けられたマスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙを、シリンダを用いて回転させ、下方へ下ろす（図６Ｂ、マスクリフタ１０１Ｙは図示せず）。

次に、先端を下げたままマスク１００の下部までマスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙを平行に移動する（図６Ｃ）。次に、マスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙを逆方向に回転させ、上方へ押し上げ、マスク１００をマスクホルダ１０４へ押し上げる（図６Ｄ）。マスクリフタ一本当たりに掛かる荷重は、現在３〜４ｋｇ程度であるが、将来は８〜１０ｋｇ程度になると予想される。符号１１０はマスクリフタ１０１Ｘの動きを示す。

その後、図４に示したように、マスク１００のアライメントを行なうためにマスクプッシャ１０２Ｘ、１０２Ｙにより、マスク１００の位置を調整１２０していた（マスクプッシャ１０２Ｙは図示せず）。このアライメントは、図５Ａに示すようにマスク１００の露光エリア１４０の四隅に設けられたアライメントマーク１４１が、基準位置に移動しセットされているアライメント用カメラ１５０を用いて視野内で位置誤差が約３０μｍ以内となるようにマスク１００をプッシャ１０２Ｘ、１０２Ｙで押して位置の調整１２０を行なう。なお、マスク１００はマスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙによりマスクホルダ１０４に押し付けられて、保持されている。

これらの手順を詳細に検討した結果、下記の知見がえられた。マスクの重量の増加に伴い、マスク１００をマスクホルダ１０４へ取り付ける前に行なうマスク１００とマスクホルダ１０４との位置合わせの際に、マスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙとマスクとの間に摩擦力が働き、Ｘリフタ１０１ＸではＸ方向へのストレスが、Ｙマスクリフタ１０１ＹではＹ方向へのストレスによりマスクが歪み、マスクホルダへのマスクの吸着安定性が低下する可能性が高くなる。ここで用いたマスクの寸法は８５０ｍｍ×１２００ｍｍで厚さが１０ｍｍ、重量は２２．４ｋｇであり、吸着エリアの幅は約５０ｍｍであるが、今後は、マスク寸法が１２２０×１４００ｍｍで厚さが１３ｍｍ、重量は５０ｋｇ程度になると予想される。

マスク重量は倍以上になるが、露光エリアを確保するために吸着エリアの幅は５０ｍｍのままとすることが要求され、広げることが困難な状況である。そのため、マスクの吸着安定性の低下が危惧される。

本願発明は、上記検討の結果生まれたものであり、マスクの位置調整時に生じるマスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙとマスクとの間のストレスを解除することによりマスクの歪みを低減し、マスクホルダへのマスクの吸着安定性の向上を図るものである。

以下、実施例で詳細に説明する。

第１の実施例について、図２Ａ〜図３及び図１０を用いて説明する。図２Ａ〜図２Ｄは、第１の実施例に係る露光装置におけるマスク取付け手順を説明するためのマスク取付部の概略断面図である。なお、発明が解決しようとする課題の欄に記載され、本実施例に未記載の事項は、本実施例においても同様である。

図２Ａは、マスク１００をマスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙによりマスクホルダ１０４に押し付けてマスク位置をマスクプッシャにより調整した後の状態を示す（マスクプッシャは図示せず）。マスク１００はマスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙによりマスクホルダ１０４へ押し付けられたままマスクプッシャで押されるため、マスク１００とマスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙとの間にストレスが蓄積されている。ここで用いたマスクの寸法は８５０ｍｍ×１２００ｍｍで厚さが１０ｍｍ、重量は２２．４ｋｇであり、吸着エリアの幅は約５０ｍｍである。

次に、マスクリフタ１０１Ｘのみ下降させ、マスクリフタ１０１Ｙのみでマスク１００を保持する（図２Ｂ）。これにより、マスク１００とマスクリフタ１０１Ｘとの間のストレスが解除される。

次に、マスクリフタ１０１Ｘを上昇させてマスクリフタ１０１Ｘによりマスク１００を保持すると共に、マスクリフタ１０１Ｙを下降させる（図２Ｃ）。これにより、マスク１００とマスクリフタ１０１Ｙとの間のストレスが解除される。

次に、マスクリフタ１０１Ｙを上昇させ、マスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙでマスク１００を保持した状態で、マスクホルダ１０４に設けられている吸着穴１０３によりマスク１００を吸着１３０し、保持する（図２Ｄ）。その後、マスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙをマスクの下から所定の位置へ退避させた。

上記図２Ａ〜図２Ｄまでのマスクリフタの動きとマスクホルダでの吸引の様子（シーケンス）を図３に纏めて示す。また、マスクリフタ用シリンダおよび制御部の概略図を図１０に示す。各Ｘ、各Ｙマスクリフタ用シリンダ２３０Ｘ、２３０Ｙへは、Ｘ、Ｙシリンダ用ガス配管２３１Ｘ、２３１Ｙがそれぞれ接続されており、Ｘ、Ｙシリンダ用ガス配管２３１Ｘ、２３１Ｙへのガス供給は、制御部２４０により、Ｘ、Ｙガス配管用レギュレータ２３５Ｘ、２３５Ｙを制御することにより行なう。本実施例ではガスとしてエアーを用いた。用いるガスはエアーに限定されないが、コスト的にはエアーが好適である。

マスクリフタ用シリンダ２３０Ｘ、２３０Ｙへの印加圧力を変えることにより、マスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙを上昇・下降させることができる。マスクホルダ部での吸引については図示していないが、吸引のオン、オフを制御部で制御することができる。これにより、図３に示したシーケンスを実行することができる。

なお、上記マスクリフタのストレスの解除処理を行なってもマスク位置誤差は所定の範囲内に納まるが、万一許容範囲から外れた場合には、マスクプッシャを用いて再度位置を調整した後、マスクリフタのストレス解除処理を行なえばよい。

上記図２Ａ〜図２Ｄのマスクリフタの動作を行なったときと、行なわなかったときとのマスクホルダへのマスクの吸着安定性を調べた結果、後者では吸着不良が１００回に１回（１／１００）程度発生したが、前者では１０００回行なっても吸着不良は０（０／１０００）を達成することができた。

本実施例によれば、吸着エリアが狭い大型のマスクであっても、マスクホルダへのマスク吸着安定性が確保される近接露光用の露光装置を提供することができる。

第２の実施例について、マスクの大きさが縦と横とで異なるため、マスクリフタ１０１Ｘとマスクリフタ１０１Ｙとで長さが異なる場合について説明する。なお、発明が解決しようとする課題の欄や実施例１に記載され、本実施例に未記載の事項はそれらと同様である。

マスクリフタ１０１Ｘがマスクリフタ１０１Ｙよりも長い場合には、マスク１００をマスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙによりマスクホルダ１０４に押し付けてマスク位置をマスクプッシャにより調整した後の状態（図２Ａ）では、長いマスクリフタ１０１Ｘとマスク１００との間により大きなストレスが蓄積される。

そこで、本実施例では、長いマスクリフタ１０１Ｘを下方へ下げてマスク１００とマスクリフタ１０１Ｘとの間のストレスを解除する。次に、マスクリフタ１０１Ｘを上昇させてマスクリフタ１０１Ｘによりマスク１００を保持すると共に、短いマスクリフタ１０１Ｙのストレスは解除することなく、マスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙでマスク１００を保持した状態で、マスクホルダ１０４に設けられている吸着穴１０３によりマスク１００を吸着１３０し、保持する（図２Ｄ）。その後、マスクリフタ１０１Ｘ、１０１Ｙをマスクの下から所定の位置へ退避させた。上記動作は全て制御部２４０にて制御して行なった。

上記動作を繰り返し、マスクホルダへのマスクの吸着安定性を調べた結果、吸着不良は０／１０００であった。

なお、短いマスクリフタ１０１Ｙのみのストレス解除であっても、従来に比べマスクのマスクホルダへの吸着安定性を向上することができるが、長いマスクリフタ１０１Ｘのストレス解除の方が有効である。また、本実施例において、マスクリフタ１０１Ｘおよびマスクリフタ１０１Ｙの両者のストレスを解除しても良いことは言うまでもない。

本実施例によれば、吸着エリアが狭い大型のマスクであっても、マスクホルダへのマスク吸着安定性が確保される近接露光用の露光装置を提供することができる。また、マスクホルダの一方だけのストレス解除の場合、マスク取付時間が短縮可能な露光装置を提供することができる。

１００…マスク、
１０１Ｘ…Ｘマスクリフタ、
１０１Ｙ…Ｙマスクリフタ、
１０１−１…パッド、
１０２Ｘ…Ｘ方向用マスクプッシャ、
１０２Ｙ…Ｙ方向用マスクプッシャ、
１０３…マスク吸着穴、
１０４…マスクホルダ、
１１０…マスクリフタの移動方向、
１２０…マスクプッシャの移動によるマスク位置の調整、
１３０…マスク吸着、
１４０…露光エリア、
１４１…アライメントマーク、
１４５…パターンエリア、
１４６…吸着エリア、
１４７…マージンエリア
１５０…アライメント用カメラ、
２００…露光装置、
２０１…マスクストッカ、
２０２…マスク搬送用ロボット、
２０３−１…Ｌステージ（左側）、
２０３−２…Ｒステージ（右側）
２０４−１…Ｌ搬送用ロボット、
２０４−２…Ｒ搬送用ロボット、
２０５…ランプハウス、
２０６…温度調節プレート、
２０７…マスク設置部、
２１０…搬送ライン、
２１５…基板の出し入れ、
２２０…露光用基板
２３０Ｘ…Ｘマスクリフタ用シリンダ
２３０Ｙ…Ｙマスクリフタ用シリンダ
２３１Ｘ…Ｘシリンダ用ガス配管
２３１Ｙ…Ｙシリンダ用ガス配管
２３５Ｘ…Ｘガス配管用レギュレータ
２３５Ｙ…Ｙガス配管用レギュレータ
２４０…制御部。

Claims

マスクホルダと、矩形状マスクの第一の辺および前記第１の辺に対向する第３の辺を下方から前記マスクホルダへ押し付けて前記マスクを保持する第一のマスクリフタと、前記マスクの第一の辺と直交し互いに対向する第２の辺および第４の辺を下方から前記マスクホルダに押し付けて前記マスクを保持する第二のマスクリフタと、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの動作を制御する制御部と、前記マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャと、前記マスクに形成されたパターンが転写される基板を載せるためのステージと、を有する近接露光を行なう露光装置において、
前記制御部は、
前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの両者で前記マスクを前記マスクホルダへ押しつけて前記マスクを保持し、前記マスクプッシャで前記マスクの位置合わせを行なった後、
前記第二のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第一のマスクリフタを下降後上昇させる機能と、
前記第一のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第二のマスクリフタを下降後上昇させる機能と、を更に有することを特徴とする露光装置。
請求項１記載の露光装置において、
前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの上昇、下降は前記第一のマスクリフタに接続された第一のシリンダおよび前記第二のマスクリフタに接続された第二のシリンダを用いて行なうことを特徴とする露光装置。
請求項２に記載の露光装置において、
前記第一のシリンダの動作は、前記制御部からの指示に基づいて前記第一のシリンダに接続されるガス配管に設けられた第一のレギュレータにより、
前記第二のシリンダの動作は、前記制御部からの指示に基づいて前記第二のシリンダに接続されるガス配管に設けられた第二のレギュレータにより制御されることを特徴とする露光装置。
マスクホルダと、矩形状マスクの第一の辺および前記第１の辺に対向する第３の辺を下方から前記マスクホルダへ押し付けて前記マスクを保持する第一のマスクリフタと、前記マスクの第一の辺と直交し互いに対向する第２の辺および第４の辺を下方から前記マスクホルダに押し付けて前記マスクを保持する第二のマスクリフタと、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの動作を制御する制御部と、前記マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャと、前記マスクに形成されたパターンが転写される基板を載せるためのステージと、を有する近接露光を行なう露光装置において、
前記制御部は、
前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの両者で前記マスクを前記マスクホルダへ押しつけて前記マスクを保持し、前記マスクプッシャで前記マスクの位置合わせを行なった後、
前記第二のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第一のマスクリフタを下降後上昇させる機能、を更に有することを特徴とする露光装置。
請求項４記載の露光装置において、
前記第一のマスクリフタの長さは、前記第二のマスクリフタの長さよりも長いことを特徴とする露光装置。
請求項4又は５に記載の露光装置において、
前記マスクは長方形であることを特徴とする露光装置。
温度調節プレートと、露光用基板を載せる露光用ステージと、前記露光用基板を搬送ラインから前記温度調節プレートへ、また、前記温度調節プレートから前記露光用ステージへ、また、前記露光用ステージから前記搬送ラインへ前記基板を搬送する搬送ロボットと、前記露光用ステージに載せられた前記基板へ転写するパターンが形成されたマスクがセットされるマスク設置部と、前記マスクを露光するためのランプハウスとを備えた近接露光を行なう露光装置において、
前記マスク設置部は、
マスクホルダと、矩形状マスクの第一の辺および前記第１の辺に対向する第３の辺を下方から前記マスクホルダへ押し付けて前記マスクを保持する第一のマスクリフタと、前記マスクの第一の辺と直交し互いに対向する第２の辺および第４の辺を下方から前記マスクホルダに押し付けて前記マスクを保持する第二のマスクリフタと、前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの動作を制御する制御部と、前記マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャと、を有し、
前記制御部は、
前記第一のマスクリフタおよび前記第二のマスクリフタの両者で前記マスクを前記マスクホルダへ押しつけて前記マスクを保持し、前記マスクプッシャで前記マスクの位置合わせを行なった後、
前記第二のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第一のマスクリフタを下降後上昇させる機能と、
前記第一のマスクリフタで前記マスクを保持したまま、前記第二のマスクリフタを下降後上昇させる機能と、を更に有することを特徴とする露光装置。