JP2013131543A - 基板処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】搬送機構が水平に旋回動作する際に基板がずれるのを防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置10は、水平に伸縮旋回自在のスカラロボット15を有する搬送室11と、該搬送室11の周りに配置された5つの処理室12とを備え、スカラロボット15は水平方向に伸縮動作し、及び/又は旋回動作することによって基板Wを水平に移動させて各処理室12へ搬送し、スカラロボット15が水平に旋回動作する際、スカラロボット15は旋回動作の旋回軸22を搬送される基板Wの重心22と一致させる。
【選択図】図3

Description

本発明は、共通の真空搬送室に接続された複数の真空処理室へ基板を搬送する搬送機構を有する基板処理装置に関する。
半導体デバイスの作成に用いられる基板には、より沢山の半導体デバイスが一括して作成できるように大きな処理面(半導体デバイスが形成される面)を有することが要望されている。現在では、処理面の拡大、すなわち、基板の大口径化に対応できるような基板処理装置の検討がされている。このような基板を処理するための一般的な基板処理装置として、真空環境下で基板を処理する真空処理室と、各真空処理室を接続し且つ真空環境下での基板の搬送を実現する搬送機構を有する真空搬送室とを備える基板処理装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
このような搬送機構としては基板を保持した状態で水平方向の搬送が可能なスカラ(SCARA)ロボット(以下、「スカラロボット」という。)が一般的である。SCARAとはSelective Compliance Assembly Robot Armの略称である。スカラロボットは、一般的に、複数の搬送アームが互いの端部においてリンク機構等駆動力を伝達するように接続されることで旋回動作を可能とした搬送アームを積み重ねた構成を有する。また、スカラロボットは、最下位の搬送アームの端部と直結した上下旋回駆動機構により、鉛直方向への移動及び旋回駆動軸(旋回軸)回りの回転動作も可能となっている。最上位の搬送アームの端部は、基板を載置するための、例えばフォーク状のピックを備えている。さらに、スカラロボットでは、1つの搬送アームがその端部において他の搬送アームに対して水平に旋回動作することによって複数の搬送アームをまとめて畳み込む又は伸展すること(伸縮動作)ができる。このようにして、スカラロボットは、各搬送アームの個々の伸縮、旋回動作によって、基板を載置するピックを所望の位置に水平に移動することができ、結果としてスカラロボットは基板を搬送することができる。
特開2004−6665号公報
しかしながら、上述した基板の大口径化は、基板の質量の増加を伴うため、スカラロボットが基板を搬送する際に当該基板に作用する慣性力、特にスカラロボットが水平に旋回動作する際に基板に作用する遠心力が増す。基板がピック上に単に載置されている場合において基板とピックとの接触面に生ずる摩擦力よりも遠心力が上回る時に、基板がピックに対して移動する、つまり位置ずれが生ずることになる。
通常、基板の位置は基板処理装置が備える位置合わせ機構(オリエンタ)によって搬送室に搬入される前に、基板処理のための最適な位置に調整されるため、搬送室においてピックに対する基板の位置ずれが生ずると、処理室において基板処理のための最適な位置が保たれないまま基板に処理が施されることとなる。
本発明の目的は、搬送機構が水平に旋回する際に当該搬送機構によって搬送される基板に遠心力を生じさせないように搬送機構を制御することで、基板の位置ずれを防止することができる基板処理装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、請求項1記載の基板処理装置は、水平に伸縮旋回動作可能な搬送機構を有する搬送室と、該搬送室の周りに配置された複数の処理室とを備える基板処理装置において、前記搬送機構は水平方向に伸縮動作し、及び/又は旋回動作することで基板を水平に移動させて各前記処理室へ搬送し、前記搬送機構が水平に旋回動作する際、前記搬送機構は前記旋回動作の旋回軸を前記搬送される基板の重心と一致させることを特徴とする。
請求項2記載の基板処理装置は、請求項1記載の基板処理装置において、前記搬送機構は積み重ねられた複数の搬送アーム部と、最上位の前記搬送アーム部の端部に取り付けられた載置部とを有し、前記載置部は前記基板を載置し、一の前記搬送アーム部は、端部において他の前記搬送アーム部と接続されて他の前記搬送アーム部に対して水平に旋回動作することによって前記搬送機構を伸縮させ、最下位の前記腕部は、端部における旋回軸を中心に水平に旋回動作することによって前記搬送機構を水平に旋回動作させ、前記搬送機構が水平に旋回動作する際、前記搬送機構は最下位の前記搬送アーム部の端部における旋回軸を前記搬送される基板の重心と一致させることを特徴とする。
請求項3記載の基板処理装置は、請求項1又は2記載の基板処理装置において、前記基板を一の前記処理室から他の前記処理室へ搬送する際、前記搬送機構は、水平に緊縮して前記基板を一の前記処理室から搬出し、前記基板を水平に移動させて前記旋回軸と前記基板の重心と一致させ、前記基板とともに前記旋回軸を中心として水平に旋回動作して前記基板を他の前記処理室へ正対させ、さらに水平に伸長して前記基板を他の前記処理室へ搬入することを特徴とする。
請求項4記載の基板処理装置は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板処理装置において、複数の前記搬送機構をさらに備え、前記搬送室において複数の前記搬送機構は積み重ねられ、一の前記搬送機構が前記基板を搬送する第1の水平移動面と、他の前記搬送機構が前記基板を搬送する第2の水平移動面とは鉛直方向に関して離間することを特徴とする。
請求項5記載の基板処理装置は、請求項4記載の基板処理装置において、前記複数の搬送機構の旋回軸は一致し、前記旋回軸の直上に前記基板の表面状態を観測する観測装置が配されることを特徴とする。
請求項6記載の基板処理装置は、請求項4又は5記載の基板処理装置において、一の前記搬送機構が当該一の前記搬送機構の旋回軸と当該一の前記搬送機構が搬送する一の前記基板の重心とを一致させて旋回動作する際、他の前記搬送機構は当該他の前記搬送機構が搬送する他の前記基板を、鉛直方向に沿って前記複数の搬送機構を眺めた場合、旋回動作する一の前記基板に重ね合わせないことを特徴とする。
請求項7記載の基板処理装置は、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板処理装置において、前記基板は直径が450mmの半導体ウエハであることを特徴とする。
本発明によれば、水平方向の伸縮旋回動作によって基板を水平に移動させて各処理室へ搬送する搬送機構が水平に旋回動作する際に、搬送機構は旋回動作の旋回軸と搬送される基板の重心とを一致させるので、当該搬送される基板には遠心力が生じない。これにより、搬送機構が水平に旋回する際の基板の位置ずれを防止することができる。
本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置の構成を概略的に示す平面図である。 図1におけるスカラロボットの構成を示す平面図である。 図2のスカラロボットによる搬送シーケンスを説明するための図である。 図2のスカラロボットの第1の変形例の構成を示す平面図である。 図2のスカラロボットの第2の変形例の構成を示す平面図である。 本発明の第2の実施の形態に係る基板処理装置の構成を概略的に示す平面図である。 図6における2つのスカラロボットの構成を示す図であり、図7(A)は平面図であり、図7(B)は側面図である。 図7のスカラロボットによる搬送シーケンスを説明するための図である。 図7の2つのスカラロボットの第1の変形例の構成を示す図であり、図9(A)は平面図であり、図9(B)は側面図である。 図7の2つのスカラロボットの第2の変形例の構成を示す図であり、図10(A)は側面図であり、図10(B)は図10(A)におけるカバーの平面図である。 図7の2つのスカラロボットの第3の変形例の構成を示す図であり、図11(A)は平面図であり、図11(B)は側面図である。 図7の2つのスカラロボットの第4の変形例の構成を示す平面図である。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
まず、本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置について説明する。
図1は、本実施の形態に係る基板処理装置の構成を概略的に示す平面図である。なお、基板処理装置10の搬送室11は説明のために蓋が取り外された状態で示される。
図1において、基板処理装置10は、平面視八角形を呈する搬送室11と、該搬送室11の周りに放射状に配置されて該搬送室11に接続される5つの処理室12と、間に2つのロードロック室13を介して搬送室11と接続されるローダーモジュール14とを備える。
搬送室11は内部が真空に保たれ、例えば、直径が450mmの基板W、例えば、半導体ウエハWを搬送するスカラロボット15(搬送機構)を搭載し、各処理室12は内部が真空に保たれ、基板Wを内部に収容して該基板Wに所望のプラズマ処理、例えば、プラズマエッチング処理を施す。
ローダーモジュール14は搬送室11の反対側において3つのロードポート16を有し、さらに、位置合わせ機構17を有する。各ロードポート16には所定枚数の基板を収容するキャリア、例えば、フープ(FOUP)(図示しない)が載置され、ローダーモジュール14に内蔵される搬送アーム(図示しない)は、各フープ、位置合わせ機構17及びロードロック室13の間において基板を搬送する。ローダーモジュール14内は大気圧に保たれる。位置合わせ機構17は搬送アームによって搬入された基板の位置を調整する。ロードロック室13は内部を真空及び大気圧に切り換え可能に構成され、ローダーモジュール14と連通する場合には、ロードロック室13の内部は大気圧となり、搬送室11と連通する場合には、ロードロック室13の内部は真空となる。なお、図示しないが、各ユニット(搬送室11、処理室12、ロードロック室13、ローダーモジュール14、ロードポート16及び位置合わせ機構17)の間にはゲートバルブが配置され、該ゲートバルブは必要に応じて開閉動作を行う。
図2は、図1におけるスカラロボットの構成を示す平面図である。
図2において、基台18に配置されたスカラロボット15は、下側搬送アーム19(最下位の腕部)と、上側搬送アーム20(腕部)と、フォーク状のピック21(載置部)とを有する。スカラロボット15では、下方から下側搬送アーム19、上側搬送アーム20及びピック21の順で重ねるように配置され、下側搬送アーム19の一端19aは基台18へ水平に旋回動作を可能に接続され、上側搬送アーム20の一端20aは下側搬送アーム19の他端19bへ水平に旋回動作が可能に接続され、ピック21は上側搬送アーム20の他端20bへ取り付けられる。ピック21は基板W(図中破線で示す)を載置する。
スカラロボット15では、基台18に対して下側搬送アーム19が一端19aを中心に水平に旋回すると同時に、下側搬送アーム19に対して上側搬送アーム20が一端20aを中心に水平に旋回動作することにより、スカラロボット15全体を図中矢印に沿って水平に伸縮動作可能とする。また、下側搬送アーム19のみが一端19aを中心に水平に旋回することにより、スカラロボット15全体を水平に旋回動作させる。これにより、上側搬送アーム20の他端20bへ取り付けられたピック21に載置された基板Wを搬送室11内において移動させる。
本実施の形態におけるスカラロボット15は、全体として水平に旋回動作する際、旋回軸、具体的には下側搬送アーム19の一端19aにおける旋回軸を、ピック21に載置された基板Wの重心と一致させる。なお、図中において、下側搬送ーム19の一端19aにおける旋回軸及び基板Wの重心は重心記号22で示される。
図3は、図2のスカラロボットによる搬送シーケンスを説明するための図である。このシーケンスでは、スカラロボット15が基板Wを一の処理室12から他の処理室12へ搬送する。
まず、スカラロボット15は、基台18に対して下側搬送アーム19を一端19aを中心に水平に旋回動作させると同時に、下側搬送アーム19に対して上側搬送アーム20を一端20aを中心に水平に旋回動作させることにより、水平に緊縮して一の処理室12(図示しない)から基板Wを図中矢印に沿って搬出し(図3(A))、搬出された基板Wを基台18へ向けて移動させて下側搬送アーム19の一端19aにおける旋回軸22を基板Wの重心22と一致させる(図3(B))。
次いで、スカラロボット15は、下側搬送アーム19のみを一端19aにおける旋回軸22を中心に水平に旋回動作させる、例えば、時計回りに水平に90°だけ旋回させる。これにより、ピック21とともに基板Wを他の処理室12(図示しない)へ正対させる(図3(C))。
次いで、スカラロボット15は、基台18に対して下側搬送アーム19を、一端19aを中心に水平に旋回動作させると同時に、下側搬送アーム19に対して上側搬送アーム20を、一端20aを中心に水平に旋回動作させることにより、図中矢印に沿って水平に伸展して基板Wを他の処理室12へ搬入する(図3(D))。
本実施の形態に係る基板処理装置10によれば、積み重ねられた下側搬送アーム19、上側搬送アーム20と、上側搬送アーム20の他端20bに取り付けられたピック21とを有するスカラロボット15が水平に旋回動作する際、スカラロボット15は下側搬送アーム19の端部19aにおける旋回軸22を搬送される基板Wの重心22と一致させるので、当該搬送される基板Wには遠心力が作用しない。これにより、スカラロボット15が水平に旋回動作する際の基板Wの位置ずれを防止することができる。
上述した基板処理装置10におけるスカラロボット15は、2つの搬送アームを積み重ねたものに限られず、例えば、図4に示すように、下側搬送アーム23と、中間搬送アーム24と、上側搬送アーム25と、ピック21とを順に重ねるスカラロボット26を代わりに用いてもよい。このスカラロボット26では、下側搬送アーム23の一端23aは基台18へ水平に旋回動作が可能に接続され、中間搬送アーム24の一端24aは下側搬送アーム23の他端23bへ水平に旋回動作が可能に接続され、上側搬送アーム25の一端25aは中間搬送アーム24の他端24bへ水平に旋回動作可能に接続され、ピック21は上側搬送アーム25の他端25bへ取り付けられる。
スカラロボット26では、下側搬送アーム23、中間搬送アーム24及び上側搬送アーム25が互いに協働して水平に旋回動作することにより、スカラロボット26全体を水平に伸縮させ、また、下側搬送アーム23のみが一端23aを中心に水平に旋回動作することにより、スカラロボット26全体を水平に旋回動作させる。
スカラロボット26でも、全体として水平に旋回動作する際には、図4に示すように、旋回軸、具体的には下側搬送アーム23の一端23aにおける旋回軸を、ピック21に載置された基板Wの重心と一致させる。なお、下側搬送アーム23の一端23aにおける旋回軸及び基板Wの重心は重心記号22で示される。
また、搬送機構としてスカラロボットを用いる必要はなく、フロッグレッグ型のロボット(以下、「フロッグレッグロボット」という。)を用いてもよい。図5に示すフロッグレッグロボット27は水平に回転動作が可能な基台28と、伸縮自在の一対の搬送アーム29,30と、ピック21とを有し、一対の搬送アーム29,30はそれぞれ一端29a,30aにおいて基台28に接続され、ピック21は一対の搬送アーム29,30の他端29b,30bに取り付けられる。
フロッグレッグロボット27では、一対の搬送アーム29,30が互いに協働して伸縮することにより、フロッグレッグロボット27全体を水平に伸縮させ、基台28が回転することにより、フロッグレッグロボット27全体を水平に旋回動作させる。
フロッグレッグロボット27では、全体として水平に旋回動作する際、図5に示すように、旋回軸、具体的には基台28の回転軸を、ピック21に載置された基板Wの重心と一致させる。なお、基台28の回転軸及び基板Wの重心は重心記号31で示される。
次に、本発明の第2の実施の形態に係る基板処理装置を詳述する。
図6は、本実施の形態に係る基板処理装置の構成を概略的に示す平面図である。
本実施の形態は、その構成、作用が上述した第1の実施の形態と基本的に同じであるので、重複した構成、作用については説明を省略し、以下に異なる構成、作用についての説明を行う。
図6において、基板処理装置32は、搬送室11に内蔵される2つのスカラロボット33,34と、基板エレベータ41とを備える。スカラロボット33,34は互いに積み重ねられて配置される。
図7は、図6における2つのスカラロボットの構成を示す図であり、図7(A)は平面図であり、図7(B)は側面図である。
図7(A)及び図7(B)において、スカラロボット33,34はそれぞれスカラロボット15と同様の構成を有し、同じ基台35に配置される。
スカラロボット33では、下側搬送アーム36及び上側搬送アーム37が互いに協働して水平に旋回動作することにより、スカラロボット33全体を水平に伸縮させ、また、下側搬送アーム36のみが一端36aを中心に水平に旋回動作することにより、スカラロボット33全体を水平に旋回動作させる。これにより、上側搬送アーム37の他端37bへ取り付けられたピック21に載置された基板Wを搬送室11内において移動させる。
スカラロボット33でも、全体として水平に旋回動作する際、図7(A)に示すように、旋回軸、具体的には下側搬送アーム36の一端36aにおける旋回軸を、ピック21に載置された基板Wの重心と一致させる。なお、下側搬送アーム36の一端36aにおける旋回軸及び基板Wの重心は重心記号38で示される。
スカラロボット34では、下側搬送アーム39及び上側搬送アーム40が互いに協働して水平に旋回動作することにより、スカラロボット34全体を水平に伸縮させ、また、下側搬送アーム39のみが一端39aを中心に水平に旋回動作することにより、スカラロボット34全体を水平に旋回動作させる。これにより、上側搬送アーム40の他端40bへ取り付けられたピック21に載置された基板Wを搬送室11内において移動させる。
スカラロボット34でも、全体として水平に旋回動作する際、旋回軸、具体的には下側搬送アーム39の一端39aにおける旋回軸を、ピック21に載置された基板Wの重心と一致させる。
スカラロボット33,34では、鉛直方向に関し、下方から下側搬送アーム36、下側搬送アーム39、上側搬送アーム40、スカラロボット34のピック21、上側搬送アーム37及びスカラロボット33のピック21がこの順で配置され、各部材が水平に旋回動作する際に互いに干渉しないように、鉛直方向に関して互いに離間して配置される。したがって、スカラロボット33のピック21が基板Wを搬送する第1の基板搬送面42(図中太線で示す)と、スカラロボット34のピック21が基板Wを搬送する第2の基板搬送面43(図中太線で示す)とは鉛直方向に関して離間する。これにより、スカラロボット33が搬送する基板Wと、スカラロボット34が搬送する基板Wとが衝突することがない。なお、処理室12の各々には第1の基板搬送面42又は第2の基板搬送面43に対応する位置にゲート44(図中一点鎖線で示す)が設けられる。
また、スカラロボット33,34では、下側搬送アーム36の一端36aにおける旋回軸と下側搬送アーム39の一端39aにおける旋回軸とが一致するように、下側搬送アーム36及び下側搬送アーム39が重ねられる。したがって、スカラロボット33及びスカラロボット34の旋回軸も一致する。そして、スカラロボット33,34の旋回軸の直上に基板Wの表面状態を観測する観測装置42、例えば、カメラが配置される。これにより、スカラロボット33,34が旋回軸と基板Wの重心とを一致させる際に、観測装置42によって基板Wの表面状態を観測することができる。すなわち、1つの観測装置42で、スカラロボット33,34が搬送する基板Wの表面状態を観測することができ、もって、基板処理装置32の構造を簡素化することができる。
エレベータ41は、スカラロボット33及びスカラロボット34の間で基板Wを受け渡す。例えば、エレベータ41はスカラロボット34から基板Wを受け取った後、基板Wを第2の基板搬送面43から第1の基板搬送面42へ上昇させて該基板をスカラロボット33へと渡し、また、スカラロボット33から基板Wを受け取った後、基板Wを第1の基板搬送面42から第2の基板搬送面43へ下降させて該基板Wをスカラロボット34へと渡す。なお、エレベータ41は基板Wの上昇、下降に該エレベータ41から突出自在に設けられたプッシャーピン等を用いる。
図8は、図7のスカラロボットによる搬送シーケンスを説明するための図である。このシーケンスでは、スカラロボット33が基板Wを一の処理室12から他の処理室12へ搬送する。
まず、スカラロボット33は、下側搬送アーム36及び上側搬送アーム37を互いに協働させて水平に旋回動作させることにより、水平に緊縮して一の処理室12(図示しない)から基板Wを図中矢印に沿って搬出し(図8(A))、搬出された基板Wを基台35へ向けて移動させて下側搬送アーム36の一端36aにおける旋回軸38を基板Wの重心38と一致させる(図8(B))。
次いで、スカラロボット33は、下側搬送アーム36のみを一端36aにおける旋回軸38を中心に水平に旋回動作させる、例えば、時計回りに水平に45°だけ旋回させる。これにより、ピック21とともに基板Wを他の処理室12(図示しない)へ正対させる。このとき、場合によっては、下側搬送アーム36及び上側搬送アーム37を接続するロッド45(図7(B)参照)がスカラロボット34の下側搬送アーム39や上側搬送アーム40と干渉するおそれがあるが、スカラロボット34は、干渉を避けるために、例えば、図中白抜き矢印に沿ってスカラロボット33の移動に合わせて伸長し、下側搬送アーム39や上側搬送アーム40をロッド45から遠ざける(図8(C))。
次いで、スカラロボット33は、下側搬送アーム36及び上側搬送アーム37を互いに協働させて水平に旋回動作させることにより、図中矢印に沿って水平に伸長して基板Wを他の処理室12へ搬入する(図8(D))。
スカラロボット33が基板Wを一の処理室12から他の処理室12へ搬送する間、スカラロボット34は、当該スカラロボット34が搬送する基板Wとスカラロボット33が搬送する基板Wとが鉛直方向に沿ってスカラロボット33,34を眺めた場合において重ならないように下側搬送アーム39や上側搬送アーム40を水平に旋回動作させて基板Wを移動させる。例えば、スカラロボット33が下側搬送アーム36の一端36aにおける旋回軸38を基板Wの重心38と一致させて水平に旋回動作する際、スカラロボット34は、当該スカラロボット34が搬送する基板Wを旋回軸38から遠ざける。これにより、スカラロボット33が搬送する基板Wから剥離した異物が、スカラロボット34が搬送する基板Wへ向けて落下して付着するのを防止することができる。
本実施の形態に係る基板処理装置32によれば、スカラロボット33が水平に旋回動作する際、スカラロボット33は下側搬送アーム36の端部36aにおける旋回軸38を搬送される基板Wの重心38と一致させ、また、スカラロボット34が水平に旋回動作する際、スカラロボット34は下側搬送アーム39の端部39aにおける旋回軸を搬送される基板Wの重心と一致させるので、当該搬送される基板Wには遠心力が作用しない。これにより、スカラロボット33やスカラロボット34が水平に旋回動作する際に基板Wに位置ずれが生ずることを防止することができる。
また、基板処理装置32では、スカラロボット33,34が搬送室11内において互いに積み重ねて配置されるので、搬送室11のフットプリントを削減することができる。
上述した基板処理装置32では、鉛直方向に関してスカラロボット34がスカラロボット33の下側搬送アーム36及び上側搬送アーム37に挟まれるように配置されたが、スカラロボット33及びスカラロボット34の配置形態はこれに限られず、例えば、図9(A)及び図9(B)に示すように、鉛直方向に関し、下方から下側搬送アーム36、下側搬送アーム39、上側搬送アーム37、スカラロボット33のピック21、上側搬送アーム40及びスカラロボット34のピック21の順で配置されてもよい。この場合も、各部材が水平に旋回動作する際に互いに干渉しないように、鉛直方向に関して互いに離間して配置される。
なお、この場合には、スカラロボット33の上側搬送アーム37やスカラロボット33が搬送する基板Wが、スカラロボット34の下側搬送アーム39及び上側搬送アーム40を接続するロッド46と干渉するおそれがあるが、スカラロボット34は、干渉を避けるために、スカラロボット33の移動に合わせて伸長し、下側搬送アーム39や上側搬送アーム40をロッド46から遠ざける。
また、上述した基板処理装置32では、第2の基板搬送面43が第1の基板搬送面42よりも下方に位置するため、スカラロボット34によって搬送される基板Wへ向けてスカラロボット33のピック21や上側搬送アーム37に付着した異物が剥がれて落下する可能性があるが、これに対応して、図10(A)及び図10(B)に示すように、スカラロボット34のピック21に該ピック21の全面を覆うカバー47を設けてもよい。これにより、スカラロボット33のピック21や上側搬送アーム37から落下する異物をカバー47で受け止めることでき、もって、スカラロボット34によって搬送される基板Wへ異物が付着するのを防止することができる。
また、重ねられるスカラロボットの数も2つに限られず、3つ以上であってもよい、例えば、図11(A)及び図11(B)に示すように、基台48上にスカラロボット49,50,51が重ねられてもよい。この場合も、各スカラロボット49,50,51は水平に旋回動作する際、旋回軸52と搬送する基板Wの重心52とを一致させる。また、各スカラロボット49,50,51の旋回軸52は互いに一致する。
さらに、搬送室11内に複数のスカラロボットを配置する場合、複数のスカラロボットを必ず重ねる必要はなく、例えば、図12に示すように、搬送室11内において2つのスカラロボット53,54を水平に並べて配置してもよい。
以上、本発明について、上記各実施の形態を用いて説明したが、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではない。
W 基板
10 基板処理装置
11 搬送室
12 処理室
15,26,27,33,34,49,50,51,53,54 スカラロボット
19,23,36,39 下側搬送アーム
20,25,37,40 上側搬送アーム
21 ピック
22 旋回軸(重心)
29,30 アーム
42 第1の基板搬送面
43 第2の基板搬送面

Claims (7)

  1. 水平に伸縮旋回動作可能な搬送機構を有する搬送室と、該搬送室の周りに配置された複数の処理室とを備える基板処理装置において、
    前記搬送機構は水平方向に伸縮動作し、及び/又は旋回動作することで基板を水平に移動させて各前記処理室へ搬送し、
    前記搬送機構が水平に旋回動作する際、前記搬送機構は前記旋回動作の旋回軸を前記搬送される基板の重心と一致させることを特徴とする基板処理装置。
  2. 前記搬送機構は積み重ねられた複数の搬送アーム部と、最上位の前記搬送アーム部の端部に取り付けられた載置部とを有し、前記載置部は前記基板を載置し、
    一の前記搬送アーム部は、端部において他の前記搬送アーム部と接続されて他の前記搬送アーム部に対して水平に旋回動作することによって前記搬送機構を伸縮させ、
    最下位の前記腕部は、端部における旋回軸を中心に水平に旋回動作することによって前記搬送機構を水平に旋回動作させ、
    前記搬送機構が水平に旋回動作する際、前記搬送機構は最下位の前記搬送アーム部の端部における旋回軸を前記搬送される基板の重心と一致させることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
  3. 前記基板を一の前記処理室から他の前記処理室へ搬送する際、前記搬送機構は、水平に緊縮して前記基板を一の前記処理室から搬出し、前記基板を水平に移動させて前記旋回軸と前記基板の重心と一致させ、前記基板とともに前記旋回軸を中心として水平に旋回動作して前記基板を他の前記処理室へ正対させ、さらに水平に伸長して前記基板を他の前記処理室へ搬入することを特徴とする請求項1又は2記載の基板処理装置。
  4. 複数の前記搬送機構をさらに備え、前記搬送室において複数の前記搬送機構は積み重ねられ、一の前記搬送機構が前記基板を搬送する第1の水平移動面と、他の前記搬送機構が前記基板を搬送する第2の水平移動面とは鉛直方向に関して離間することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
  5. 前記複数の搬送機構の旋回軸は一致し、前記旋回軸の直上に前記基板の表面状態を観測する観測装置が配されることを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
  6. 一の前記搬送機構が当該一の前記搬送機構の旋回軸と当該一の前記搬送機構が搬送する一の前記基板の重心とを一致させて旋回動作する際、他の前記搬送機構は当該他の前記搬送機構が搬送する他の前記基板を、鉛直方向に沿って前記複数の搬送機構を眺めた場合、旋回動作する一の前記基板に重ね合わせないことを特徴とする請求項4又は5記載の基板処理装置。
  7. 前記基板は直径が450mmの半導体ウエハであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板処理装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020038880A (ja) * 2018-09-03 2020-03-12 東京エレクトロン株式会社 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法
JP2021174833A (ja) * 2020-04-22 2021-11-01 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6844434B2 (ja) * 2017-06-15 2021-03-17 株式会社デンソーウェーブ ロボットの負荷重心位置推定装置及びロボットの負荷重心位置推定方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3769802B2 (ja) * 1996-02-09 2006-04-26 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法
JP2002164402A (ja) * 2000-11-24 2002-06-07 Meidensha Corp 基板搬送用ロボット
JP4632590B2 (ja) * 2001-08-30 2011-02-16 キヤノンアネルバ株式会社 基板搬送システム及び基板処理装置
US7927062B2 (en) * 2005-11-21 2011-04-19 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for transferring substrates during electronic device manufacturing
WO2008144670A1 (en) * 2007-05-18 2008-11-27 Brooks Automation, Inc. Load lock fast pump vent

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020038880A (ja) * 2018-09-03 2020-03-12 東京エレクトロン株式会社 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法
JP7225613B2 (ja) 2018-09-03 2023-02-21 東京エレクトロン株式会社 基板搬送機構、基板処理装置及び基板搬送方法
JP2021174833A (ja) * 2020-04-22 2021-11-01 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置及び基板処理方法

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