JP2013135037A - 超音波洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】超音波洗浄方法は、気体が溶存された液体に超音波を照射することにより液体中の洗浄対象物を洗浄するための超音波洗浄方法であって、以下の工程を有している。第1の溶存気体濃度を有する液体に超音波が照射される。液体に超音波を照射した状態で、液体中の溶存気体濃度が第1の溶存気体濃度から第1の溶存気体濃度よりも低い第2の溶存気体濃度に変化される。第1の溶存気体濃度から第2の溶存気体濃度まで液体中の溶存気体濃度が変化する間、液体に超音波を照射することによりソノルミネッセンスが発生する。
【選択図】図4
Description
このような理由から、洗浄に効果のある微細な気泡が多く発生する条件でパーティクル除去能力が高くなり、その最適溶存濃度は中間的な濃度範囲のところに存在するものと考えられる。
本実施の形態1の超音波洗浄方法が適用される超音波洗浄装置100は、図1に示すように、超純水などの洗浄液を内部に保持する洗浄槽20と、この洗浄槽20に洗浄液を供給する供給手段10と、洗浄槽20を収容する間接水槽21と、間接水槽21の底部に設置され、超音波を照射するための照射手段30と、洗浄槽20の内部に供給された洗浄液中の溶存窒素濃度をモニタリングするためのモニタリング手段40とを備える。供給手段10は、窒素ガスを溶存させた超純水を洗浄槽20に供給するための第1供給弁11と、脱気された超純水を当該洗浄槽20に供給するための第2供給弁12とを有する。
図4および図5を参照して、本実施の形態の超音波洗浄方法について説明する。本実施の形態の超音波洗浄方法は、窒素などの気体が溶存された液体に超音波を照射することにより液体中に浸漬されているウエハW(洗浄対象物)を洗浄するための方法であって、主に以下の工程を有している。
本実施の形態の洗浄方法では、最初に高い溶存気体濃度で超音波照射を開始した後に、超音波照射を継続した状態で溶存気体濃度を低減する。これにより、一定の溶存気体濃度で洗浄するよりも、高いパーティクル除去率を得ることができる。また、本実施の形態の方法では、幅広い溶存気体濃度の範囲でソノルミネッセンス状態を発生させることができるので、安定的に高いパーティクル除去率が得られる。
本実施の形態2の超音波洗浄方法が適用される超音波洗浄装置200について、図2を用いて説明する。超音波洗浄装置200は高い溶存気体濃度を有する液体を供給するための第3供給弁13を有している点において超音波洗浄装置100と異なっており、その他の部分は超音波洗浄装置100とほぼ同じである。
実験に用いられる洗浄槽20として、厚みが3.0mmの石英ガラスにより構成された角型水槽を使用した。水槽の、内寸を幅270mm×奥行き69mm×高さ270mmとした。底壁を構成する板材の厚みを4.0mmとした。洗浄槽20の容量を5リットルとした。
洗浄対象物としては、直径200mmのP型シリコンウエハが用いられた。P型シリコンウエハのミラー面に二酸化ケイ素粒子をスピンコートにより付着させた。付着量は、110nm以上の粒子で2000〜3000個であった。
二酸化ケイ素粒子が付着されたウエハを水槽内に浸漬し10分間洗浄した。その後、ウエハをスピンドライヤーで2分間乾燥した。パーティクル除去率は、洗浄後に減少したパーティクルの個数を洗浄前のウエハに付着していたパーティクルの個数で除した値をパーセント表示したものとして求められる。なお、パーティクル付着量測定には、日立DECO製LS6500を使用した。
本発明例1に係る洗浄方法について、図8および図9を参照して説明する。
本発明例2に係る洗浄方法について、図10および図11を参照して説明する。
比較例に係る洗浄方法について、図12および図13を用いて説明する。
比較例の結果を図14(a)に示し、本発明例の結果を図14(b)に示す。図14(a)に示すように、直接目的の溶存窒素濃度に調整した液体を用いた場合、溶存窒素濃度が10ppm以上15ppm以下の範囲で発光状態が確認された。一方、図14(b)に示すように、まず最初に高い溶存窒素濃度に調整しておき、その後溶存窒素濃度を低減させて目的とする溶存窒素濃度に調整した液体を用いた場合、溶存窒素濃度が4ppm以上15ppm以下の範囲で発光状態が確認された。つまり、最終的な溶存窒素濃度が同じでも、溶存窒素濃度の調整の方法によって液体の発光状態が変わることが確認された。また、実施例1で確認されたように、パーティクル除去率は発光状態でウエハWを洗浄したときの方が非発光状態でウエハWを洗浄したときよりも高くなる。つまり、本発明例の洗浄方法の方が比較例の洗浄方法よりも、広い溶存窒素濃度範囲で高いパーティクル除去率を得ることできる。
Claims (5)
- 気体が溶存された液体に超音波を照射することにより前記液体中の洗浄対象物を洗浄するための超音波洗浄方法であって、
第1の溶存気体濃度を有する前記液体に超音波を照射する工程と、
前記液体に超音波を照射した状態で、前記液体中の溶存気体濃度を前記第1の溶存気体濃度から前記第1の溶存気体濃度よりも低い第2の溶存気体濃度に変化させる工程とを備え、
前記第1の溶存気体濃度から前記第2の溶存気体濃度まで前記液体中の前記溶存気体濃度が変化する間、前記液体に超音波を照射することによりソノルミネッセンスが発生する、超音波洗浄方法。 - 前記溶存気体濃度が前記第1の溶存気体濃度になった時点で超音波照射を開始する、請求項1に記載の超音波洗浄方法。
- 前記第1の溶存気体濃度よりも低い第3の溶存気体濃度を有する前記液体に超音波照射を開始する工程と、
前記液体に超音波を照射した状態で、前記液体中の前記溶存気体濃度を前記第3の溶存気体濃度から前記第1の溶存気体濃度に変化させる工程とをさらに備えた、請求項1に記載の超音波洗浄方法。 - 前記第3の溶存気体濃度から前記第1の溶存気体濃度に変化させる工程は、前記第3の溶存気体濃度よりも高い前記溶存気体濃度を有する液体を前記洗浄対象物が収容される洗浄槽に添加することにより行われる、請求項3に記載の超音波洗浄方法。
- 前記気体は窒素であり、前記第2の溶存気体濃度は4ppm以上10ppm以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の超音波洗浄方法。
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