JP2013120820A - インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法 - Google Patents

インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法 Download PDF

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Abstract

【課題】インプリント装置における高精度な転写処理が可能なインプリント用基板を選択するシステムを提供する。
【解決手段】インプリント用モールドの凹凸形状の転写位置を変えながら複数回転写するための基板を複数の基板の中から選択するシステムは、複数の基板を収納する基板収納部と、当該複数の基板の中から転写に適した基板を選択するための制御装置とを備え、制御装置は、各基板の一方面の平坦度に関する平坦度データ及び基板収納部に収納された複数の基板のそれぞれに関する基板固有データを関連付けて記憶する基板関連データ記憶部と、インプリント用モールドの凹凸形状が転写される転写予定領域が複数配列されてなるインプリント予定領域に関するインプリント予定領域データ及び平坦度データに基づいて、インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板を転写に適した基板として選択する第1の基板選択部とを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法に関する。
近年、半導体デバイス等の製造工程における微細加工技術として、非常に微細な構造を形成可能であり、かつ低コストのパターン形成方法であるインプリント法に注目が集まっている。インプリント法は、シリコンウェハ、ガラスプレート等の基板上に樹脂を離散的に滴下し、又はスピンコート法等により塗布し、基材の表面に微細な凹凸パターンを形成してなるモールドを基板上に塗布した樹脂に押し付け、当該樹脂を硬化させた後にモールドを剥離することで、基板上の樹脂にモールドの凹凸パターンを等倍転写するパターン形成方法である(特許文献1参照)。
米国特許第5,772,905号
このようなインプリント法において用いられる基板は、少なくともその一方面(被転写面)が研磨されているため、被転写面の平坦度は良好なものであるが、部分的に平坦度の不良な領域(キズや異物の付着により微細な凹凸を有する領域を含む。)が存在するものもある。例えば、モールドを押し付けることにより基板上に離散的に滴下された樹脂を押し広げながら当該樹脂に凹凸パターンを転写する場合に、かかる平坦度の不良な領域と、モールドの凹凸パターンを転写しようとする領域とが重なると、平坦度の不良な領域において樹脂の広がりが停滞したり、モールドにかかる圧力が不均一になり樹脂の広がりにムラが生じたりする。そのため、モールドを押し付ける樹脂の厚みムラやモールド凹部への樹脂の充填不良が発生してしまい、転写された凹凸パターンの高さが基板内でばらつく等の転写欠陥が生じてしまい、その結果として、インプリント処理のスループットを低下させてしまうという問題がある。すなわち、基板の被転写面の平坦度は、インプリント法においてモールドの凹凸パターンを高精度に転写するための重要なファクターの一つということができる。
その一方で、基板上に凹凸パターンを高精度に転写するために、被転写面の一部に平坦度の不良な領域が存在するような基板を使用せず、被転写面の全面に亘って平坦度の良好な基板のみをインプリント処理に適する基板として選択し、使用すると、使用されない基板が無駄になり、その結果として半導体デバイス等の製造コストが上昇してしまうという問題がある。
本発明は、上述のような実情に鑑みてなされたものであり、インプリント装置における高精度な転写処理が可能であり、一部に平坦度の不良な領域が存在する基板であっても当該基板を有効活用することのできるインプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択方法、インプリント用基板選択プログラム、並びにそれらにより選択された基板を用いたインプリントシステム及びその方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、第一に本発明は、インプリント用モールドの凹凸形状の転写位置を変えながら複数回転写するための基板を複数の基板の中から選択するシステムであって、前記複数の基板を収納する基板収納部と、前記基板収納部に収納された複数の基板の中から前記転写に適した基板を選択するための制御装置とを備え、前記制御装置は、前記基板収納部に収納された各基板の一方面の平坦度に関する平坦度データ及び前記基板収納部に収納された複数の基板のそれぞれに関する基板固有データを関連付けて記憶する基板関連データ記憶部と、前記インプリント用モールドの凹凸形状が転写される転写予定領域が複数配列されてなるインプリント予定領域に関するインプリント予定領域データ及び前記平坦度データに基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板を前記転写に適した基板として選択する第1の基板選択部とを有することを特徴とするインプリント用基板選択システムを提供する(発明1)。
上記発明(発明1)においては、前記平坦度データには、前記基板収納部に収納された基板の一方面の平坦度が不良である領域に関する平坦度不良領域データが含まれ、前記制御装置は、前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する重なり判定部をさらに有し、前記第1の基板選択部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択するのが好ましい(発明2)。
上記発明(発明2)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部をさらに有し、前記重なり判定部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記回転可否データ、前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択するのが好ましい(発明3)。
上記発明(発明2,3)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部をさらに有し、前記重なり判定部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記移動可否データ、前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択するのが好ましい(発明4)。
上記発明(発明2〜4)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部と、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部とをさらに有し、前記重なり判定部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記回転可否データ、前記移動可否データ、前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択するのが好ましい(発明5)。
上記発明(発明2〜5)においては、前記制御装置は、前記基板の他方面への転写が可能であるか否かに関する他方面転写可否データを記憶する他方面転写可否データ記憶部をさらに有し、前記平坦度不良領域データには、前記基板の他方面の平坦度不良領域に関する他方面平坦度不良領域データが含まれ、前記重なり判定部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記他方面転写可否データ、前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記第1の基板選択部は、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択するのが好ましい(発明6)。
上記発明(発明6)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部をさらに有し、前記重なり判定部は、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記回転可否データ、前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択するのが好ましい(発明7)。
上記発明(発明6,7)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部をさらに有し、前記重なり判定部は、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記移動可否データ、前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択するのが好ましい(発明8)。
上記発明(発明6〜8)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部と、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部とをさらに有し、前記重なり判定部は、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記回転可否データ、前記移動可否データ、前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択するのが好ましい(発明9)。
上記発明(発明2〜9)においては、前記制御装置は、前記複数の転写予定領域の一部を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する一部移動可否データを記憶する一部移動可否データ記憶部と、前記一部移動可否データに基づいて、前記基板上における前記インプリント予定領域以外の領域に、前記転写予定領域と同一の大きさを有する領域であって、前記複数の転写予定領域の一部を移動させ得る移動予定領域を少なくとも1つ含む移動予定領域群を設定する移動予定領域群設定部と、前記移動予定領域群に含まれる移動予定領域のうち、前記重なり判定部により前記インプリント予定領域に重なると判定された前記平坦度不良領域以外の平坦度不良領域と重ならない移動予定領域の数を算出する移動予定領域数算出部と、前記重なり判定部により前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、当該平坦度不良領域に重なる前記転写予定領域を特定する重なり転写予定領域特定部とをさらに有し、前記第1の基板選択部は、前記重なり転写予定領域特定部により特定された前記転写予定領域の数が、前記移動予定領域数算出部により算出された移動予定領域数以下である基板を選択するのが好ましい(発明10)。
上記発明(発明2〜10)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域のうち、前記平坦度不良領域と重なる転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出部と、前記重なり転写予定領域数算出部により算出された前記重なり転写予定領域数に応じて優先順位データを生成する優先順位データ生成部と、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数に関するデータを記憶する製造予定デバイス数データ記憶部と、前記基板収納部に収納されたすべての基板の中から前記第1の基板選択部により選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記製造予定デバイス数未満であるときに、前記優先順位データに基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択部とをさらに有していてもよい(発明11)。
また、上記発明(発明2〜10)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域のうち、前記平坦度不良領域と重なる転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出部と、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数に関するデータを記憶する製造予定デバイス数データ記憶部と、前記基板収納部に収納されたすべての基板の中から前記第1の基板選択部により選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記製造予定デバイス数未満であるときに、前記基板枚数と前記転写予定領域数との積及び前記製造予定デバイス数の差分、並びに前記重なり転写予定領域数算出部により算出された前記重なり転写予定領域数に基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択部とをさらに有していてもよい(発明12)。
第二に本発明は、インプリント用モールドの凹凸形状の転写位置を変えながら複数回転写するための基板を複数の基板の中から選択する制御装置において実行されるインプリント用基板選択プログラムであって、前記制御装置は、前記基板の一方面の平坦度が不良である領域に関する平坦度不良領域データを記憶する基板関連データ記憶部と、前記インプリント用モールドの凹凸形状が転写される転写予定領域が複数配列されてなるインプリント予定領域に関するデータを記憶するインプリント予定領域データ記憶部とを備え、前記基板関連データ記憶部から読み出された前記平坦度不良領域データと、前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出された前記インプリント予定領域データとに基づいて、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第1の重なり判定ステップと、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板を選択する第1の基板選択ステップとを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第1の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とするインプリント用基板選択プログラムを提供する(発明13)。
上記発明(発明13)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部をさらに備え、前記第1の重なり判定ステップにより前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記回転可否データ記憶部から読み出された回転可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出された前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第2の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第2の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明14)。
上記発明(発明13,14)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部をさらに有し、前記第1の重なり判定ステップにより前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記移動可否データ記憶部から読み出された移動可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出された前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第3の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第3の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明15)。
上記発明(発明13〜15)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部と、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部とをさらに有し、前記第1の重なり判定ステップにより前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記回転可否データ記憶部から読み出された回転可否データ、前記移動可否データ記憶部から読み出された移動可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出されたインプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第4の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第4の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明16)。
上記発明(発明13〜16)においては、前記制御装置は、前記基板の他方面への転写が可能であるか否かに関する他方面転写可否データを記憶する他方面転写可否データ記憶部をさらに有し、前記平坦度不良領域データには、前記基板の他方面の平坦度不良領域に関する他方面平坦度不良領域データが含まれ、前記第1の重なり判定ステップにより前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記他方面転写可否データ記憶部から読み出された他方面転写可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出された前記インプリント予定領域データに基づいて、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第5の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第5の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明17)。
上記発明(発明17)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部をさらに備え、前記第5の重なり判定ステップにより前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記回転可否データ記憶部から読み出された回転可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出されたインプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第6の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第6の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明18)。
上記発明(発明17,18)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部をさらに有し、前記第5の重なり判定ステップにより前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記移動可否データ記憶部から読み出された移動可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出されたインプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第7の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第7の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明19)。
上記発明(発明17〜19)においては、前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部と、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部とをさらに有し、前記第5の重なり判定ステップにより前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記回転可否データ記憶部から読み出された回転可否データ、前記移動可否データ記憶部から読み出された移動可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出されたインプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第8の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第8の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明20)。
上記発明(発明13〜20)においては、前記制御装置は、前記複数の転写予定領域の一部を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する一部移動可否データを記憶する一部移動可否データ記憶部をさらに有し、前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記一部移動可否データに基づいて、前記基板上における前記インプリント予定領域以外の領域に、前記転写予定領域と同一の大きさを有する領域であって、前記複数の転写予定領域の一部を移動させ得る移動予定領域を少なくとも1つ含む移動予定領域群を設定する移動予定領域群設定ステップと、前記移動予定領域群に含まれる移動予定領域のうち、前記インプリント予定領域に重なると判定された前記平坦度不良領域以外の平坦度不良領域と重ならない移動予定領域の数を算出する移動予定領域数算出ステップと、前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、当該平坦度不良領域に重なる前記転写予定領域を特定する重なり転写予定領域特定ステップとを前記制御装置に実行させ、前記第1の基板選択ステップにおいて、前記重なり転写予定領域特定ステップにより特定された前記転写予定領域の数が、前記移動予定領域数算出ステップにより算出された移動予定領域数以下である基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明21)。
上記発明(発明13〜21)においては、前記制御装置は、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数に関するデータを記憶する製造予定デバイス数データ記憶部をさらに有し、前記第1の基板選択ステップにより前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板が選択されなかった場合に、前記平坦度不良領域と重なる前記転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出ステップと、前記重なり転写予定領域数算出ステップにより算出された前記転写予定領域の個数に応じて優先順位データを生成する優先順位データ生成ステップと、前記第1の基板選択ステップにより選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記製造予定デバイス数未満であるときに、前記優先順位データ生成ステップにより生成された優先順位データに基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択ステップとを前記制御装置に実行させてもよい(発明22)。
また、上記発明(発明13〜21)においては、前記制御装置は、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数に関するデータを記憶する製造予定デバイス数データ記憶部をさらに有し、前記第1の基板選択ステップにより前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板が選択されなかった場合に、前記平坦度不良領域と重なる前記転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出ステップと、前記第1の基板選択ステップにより選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記製造予定デバイス数未満であるときに、前記基板枚数と前記転写予定領域数との積及び前記製造予定デバイス数の差分、並びに前記重なり転写予定領域数算出ステップにより算出された前記重なり転写予定領域数に基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択ステップとを前記制御装置に実行させてもよい(発明23)。
第三に本発明は、上記発明(発明13〜23)に係るインプリント用基板選択プログラムを格納した記録媒体を提供する(発明24)。
第四に本発明は、上記発明(発明1〜12)に係るインプリント用基板選択システムと、前記インプリント用基板選択システムにより選択された基板に対し、インプリント用モールドの凹凸形状を、転写位置を変えながら複数回転写するインプリント装置とを備え、前記制御装置は、前記平坦度データと前記インプリント予定領域データとに基づいて、前記インプリント用モールドの凹凸形状を転写する前記選択された基板上の領域を設定するインプリント領域設定部をさらに有し、前記インプリント領域設定部により設定されたインプリント領域に転写位置を変えながら前記インプリント用モールドの凹凸形状が複数回転写されるように、前記インプリント装置を制御することを特徴とするインプリントシステムを提供する(発明25)。
第五に本発明は、転写位置を変えながらインプリント用モールドの凹凸形状を複数回転写するための基板を複数の基板の中から選択する方法であって、前記基板の一方面の平坦度が不良である領域と前記インプリント用モールドの凹凸形状が転写される転写予定領域が複数配列されてなるインプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第1の重なり判定工程と、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板を選択する第1の基板選択工程とを含み、前記第1の基板選択工程において、前記第1の重なり判定工程により前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とするインプリント用基板選択方法を提供する(発明26)。
上記発明(発明26)においては、前記第1の重なり判定工程において前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第2の重なり判定工程をさらに含み、前記第1の基板選択工程において、前記第2の重なり判定工程により前記基板と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明27)。
上記発明(発明26,27)においては、前記第1の重なり判定工程において前記基板の一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第3の重なり判定工程をさらに含み、前記第1の基板選択工程において、前記第3の重なり判定工程により前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明28)。
上記発明(発明26〜28)においては、前記第1の重なり判定工程において前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第4の重なり判定工程をさらに含み、前記第1の基板選択工程において、前記第4の重なり判定工程により前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明29)。
上記発明(発明26〜29)においては、前記第1の重なり判定工程において前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記基板の他方面を用いた転写が可能である場合に、前記基板の他方面側の平坦度不良領域と前記複数の転写予定領域のそれぞれとが重なるか否かを判定する第5の重なり判定工程をさらに含み、前記第1の基板選択工程において、前記第5の重なり判定工程により前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明30)。
上記発明(発明30)においては、前記第5の重なり判定工程において前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第6の重なり判定工程をさらに含み、前記第1の基板選択工程において、前記第6の重なり判定工程により前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明31)。
上記発明(発明30,31)においては、前記第5の重なり判定工程において前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動した状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第7の重なり判定工程をさらに含み、前記第1の基板選択工程において、前記第7の重なり判定工程により前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明32)。
上記発明(発明30〜32)においては、前記第5の重なり判定工程において前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第8の重なり判定工程をさらに含み、前記第1の基板選択工程において、前記第8の重なり判定工程により前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明33)。
上記発明(発明26〜33)においては、前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記一部移動可否データに基づいて、前記基板上における前記インプリント予定領域以外の領域に、前記転写予定領域と同一の大きさを有する領域であって、前記複数の転写予定領域の一部を移動させ得る移動予定領域を少なくとも1つ含む移動予定領域群を設定する移動予定領域群設定工程と、前記移動予定領域群に含まれる移動予定領域のうち、前記インプリント予定領域に重なると判定された前記平坦度不良領域以外の平坦度不良領域と重ならない移動予定領域の数を算出する移動予定領域数算出工程と、前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、当該平坦度不良領域に重なる前記転写予定領域を特定する重なり転写予定領域特定工程とを含み、前記第1の基板選択工程において、前記重なり転写予定領域特定工程により特定された前記転写予定領域の数が、前記移動予定領域数算出工程により算出された移動予定領域数以下である基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択するのが好ましい(発明34)。
上記発明(発明26〜34)においては、前記第1の基板選択工程により前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板が選択されなかった場合に、前記平坦度不良領域と重なる前記転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出工程と、前記重なり転写予定領域数算出工程により算出された前記転写予定領域の個数に基づいて優先順位を付与する優先順位付与工程と、前記複数の基板の中から前記第1の基板選択工程により選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数未満であるときに、前記優先順位付与工程により付与された優先順位に基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択工程とをさらに含んでいてもよい(発明35)。
また、上記発明(発明26〜34)においては、前記第1の基板選択工程により前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板が選択されなかった場合に、前記平坦度不良領域と重なる前記転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出工程と、前記複数の基板の中から前記第1の基板選択工程により選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数未満であるときに、前記基板枚数と前記転写予定領域数との積及び前記製造予定デバイス数の差分、並びに前記重なり転写予定領域数算出工程により算出された前記重なり転写予定領域数に基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択工程とをさらに含んでいてもよい(発明36)。
第六に本発明は、上記発明(発明26〜36)に係るインプリント用基板選択方法により選択された基板上における、前記インプリント用モールドの凹凸形状を転写する領域を設定するインプリント領域設定工程と、インプリント装置を用いて、前記選択された基板に対しインプリント用モールドの凹凸形状を前記インプリント領域に転写位置を変えながら複数回転写する転写工程とを含むことを特徴とするインプリント方法を提供する(発明37)。
本発明によれば、インプリント装置における高精度な転写処理が可能であり、一部に平坦度の悪い領域が存在する基板であっても当該基板を有効活用することのできるインプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択方法、インプリント用基板選択プログラム、並びにそれらにより選択された基板を用いたインプリントシステム及びその方法を提供することができる。
本発明の一実施形態に係るインプリントシステムを示す概略構成図である。 本発明の一実施形態における制御装置の内部構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態におけるインプリント予定領域の一例を示す概略図である。 本発明の一実施形態における基板データベースのデータベース構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態における基板の平坦度不良領域の一例を示す概略図である。 本発明の一実施形態における被転写基板データベースのデータベース構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態における被転写候補基板データベースのデータ構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態におけるインプリント条件データ生成処理を示すフローチャートである。 図8に示すインプリント条件データ生成処理における移動関連条件データ生成処理を示すサブフローチャートである。 図8に示すインプリント条件データ生成処理における回転関連条件データ生成処理を示すサブフローチャートである。 図8に示すインプリント条件データ生成処理における裏面関連条件データ生成処理を示すサブフローチャートである。 図8に示すインプリント条件データ生成処理における一部移動関連条件データ生成処理を示すフローチャートである。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その1)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その2)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その3)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その4)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その5)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その6)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その7)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その8)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その9)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その10)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その11)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート(その12)である。 本発明の一実施形態におけるインプリント処理を示すフローチャートである。 本発明の一実施形態におけるインプリント予定領域及び移動予定領域群を示す概略図である。 本発明の一実施形態における移動予定領域に、平坦度不良領域と重なる転写予定領域を移動させた状態を示す概念図である。 本発明の一実施形態におけるインプリント予定領域の他の例を示す概略図である。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
<インプリントシステムの装置構成>
図1に示すように、本実施形態に係るインプリントシステム1は、複数の基板を収納する基板収納部2と、基板収納部2に収納された基板に対し所定のインプリント用モールドを用いて転写位置を変えながら複数回のインプリント処理を施すことのできるインプリント装置3と、基板収納部2に収納された基板をインプリント装置3に搬送する基板搬送装置4と、基板収納部2に収納された複数の基板の中からインプリント装置3におけるインプリント処理に適した基板を選択し、当該基板をインプリント装置3に搬送するために基板搬送装置4を制御するとともに、インプリント装置3におけるインプリント処理を制御する制御装置5とを備える。
基板収納部2としては、少なくとも各基板を識別可能に収納し得るものであればよく、多段状に基板を収納可能なストッカー、管理番号を付与した基板ケース等が挙げられる。なお、基板収納部2に収納される基板としては、インプリント処理に用いられ得る基板であれば特に限定されるものではなく、例えば、シリコン基板、石英基板、ガラス基板、SOI基板等が挙げられ、ノッチやオリフラ等が形成された基板であってもよいし、それらが形成されていない基板であってもよく、基板の両面(表面及び裏面)が研磨加工されているものであってもよいし、基板の両面が研磨加工されているが一方面(表面)のみに表面処理が施され、他方面(裏面)における樹脂の塗布特性が良好でないようなものであってもよい。また、一方面(表面)のみ研磨加工されているものであってもよい。
インプリント装置3としては、基板を載置するステージと、インプリント用モールドを保持した状態でステージ上の基板に対して押し付けるための保持部とを少なくとも有し、ステージ及び/又は保持部をXY方向に移動させることのできる機構を有するものを例示することができ、ステージ及び/又は保持部を回転させることのできる回転機構を有するものであってもよいし、当該回転機構を有しないものであってもよい。
基板搬送装置4としては、基板収納部2に収納されている基板を保持し、インプリント装置3に搬送する搬送機構を有するものを例示することができ、保持した基板を表裏反対にした状態でインプリント装置3に搬送し得る機構、保持した基板を回転させ、インプリント装置3に搬送し得る機構等を有するものであってもよいし、それらの機構を有しないものであってもよい。
図2に示すように、制御装置5は、CPU51と、各種プログラム等を記憶する主記憶部52と、CPU51により生成されたデータ等を一時的に記憶する補助記憶部53と、基板搬送装置4及びインプリント装置3との間でデータ等の送受信を行うための通信部54と、基板収納部2に収納されている基板に関するデータを格納する基板データベース(基板DB)55と、インプリント用基板選択処理により選択された基板(被転写基板)に関するデータを格納する被転写基板データベース(被転写基板DB)56と、インプリント用基板選択処理において基板の平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていると判定された基板に対し優先順位が付与されたデータを格納する被転写候補基板データベース(被転写候補基板DB)57と、インプリントシステム1を構成する各装置(基板収納部2、インプリント装置3、基板搬送装置4)の機能等に基づくインプリント処理条件に関するデータを格納するインプリントシステムデータベース(インプリントシステムDB)58とを備える。
CPU51は、基板DB55、被転写基板DB56、被転写候補基板DB57、インプリントシステムDB58等に格納された各種データや、補助記憶部53に記憶された各種データ等を読み出し、主記憶部52に記憶された各種プログラムの指示に従って、種々の演算処理等を行う。
主記憶部52には、基板収納部2に収納された複数の基板の中からインプリント装置3におけるインプリント処理に適した一の基板を選択するためのインプリント用基板選択プログラム、基板搬送装置4による基板の搬送処理を制御するための搬送制御プログラム、インプリント装置3によるインプリント処理を制御するためのインプリント制御プログラム等の各種プログラム等が記憶されている。
補助記憶部53には、ユーザからの入力データ;当該入力データに基づいてCPU51により生成された各種インプリント条件データ;各DB55〜58から取得したデータ;後述する各重なり判定処理(図13〜20参照)において特定された重なり転写予定領域に関するデータ;後述する一部移動判定処理(図21〜23参照)において生成された、移動予定領域に関するデータ;後述する基板選択処理(図24参照)において生成された、平坦度不良領域と重ならない転写予定領域のみからなるインプリント領域に関するデータ等の各種データが一時的に記憶される。
なお、補助記憶部53に記憶されるユーザからの入力データとしては、例えば、インプリントシステム1におけるインプリント処理による製造予定デバイス数(すなわち、総転写回数)に関するデータ;複数の転写予定領域を配列させてなるインプリント予定領域に関するデータ;インプリントシステム1を用いたインプリント処理により製造されるデバイスの種類や用途等に応じ、当該インプリントシステム1においてインプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理をユーザが許容するか否かに関するデータ(回転許否データ);インプリントシステム1においてインプリント予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態でのインプリント処理をユーザが許容するか否かに関するデータ(移動許否データ);インプリントシステム1において基板の他方面(裏面)を用いたインプリント処理をユーザが許容するか否かに関するデータ(裏面使用許否データ);インプリントシステム1においてインプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域の一部を基板に対して相対的に移動させた状態でのインプリント処理をユーザが許容するか否かに関するデータ(一部移動許否データ);基板選択処理においてインプリント予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態での重なり判定処理(図15,16,19,20参照)を行う際のインプリント予定領域や転写予定領域のX方向及びY方向への移動距離(Xpitch,Ypitch)に関するデータ等が挙げられる。
なお、ユーザにより入力されるインプリント予定領域データは、例えば、当該インプリント予定領域及び基板が図3に示すような矩形状である場合において、インプリント予定領域の中心と基板の中心とを一致させ、基板の中心を原点としたときに当該インプリント予定領域の対角に位置する二点(左下角の点α,右上角の点β)の座標データと、当該インプリント予定領域に含まれる各転写予定領域の対角に位置する二点(左下角の点α’,右上角の点β’)の座標データと、各転写予定領域の位置情報(行番号及び列番号からなるデータ。例えば、図3において左上角に位置する転写予定領域は、「1(行)−1(列)」という位置情報を有する。)を含むものである。
また、CPU51により生成され、補助記憶部53に記憶されるインプリント条件データには、インプリントシステム1においてインプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ(回転関連条件データ)、インプリントシステム1においてインプリント予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ(移動関連条件データ)、インプリントシステム1において基板の他方面(裏面)を用いたインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ(裏面関連条件データ)、インプリントシステム1において一部の転写予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ(一部移動関連条件データ)が含まれる。
例えば、インプリントシステム1を構成する装置上の条件(インプリント装置3における基板の載置方向に対するインプリント用モールドの保持方向が一方向のみであってインプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が不可能;基板搬送装置4において表裏を反対にして基板をインプリント装置3に搬送するのが不可能;基板収納部2における基板の保管環境等により基板の他方面(裏面)側に異物等が付着しやすく基板の他方面(裏面)に対するインプリント処理が不可能等)や転写後の基板が付される後工程上の条件(例えば、転写後の基板を切断(個片化)する工程にて用いられるダイシング装置の制限等)等に応じて、インプリント条件データが生成され得る。
図4に示すように、基板DB55には、基板収納部2に収納されている各基板の識別情報(基板ID)と、各基板の収納場所データと、予め測定された基板の表面の平坦度データと、各基板に固有のデータ(基板固有データ)とが関連付けられて格納される。また、基板収納部2に格納されている基板の全枚数に関するデータ(基板枚数データ)も格納される。
基板DB55に格納される基板の表面の平坦度データは、基板の表面の平坦度の悪い領域(平坦度不良領域)を示す座標データである。基板の表面の平坦度不良領域は、例えば、平坦度測定装置(例えば、ラムダエースシリーズ,大日本スクリーン株式会社製等)を用いて基板の表面の平坦度を測定・解析したときにおける所定の平坦度(例えば、10nm以上)の領域を少なくとも囲む矩形の枠を設定し、基板の表面の中心を原点としたときにおける当該矩形枠の対角に位置する二点(矩形枠の左下角の点A及び右上角の点B)の座標データとして表される(図4の領域No.F1等参照)。なお、本明細書において、平坦度不良領域とは、基板自体の平坦度の悪い領域の他、基板上に微細なキズがついている領域、基板上に微細な異物が付着している領域等も含まれるものとする。また、平坦度不良領域を有しない基板については、平坦度データとして空白データ(ブランクデータ)が基板DB55に格納されている(図4の基板ID No.3参照)。
基板DB55に格納される基板固有データとしては、基板の形状(ノッチやオリフラ等が形成されているなど)や樹脂が均一に塗布され得ない基板上の領域等に応じて設定されるインプリント処理を許可する基板上の領域(ノッチやオリフラ等を含まない円形又は矩形にて設定される領域、表面側(裏面側)転写許可領域;図3に示す二点破線で囲まれる領域)に関するデータ、基板の裏面側にインプリント処理を行うことが可能であるか否かに関するデータ(裏面使用可データ又は裏面使用不可データを含む裏面関連データ)等を例示することができる。
例えば、基板の表面にのみ研磨加工が施されているようなもの、基板の両面に研磨加工が施されていたとしても表面のみに表面処理が施され、裏面における樹脂の塗布特性が良好でないようなものであれば、基板DB55に裏面使用不可データが格納される。なお、基板DB55に裏面使用可データが格納される基板に関しては、予め測定された裏面の平坦度不良領域に関するデータ(裏面平坦度データ)、裏面側転写許可領域に関するデータもあわせて格納される(図4の領域No.B1等参照)。
図6に示すように、被転写基板DB56には、インプリント用基板選択処理により被転写基板として選択された基板の基板IDと、基板の収納場所に関するデータと、インプリント処理条件データ(例えば、基板の回転に関するデータ、インプリント予定領域や一部の転写予定領域の基板に対する移動距離に関するデータ、基板の裏面側の使用に関するデータ等)とが関連付けられて格納される。
図7に示すように、被転写候補基板DB57には、インプリント用基板選択処理により基板の平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていると判断された基板の基板IDと、基板の収納場所に関するデータと、インプリント処理条件データと、当該基板の平坦度不良領域と重なる転写予定領域の数情報及び位置情報と、当該基板に付与された優先順位に関するデータとが関連付けられて格納されている。
インプリントシステムDB58には、インプリントシステム1を構成する各装置(基板収納部2、インプリント装置3、基板搬送装置4)の機能等に基づき、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ(回転可否データ)、基板の他方面(裏面)側を用いたインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ(裏面使用可否データ)等が格納されている。
例えば、インプリント装置3における基板の載置方向に対するインプリント用モールドの保持方向が一方向のみであってインプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が不可能なインプリント装置3であれば「回転不可」との回転可否データが格納される。また、基板搬送装置4において表裏を反対にして基板をインプリント装置3に搬送するのが不可能であれば「裏面使用不可」との裏面使用可否データが格納される。さらに、基板収納部2における基板の保管環境等により基板の裏面側に異物等が付着しやすく基板の裏面側に対するインプリント処理が不可能であれば「裏面使用不可」との裏面使用可否データが格納される。一方、インプリントシステム1を構成する各装置(基板収納部2、インプリント装置3、基板搬送装置4)の機能等に基づき、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能である場合には「回転可」との回転可否データが、基板の裏面側を用いたインプリント処理が可能である場合には「裏面使用可」との裏面使用可否データが、インプリントシステムDB58に格納される。
<インプリントシステムにおける処理動作>
このような構成を有するインプリントシステム1における処理動作を説明する。図8〜12は、インプリント条件データ生成処理を示すフローチャートであり、図13〜24は、インプリント用基板選択処理を示すフローチャートであり、図25は、インプリント用基板選択処理により選択された基板を用いたインプリントシステム1におけるインプリント処理を示すフローチャートである。
<インプリント条件データ生成処理>
まず、インプリント処理により所定数(N個)の半導体デバイスを製造するための基板を選択し、当該基板に対してインプリント処理を行うにあたり、予めインプリント条件データ生成処理を行う。
最初に、ユーザにより許容されるインプリント条件に関するデータ(回転許否データ、移動許否データ、裏面使用許否データ、一部移動許否データ)、複数の転写予定領域を配列してなるインプリント予定領域に関するデータ及びインプリント処理による製造予定デバイス数(N個)に関するデータがユーザにより入力され、入力された各データは、補助記憶部53に記憶される。CPU51は、ユーザにより入力され、補助記憶部53に記憶されたデータ等に基づき、後述するようにしてインプリント条件データを生成する処理(図8参照)を行う。
図8に示すように、まず、CPU51は、移動関連条件データを生成する処理を行う(S1)。
かかる移動関連条件データ生成処理においては、図9に示すように、補助記憶部53に記憶されている移動許否データが「移動許可」とのデータを含むか否かを判断する(S11)。移動許否データが「移動許可」とのデータを含まない場合(S11,No)、CPU51は「移動不可」とのデータを含む移動関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S12)。一方、移動許否データが「移動許可」とのデータを含むものである場合(S11,Yes)、CPU51は「移動可」とのデータを含む移動関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S13)。このようにして移動関連条件データを生成した後、インプリント条件データ生成処理(図8)に戻る。
次に、CPU51は、図8に示すように、回転関連条件データを生成する処理を行う(S2)。
かかる回転関連条件データ生成処理においては、図10に示すように、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている回転許否データが「回転許可」とのデータを含むものであるか否かを判断する(S21)。
回転許否データが「回転許可」とのデータを含むものでない場合(S21,No)、CPU51は「回転不可」とのデータを含む回転関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S22)。
回転許否データが「回転許可」とのデータを含むものである場合(S21,Yes)、CPU51は、インプリントシステムDB58から回転可否データを取得し(S23)、回転可否データが「回転可」とのデータを含むものであるか否かを判断する(S24)。
回転可否データが「回転可」とのデータを含まない場合(S24,No)、CPU51は「回転不可」とのデータを含む回転関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S22)。
回転可否データが「回転可」とのデータを含むものである場合(S24,Yes)、CPU51は、補助記憶部53に記憶されているインプリント予定領域データを取得し(S25)、当該インプリント予定領域データに基づいて、インプリント予定領域の回転対称数を判定し、インプリント予定領域が、例えば正方形等の4回対称形状であるか否かを判断する(S26)。
インプリント予定領域が4回対称形状であると判断した場合(S26,Yes)、CPU51は、「回転不可」とのデータを含む回転関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S22)。
インプリント予定領域が、例えば長方形等の2軸対称形状であって、4回対称形状ではないと判断した場合(S26,No)、CPU51は、「回転可」とのデータを含む回転関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S27)。このようにして回転関連条件データを生成した後、インプリント条件データ生成処理(図8)に戻る。
続いて、CPU51は、図8に示すように、裏面関連条件データを生成する処理を行う(S3)。
かかる裏面関連条件データ生成処理においては、図11に示すように、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている裏面使用許否データが「裏面許可」とのデータを含むか否かを判断する(S31)。
裏面使用許否データが「裏面許可」とのデータを含まない場合(S31,No)、CPU51は「裏面不可」とのデータを含む裏面関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S32)。
裏面使用許否データが「裏面許可」とのデータを含むものである場合(S31,Yes)、CPU51は、インプリントシステムDB58から裏面使用可否データを取得し(S33)、裏面使用可否データが「裏面可」とのデータを含むものであるか否かを判断する(S34)。
裏面使用可否データが「裏面可」とのデータを含まない場合(S34,No)、CPU51は「裏面不可」とのデータを含む裏面関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S32)。
裏面使用可否データが「裏面可」とのデータを含むものである場合(S34,Yes)、CPU51は「裏面可」とのデータを含む裏面関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S35)。このようにして裏面関連条件データを生成した後、インプリント条件データ生成処理(図8)に戻る。
最後に、CPU51は、図8に示すように、一部移動関連条件データを生成する処理を行う(S4)。
かかる一部移動関連条件データ生成処理においては、図12に示すように、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている一部移動許否データが「一部移動許可」とのデータを含むか否かを判断する(S41)。
一部移動許否データが「一部移動許可」とのデータを含まない場合(S41,No)、CPU51は「一部移動不可」とのデータを含む一部移動関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S42)。一方、一部移動許否データが「一部移動許可」とのデータを含む場合(S41,Yes)、CPU51は「一部移動可」とのデータを含む一部移動関連条件データを生成し、補助記憶部53に記憶する(S43)。このようにして移動関連条件データを生成した後、インプリント条件データ生成処理(図8)を終了する。
<インプリント用基板選択処理−通常転写位置>
続いて、インプリント用基板選択処理を行う。
図13に示すように、CPU51は、基板DB55に格納されている一の基板ID、収納場所データ及び平坦度データを取得して補助記憶部53に記憶し(S001)、補助記憶部53に記憶された平坦度データに平坦度不良領域に関するデータが含まれているか否かを判断する(S002)。具体的には、平坦度データに平坦度不良領域の座標データが含まれているか否かを判断する。なお、上記S001においては、ユーザにより予め入力されたインプリント予定領域データに基づいて、当該インプリント予定領域すべてが含まれ得る大きさの転写許可領域(表面側転写許可領域、裏面側転写許可領域)を有する基板を任意に選択し、選択された基板に関するデータを取得するものとする。
平坦度データに平坦度不良領域に関するデータが含まれていない、すなわち平坦度データとして空白データ(ブランクデータ)を有すると判断した場合(S002,No)、基板IDと収納場所データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S003)、後述するS901の処理に移行する。
平坦度データに平坦度不良領域に関するデータが含まれていると判断した場合(S002,Yes)、補助記憶部53に記憶された平坦度データ及びインプリント予定領域データに基づいて、平坦度不良領域の点AのX座標値及びインプリント予定領域の点αのX座標値、平坦度不良領域の点AのY座標値及びインプリント予定領域の点αのY座標値、平坦度不良領域の点BのX座標値及びインプリント予定領域の点βのX座標値、並びに平坦度不良領域の点BのY座標値及びインプリント予定領域の点βのY座標値をそれぞれ対比し、点A及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれXleft及びYlowと定義し、点B及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれXright及びYupと定義する(S004)。
次に、CPU51は、Xleft及びXrightを対比し、XleftがXrightよりも小さいか否かを判断し(S005)、XleftがXrightよりも大きいと判断した場合(S005,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS008の処理に移行する。
一方、XleftがXrightよりも小さいと判断した場合(S005,Yes)、CPU51は、Ylow及びYupを対比し、YlowがYupよりも小さいか否かを判断する(S006)。
lowがYupよりも大きいと判断した場合(S006,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS008の処理に移行する。
lowがYupよりも小さいと判断した場合(S006,Yes)、CPU51は、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていると判定し、インプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域のうち、平坦度不良領域と重なっている転写予定領域(重なり転写予定領域)を特定し、補助記憶部53に記憶する(S007)。
具体的には、平坦度不良領域と重なっている転写予定領域は、以下のようにして特定することができる。
まず、平坦度不良領域の点BのX座標値及びY座標値のそれぞれよりも、点α’のX座標値及びY座標値のそれぞれが小さい転写予定領域(点α’のX座標値<点BのX座標値、かつ点α’のY座標値<点BのY座標値)を抽出する。次に、抽出された転写予定領域の中から、平坦度不良領域の点AのX座標値及びY座標値のそれぞれよりも、点β’のX座標値及びY座標値のそれぞれが大きい転写予定領域(点β’のX座標値>点AのX座標値、かつ点β’のY座標値>点AのY座標値)をさらに抽出する。このようにして抽出された転写予定領域を重なり転写予定領域として特定することができる。
次に、CPU51は、インプリント予定領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域データが補助記憶部53に記憶されているか否かを判断し(S008)、他の平坦度不良領域データが記憶されていると判断した場合には(S008,Yes)、上記S004〜S007の処理を再度行い、他の平坦度不良領域データが記憶されていないと判断した場合には(S008,No)、上記S007において重なり転写予定領域が特定されているか否かを判断する(S009)。
重なり転写予定領域が特定されていないと判断した場合(S009,No)、CPU51は、基板IDと収納場所データを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S003)、後述するS901の処理に移行する。
一方、重なり転写予定領域が特定されていると判断した場合(S009,Yes)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、重なり転写予定領域データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S010)。
<インプリント用基板選択処理−回転>
上記S010にて各種データを関連付けて被転写候補基板DB57に格納した後、図14に示すように、補助記憶部53に記憶されている回転関連条件データを取得し、当該回転関連条件データに基づいて、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S101)。
回転不可と判断した場合(S101,No)、次の重なり判定処理(図15参照)に移行する。一方、回転可能と判断した場合(S101,Yes)、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている平坦度データに基づいて、基板の中心を軸としてその軸周りに90度回転させたときの平坦度不良領域の点A及び点Bの座標を算出し、当該座標データ及び座標算出回数に関するデータを補助記憶部53に記憶する(S102)。
次に、CPU51は、補助記憶部53に記憶されているインプリント予定領域データ及び基板回転後の平坦度不良領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点AのX座標値及びインプリント予定領域の点αのX座標値、平坦度不良領域の点AのY座標値及びインプリント予定領域の点αのY座標値、平坦度不良領域の点BのX座標値及びインプリント予定領域の点βのX座標値、並びに平坦度不良領域の点BのY座標値及びインプリント予定領域の点βのY座標値をそれぞれ対比し、点A及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれXleft及びYlowと定義し、点B及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれXright及びYupと定義する(S103)。
次に、CPU51は、Xleft及びXrightを対比し、XleftがXrightよりも小さいか否かを判断し(S104)、XleftがXrightよりも大きいと判断した場合(S104,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS107の処理に移行する。
一方、XleftがXrightよりも小さいと判断した場合(S104,Yes)、CPU51は、Ylow及びYupを対比し、YlowがYupよりも小さいか否かを判断する(S105)。
lowがYupよりも大きいと判断した場合(S105,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS107の処理に移行する。
lowがYupよりも小さいと判断した場合(S105,Yes)、CPU51は、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていると判定し、インプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域のうち、平坦度不良領域と重なっている転写予定領域(重なり転写予定領域)を特定し、補助記憶部53に記憶する(S106)。
続いて、CPU51は、インプリント予定領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域データが補助記憶部53に記憶されているか否かを判断し(S107)、他の平坦度不良領域データが記憶されていると判断した場合には(S107,Yes)、上記S103〜S106の処理を再度行い、他の平坦度不良領域データが記憶されていないと判断した場合には(S107,No)、上記S106において重なり転写予定領域が特定されているか否かを判断する(S108)。
重なり転写予定領域が特定されていないと判断した場合(S108,No)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S109)、後述するS901の処理に移行する。
一方、重なり転写予定領域が特定されていると判断した場合(S108,Yes)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、重なり転写予定領域データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S110)。
<インプリント用基板選択処理−移動>
上記S110にて各種データを関連付けて被転写候補基板DB57に格納した後、又は上記S101にて回転不可と判断された後、図15に示すように、補助記憶部53に記憶されている移動関連条件データを取得し、当該移動関連条件データに基づいて、インプリント予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S201)。
移動不可と判断した場合(S201,No)、後述の裏面使用に関する重なり判定処理(図17参照)に移行する。一方、移動可能と判断した場合(S201,Yes)、CPU51は、基板IDに基づいて基板DB55から当該基板の表面側の転写許可領域データを取得し(S202)、当該転写許可領域の座標データとインプリント予定領域の座標データとから、インプリント予定領域の移動に際して基準となる矩形の領域(移動領域)を設定し、当該移動領域の座標データを算出して補助記憶部53に記憶する(S203)。
なお、移動領域の座標データ(矩形領域の対角に位置する点A’及び点B’の座標データ(点A’(xA',yA')、点B’(xB',yB');図3参照)は、転写許可領域の点α’’及び点β’’の座標データ、並びにインプリント予定領域の点α及び点βの座標データから、下記式(1)〜(4)により算出する。
A'=xα''−xα …(1)
A'=yα''−yα …(2)
B'=xβ''−xβ …(3)
B'=yβ''−yβ …(4)
CPU51は、インプリント予定領域の中心を通るX軸及びY軸のそれぞれに平行な補助線を移動領域内に引き、補助記憶部53に記憶されている移動距離に関するデータ(Xpitch,Ypitch)に基づいて、各補助線に平行、かつ当該移動距離ごとに離間した補助線を引き、それらの補助線の各交点及び各補助線と移動領域の最外周との交点の座標を算出して、補助記憶部53に記憶する(S204)。
次に、インプリント予定領域の中心を移動領域内の任意の一の交点に移動させたときにおけるインプリント予定領域の座標データ(点α及び点βの座標値)を算出し、補助記憶部53に記憶する(S205)。
続いて、CPU51は、補助記憶部53に記憶された平坦度データ及び移動後のインプリント予定領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点AのX座標値及びインプリント予定領域の点αのX座標値、平坦度不良領域の点AのY座標値及びインプリント予定領域の点αのY座標値、平坦度不良領域の点BのX座標値及びインプリント予定領域の点βのX座標値、並びに平坦度不良領域の点BのY座標値及びインプリント予定領域の点βのY座標値をそれぞれ対比し、点A及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれXleft及びYlowと定義し、点B及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれXright及びYupと定義する。そして、CPU51は、Xleft及びXrightを対比し、XleftがXrightよりも小さいか否かを判断する(S206)。
leftがXrightよりも大きいと判断した場合(S206,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS209の処理に移行する。
一方、XleftがXrightよりも小さいと判断した場合(S206,Yes)、CPU51は、Ylow及びYupを対比し、YlowがYupよりも小さいか否かを判断する(S207)。YlowがYupよりも大きいと判断した場合(S207,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS209の処理に移行する。
一方、YlowがYupよりも小さいと判断した場合(S207,Yes)、CPU51は、インプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域のうち、平坦度不良領域と重なっている転写予定領域(重なり転写予定領域)を特定し、補助記憶部53に記憶する(S208)。
続いて、CPU51は、インプリント予定領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域データが補助記憶部53に記憶されているか否かを判断し(S209)、他の平坦度不良領域データが記憶されていると判断した場合には(S209,Yes)、上記S206〜S208の処理を再度行い、他の平坦度不良領域データが記憶されていないと判断した場合には(S209,No)、上記S208において重なり転写予定領域が特定されているか否かを判断する(S210)。
重なり転写予定領域が特定されていないと判断した場合(S210,No)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S211)、後述するS901の処理に移行する。
一方、重なり転写予定領域が特定されていると判断した場合(S210,Yes)、CPU51は、すべての交点における重なり判定処理を行ったか否かを判断し(S212)、すべての交点における重なり判定処理を行っていないと判断した場合(S212,No)、上記S205〜S210の処理を再度行う。
すべての交点における重なり判定処理を行ったと判断した場合(S212,Yes)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、重なり転写予定領域データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S213)。
<インプリント用基板選択処理−回転・移動>
上記S213にて各種データを関連付けて被転写候補基板DB57に格納した後、図16に示すように、CPU51は、補助記憶部53に記憶されているインプリント条件データを取得し、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S301)。
回転不可と判断した場合(S301,No)、次の重なり判定処理(図17参照)に移行する。一方、回転可能と判断した場合(S301,Yes)、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている平坦度データに基づいて、基板の中心を軸としてその軸周りに90度回転させたときの平坦度不良領域の点A及び点Bの座標を算出し、当該座標データ及び座標算出回数に関するデータを補助記憶部53に記憶する(S302)。
次に、CPU51は、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させたときにおける、基板上の移動領域の各交点座標(上記S203にて設定された移動領域(図3参照)を基板の中心を軸としてその軸周りに90度回転させた領域の各交点座標)を算出して、補助記憶部53に記憶する(S303)。
そして、CPU51は、インプリント予定領域の中心を任意の一の交点に移動させたときにおけるインプリント予定領域の座標データ(点α及び点βの座標値)を算出し、補助記憶部53に記憶する(S304)。
続いて、CPU51は、補助記憶部53に記憶された回転後の平坦度不良領域の座標データ及び移動後のインプリント予定領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点AのX座標値及びインプリント予定領域の点αのX座標値、平坦度不良領域の点AのY座標値及びインプリント予定領域の点αのY座標値、平坦度不良領域の点BのX座標値及びインプリント予定領域の点βのX座標値、並びに平坦度不良領域の点BのY座標値及びインプリント予定領域の点βのY座標値をそれぞれ対比し、点A及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれXleft及びYlowと定義し、点B及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれXright及びYupと定義する。そして、CPU51は、Xleft及びXrightを対比し、XleftがXrightよりも小さいか否かを判断する(S305)。
leftがXrightよりも大きいと判断した場合(S305,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS308の処理に移行する。
一方、XleftがXrightよりも小さいと判断した場合(S305,Yes)、CPU51は、Ylow及びYupを対比し、YlowがYupよりも小さいか否かを判断する(S306)。YlowがYupよりも大きいと判断した場合(S306,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS308の処理に移行する。
一方、YlowがYupよりも小さいと判断した場合(S306,Yes)、CPU51は、インプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域のうち、平坦度不良領域と重なっている転写予定領域(重なり転写予定領域)を特定し、補助記憶部53に記憶する(S307)。
続いて、CPU51は、インプリント予定領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域データが補助記憶部53に記憶されているか否かを判断し(S308)、他の平坦度不良領域データが記憶されていると判断した場合には(S308,Yes)、上記S305〜S307の処理を再度行い、他の平坦度不良領域データが記憶されていないと判断した場合には(S308,No)、上記S307において重なり転写予定領域が特定されているか否かを判断する(S309)。
重なり転写予定領域が特定されていないと判断した場合(S309,No)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S310)、後述するS901の処理に移行する。
一方、重なり転写予定領域が特定されていると判断した場合(S309,Yes)、CPU51は、すべての交点における重なり判定処理を行ったか否かを判断し(S311)、すべての交点における重なり判定処理を行っていないと判断した場合(S311,No)、上記S304〜S309の処理を再度行う。
一方、すべての交点における重なり判定処理を行ったと判断した場合(S311,Yes)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、重なり転写予定領域データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S312)。
<インプリント用基板選択処理−裏面>
上記S201にて移動不可と判断された後、上記S301にて回転不可と判断された後、又は上記S312にて各種データを関連付けて被転写候補基板DB57に格納した後、図17に示すように、基板DB55に格納された基板固有データ及び補助記憶部53に記憶されている裏面使用関連条件データを取得し、基板の裏面側を用いたインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S401)。
裏面使用不可と判断した場合(S401,No)、続いての重なり判定処理に移行する(図21参照)。一方、裏面使用可能と判断した場合(S401,Yes)、補助記憶部53に記憶された平坦度データに裏面側の平坦度不良領域に関するデータが含まれているか否かを判断する(S402)。平坦度データに裏面側の平坦度不良領域に関するデータが含まれていないと判断した場合(S402,No)、基板IDと収納場所データとインプリント処理条件データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S403)、後述するS901の処理に移行する。
一方、平坦度データに裏面側の平坦度不良領域に関するデータが含まれていると判断した場合(S402,Yes)、CPU51は、補助記憶部53に記憶された平坦度データ及びインプリント予定領域データに基づいて、裏面側の平坦度不良領域の点AのX座標値及びインプリント予定領域の点αのX座標値、裏面側の平坦度不良領域の点AのY座標値及びインプリント予定領域の点αのY座標値、裏面側の平坦度不良領域の点BのX座標値及びインプリント予定領域の点βのX座標値、並びに裏面側の平坦度不良領域の点BのY座標値及びインプリント予定領域の点βのY座標値をそれぞれ対比し、点A及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれXleft及びYlowと定義し、点B及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれXright及びYupと定義する(S404)。
CPU51は、Xleft及びXrightを対比し、XleftがXrightよりも小さいか否かを判断する(S405)。XleftがXrightよりも大きいと判断した場合(S405,No)、裏面側の平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS408の処理に移行する。
一方、XleftがXrightよりも小さいと判断した場合(S405,Yes)、CPU51は、Ylow及びYupを対比し、YlowがYupよりも小さいか否かを判断する(S406)。
lowがYupよりも大きいと判断した場合(S406,No)、裏面側の平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS408の処理に移行する。
lowがYupよりも小さいと判断した場合(S406,Yes)、CPU51は、裏面側の平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていると判定し、インプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域のうち、裏面側の平坦度不良領域と重なっている転写予定領域(重なり転写予定領域)を特定し、補助記憶部53に記憶する(S407)。
次に、CPU51は、インプリント予定領域との重なりの有無を判定していない他の裏面側平坦度不良領域データが補助記憶部53に記憶されているか否かを判断し(S408)、他の裏面側平坦度不良領域データが記憶されていると判断した場合には(S408,Yes)、上記S404〜S407の処理を再度行い、他の平坦度不良領域データが記憶されていないと判断した場合には(S408,No)、上記S407において重なり転写予定領域が特定されているか否かを判断する(S409)。
重なり転写予定領域が特定されていないと判断した場合(S409,No)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S403)、後述するS901の処理に移行する。
一方、重なり転写予定領域が特定されていると判断した場合(S409,Yes)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、重なり転写予定領域データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S410)。
<インプリント用基板選択処理−裏面・回転>
上記S410にて基板IDと収納場所データと重なり転写予定領域データとインプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納した後、図18に示すように、CPU51は、基板DB55に格納された基板固有データ及び補助記憶部53に記憶されている回転関連条件データを取得し、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S501)。
回転不可と判断した場合には(S501,No)、次の重なり判定処理(図19参照)に移行する。一方、回転可と判断した場合には(S501,Yes)、CPU51は、補助記憶部53に記憶された平坦度データに基づいて、基板の中心を軸としてその軸周りに90度回転させたときの裏面側の平坦度不良領域の点A及び点Bの座標を算出し、当該座標データ及び座標算出回数に関するデータを補助記憶部53に記憶する(S502)。
次に、CPU51は、補助記憶部53に記憶されたインプリント予定領域データ及び基板回転後の裏面側の平坦度不良領域の座標データに基づいて、裏面側の平坦度不良領域の点AのX座標値及びインプリント予定領域の点αのX座標値、裏面側の平坦度不良領域の点AのY座標値及びインプリント予定領域の点αのY座標値、裏面側の平坦度不良領域の点BのX座標値及びインプリント予定領域の点βのX座標値、並びに裏面側の平坦度不良領域の点BのY座標値及びインプリント予定領域の点βのY座標値をそれぞれ対比し、点A及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれXleft及びYlowと定義し、点B及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれXright及びYupと定義する(S503)。
CPU51は、Xleft及びXrightを対比し、XleftがXrightよりも小さいか否かを判断する(S504)。XleftがXrightよりも大きいと判断した場合(S504,No)、裏面側の平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS507の処理に移行する。
一方、XleftがXrightよりも小さいと判断した場合(S504,Yes)、CPU51は、Ylow及びYupを対比し、YlowがYupよりも小さいか否かを判断する(S505)。YlowがYupよりも大きいと判断した場合(S505,No)、裏面側の平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS507の処理に移行する。
一方、YlowがYupよりも小さいと判断した場合(S505,Yes)、CPU51は、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていると判定し、インプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域のうち、裏面側の平坦度不良領域と重なっている転写予定領域(重なり転写予定領域)を特定し、補助記憶部53に記憶する(S506)。
続いて、CPU51は、インプリント予定領域との重なりの有無を判定していない他の裏面側平坦度不良領域データが補助記憶部53に記憶されているか否かを判断し(S507)、他の裏面側平坦度不良領域データが記憶されていると判断した場合には(S507,Yes)、上記S503〜S506の処理を再度行い、他の平坦度不良領域データが記憶されていないと判断した場合には(S507,No)、上記S506において重なり転写予定領域が特定されているか否かを判断する(S508)。
重なり転写予定領域が特定されていないと判断した場合(S508,No)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S509)、後述するS901の処理に移行する。
一方、重なり転写予定領域が特定されていると判断した場合(S508,Yes)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、重なり転写予定領域データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S510)。
<インプリント用基板選択処理−裏面・移動>
上記S510にて各種データを関連付けて被転写候補基板DB57に格納した後、又は上記S501にて回転不可と判断された後、図19に示すように、補助記憶部53に記憶されている移動関連条件データを取得し、当該移動関連条件データに基づいて、インプリント予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S601)。
移動不可と判断した場合(S601,No)、後述の重なり判定処理(図22参照)に移行する。一方、移動可能と判断した場合(S601,Yes)、CPU51は、基板IDに基づいて基板DB55から当該基板の裏面側の転写許可領域データを取得し(S602)、当該転写許可領域の座標データとインプリント予定領域の座標データとから、インプリント予定領域の移動に際して基準となる矩形の領域(移動領域)を設定し、当該移動領域の座標データを算出して補助記憶部53に記憶する(S603)。
なお、移動領域の座標データ(矩形領域の対角に位置する点A’及び点B’の座標データ(点A’(xA',yA')、点B’(xB',yB');図3参照)は、転写許可領域の点α’’及び点β’’の座標データ、並びにインプリント予定領域の点α及び点βの座標データから、下記式(1)〜(4)により算出する。
A'=xα''−xα …(1)
A'=yα''−yα …(2)
B'=xβ''−xβ …(3)
B'=yβ''−yβ …(4)
CPU51は、インプリント予定領域の中心を通るX軸及びY軸のそれぞれに平行な補助線を移動領域内に引き、補助記憶部53に記憶されている移動距離に関するデータ(Xpitch,Ypitch)に基づいて、各補助線に平行、かつ当該移動距離ごとに離間した補助線を引き、それらの補助線の各交点及び各補助線と移動領域の最外周との交点の座標を算出して、補助記憶部53に記憶する(S604)。
次に、インプリント予定領域の中心を移動領域内の任意の一の交点に移動させたときにおけるインプリント予定領域の座標データ(点α及び点βの座標値)を算出し、補助記憶部53に記憶する(S605)。
続いて、CPU51は、補助記憶部53に記憶された平坦度データ及び移動後のインプリント予定領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点AのX座標値及びインプリント予定領域の点αのX座標値、平坦度不良領域の点AのY座標値及びインプリント予定領域の点αのY座標値、平坦度不良領域の点BのX座標値及びインプリント予定領域の点βのX座標値、並びに平坦度不良領域の点BのY座標値及びインプリント予定領域の点βのY座標値をそれぞれ対比し、点A及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれXleft及びYlowと定義し、点B及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれXright及びYupと定義する。そして、CPU51は、Xleft及びXrightを対比し、XleftがXrightよりも小さいか否かを判断する(S606)。
leftがXrightよりも大きいと判断した場合(S606,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS609の処理に移行する。
一方、XleftがXrightよりも小さいと判断した場合(S606,Yes)、CPU51は、Ylow及びYupを対比し、YlowがYupよりも小さいか否かを判断する(S607)。YlowがYupよりも大きいと判断した場合(S607,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS609の処理に移行する。
一方、YlowがYupよりも小さいと判断した場合(S607,Yes)、CPU51は、インプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域のうち、平坦度不良領域と重なっている転写予定領域(重なり転写予定領域)を特定し、補助記憶部53に記憶する(S608)。
続いて、CPU51は、インプリント予定領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域データが補助記憶部53に記憶されているか否かを判断し(S609)、他の平坦度不良領域データが記憶されていると判断した場合には(S609,Yes)、上記S606〜S608の処理を再度行い、他の平坦度不良領域データが記憶されていないと判断した場合には(S609,No)、上記S608において重なり転写予定領域が特定されているか否かを判断する(S610)。
重なり転写予定領域が特定されていないと判断した場合(S610,No)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S611)、後述するS901の処理に移行する。
一方、重なり転写予定領域が特定されていると判断した場合(S610,Yes)、CPU51は、すべての交点における重なり判定処理を行ったか否かを判断し(S612)、すべての交点における重なり判定処理を行っていないと判断した場合(S612,No)、上記S605〜S610の処理を再度行う。
一方、すべての交点における重なり判定処理を行ったと判断した場合(S612,Yes)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、重なり転写予定領域データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S613)。
<インプリント用基板選択処理−裏面・回転・移動>
上記S613にて各種データを関連付けて被転写候補基板DB57に格納した後、図20に示すように、CPU51は、補助記憶部53に記憶されているインプリント条件データを取得し、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S701)。
回転不可と判断した場合(S701,No)、次の重なり判定処理(図22参照)に移行する。一方、回転可能と判断した場合(S701,Yes)、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている平坦度データに基づいて、基板の中心を軸としてその軸周りに90度回転させたときの平坦度不良領域の点A及び点Bの座標を算出し、当該座標データ及び座標算出回数に関するデータを補助記憶部53に記憶する(S702)。
次に、CPU51は、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させたときにおける、基板上の移動領域の各交点座標(上記S603にて設定された移動領域(図3参照)を基板の中心を軸としてその軸周りに90度回転させた領域の各交点座標)を算出して、補助記憶部53に記憶する(S703)。
そして、CPU51は、インプリント予定領域の中心を任意の一の交点に移動させたときにおけるインプリント予定領域の座標データ(点α及び点βの座標値)を算出し、補助記憶部53に記憶する(S704)。
続いて、CPU51は、補助記憶部53に記憶された回転後の平坦度不良領域の座標データ及び移動後のインプリント予定領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点AのX座標値及びインプリント予定領域の点αのX座標値、平坦度不良領域の点AのY座標値及びインプリント予定領域の点αのY座標値、平坦度不良領域の点BのX座標値及びインプリント予定領域の点βのX座標値、並びに平坦度不良領域の点BのY座標値及びインプリント予定領域の点βのY座標値をそれぞれ対比し、点A及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれXleft及びYlowと定義し、点B及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれXright及びYupと定義する。そして、CPU51は、Xleft及びXrightを対比し、XleftがXrightよりも小さいか否かを判断する(S705)。
leftがXrightよりも大きいと判断した場合(S705,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS708の処理に移行する。
一方、XleftがXrightよりも小さいと判断した場合(S705,Yes)、CPU51は、Ylow及びYupを対比し、YlowがYupよりも小さいか否かを判断する(S706)。YlowがYupよりも大きいと判断した場合(S706,No)、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判定し、後述するS708の処理に移行する。
一方、YlowがYupよりも小さいと判断した場合(S706,Yes)、CPU51は、インプリント予定領域に含まれる複数の転写予定領域のうち、平坦度不良領域と重なっている転写予定領域(重なり転写予定領域)を特定し、補助記憶部53に記憶する(S707)。
続いて、CPU51は、インプリント予定領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域データが補助記憶部53に記憶されているか否かを判断し(S708)、他の平坦度不良領域データが記憶されていると判断した場合には(S708,Yes)、上記S705〜S707の処理を再度行い、他の平坦度不良領域データが記憶されていないと判断した場合には(S708,No)、上記S707において重なり転写予定領域が特定されているか否かを判断する(S709)。
重なり転写予定領域が特定されていないと判断した場合(S709,No)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S710)、後述するS901の処理に移行する。
一方、重なり転写予定領域が特定されていると判断した場合(S709,Yes)、CPU51は、すべての交点における重なり判定処理を行ったか否かを判断し(S711)、すべての交点における重なり判定処理を行っていないと判断した場合(S711,No)、上記S704〜S709の処理を再度行う。
すべての交点における重なり判定処理を行ったと判断した場合(S711,Yes)、CPU51は、基板IDと、収納場所データと、重なり転写予定領域データと、インプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S712)。
<インプリント用基板選択処理−一部移動(表面のみ)>
上記S401にて裏面使用不可と判断した後、図21に示すように、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている一部移動関連条件データを取得し、インプリント予定領域に含まれる一部の転写予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S801)。
一部移動不可と判断された場合(S801,No)、続いての処理(図24)に移行する。一方、一部移動可能と判断された場合(S801,Yes)、CPU51は、基板上の転写許可領域内であって、インプリント予定領域以外の領域に、転写予定領域と同一の大きさを有する少なくとも1つの移動予定領域からなる移動予定領域群を設定することができるか否かを判断する(S802)。具体的には、基板の中心とインプリント予定領域の中心とを一致させるようにして基板上にインプリント予定領域を設定したときに、インプリント予定領域の外周における基板上の転写許可領域内に、移動予定領域を配列可能であるか否かを判断する。
移動予定領域群の設定が不可能であると判断した場合(S802,No)、続いての処理(図24)に移行する。一方、移動予定領域の設定が可能であると判断した場合(S802,Yes)、図26に示すように、インプリント予定領域の外周における基板上の転写許可領域内に、移動予定領域群を設定し、各移動予定領域の対角に位置する二点(左下角、右上角)のX座標値及びY座標値を補助記憶部53に記憶する(S803)。
次に、CPU51は、基板上の平坦度不良領域と移動予定領域群に含まれる各移動予定領域とが重なるか否かを判断する(S804)。なお、平坦度不良領域と各移動予定領域との重なりの判定は、例えば、図13に示すS004〜S006と同様にして行うことができる。
基板上の平坦度不良領域と移動予定領域とが重なると判断した場合(S804,Yes)、移動予定領域群に含まれる各移動予定領域のうち、基板上の平坦度不良領域と重なる移動予定領域(重なり移動予定領域)を特定し(S805)、移動予定領域群に含まれる移動予定領域の数から重なり移動予定領域の数を減算し、平坦度不良領域と重ならない移動予定領域(非重なり移動予定領域)の数を算出する(S806)。そして、上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下であるか否かを判断する(S807)。
一方、基板上の平坦度不良領域と移動予定領域とが重ならないと判断した場合(S804,No)、移動予定領域群に含まれる移動予定領域の数を非重なり移動予定領域数とし、上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下であるか否かを判断する(S807)。
上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下である(重なり転写予定領域数≦非重なり移動予定領域数)と判断された場合(S807,Yes)、CPU51は、上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数の非重なり移動予定領域を任意に選択し、選択された非重なり移動予定領域を新たな転写予定領域とするとともに、上記S007にて特定された重なり転写予定領域を転写予定領域としない新たなインプリント予定領域(図27参照)に関するデータを生成し(S808)、基板IDと、収納場所データと、S808にて生成された新インプリント予定領域データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S809)、後述するS901の処理に移行する。
一方、上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数を超える(重なり転写予定領域数>非重なり移動予定領域数)と判断された場合(S807,No)、CPU51は、非重なり移動予定領域数と同数の重なり転写予定領域を任意に選択し、非重なり転写予定領域を新たな転写予定領域とするとともに、選択された重なり転写予定領域を転写予定領域としない新たなインプリント予定領域に関するデータを生成し(S810)、基板IDと、収納場所データと、選択されなかった重なり転写予定領域に関するデータ(非選択重なり転写予定領域データ)と、S810にて生成された新インプリント予定領域データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S811)。
<インプリント用基板選択処理−一部移動(表面・裏面)>
上記S601にて移動不可と判断した後、又は上記S712にて基板IDと収納場所データと重なり転写予定領域データとインプリント処理条件データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納した後、図22に示すように、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている一部移動関連条件データを取得し、インプリント予定領域に含まれる一部の転写予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する(S821)。
一部移動不可と判断された場合(S821,No)、続いての処理(図24)に移行する。一方、一部移動可能と判断された場合(S821,Yes)、CPU51は、基板上の転写許可領域内であって、インプリント予定領域以外の領域に、転写予定領域と同一の大きさを有する少なくとも1つの移動予定領域からなる移動予定領域群を設定することができるか否かを判断する(S822)。具体的には、基板の中心とインプリント予定領域の中心とを一致させるようにして基板上にインプリント予定領域を設定したときに、インプリント予定領域の外周における基板上の転写許可領域内に、移動予定領域を配列可能であるか否かを判断する。
移動予定領域群の設定が不可能であると判断した場合(S822,No)、続いての処理(図24)に移行する。一方、移動予定領域の設定が可能であると判断した場合(S822,Yes)、CPU51は、図26に示すように、インプリント予定領域の外周における基板の表面上の転写許可領域内に、移動予定領域群を設定し、各移動予定領域の対角に位置する二点(左下角、右上角)のX座標値及びY座標値を補助記憶部53に記憶する(S823)。
次に、CPU51は、基板の表面上の平坦度不良領域と移動予定領域群に含まれる各移動予定領域とが重なるか否かを判断する(S824)。なお、平坦度不良領域と各移動予定領域との重なりの判定は、例えば、図13に示すS004〜S006と同様にして行うことができる。
基板の表面上の平坦度不良領域と移動予定領域群に含まれる各移動予定領域とが重なると判断した場合(S824,Yes)、移動予定領域群に含まれる各移動予定領域のうち、基板の表面上の平坦度不良領域と重なる移動予定領域(重なり移動予定領域)を特定し(S825)、移動予定領域群に含まれる移動予定領域の数から重なり移動予定領域の数を減算し、平坦度不良領域と重ならない移動予定領域(非重なり移動予定領域)の数を算出する(S826)。そして、上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下であるか否かを判断する(S827)。
一方、基板の表面上の平坦度不良領域と移動予定領域群に含まれる各移動予定領域とが重ならないと判断した場合(S824,No)、移動予定領域群に含まれる移動予定領域の数を非重なり移動予定領域数とし、上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下であるか否かを判断する(S827)。
上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下である(重なり転写予定領域数≦非重なり移動予定領域数)と判断された場合(S827,Yes)、CPU51は、上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数の非重なり移動予定領域を任意に選択し、選択された非重なり移動予定領域を新たな転写予定領域とするとともに、上記S007にて特定された重なり転写予定領域を転写予定領域としない新たなインプリント予定領域(図27参照)に関するデータを生成し(S828)、基板IDと、収納場所データと、S828にて生成された新インプリント予定領域データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S829)、後述するS901の処理に移行する。
一方、上記S007にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数を超える(重なり転写予定領域数>非重なり移動予定領域数)と判断された場合(S827,No)、CPU51は、重なり転写予定領域数から非重なり移動予定領域数を減算して新たな重なり転写予定領域数に関するデータを補助記憶部53に記憶する(S830)。
次に、CPU51は、インプリント予定領域の外周における基板の裏面上の転写許可領域内に移動予定領域群を設定し、各移動予定領域の対角に位置する二点(左下角、右上角)のX座標値及びY座標値を補助記憶部53に記憶する(S831)。
続いて、図23に示すように、CPU51は、基板の裏面上の平坦度不良領域と移動予定領域群に含まれる各移動予定領域とが重なるか否かを判断する(S832)。なお、平坦度不良領域と各移動予定領域との重なりの判定は、例えば、図17に示すS404〜S406と同様にして行うことができる。
基板の裏面上の平坦度不良領域と移動予定領域群に含まれる各移動予定領域とが重なると判断した場合(S832,Yes)、移動予定領域群に含まれる各移動予定領域のうち、基板の表面上の平坦度不良領域と重なる移動予定領域(重なり移動予定領域)を特定し(S833)、移動予定領域群に含まれる移動予定領域の数から重なり移動予定領域の数を減算し、平坦度不良領域と重ならない移動予定領域(非重なり移動予定領域)の数を算出する(S834)。そして、上記S407にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下であるか否かを判断する(S835)。
一方、基板の裏面上の平坦度不良領域と移動予定領域群に含まれる各移動予定領域とが重ならないと判断した場合(S832,No)、移動予定領域群に含まれる移動予定領域の数を非重なり移動予定領域数とし、上記S407にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下であるか否かを判断する(S835)。
上記S407にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数以下である(重なり転写予定領域数≦非重なり移動予定領域数)と判断された場合(S835,Yes)、CPU51は、上記S407にて特定された重なり転写予定領域の数の非重なり移動予定領域を任意に選択し、選択された非重なり移動予定領域を新たな転写予定領域とするとともに、上記S407にて特定された重なり転写予定領域を転写予定領域としない新たなインプリント予定領域(図27参照)に関するデータを生成し(S828)、基板IDと、収納場所データと、S828にて生成された新インプリント予定領域データとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S829)、後述するS901の処理に移行する。
一方、上記S407にて特定された重なり転写予定領域の数が、非重なり移動予定領域数を超える(重なり転写予定領域数>非重なり移動予定領域数)と判断された場合(S835,No)、CPU51は、重なり転写予定領域数から非重なり移動予定領域数を減算して新たな重なり転写予定領域数に関するデータを補助記憶部53に記憶する(S836)。
その後、CPU51は、補助記憶部53に記憶されている表面及び裏面の新重なり転写予定領域数データに基づいて、表面の新重なり転写予定領域数が、裏面の新重なり転写予定領域数以下であるか否かを判断する(S837)。
表面の新重なり転写予定領域数が、裏面の新重なり転写予定領域数以下であると判断した場合(S837,Yes)、CPU51は、表面の非重なり移動予定領域数と同数の重なり転写予定領域を任意に選択し、当該表面の非重なり移動予定領域を新たな転写予定領域とするとともに、選択された重なり転写予定領域を転写予定領域としない新たなインプリント予定領域に関するデータを生成し(S838)、基板IDと、収納場所データと、選択されなかった重なり転写予定領域に関するデータ(非選択重なり転写予定領域データ)と、S838にて生成された表面の新インプリント予定領域データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S839)。
一方、表面の新重なり転写予定領域数が、裏面の新重なり転写予定領域数を超える場合(S837,No)、CPU51は、裏面の非重なり移動予定領域数と同数の重なり転写予定領域を任意に選択し、当該裏面の非重なり移動予定領域を新たな転写予定領域とするとともに、選択された重なり転写予定領域を転写予定領域としない新たなインプリント予定領域に関するデータを生成し(S840)、基板IDと、収納場所データと、選択されなかった重なり転写予定領域に関するデータ(非選択重なり転写予定領域データ)と、S840にて生成された裏面の新インプリント予定領域データとを関連付けて被転写候補基板DB57に格納する(S841)。
<インプリント用基板選択処理−基板選択・優先順位付与>
上述した重なり判定処理(図13〜23)において各種データを被転写基板DB56に格納した後(S003,S109,S211,S310,S403,S509,S611,S710,S809,S829)、図24に示すように、CPU51は、被転写基板DB56に格納された基板に関するデータを基板DB55から削除し(S901)、補助記憶部53に記憶されている基板枚数データに基づいて、基板枚数から1を減算する処理を行い、当該基板枚数データを更新する(S902)。また、補助記憶部53に記憶されている製造予定デバイス数データ(N個)に基づいて、当該製造予定デバイス数から一枚の基板に対する転写回数(M回,インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数)を減算する処理を行い、製造予定デバイス数データ(N−M個)を更新する(S902)。
続いて、補助記憶部53に記憶されている製造予定デバイス数データに基づいて、製造予定デバイス数が0個になったか否かを判断し(S903)、製造予定デバイス数が0個になった場合(S903,Yes)、被転写候補基板DB57に格納されている基板に関するデータをすべて削除し、インプリント用基板選択処理を終了する。
上述した重なり判定処理(図13〜23)において各種データが被転写候補基板DB57に格納された場合(S010,S110,S213,S312、S410,S510,S613,S712,S811,S839,S841)、補助記憶部53に記憶されている基板枚数データに基づいて、基板枚数から1を減算する処理を行い、当該基板枚数データを更新する(S904)。
上記S903において製造予定デバイス数が0個になっていないと判断した場合(S903,No)又は上記S904において基板枚数データを更新した後、補助記憶部53に記憶されている基板枚数データに基づいて、基板枚数が0枚になったか否かを判断する(S905)。
基板枚数が0枚になっていない(すなわち、基板DB55に上記重なり判定処理(図13〜23)を行っていない基板データが存在する)と判断した場合(S905,No)、基板DB55に格納されている一の基板の平坦度データを取得し、インプリント用基板選択処理における基板の平坦度不良領域とインプリント予定領域との重なりの有無を判定する処理を再度行う(図13〜23参照)。
一方、基板枚数が0枚になった(すなわち、基板DB55に上記重なり判定処理(図13〜23)を行っていない基板データが存在しない)と判断した場合(S905,Yes)、被転写候補基板DB57に基板に関するデータが格納されているか否かを判断する(S906)。
被転写候補基板DB57に基板に関するデータが格納されていないと判断した場合(S906,No)、インプリント用基板選択処理を終了する。一方、被転写候補基板DB57に基板に関するデータが格納されていると判断した場合(S906,Yes)、被転写候補基板DB57に格納された重なり転写予定領域数を基準として、被転写候補基板DB57に格納されている基板に関するデータをソートする(S907)。次に、当該重なり転写予定領域数の小さい順に整列した基板に対し、その順に優先順位データを付与し、当該優先順位データを基板IDと関連付けて格納する(S908)。
続いて、CPU51は、被転写候補基板DB57に格納されている基板に関するデータの中から、優先順位が最小の基板の重なり転写予定領域数に関するデータを取得するとともに、補助記憶部53に記憶されている製造予定デバイス数に関するデータを取得する(S909)。そして、CPU51は、インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数から重なり転写予定領域数を減算して転写領域数を算出し、当該転写領域数が、製造予定デバイス数以下であるか否かを判断する(S910)。
転写領域数が製造予定デバイス数以下であると判断した場合(S910,Yes)、CPU51は、当該優先順位が最小の基板に関するデータ(基板ID、収容場所データ及びインプリント処理条件データ)を被転写基板DB56に移動するとともに(S911)、当該基板に関するデータを被転写候補基板DB57及び基板DB55から削除し(S912)、製造予定デバイス数から転写領域数を減算し、補助記憶部53に記憶されている製造予定デバイス数データを更新する(S913)。
そして、CPU51は、上記S913にて更新された製造予定デバイス数が0であるか否かを判断する(S914)。更新された製造予定デバイス数が0であると判断した場合(S914,Yes)、CPU51は、被転写候補基板DB57に格納されている基板に関するデータをすべて削除し、インプリント用基板選択処理を終了する。
一方、更新された製造予定数が0でないと判断した場合(S914,No)、CPU51は、被転写候補基板DB57に基板に関するデータが格納されているか否かを判断し(S915)、被転写候補基板DB57に基板に関するデータが格納されていると判断した場合(S915,Yes)、上記S909以降の処理を行い、被転写候補基板DB57に基板に関するデータが格納されていないと判断した場合(S915,No)、インプリント用基板選択処理を終了する。
転写領域数が製造予定デバイス数よりも大きいと判断した場合(S910,No)、CPU51は、製造予定デバイス数と同数の転写領域を有するインプリント領域に関するデータを生成する(S916)。
当該インプリント領域は、例えば、当初のインプリント予定領域が図3に示すように10行×10列であって、その左上から右下に向かって転写位置を変えながら転写されるものである場合、製造予定デバイス数が80個であるのに対し基板上の平坦度不良領域と重ならない転写予定領域が90個であれば、それらの差分(10個)をインプリント予定領域の右下から順に減じた領域をインプリント領域として設定することができる。
上記S916にてインプリント領域に関するデータを生成した後、CPU51は、当該インプリント領域に関するデータと、当該基板に関するデータとを関連付けて被転写基板DB56に格納し(S917)、その後、被転写候補基板DB57に格納されている基板に関するデータをすべて削除し(S918)、インプリント用基板選択処理を終了する。
<インプリント処理>
続いて、インプリント用基板選択処理により選択された基板の搬送処理及び当該基板に対するインプリント処理を行う。
図25に示すように、制御装置5(CPU51)は、被転写基板DB56に格納された基板に関するデータの中から当該被転写基板DB56に最初に格納されたデータを取得し(SC101)、当該基板に関するデータを、通信部54を介して基板搬送装置4に送信する(SC102)。基板搬送装置4は、制御装置5から送信された当該基板に関するデータを受信し(ST101)、当該基板の収納場所データに基づいて、選択された基板を基板収納部2から取り出し(ST102)、当該基板をインプリント装置3に搬送し、インプリント装置3の基板ステージに載置する(ST103)。基板搬送装置4は、基板の搬送・載置処理が完了したら、搬送・載置処理が完了した旨の信号を制御装置5に送信する(ST104)。
制御装置5は、基板搬送装置4から送信された当該信号を受信し(SC103)、上記SC102において基板搬送装置4に送信した基板に関するデータをインプリント装置3に送信する(SC104)。
基板搬送装置4により基板が搬送・載置されたインプリント装置3は、制御装置5から送信された当該基板に関するデータを受信し(SI101)、当該基板のインプリント処理条件データに基づいて、インプリント処理を行う(SI102)。例えば、インプリント処理条件データに、基板を回転させた状態で表面に転写するという内容のデータが含まれている場合、インプリント装置3は、基板搬送装置4により基板が載置された基板ステージを回転させた後、基板の所定の位置に樹脂(例えば、エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等のインプリント処理に用いられ得る樹脂)を塗布し、インプリント用モールドを押し付けることにより当該樹脂を押し広げ、インプリント用モールドの凹凸パターンを当該樹脂に転写する。そして、当該樹脂を硬化させた後に、インプリント用モールドを剥がし、インプリント予定領域の他のすべての転写予定領域にインプリント処理を行う。すべての転写予定領域に対するインプリント処理が終了した後、インプリント装置3は、制御装置5にインプリント処理が終了した旨の信号を送信し(SI103)、制御装置5は、当該信号を受信する(SC105)。当該信号を受信した制御装置5は、被転写基板DB56に格納されている次の基板に関するデータを取得し、基板搬送装置4に送信する。このようにして、被転写基板DB56にデータが格納されている全基板に対するインプリント処理を繰り返し行う。
上述したように、本実施形態に係るインプリントシステム1においては、インプリント用基板選択処理により選択された基板の表面又は裏面の平坦度が良好な部分にのみインプリント用モールドの凹凸パターンが転写され、基板の表面又は裏面の平坦度が不良の部分には転写されないため、当該基板上に塗布された樹脂を、インプリント用モールドの押し付けにより押し広げる際に、当該樹脂の広がりが停滞するのを防止することができるとともに、インプリント用モールドにかかる圧力を略均一にすることができる。その結果、樹脂の広がりにムラが生じたり、モールド凹部への樹脂の充填不良が生じたりするのを防止することができる。したがって、基板への高精度な転写が可能となり、転写された凹凸パターンの高さが基板内でばらつく等の転写欠陥が生じるのを防止することができ、その結果として、インプリント処理のスループットを向上させることができる。
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
上記実施形態においては、基板の平坦度データとして平坦度不良領域の座標データが基板DB55に格納されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、平坦度の良好な領域(所定の平坦度測定装置を用いて基板の表面(又は裏面)の平坦度を測定・解析したときにおける所定の平坦度(例えば、10nm未満)の領域)の座標データが基板データベース55に格納されていてもよいし、平坦度の最悪な領域(所定の平坦度測定装置を用いて基板の被転写面(又は裏面)の平坦度を測定・解析したときにおける所定の平坦度(例えば、10nm以上)の領域)の座標データと平坦度の好ましくない領域(所定の平坦度測定装置を用いて基板の被転写面(又は裏面)の平坦度を測定・解析したときにおける所定の平坦度(例えば、5nm以上10nm未満)の領域)の座標データとが基板データベース55に格納されていてもよい。前者の場合、転写予定領域が平坦度の良好な領域内に含まれているか否かを判断し、含まれていると判断された基板をインプリント処理に適した基板として選択すればよい。また、後者の場合、平坦度の最悪な領域とインプリント予定領域とが重なっているか否かを判断するとともに、平坦度の好ましくない領域とインプリント予定領域とが重なっているか否かを判断し、いずれも重なっていないと判断された基板をインプリント処理に適した基板として選択するようにしてもよいし、平坦度の好ましくない領域とインプリント予定領域とは重なっているが、平坦度の最悪な領域とインプリント予定領域とが重なっていないと判断された基板もインプリント処理に適した基板として選択するようにしてもよい。
上記実施形態においては、基板の形状が矩形状のものを例示して説明したが(図3参照)、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、図28に示すように、円形の基板であってもよい。この場合において、図28に示すように、インプリント予定領域を多角形の領域として設定したときには、インプリント予定領域と平坦度不良領域との重なりを判定するにあたり、インプリント予定領域を複数の矩形領域に分割し、各矩形領域と平坦度不良領域との重なりの有無を判定すればよい。
上記実施形態においては、平坦度不良領域を矩形の枠で囲んだ領域として規定しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、平坦度不良領域を円形又は楕円形の枠で囲んだ領域として規定してもよいし、多角形の枠で囲んだ領域として規定してもよい。前者の場合、円形又は楕円形により表される平坦度不良領域を数式にて定義し、インプリント予定領域を表す点α及び点βの座標データを当該数式に代入して点α及び点βのいずれかが平坦度不良領域内に位置するか否かを判定することにより、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっているか否かを判断すればよい。また、後者の場合、多角形により表される平坦度不良領域を分割して複数の矩形により規定した上で、各矩形により表される平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重なっているか否かを判断すればよい。
上記実施形態においては、インプリント用基板選択処理が終了した後にインプリント処理が行われるが、本発明はこれに限定されるものではなく、インプリント用基板選択処理と平行してインプリント処理が行われてもよい。この場合において、被転写基板データベース57に基板に関するデータが格納されたときに、それを引き金としてインプリント処理を開始するようにすればよい。
上記実施形態においては、インプリント処理条件データをインプリント装置3に送信し、当該インプリント処理条件データに基づいてインプリント装置3の基板ステージに載置された基板を回転させているが、本発明はこれに限定されるものではなく、基板を予め回転させた上で、インプリント装置3の基板ステージに基板を載置してもよい。この場合において、制御装置5は、基板搬送装置4にインプリント処理条件データを送信し、そのデータに基づいて、基板搬送装置4は基板収納部2から取り出した基板を予め回転させてインプリント装置3の基板ステージに載置すればよく、インプリント装置3は、基板ステージやインプリント用モールドを保持する保持部を回転させることなくインプリント処理を行えばよい。
上記実施形態においては、インプリント予定領域と平坦度不良領域とが重なるか否かについて、基板の表面における通常転写位置にて判定した後(図13参照)、インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態にて判定し(図14参照)、インプリント予定領域を基板に対して相対的に移動させた状態にて判定し(図15参照)、次にインプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させた状態にて移動させて判定し(図16参照)、その後基板の裏面に関しても同様の順序にて判定しているが(図17〜20参照)、本発明における両領域が重なるか否かの判定処理の順序は、この態様に限定されるものではない。また、重なり判定処理(図13〜20)のすべてを行わなくてもよく、2以上の重なり判定処理を任意に組み合わせて行うこともできるが、少なくとも基板の表面の通常転写位置における重なり判定処理(図13)を行うのが望ましい。
上記実施形態においては、インプリント予定領域に多数(例えば、図3に示すように100個(10行×10列))の転写予定領域が含まれているが、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、インプリント用モールドの凹凸形状が、転写位置を変えて一の基板に少なくとも2回転写されるインプリントシステムである限り適用することができる。
上記実施形態においては、平坦度不良領域と重ならない転写予定領域の数に応じて優先順位が付与された基板(基板データ)の中から一の基板を選択する際に、当該選択基板における転写予定領域数が、残りの製造予定デバイス数よりも大きいときに、選択された基板において新たなインプリント領域(残りの製造予定デバイス数と同数の転写領域を有する領域)を設定し、インプリント処理に付しているが、本発明はこのような態様に限定されるものではない。例えば、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重ならない基板をすべて選択した後に、更新された製造予定デバイス数が0でない場合に、当該製造予定デバイス数と、被転写候補基板DB57に格納されている各基板データにおける平坦度不良領域と重ならない転写予定領域数とに基づいて、被転写候補基板DB57に格納されている基板データを選択するようにしてもよい。具体的には、平坦度不良領域とインプリント予定領域とが重ならない基板をすべて選択した後に、更新された製造予定デバイス数が200個であって、平坦度不良領域と重ならない転写予定領域数(製造可能デバイス数)が、98個、97個、80個、70個、52個である基板データが被転写候補基板DB57に格納されている場合、当該製造可能デバイス数が80個、70個及び52個の基板を選択し、インプリント処理に付するようにしてもよい。製造可能デバイス数の大きい基板から優先的に選択するとなると、上記の例であれば、製造可能デバイス数98個、97個及び80個の基板を選択することになる。しかし、このようにして選択すると、最後に選択される基板からは、80個のデバイスが製造可能であるにもかかわらず、75個のデバイスは不要となり、基板を無駄にしてしまう。しかしながら、上記のような態様とすることで、2個のデバイスのみが不要となるため、より無駄のないように基板を選択することができる。
上記実施形態においては、平坦度不良領域と重ならない転写予定領域の数に応じて優先順位が付与された基板(基板データ)の中から一の基板を選択する際に、当該選択基板における転写予定領域数が、残りの製造予定デバイス数よりも大きいときに、無駄なデバイスを製造しないように、選択された基板において新たなインプリント領域(残りの製造予定デバイス数と同数の転写領域を有する領域)を設定しているが、本発明はこのような態様に限定されるものではない。例えば、被転写候補基板DB57に格納された基板(基板データ)の中から一の基板を選択する際に、当該選択基板における転写予定領域数が、残りの製造予定デバイス数よりも大きいときであっても、当該選択基板における転写予定領域のすべてにインプリント用モールドの凹凸形状を転写してもよい。
上記実施形態において、各重なり判定処理(図13〜20)が終了した後に、一部の転写予定領域(平坦度不良領域と重なる転写予定領域)を基板に対して相対的に移動させて、インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能であるか否かを判断しているが(図21〜23参照)、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、例えば、基板の表面についての重なり判定処理(図13〜16)の終了後に、当該表面について一部の転写予定領域を基板に対して相対的に移動させて、インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能であるか否かを判断し、その後基板の裏面についての重なり判定処理(図17〜20)を行い、最後に基板の裏面について一部の転写予定領域を基板に対して相対的に移動させて、インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能であるか否かを判断してもよい。また、半導体チップの製造等の場合、基板上に隙間なく転写予定領域を敷き詰めてなるインプリント予定領域を設定してインプリント処理を行うのが通常である。そのため、当該インプリント予定領域を基板に対して相対的に回転させたり、移動させたりしても(図14〜16、図18〜20参照)、インプリント予定領域と転写予定領域とが重ならないようにすることは困難であると考えられる。よって、このような場合には、基板の表面及び裏面における通常転写位置での重なり判定処理(図13及び図17)と、当該基板の表面及び所望により裏面において、一部の転写予定領域(平坦度不良領域と重なる転写予定領域)を基板に対して相対的に移動させて、インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能であるか否かを判断する処理(図21〜23)とを行い、図14〜16及び図18〜20に示す重なり判定処理を行わなくてもよい。
上記実施形態において、平坦度不良領域と重なる転写予定領域のみを基板に対して相対的に移動させたときに、インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能であるか否かを判断しているが(図21〜23参照)、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、例えば、平坦度不良領域と重なる転写予定領域を含む1行(1列)又は2行(2列)以上の転写予定領域を基板に対して相対的に移動させたときに、インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能であるか否かを判断してもよい。
上記実施形態においては、予め生成したインプリント条件データに基づいて、図14〜23に示す各重なり判定処理を行うことができるか否かをそれぞれ判断しているが(S101,S201,S301,S401,S501,S601,S701,S801,S821)、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、当該インプリント条件データに基づいて、1以上の重なり判定処理を含む処理フローデータを予め生成し、当該処理フローデータに基づいて重なり判定処理を行ってもよい。例えば、図8(図9〜12)に示すインプリント条件データ生成処理において、「回転不可」との回転関連条件データ、「移動可」との移動関連条件データ、「裏面不可」との裏面関連条件データ及び「一部移動可」との一部移動関連条件データが生成された場合、「(1)表面の通常転写位置における重なり判定処理(図13参照)、(2)表面の移動における重なり判定処理(図15参照)、(3)表面の一部移動における重なり判定処理(図21参照)」というデータ内容を含む処理フローデータを生成し、当該処理フローデータに基づいてインプリント予定領域と辺端度不良領域との重なり判定等を行うことができる。
本発明のインプリント用基板選択システムは、半導体製品等の製造過程におけるインプリント処理に適用することができる。
1,10…インプリントシステム
2…基板収納部
3…インプリント装置
4…基板搬送装置
5…制御装置

Claims (37)

  1. インプリント用モールドの凹凸形状の転写位置を変えながら複数回転写するための基板を複数の基板の中から選択するシステムであって、
    前記複数の基板を収納する基板収納部と、
    前記基板収納部に収納された複数の基板の中から前記転写に適した基板を選択するための制御装置と
    を備え、
    前記制御装置は、前記基板収納部に収納された各基板の一方面の平坦度に関する平坦度データ及び前記基板収納部に収納された複数の基板のそれぞれに関する基板固有データを関連付けて記憶する基板関連データ記憶部と、
    前記インプリント用モールドの凹凸形状が転写される転写予定領域が複数配列されてなるインプリント予定領域に関するインプリント予定領域データ及び前記平坦度データに基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板を前記転写に適した基板として選択する第1の基板選択部と
    を有することを特徴とするインプリント用基板選択システム。
  2. 前記平坦度データには、前記基板収納部に収納された基板の一方面の平坦度が不良である領域に関する平坦度不良領域データが含まれ、
    前記制御装置は、前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する重なり判定部をさらに有し、
    前記第1の基板選択部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択することを特徴とする請求項1に記載のインプリント用基板選択システム。
  3. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部をさらに有し、
    前記重なり判定部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記回転可否データ、前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、
    前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択することを特徴とする請求項2に記載のインプリント用基板選択システム。
  4. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部をさらに有し、
    前記重なり判定部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記移動可否データ、前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、
    前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択することを特徴とする請求項2又は3に記載のインプリント用基板選択システム。
  5. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部と、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部とをさらに有し、
    前記重なり判定部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記回転可否データ、前記移動可否データ、前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、
    前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択することを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載のインプリント用基板選択システム。
  6. 前記制御装置は、前記基板の他方面への転写が可能であるか否かに関する他方面転写可否データを記憶する他方面転写可否データ記憶部をさらに有し、
    前記平坦度不良領域データには、前記基板の他方面の平坦度不良領域に関する他方面平坦度不良領域データが含まれ、
    前記重なり判定部は、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記他方面転写可否データ、前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、
    前記第1の基板選択部は、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択することを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載のインプリント用基板選択システム。
  7. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部をさらに有し、
    前記重なり判定部は、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記回転可否データ、前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、
    前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択することを特徴とする請求項6に記載のインプリント用基板選択システム。
  8. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部をさらに有し、
    前記重なり判定部は、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記移動可否データ、前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、
    前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択することを特徴とする請求項6又は7に記載のインプリント用基板選択システム。
  9. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部と、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部とをさらに有し、
    前記重なり判定部は、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定した場合に、前記回転可否データ、前記移動可否データ、前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かをさらに判定し、
    前記第1の基板選択部は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと前記重なり判定部により判定された基板を選択することを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載のインプリント用基板選択システム。
  10. 前記制御装置は、
    前記複数の転写予定領域の一部を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する一部移動可否データを記憶する一部移動可否データ記憶部と、
    前記一部移動可否データに基づいて、前記基板上における前記インプリント予定領域以外の領域に、前記転写予定領域と同一の大きさを有する領域であって、前記複数の転写予定領域の一部を移動させ得る移動予定領域を少なくとも1つ含む移動予定領域群を設定する移動予定領域群設定部と、
    前記移動予定領域群に含まれる移動予定領域のうち、前記重なり判定部により前記インプリント予定領域に重なると判定された前記平坦度不良領域以外の平坦度不良領域と重ならない移動予定領域の数を算出する移動予定領域数算出部と、
    前記重なり判定部により前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、当該平坦度不良領域に重なる前記転写予定領域を特定する重なり転写予定領域特定部と
    をさらに有し、
    前記第1の基板選択部は、前記重なり転写予定領域特定部により特定された前記転写予定領域の数が、前記移動予定領域数算出部により算出された移動予定領域数以下である基板を選択することを特徴とする請求項2〜9のいずれかに記載のインプリント用基板選択システム。
  11. 前記制御装置は、
    前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域のうち、前記平坦度不良領域と重なる転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出部と、
    前記重なり転写予定領域数算出部により算出された前記重なり転写予定領域数に応じて優先順位データを生成する優先順位データ生成部と、
    前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数に関するデータを記憶する製造予定デバイス数データ記憶部と、
    前記基板収納部に収納されたすべての基板の中から前記第1の基板選択部により選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記製造予定デバイス数未満であるときに、前記優先順位データに基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択部と
    をさらに有することを特徴とする請求項2〜10のいずれかに記載のインプリント用基板選択システム。
  12. 前記制御装置は、
    前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域のうち、前記平坦度不良領域と重なる転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出部と、
    前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数に関するデータを記憶する製造予定デバイス数データ記憶部と、
    前記基板収納部に収納されたすべての基板の中から前記第1の基板選択部により選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記製造予定デバイス数未満であるときに、前記基板枚数と前記転写予定領域数との積及び前記製造予定デバイス数の差分、並びに前記重なり転写予定領域数算出部により算出された前記重なり転写予定領域数に基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択部と
    をさらに有することを特徴とする請求項2〜10のいずれかに記載のインプリント用基板選択システム。
  13. インプリント用モールドの凹凸形状の転写位置を変えながら複数回転写するための基板を複数の基板の中から選択する制御装置において実行されるインプリント用基板選択プログラムであって、
    前記制御装置は、前記基板の一方面の平坦度が不良である領域に関する平坦度不良領域データを記憶する基板関連データ記憶部と、前記インプリント用モールドの凹凸形状が転写される転写予定領域が複数配列されてなるインプリント予定領域に関するデータを記憶するインプリント予定領域データ記憶部とを備え、
    前記基板関連データ記憶部から読み出された前記平坦度不良領域データと、前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出された前記インプリント予定領域データとに基づいて、前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第1の重なり判定ステップと、
    前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板を選択する第1の基板選択ステップと
    を前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第1の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とするインプリント用基板選択プログラム。
  14. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部をさらに備え、
    前記第1の重なり判定ステップにより前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記回転可否データ記憶部から読み出された回転可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出された前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第2の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第2の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項13に記載のインプリント用基板選択プログラム。
  15. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部をさらに有し、
    前記第1の重なり判定ステップにより前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記移動可否データ記憶部から読み出された移動可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された前記平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出された前記インプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第3の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第3の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項13又は14に記載のインプリント用基板選択プログラム。
  16. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部と、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部とをさらに有し、
    前記第1の重なり判定ステップにより前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記回転可否データ記憶部から読み出された回転可否データ、前記移動可否データ記憶部から読み出された移動可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出されたインプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第4の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第4の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項13〜15のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラム。
  17. 前記制御装置は、前記基板の他方面への転写が可能であるか否かに関する他方面転写可否データを記憶する他方面転写可否データ記憶部をさらに有し、
    前記平坦度不良領域データには、前記基板の他方面の平坦度不良領域に関する他方面平坦度不良領域データが含まれ、
    前記第1の重なり判定ステップにより前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記他方面転写可否データ記憶部から読み出された他方面転写可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された前記他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出された前記インプリント予定領域データに基づいて、前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第5の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第5の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項13〜16のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラム。
  18. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部をさらに備え、
    前記第5の重なり判定ステップにより前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記回転可否データ記憶部から読み出された回転可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出されたインプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第6の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第6の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項17に記載のインプリント用基板選択プログラム。
  19. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部をさらに有し、
    前記第5の重なり判定ステップにより前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記移動可否データ記憶部から読み出された移動可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出されたインプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第7の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第7の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項17又は18に記載のインプリント用基板選択プログラム。
  20. 前記制御装置は、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能であるか否かに関する回転可否データを記憶する回転可否データ記憶部と、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する移動可否データを記憶する移動可否データ記憶部とをさらに有し、
    前記第5の重なり判定ステップにより前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記回転可否データ記憶部から読み出された回転可否データ、前記移動可否データ記憶部から読み出された移動可否データ、前記基板関連データ記憶部から読み出された他方面平坦度不良領域データ及び前記インプリント予定領域データ記憶部から読み出されたインプリント予定領域データに基づいて、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第8の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記第8の重なり判定ステップにより前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項17〜19のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラム。
  21. 前記制御装置は、前記複数の転写予定領域の一部を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能であるか否かに関する一部移動可否データを記憶する一部移動可否データ記憶部をさらに有し、
    前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記一部移動可否データに基づいて、前記基板上における前記インプリント予定領域以外の領域に、前記転写予定領域と同一の大きさを有する領域であって、前記複数の転写予定領域の一部を移動させ得る移動予定領域を少なくとも1つ含む移動予定領域群を設定する移動予定領域群設定ステップと、
    前記移動予定領域群に含まれる移動予定領域のうち、前記インプリント予定領域に重なると判定された前記平坦度不良領域以外の平坦度不良領域と重ならない移動予定領域の数を算出する移動予定領域数算出ステップと、
    前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、当該平坦度不良領域に重なる前記転写予定領域を特定する重なり転写予定領域特定ステップと
    を前記制御装置に実行させ、
    前記第1の基板選択ステップにおいて、前記重なり転写予定領域特定ステップにより特定された前記転写予定領域の数が、前記移動予定領域数算出ステップにより算出された移動予定領域数以下である基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項13〜20のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラム。
  22. 前記制御装置は、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数に関するデータを記憶する製造予定デバイス数データ記憶部をさらに有し、
    前記第1の基板選択ステップにより前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板が選択されなかった場合に、前記平坦度不良領域と重なる前記転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出ステップと、
    前記重なり転写予定領域数算出ステップにより算出された前記転写予定領域の個数に応じて優先順位データを生成する優先順位データ生成ステップと、
    前記第1の基板選択ステップにより選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記製造予定デバイス数未満であるときに、前記優先順位データ生成ステップにより生成された優先順位データに基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択ステップと
    を前記制御装置に実行させることを特徴とする請求項13〜21のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラム。
  23. 前記制御装置は、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数に関するデータを記憶する製造予定デバイス数データ記憶部をさらに有し、
    前記第1の基板選択ステップにより前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板が選択されなかった場合に、前記平坦度不良領域と重なる前記転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出ステップと、
    前記第1の基板選択ステップにより選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記製造予定デバイス数未満であるときに、前記基板枚数と前記転写予定領域数との積及び前記製造予定デバイス数の差分、並びに前記重なり転写予定領域数算出ステップにより算出された前記重なり転写予定領域数に基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択ステップと
    を前記制御装置に実行させることを特徴とする請求項13〜21のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラム。
  24. 請求項13〜23のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラムを格納した記録媒体。
  25. 請求項1〜12のいずれかに記載のインプリント用基板選択システムと、
    前記インプリント用基板選択システムにより選択された基板に対し、インプリント用モールドの凹凸形状を、転写位置を変えながら複数回転写するインプリント装置と
    を備え、
    前記制御装置は、前記平坦度データと前記インプリント予定領域データとに基づいて、前記インプリント用モールドの凹凸形状を転写する前記選択された基板上の領域を設定するインプリント領域設定部をさらに有し、前記インプリント領域設定部により設定されたインプリント領域に転写位置を変えながら前記インプリント用モールドの凹凸形状が複数回転写されるように、前記インプリント装置を制御することを特徴とするインプリントシステム。
  26. 転写位置を変えながらインプリント用モールドの凹凸形状を複数回転写するための基板を複数の基板の中から選択する方法であって、
    前記基板の一方面の平坦度が不良である領域と前記インプリント用モールドの凹凸形状が転写される転写予定領域が複数配列されてなるインプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第1の重なり判定工程と、
    前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板を選択する第1の基板選択工程と
    を含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記第1の重なり判定工程により前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とするインプリント用基板選択方法。
  27. 前記第1の重なり判定工程において前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第2の重なり判定工程をさらに含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記第2の重なり判定工程により前記基板と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項26に記載のインプリント用基板選択方法。
  28. 前記第1の重なり判定工程において前記基板の一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第3の重なり判定工程をさらに含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記第3の重なり判定工程により前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項26又は27に記載のインプリント用基板選択方法。
  29. 前記第1の重なり判定工程において前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第4の重なり判定工程をさらに含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記第4の重なり判定工程により前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項26〜28のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法。
  30. 前記第1の重なり判定工程において前記一方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記基板の他方面を用いた転写が可能である場合に、前記基板の他方面側の平坦度不良領域と前記複数の転写予定領域のそれぞれとが重なるか否かを判定する第5の重なり判定工程をさらに含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記第5の重なり判定工程により前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項26〜30のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法。
  31. 前記第5の重なり判定工程において前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第6の重なり判定工程をさらに含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記第6の重なり判定工程により前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項30に記載のインプリント用基板選択方法。
  32. 前記第5の重なり判定工程において前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、かつ前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動した状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第7の重なり判定工程をさらに含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記第7の重なり判定工程により前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項30又は31に記載のインプリント用基板選択方法。
  33. 前記第5の重なり判定工程において前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定され、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させた状態での転写が可能である場合に、前記インプリント予定領域を前記基板に対して相対的に回転させ、かつ移動させたときに前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なるか否かを判定する第8の重なり判定工程をさらに含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記第8の重なり判定工程により前記他方面の平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項30〜32のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法。
  34. 前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、前記一部移動可否データに基づいて、前記基板上における前記インプリント予定領域以外の領域に、前記転写予定領域と同一の大きさを有する領域であって、前記複数の転写予定領域の一部を移動させ得る移動予定領域を少なくとも1つ含む移動予定領域群を設定する移動予定領域群設定工程と、
    前記移動予定領域群に含まれる移動予定領域のうち、前記インプリント予定領域に重なると判定された前記平坦度不良領域以外の平坦度不良領域と重ならない移動予定領域の数を算出する移動予定領域数算出工程と、
    前記平坦度不良領域と前記インプリント予定領域とが重なると判定された場合に、当該平坦度不良領域に重なる前記転写予定領域を特定する重なり転写予定領域特定工程と
    を含み、
    前記第1の基板選択工程において、前記重なり転写予定領域特定工程により特定された前記転写予定領域の数が、前記移動予定領域数算出工程により算出された移動予定領域数以下である基板を、前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板として選択することを特徴とする請求項26〜33のいずれかに記載の基板選択方法。
  35. 前記第1の基板選択工程により前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板が選択されなかった場合に、前記平坦度不良領域と重なる前記転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出工程と、
    前記重なり転写予定領域数算出工程により算出された前記転写予定領域の個数に基づいて優先順位を付与する優先順位付与工程と、
    前記複数の基板の中から前記第1の基板選択工程により選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数未満であるときに、前記優先順位付与工程により付与された優先順位に基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択工程と
    をさらに含むことを特徴とする請求項26〜34のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法。
  36. 前記第1の基板選択工程により前記インプリント予定領域に含まれる前記転写予定領域数と同回数の転写が可能な基板が選択されなかった場合に、前記平坦度不良領域と重なる前記転写予定領域の個数を算出する重なり転写予定領域数算出工程と、
    前記複数の基板の中から前記第1の基板選択工程により選択された基板の枚数と前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数との積が、前記インプリント用モールドの凹凸形状の転写により製造されるデバイスの製造予定数未満であるときに、前記基板枚数と前記転写予定領域数との積及び前記製造予定デバイス数の差分、並びに前記重なり転写予定領域数算出工程により算出された前記重なり転写予定領域数に基づいて、前記インプリント予定領域に含まれる転写予定領域数と同回数の転写が不可能な基板の中から一の基板を選択する第2の基板選択工程と
    をさらに含むことを特徴とする請求項26〜34のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法。
  37. 請求項26〜36のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法により選択された基板上における、前記インプリント用モールドの凹凸形状を転写する領域を設定するインプリント領域設定工程と、
    インプリント装置を用いて、前記選択された基板に対しインプリント用モールドの凹凸形状を前記インプリント領域に転写位置を変えながら複数回転写する転写工程と
    を含むことを特徴とするインプリント方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015166623A1 (ja) * 2014-05-01 2015-11-05 信越半導体株式会社 ウエハのそりの評価方法及びウエハの選別方法
JP2017117958A (ja) * 2015-12-24 2017-06-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、情報処理装置および物品製造方法
US10241397B2 (en) 2014-07-11 2019-03-26 Toshiba Memory Corporation Imprint apparatus and imprint method

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003050458A (ja) * 2001-05-31 2003-02-21 Toshiba Corp 露光マスクの製造方法、マスク基板情報生成方法、半導体装置の製造方法、マスク基板、露光マスクおよびサーバー
JP2004029736A (ja) * 2002-03-29 2004-01-29 Hoya Corp 電子デバイス用基板の平坦度決定方法および製造方法、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法
JP2007115784A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Nikon Corp 露光システム、露光方法、及びデバイス製造工場
JP2010069762A (ja) * 2008-09-19 2010-04-02 Toshiba Corp パターン形成方法
JP2010087188A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Toshiba Corp 転写原版の製造方法、及び半導体装置の製造方法
JP2012253112A (ja) * 2011-06-01 2012-12-20 Dainippon Printing Co Ltd インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003050458A (ja) * 2001-05-31 2003-02-21 Toshiba Corp 露光マスクの製造方法、マスク基板情報生成方法、半導体装置の製造方法、マスク基板、露光マスクおよびサーバー
JP2004029736A (ja) * 2002-03-29 2004-01-29 Hoya Corp 電子デバイス用基板の平坦度決定方法および製造方法、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法
JP2007115784A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Nikon Corp 露光システム、露光方法、及びデバイス製造工場
JP2010069762A (ja) * 2008-09-19 2010-04-02 Toshiba Corp パターン形成方法
JP2010087188A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Toshiba Corp 転写原版の製造方法、及び半導体装置の製造方法
JP2012253112A (ja) * 2011-06-01 2012-12-20 Dainippon Printing Co Ltd インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015166623A1 (ja) * 2014-05-01 2015-11-05 信越半導体株式会社 ウエハのそりの評価方法及びウエハの選別方法
JP2015213099A (ja) * 2014-05-01 2015-11-26 信越半導体株式会社 ウエハのそりの評価方法及びウエハの選別方法
US10345102B2 (en) 2014-05-01 2019-07-09 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Method for evaluating warpage of wafer and method for sorting wafer
US10241397B2 (en) 2014-07-11 2019-03-26 Toshiba Memory Corporation Imprint apparatus and imprint method
JP2017117958A (ja) * 2015-12-24 2017-06-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、情報処理装置および物品製造方法

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