JP2012253112A - インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法 - Google Patents

Abstract

【課題】インプリント装置における高精度な転写処理が可能なインプリント用基板を選択するシステム及びその方法を提供する。
【解決手段】インプリント用基板選択システムは、インプリント装置にてインプリント用モールドの凹凸形状の転写対象たる基板を複数収納する基板収納部と、基板収納部に収納された複数の基板の中からインプリント装置における転写に適した一の基板を選択するための制御装置とを備え、制御装置は、基板収納部に収納された基板の一の面の平坦度に関する平坦度情報及び基板収納部に収納された各基板に関する基板固有情報を対応付けて記憶する基板関連情報記憶手段と、インプリント用モールドにおける凹凸形状形成領域を含む転写領域に関する情報を記憶する転写領域情報記憶手段と、平坦度情報及び転写領域情報に基づいて、インプリント装置における転写に適した一の基板を選択する基板選択手段とを有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法に関する。

近年、半導体デバイス等の製造工程における微細加工技術として、非常に微細な構造を形成可能であり、かつ低コストのパターン形成方法であるインプリント法に注目が集まっている。インプリント法は、シリコンウェハ、ガラスプレート等の基板上に樹脂を離散的に滴下し、又はスピンコート法等により塗布し、基材の表面に微細な凹凸パターンを形成してなるモールドを基板上に塗布した樹脂に押し付け、当該樹脂を硬化させた後にモールドを剥離することで、基板上の樹脂にモールドの凹凸パターンを等倍転写するパターン形成方法である（特許文献１参照）。

米国特許第５，７７２，９０５号

このようなインプリント法において用いられる基板は、少なくともその一の面（被転写面）が研磨されているため、被転写面の平坦度は良好なものであるが、部分的に平坦度の不良な領域（キズや異物の付着により微細な凹凸を有する領域を含む。）が存在するものもある。例えば、モールドを押し付けることにより基板上に離散的に滴下された樹脂を押し広げながら当該樹脂に凹凸パターンを転写する場合に、かかる平坦度の不良な領域と、モールドの凹凸パターンを転写しようとする領域とが重なると、平坦度の不良な領域において樹脂の広がりが停滞したり、モールドにかかる圧力が不均一になり樹脂の広がりにムラが生じたりする。そのため、モールドを押し付ける樹脂に厚みムラやモールドの凹部への樹脂の充填不良が発生してしまい、転写された凹凸パターンの高さが基板内でばらつく等の転写欠陥が生じてしまい、その結果として、インプリント処理のスループットを低下させてしまうという問題がある。すなわち、基板の被転写面の平坦度は、インプリント法においてモールドの凹凸パターンを高精度に転写するための重要なファクターの一つということができる。

その一方で、基板上に凹凸パターンを高精度に転写するために、被転写面の一部に平坦度の不良な領域が存在するような基板を使用せず、被転写面の全面に亘って平坦度の良好な基板のみをインプリント処理に適する基板として選択し、使用すると、使用されない基板が無駄になり、その結果として半導体デバイス等の製造コストが上昇してしまうという問題がある。

本発明は、上述のような実情に鑑みてなされたものであり、インプリント装置における高精度な転写処理が可能であり、一部に平坦度の不良な領域が存在する基板であっても当該基板を有効活用することのできるインプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択方法、インプリント用基板選択プログラム、並びにそれらにより選択された基板を用いたインプリントシステム及びその方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、第一に本発明は、インプリント装置にてインプリント用モールドの凹凸形状を転写する対象となる基板を複数収納する基板収納部と、前記基板収納部に収納された複数の基板の中から前記インプリント装置における転写に適した一の基板を選択するための制御装置とを備え、前記制御装置は、前記基板収納部に収納された基板の一の面の平坦度に関する平坦度情報及び前記基板収納部に収納された各基板に関する基板固有情報を対応付けて記憶する基板関連情報記憶手段と、前記インプリント用モールドにおける前記凹凸形状が形成されている領域を含む転写領域に関する情報を記憶する転写領域情報記憶手段と、前記平坦度情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記インプリント装置における転写に適した一の基板を選択する基板選択手段とを有することを特徴とするインプリント用基板選択システムを提供する（発明１）。

上記発明（発明１）においては、前記平坦度情報には、前記基板収納部に収納された基板の一の面の平坦度が不良である領域に関する情報が含まれ、前記制御装置は、前記一の面の平坦度不良領域情報と前記転写領域情報とに基づいて、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する重なり判定手段をさらに有し、前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明２）。

上記発明（発明２）においては、前記制御装置は、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、前記重なり判定手段は、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記一の面の平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明３）。

上記発明（発明２，３）においては、前記制御装置は、前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、前記重なり判定手段は、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記一の面の平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記転写領域を前記一の面の平坦度不良領域に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明４）。

上記発明（発明２〜４）においては、前記制御装置は、前記基板の他の面側を用いた前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、前記平坦度不良領域情報には、前記基板の他の面側の平坦度が不良である領域に関する他の面側平坦度不良領域情報が含まれ、前記重なり判定手段は、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明５）。

上記発明（発明５）においては、前記インプリント条件情報には、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報が含まれ、前記重なり判定手段は、前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明６）。

上記発明（発明５，６）においては、前記インプリント条件情報には、前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報が含まれ、前記重なり判定手段は、前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明７）。

上記発明（発明２〜７）においては、前記制御装置は、前記重なり判定手段により前記平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に両領域の重なる面積を算出する重なり面積算出手段と、前記重なり面積算出手段により算出された面積値に応じて優先順位情報を付与する優先順位情報付与手段と、前記優先順位情報付与手段により付与された優先順位情報に基づいて選択された一の基板に対し、前記インプリント装置における転写が可能であるか否かを判定する転写可否判定手段とをさらに有し、前記基板選択手段は、前記転写可否判定手段により前記インプリント装置における転写が可能であると判定された基板を選択するのが好ましい（発明８)。

上記発明（発明８）においては、前記優先順位情報付与手段は、前記重なり面積算出手段により算出された各面積値のうちの最小値に基づいて前記優先順位情報を付与するのが好ましい（発明９）。

第二に本発明は、インプリント装置を用いてインプリント用モールドの凹凸形状を転写するのに適した基板を選択する制御装置において実行されるインプリント用基板選択プログラムであって、前記制御装置は、前記基板の一の面の平坦度が不良である領域に関する平坦度不良領域情報を記憶する基板関連情報記憶手段と、前記インプリント用モールドにおける凹凸形状が形成されている領域を含む転写領域に関する情報を記憶する転写領域情報記憶手段とを備え、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記平坦度不良領域情報と、前記転写領域情報記憶手段から読み出された前記転写領域情報とに基づいて、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第１の重なり判定ステップと、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント装置における転写に適した基板として選択する基板選択ステップとを前記制御装置に実行させることを特徴とするインプリント用基板選択プログラムを提供する（発明１０）。

上記発明（発明１０）においては、前記制御装置は、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに備え、前記第１の重なり判定ステップにより前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第２の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させるのが好ましい（発明１１）。

上記発明（発明１０，１１）においては、前記制御装置は、前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、前記第１の重なり判定ステップにより前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記移動後平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第３の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させるのが好ましい（発明１２）。

上記発明（発明１０〜１２）においては、前記制御装置は、前記基板の他の面側を用いた前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、前記平坦度不良領域情報には、前記基板の他の面側の平坦度が不良である領域に関する他の面側平坦度不良領域情報が含まれ、前記第１の重なり判定ステップにより前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第４の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させるのが好ましい（発明１３）。

上記発明（発明１３）においては、前記インプリント条件情報には、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報が含まれ、前記第４の重なり判定ステップにより前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域が重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第５の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させるのが好ましい（発明１４）。

上記発明（発明１３，１４）においては、前記インプリント条件情報には、前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報が含まれ、前記第４の重なり判定ステップにより前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域が重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第６の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させるのが好ましい（発明１５）。

上記発明（発明１０〜１５）においては、前記平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に両領域の重なる面積を算出する重なり面積算出ステップと、前記重なり面積算出ステップにより算出された面積値に基づいて優先順位情報を付与する優先順位情報付与ステップと、前記優先順位情報付与ステップにより付与された優先順位情報に基づいて選択された一の基板に対し、前記インプリント装置における転写が可能であるか否かを判定する転写可否判定ステップとを前記制御装置に実行させ、前記基板選択ステップにおいて、前記転写可否判定ステップにより前記インプリント装置における転写が可能であると判定された基板を選択するのが好ましい（発明１６）。

上記発明（発明１６）においては、前記優先順位情報付与ステップにおいて、前記重なり面積算出ステップにより算出された各面積値のうちの最小値に基づいて前記優先順位情報を付与するのが好ましい（発明１７）。

第三に本発明は、上記発明（発明１０〜１７）に係るインプリント用基板選択プログラムを格納した記録媒体を提供する（発明１８）。

第四に本発明は、上記発明（発明１〜９）に係るインプリント用基板選択システムと、前記インプリント用基板選択システムにより選択された基板に対し、前記インプリント用モールドの凹凸形状を転写するインプリント装置とを備え、前記制御装置は、前記平坦度情報と前記転写領域情報とに基づいて、前記インプリント装置における転写可能領域を設定する転写可能領域設定手段をさらに有し、前記インプリント装置は、前記転写可能領域設定手段により設定された転写可能領域に前記インプリント用モールドの凹凸形状が転写されるように、前記制御装置により制御されることを特徴とするインプリントシステムを提供する（発明１９）。

第五に本発明は、インプリント装置を用いてインプリント用モールドの凹凸形状を転写するのに適した基板を選択する方法であって、前記基板の一の面の平坦度が不良である領域と前記インプリント用モールドにおける凹凸形状が形成されている領域を含む転写領域とが重なるか否かを判定する第１の重なり判定工程と、前記第１の重なり判定工程において、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択する基板選択工程とを含むことを特徴とするインプリント用基板選択方法を提供する（発明２０）。

上記発明（発明２０）においては、前記第１の重なり判定工程において、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第２の重なり判定工程をさらに含み、前記基板選択工程において、前記第２の重なり判定工程により前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明２１）。

上記発明（発明２０，２１）においては、前記第１の重なり判定工程において、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第３の重なり判定工程をさらに含み、前記基板選択工程において、前記第３の重なり判定工程により前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明２２）。

上記発明（発明２０〜２２）においては、前記第１の重なり判定工程において、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板の他の面側を用いた前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記基板の他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第４の重なり判定工程をさらに含み、前記基板選択工程において、前記第４の重なり判定工程により前記基板の他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明２３）。

上記発明（発明２３）においては、前記第４の重なり判定工程において、前記基板の他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第５の重なり判定工程をさらに含み、前記基板選択工程において、前記第５の重なり判定工程により前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明２４）。

上記発明（発明２３，２４）においては、前記第４の重なり判定工程において、前記基板の他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第６の重なり判定工程をさらに含み、前記基板選択工程において、前記第６の重なり判定工程により前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択するのが好ましい（発明２５）。

上記発明（発明２０〜２５）においては、前記平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に、両領域の重なる面積を算出する重なり面積算出工程と、前記重なり面積算出工程により算出された面積値に基づいて優先順位を付与する優先順位付与工程と、前記優先順位付与工程により付与された優先順位に基づいて選択された一の基板に対し、前記インプリント装置における転写が可能であるか否かを判定する転写可否判定工程とをさらに含み、前記基板選択工程において、前記転写可否判定工程により前記インプリント装置における転写が可能であると判定された基板を選択するのが好ましい（発明２６）。

上記発明（発明２６）においては、前記優先順位付与工程において、前記重なり面積算出工程において算出された各面積値のうちの最小値に基づいて前記優先順位を付与するのが好ましい（発明２７）。

第六に本発明は、上記発明（発明２０〜２７）に係るインプリント用基板選択方法により選択された基板に対し、前記インプリント装置における転写可能領域を設定する工程と、前記インプリント装置を用いて前記インプリント用モールドの凹凸形状を前記転写可能領域に転写する工程とを含むことを特徴とするインプリント方法を提供する（発明２８）。

本発明によれば、インプリント装置における高精度な転写処理が可能であり、一部に平坦度の悪い領域が存在する基板であっても当該基板を有効活用することのできるインプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択方法、インプリント用基板選択プログラム、並びにそれらにより選択された基板を用いたインプリントシステム及びその方法を提供することができる。

本発明の一実施形態に係るインプリントシステムを示す概略構成図である。 本発明の一実施形態における制御装置の内部構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態における基板データベースのデータベース構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態における基板の平坦度不良領域の一例を示す概略図である。 本発明の一実施形態におけるモールドデータベースのデータベース構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用モールドの凹凸パターン形成領域及び転写領域の一例を示す概略図である。 本発明の一実施形態における被転写基板データベースのデータベース構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態における被転写候補基板データベースのデータ構成を示す概略図である。 本発明の一実施形態におけるインプリント条件データ生成処理を示すフローチャートである。 図９に示すインプリント条件データ生成処理における移動関連インプリント条件データ生成処理を示すサブフローチャートである。 図９に示すインプリント条件データ生成処理における回転関連インプリント条件データ生成処理を示すサブフローチャートである。 図９に示すインプリント条件データ生成処理における裏面関連インプリント条件データ生成処理を示すサブフローチャートである。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その１）である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その２）である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その３）である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その４）である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その５）である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その６）である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その７）である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その８）である。 本発明の一実施形態におけるインプリント用基板選択処理を示すフローチャート（その９）である。 本発明の一実施形態における一括転写方式でのインプリント処理を示すフローチャートである。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
＜インプリントシステムの装置構成＞
図１に示すように、本実施形態に係るインプリントシステム１は、複数の基板を収納する基板収納部２と、基板収納部２に収納された基板に対し所定のインプリント用モールドを用いて１回のインプリント処理を施すことのできるインプリント装置３と、基板収納部２に収納された基板をインプリント装置３に搬送する基板搬送装置４と、基板収納部２に収納された複数の基板の中からインプリント装置３におけるインプリント処理に適した基板を選択し、当該基板をインプリント装置３に搬送するために基板搬送装置４を制御するとともに、インプリント装置３におけるインプリント処理を制御する制御装置５とを備える。

基板収納部２としては、少なくとも各基板を識別可能に収納し得るものであればよく、多段状に基板を収納可能なストッカー、管理番号を付与した基板ケース等が挙げられる。なお、基板収納部２に収納される基板としては、インプリント処理に用いられ得る基板であれば特に限定されるものではなく、例えば、シリコン基板、石英基板、ガラス基板、ＳＯＩ基板等が挙げられ、ノッチやオリフラ等が形成された基板であってもよいし、それらが形成されていない基板であってもよく、基板の両面（表面及び裏面）が研磨加工されているものであってもよいし、基板の両面が研磨加工されているが一方の面（表面）のみに表面処理が施され、他方の面（裏面）における樹脂の塗布特性が良好でないようなものであってもよい。また、一方の面（表面）のみ研磨加工されているものであってもよい。

インプリント装置３としては、基板を載置するステージと、インプリント用モールドを保持した状態でステージ上の基板に対して押し付けるための保持部とを少なくとも有するものを例示することができ、ステージ及び／又は保持部を回転させたり、ＸＹ方向に移動させたりすることのできる機構を有するものであってもよいし、当該機構を有しないものであってもよい。

基板搬送装置４としては、基板収納部２に収納されている基板を保持し、インプリント装置３に搬送する搬送機構を有するものを例示することができ、保持した基板を表裏反対にした状態でインプリント装置３に搬送し得る機構、保持した基板を回転させ、インプリント装置３に搬送し得る機構等を有するものであってもよいし、それらの機構を有しないものであってもよい。

図２に示すように、制御装置５は、ＣＰＵ５１と、各種プログラム等を記憶する主記憶部５２と、ＣＰＵ５１により生成されたデータ等を一時的に記憶する補助記憶部５３と、基板搬送装置４及びインプリント装置３との間でデータ等の送受信を行うための通信部５４と、基板収納部２に収納されている基板に関するデータを格納する基板データベース５５と、インプリント装置３におけるインプリント処理に用いられるインプリント用モールドに関するデータを格納するモールドデータベース５６と、インプリント用基板選択処理により被転写基板として選択された基板に関するデータを格納する被転写基板データベース５７と、インプリント用基板選択処理において基板の平坦度不良領域とインプリント用モールドの転写領域とが重なっていると判定された基板に対し優先順位が付与されたデータを格納する被転写候補基板データベース５８と、インプリントシステム１を構成する各装置（基板収納部２、インプリント装置３、基板搬送装置４）の機能等に基づくインプリント処理条件に関するデータを格納するインプリントシステムデータベース５９とを備える。

ＣＰＵ５１は、基板データベース５５、モールドデータベース５６、被転写基板データベース５７、被転写候補基板データベース５８、インプリントシステムデータベース５９等に格納された各種データや、補助記憶部５３に記憶された各種データ等を読み出し、主記憶部５２に記憶された各種プログラムの指示に従って、種々の演算処理等を行う。
主記憶部５２には、基板収納部２に収納された複数の基板の中からインプリント装置３におけるインプリント処理に適した一の基板を選択するためのインプリント用基板選択プログラム、基板搬送装置４による基板の搬送処理を制御するための搬送制御プログラム、インプリント装置３によるインプリント処理を制御するためのインプリント制御プログラム等が記憶されている。

補助記憶部５３には、ユーザからの入力情報、ユーザからの入力情報に基づいてＣＰＵ５１により生成されたインプリント条件データ、各データベース５５〜５９から取得したデータ等の各種データが一時的に記憶される。

なお、補助記憶部５３に記憶されるユーザからの入力情報としては、例えば、インプリントシステム１におけるインプリント処理に付される基板の枚数に関する情報；インプリントシステム１におけるインプリント処理に使用されるインプリント用モールドの識別情報；インプリントシステム１において基板とインプリント用モールドの転写領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理を許容するか否かに関する情報；インプリントシステム１において基板における転写位置をずらした状態でのインプリント処理を許容するか否かに関する情報；インプリントシステム１において基板の裏面側を用いたインプリント処理を許容するか否かに関する情報；ユーザが希望する基板上の転写位置に関する情報（初期転写位置情報（例えば、ユーザが基板の中心から所定の距離ずらした位置に転写することを希望する場合にユーザにより入力される、当該希望転写位置におけるインプリント用モールドの中心の、基板上における位置に関する情報等））；インプリント処理を許容する基板上の領域に関する情報；基板選択処理において基板における転写位置をずらした状態でのインプリント処理による重なり判定処理（図１５，１６，１９，２０参照）を行う際の転写領域のＸ方向及びＹ方向への移動距離（Ｘ_pitch，Ｙ_pitch）に関する情報；転写領域と平坦度不良領域とが重なっていたとしてもインプリント処理を許容し得る、当該重なり面積の範囲（許容範囲）に関する情報等が挙げられる。

また、ＣＰＵ５１により生成され、補助記憶部５３に記憶されるインプリント条件データには、インプリントシステム１において基板とインプリント用モールドの転写領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かに関する情報（回転可情報又は回転不可情報を含む回転関連情報）、インプリントシステム１において基板における転写位置をずらした状態でのインプリント処理が可能であるか否かに関する情報（移動可情報又は移動不可情報を含む移動関連情報）、インプリントシステム１において基板の裏面側を用いたインプリント処理が可能であるか否かに関する情報（裏面使用可情報又は裏面使用不可情報を含む裏面関連情報）が含まれる。例えば、インプリントシステム１を構成する装置上の条件（インプリント装置３における基板の載置方向に対するインプリント用モールドの保持方向が一方向のみであって基板と凹凸パターン形成領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が不可能；インプリント装置３において基板を載置するためのステージやインプリント用モールドの保持部をＸＹ方向に移動することができず基板に対して凹凸パターン形成領域をずらした状態でのインプリント処理が不可能；基板搬送装置４において表裏を反対にして基板をインプリント装置３に搬送するのが不可能；基板収納部２における基板の保管環境等により基板の裏面側に異物等が付着しやすく基板の裏面側に対するインプリント処理が不可能等）や凹凸パターンが転写された基板の用途上の条件等に応じて、インプリント条件データが生成され得る。

図３に示すように、基板データベース５５には、基板収納部２に収納されている各基板の識別情報と、各基板の収納場所情報と、予め測定された基板の表面の平坦度情報と、各基板に固有の情報（基板固有情報）とが関連付けられて格納される。また、基板データベース５５に格納されている基板の全枚数に関する情報（基板枚数情報）も格納される。

基板データベース５５に格納される基板の表面の平坦度情報は、基板の表面の平坦度の悪い領域（平坦度不良領域）を示す座標データである。基板の表面の平坦度不良領域は、例えば、平坦度測定装置（例えば、ラムダエースシリーズ，大日本スクリーン株式会社製等）を用いて基板の表面の平坦度を測定・解析したときにおける所定の平坦度（例えば、１０ｎｍ以上）の領域を少なくとも囲む矩形の枠を設定し、基板の表面の中心を原点としたときにおける当該矩形枠の対角に位置する二点（矩形枠の左下角の点Ａ及び右上角の点Ｂ）の座標データとして表される（図４参照）。なお、本明細書において、平坦度不良領域とは、基板自体の平坦度の悪い領域の他、基板上に微細なキズがついている領域、基板上に微細な異物が付着している領域等も含まれるものとする。

基板データベース５５に格納される基板固有情報は、基板の形状（ノッチやオリフラ等が形成されているなど）や樹脂が均一に塗布され得ない基板上の領域等に応じて設定されるインプリント処理を許可する基板表面上の領域（ノッチやオリフラ等を含まない円形又は矩形にて設定される領域、表面側転写許可領域；図４参照）に関する情報、基板の裏面側にインプリント処理を行うことが可能であるか否かに関する情報（裏面使用可情報又は裏面使用不可情報を含む裏面関連情報）等である。例えば、基板の表面にのみ研磨加工が施されているようなもの、基板の両面に研磨加工が施されていたとしても表面のみに表面処理が施され、裏面における樹脂の塗布特性が良好でないようなものであれば、基板データベース５５に裏面使用不可情報が格納される。なお、基板データベース５５に裏面使用可情報が格納される基板に関しては、予め測定された裏面の平坦度不良領域に関する情報（裏面平坦度情報）、裏面側転写許可領域に関する情報もあわせて格納される。

図５に示すように、モールドデータベース５６には、インプリント装置３においてインプリント処理に使用されるインプリント用モールドの識別情報と、各インプリント用モールドに形成されている凹凸パターンの領域（凹凸パターン形成領域）に関する情報と、当該凹凸パターン形成領域を含む転写領域情報とが関連付けられて格納される。なお、第１の実施形態においては、凹凸パターン形成領域が矩形状（正方形又は長方形）であるものとして説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

インプリント用モールドにおける凹凸パターン形成領域情報は、凹凸パターンの形成されている領域を示す座標データであり、例えば、凹凸パターン形成領域が矩形状である場合、凹凸パターン形成領域は、インプリント用モールドの中心を原点としたときにおける当該凹凸パターン形成領域の対角に位置する二点（凹凸パターン形成領域の左下角の点α’及び右上角の点β’）の座標データとして表される（図６参照）。また、転写領域情報は、インプリント用モールドの中心を原点としたときにおける、所定の裕度Ｗをもって凹凸パターン形成領域をＸ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれに広げた領域を示す座標データ（転写領域の左下角の点α及び右上角の点βの座標データ）である（図６参照）。

図７に示すように、被転写基板データベース５７には、インプリント用基板選択処理により被転写基板として選択された基板の識別情報と、基板の収納場所に関する情報と、インプリント処理条件情報（例えば、基板の回転角度に関する情報、基板に対する転写位置の移動距離に関する情報、基板の裏面側の使用に関する情報等）とが関連付けられて格納される。

図８に示すように、被転写候補基板データベース５８には、インプリント用基板選択処理により基板の平坦度不良領域とインプリント用モールドの転写領域とが重なっていると判断された基板の識別情報と、基板の収納場所に関する情報と、当該基板の平坦度不良領域とインプリント用モールドの転写領域とが重なっている面積に関する情報と、当該基板に付与された優先順位に関する情報とが関連付けられて格納されている。

インプリントシステムデータベース５９には、インプリントシステム１を構成する各装置（基板収納部２、インプリント装置３、基板搬送装置４）の機能等に基づき、基板とインプリント用モールドの転写領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ（回転関連データ）、基板における転写位置をずらした状態でのインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ（移動関連データ）、基板の裏面側を用いたインプリント処理が可能であるか否かに関するデータ（裏面関連データ）、基板における転写位置をずらすことが許容される領域（移動許容領域）に関するデータ等が格納されている。例えば、インプリント装置３における基板の載置方向に対するインプリント用モールドの保持方向が一方向のみであって基板と凹凸パターン形成領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が不可能なインプリント装置３であれば、回転不可とのデータが格納される。また、インプリント装置３において基板を載置するためのステージやインプリント用モールドの保持部をＸＹ方向に移動することができず基板に対して凹凸パターン形成領域をずらした状態でのインプリント処理が不可能であれば、移動不可とのデータが格納される。さらに、基板搬送装置４において表裏を反対にして基板をインプリント装置３に搬送するのが不可能であれば、裏面使用不可とのデータが格納される。さらにまた、基板収納部２における基板の保管環境等により基板の裏面側に異物等が付着しやすく基板の裏面側に対するインプリント処理が不可能であれば、裏面使用不可とのデータが格納される。一方、インプリントシステム１を構成する各装置（基板収納部２、インプリント装置３、基板搬送装置４）の機能等に基づき、基板とインプリント用モールドの転写領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能である場合には「回転可」とのデータが、基板における転写位置をずらした状態でのインプリント処理が可能である場合には「移動可」とのデータが、基板の裏面側を用いたインプリント処理が可能である場合には「裏面使用可」とのデータが、インプリントシステムデータベース５９に格納される。なお、「移動可」とのデータが格納される場合であっても、インプリント用モールドを保持する保持部を移動させることのできない領域がある等により、インプリント装置３におけるインプリント処理を許容し得る領域が制限される場合には、当該インプリント処理を許容し得る領域（移動許容領域）に関するデータが格納される。

＜インプリントシステムにおける処理動作＞
このような構成を有するインプリントシステム１における処理動作を説明する。図９〜１２は、インプリント条件データ生成処理を示すフローチャートであり、図１３〜２１は、インプリント用基板選択処理を示すフローチャートであり、図２２は、インプリント用基板選択処理により選択された基板を用いたインプリントシステム１における一括転写方式でのインプリント処理を示すフローチャートである。

＜インプリント条件データ生成処理＞
まず、所定のインプリント用モールドを用いて所定の枚数（Ｎ枚）の基板に対してインプリント処理を行うにあたり、予めインプリント条件設定処理を行う。最初に、ユーザにより許容されるインプリント条件に関する情報、ユーザが希望する基板上の転写位置に関する情報（初期転写位置情報）、インプリント処理を行う予定の基板枚数（Ｎ枚）に関する情報及びインプリント処理に使用されるインプリント用モールドの識別情報がユーザにより入力され、入力された各情報は、補助記憶部５３に記憶される。ＣＰＵ５１は、ユーザにより入力され、補助記憶部５３に記憶された情報等に基づき、後述するようにしてインプリント条件データを生成する処理を行う。

図９に示すように、まず、ＣＰＵ５１は、移動に関連するインプリント条件データを生成する処理を行う（Ｓ０１）。

かかるインプリント条件データ生成処理においては、図１０に示すように、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件に関する情報が「移動許可」との情報を含むか否かを判断する（Ｓ０１１）。インプリント条件に関する情報が「移動許可」との情報を含むものでない場合（Ｓ０１１，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は「移動不可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０１２）。

インプリント条件に関する情報が「移動許可」との情報を含むものである場合（Ｓ０１１，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、インプリントシステムデータベース５９から移動関連データを取得し（Ｓ０１３）、移動関連データが「移動可」とのデータを含むものであるか否かを判断する（Ｓ０１４）。

移動関連データが「移動可」とのデータを含むものでない場合（Ｓ０１４，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は「移動不可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０１２）。移動関連データが「移動可」との情報を含むものである場合（Ｓ０１４，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は「移動可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０１５）。このようにして移動に関連するインプリント条件データを生成した後、インプリント条件データ生成処理（図９）に戻る。

次に、ＣＰＵ５１は、図９に示すように、回転に関連するインプリント条件データを生成する処理を行う（Ｓ０２）。

かかるインプリント条件データ生成処理においては、図１１に示すように、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件に関する情報が「回転許可」との情報を含むものであるか否かを判断する（Ｓ０２１）。

インプリント条件に関する情報が「回転許可」との情報を含むものでない場合（Ｓ０２１，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は「回転不可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０２２）。

インプリント条件に関する情報が「回転許可」との情報を含むものである場合（Ｓ０２１，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、インプリントシステムデータベース５９から回転関連データを取得し（Ｓ０２３）、回転関連データが「回転可」とのデータを含むものであるか否かを判断する（Ｓ０２４）。

回転関連データが「回転可」とのデータを含むものでない場合（Ｓ０２４，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は「回転不可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０２２）。

回転関連データが「回転可」との情報を含むものである場合（Ｓ０２４，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント用モールドの識別情報に基づいて、モールドデータベース５６から凹凸パターン領域情報を取得し（Ｓ０２５）、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ０２６）。

具体的には、凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値と点β’のＸ座標値との和、及び凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値と点β’のＹ座標値との和のいずれもが０であれば、ＣＰＵ５１は凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断し、当該和のいずれか又は両方が０でない場合、ＣＰＵ５１は、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断する。

凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールどの中心とが一致していないと判断した場合（Ｓ０２６，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件データが「移動可」との情報を含むものであるか否かを判断する（Ｓ０２７）。

インプリント条件データが「移動可」との情報を含むものでない場合（Ｓ０２７，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は「回転不可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０２２）。

インプリント条件データが「移動可」との情報を含むものである場合（Ｓ０２７，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は「回転可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０２９）。

凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合（Ｓ０２６，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、凹凸パターン領域情報に基づいて、凹凸パターン形成領域の回転対称数を判定し、当該凹凸パターン形成領域が４回対称形状であるか否かを判断する（Ｓ０２８）。

凹凸パターン形成領域が４回対称形状であると判断した場合（Ｓ０２８，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、「回転不可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０２２）。

凹凸パターン形成領域が４回対称形状ではないと判断した場合（Ｓ０２８，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、「回転可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０２９）。このようにして回転に関連するインプリント条件データを生成した後、インプリント条件データ生成処理（図９）に戻る。

続いて、ＣＰＵ５１は、図９に示すように、裏面に関連するインプリント条件データを生成する処理を行う（Ｓ０３）。

かかるインプリント条件データ生成処理においては、図１２に示すように、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件に関する情報が「裏面許可」との情報を含むか否かを判断する（Ｓ０３１）。

インプリント条件に関する情報が「裏面許可」との情報を含むものでない場合（Ｓ０３１，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は「裏面不可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０３２）。

インプリント条件に関する情報が「裏面許可」との情報を含むものである場合（Ｓ０３１，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、インプリントシステムデータベース５９から裏面関連データを取得し（Ｓ０３３）、裏面関連データが「裏面可」とのデータを含むものであるか否かを判断する（Ｓ０３４）。

裏面関連データが「裏面可」とのデータを含むものでない場合（Ｓ０３４，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は「裏面不可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０３２）。

裏面関連データが「裏面可」との情報を含むものである場合（Ｓ０３４，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は「裏面可」との情報を含むインプリント条件データを生成し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ０３５）。このようにして裏面に関連するインプリント条件データを生成した後、インプリント条件データ生成処理（図９）を終了する。

＜インプリント用基板選択処理−初期転写位置＞
続いて、インプリント用基板選択処理を行う。図１３に示すように、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント用モールドの識別情報に基づいてモールドデータベース５６に格納されている転写領域情報を取得して補助記憶部５３に記憶し（Ｓ１０１）、基板データベース５５に格納されている一の基板の識別情報、収納場所情報及び平坦度情報を取得して補助記憶部５３に記憶し（Ｓ１０２）、補助記憶部５３に記憶された平坦度情報に平坦度不良領域に関する情報が含まれているか否かを判断する（Ｓ１０３）。具体的には、平坦度情報に平坦度不良領域の座標データが含まれているか否かを判断する。

平坦度情報に平坦度不良領域に関する情報が含まれていないと判断した場合（Ｓ１０３，Ｎｏ）、後述するＳ１１１の処理に移行する。

平坦度情報に平坦度不良領域に関する情報が含まれていると判断した場合（Ｓ１０３，Ｙｅｓ）、補助記憶部５３に記憶されている初期転写位置情報及び転写領域情報に基づいて、重なり判定用転写領域情報を生成し、補助記憶部５３に記憶する。具体的には、初期転写位置情報に含まれるモールドの中心の、基板上における位置（座標データ）に基づいて、転写領域の点α及び点βのＸ座標値及びＹ座標値を基板の中心を原点としたときにおける各座標値を算出し、算出された各座標データを重なり判定用転写領域情報として補助記憶部５３に記憶する。

次に、補助記憶部５３に記憶された平坦度情報及び重なり判定用転写領域情報に基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び重なり判定用の転写領域の点αのＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び重なり判定用の転写領域の点αのＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び重なり判定用の転写領域の点βのＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び重なり判定用の転写領域の点βのＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する（Ｓ１０４）。

続いて、ＣＰＵ５１は、Ｘ_left及びＸ_rightを対比し、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいか否かを判断し（Ｓ１０５）、Ｘ_leftがＸ_rightよりも大きいと判断した場合（Ｓ１０５，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）及び初期転写位置情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１０６）。

一方、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいと判断した場合（Ｓ１０５，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、Ｙ_low及びＹ_upを対比し、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１０７）。

Ｙ_lowがＹ_upよりも大きいと判断した場合（Ｓ１０７，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）及び初期転写位置情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１０６）。

一方、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいと判断した場合（Ｓ１０７，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていると判定し、平坦度不良領域と、転写領域のうちの凹凸パターン形成領域及びそれ以外の領域（裕度として設定した領域，裕度領域）とのそれぞれが重なっている面積を算出するとともに、平坦度不良領域と裕度領域との重なっている面積の合計、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なっている面積の合計及び算出した全面積値の合計を算出し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１０８）。

具体的には、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積は、以下のようにして算出することができる。

まず、補助記憶部５３に記憶されているインプリント用モールドの識別情報に基づいてインプリント用モールドデータベース５６から凹凸パターン形成領域情報を取得し、補助記憶部５３に記憶されている初期転写位置情報に含まれるモールドの中心の、基板上における位置（座標データ）及び凹凸パターン形成領域情報に基づいて、凹凸パターン形成領域の点α’及び点β’のＸ座標値及びＹ座標値を基板の中心を原点としたときにおける各座標値（面積算出用凹凸パターン形成領域の各座標値）を算出し、面積算出用凹凸パターン形成領域情報として補助記憶部５３に記憶する。次に、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点α’の各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する。そして、当該定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値から、次式により平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積を算出する。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

一方、平坦度不良領域と裕度領域とが重なっている面積は、上記Ｓ１０４において定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値を用いて平坦度不良領域と転写領域とが重なっている面積を次式より算出し、算出された当該面積値から、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積値を減算することにより算出することができる。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

次に、ＣＰＵ５１は、転写領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域情報が補助記憶部５３に記憶されているか否かを判断し（Ｓ１０９）、他の平坦度不良領域情報が記憶されていると判断した場合には（Ｓ１０９，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１０４〜Ｓ１０８の処理を再度行い、他の平坦度不良領域情報が記憶されていないと判断した場合には（Ｓ１０９，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶されているすべての面積値（平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なり面積、平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積、Ｓ１０６において記憶された面積(＝０)）の合計値を算出し、当該合計面積値が０であるか否かを判断する（Ｓ１１０）。

合計面積値が０であると判断した場合（Ｓ１１０，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と収納場所情報と初期転写位置情報とを関連付けて被転写基板データベース５７に格納する（Ｓ１１１）。

一方、合計面積値が０でないと判断した場合（Ｓ１１０，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、補助記憶部５３に記憶されている各面積値とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納する（Ｓ１１２）。

＜インプリント用基板選択処理−回転＞
上記Ｓ１１２にて各種情報を関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納した後、図１４に示すように、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件データを取得し、当該インプリント条件データに基づいて基板と転写領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する（Ｓ１１３）。

回転不可と判断した場合（Ｓ１１３，Ｎｏ）、次の重なり判定処理（図１５参照）に移行する。一方、回転可能と判断した場合（Ｓ１１３，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されている平坦度情報に基づいて、基板の中心を軸としてその軸周りに９０度回転させたときの平坦度不良領域の点Ａ及び点Ｂの座標データを算出し、当該基板の回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報とともに補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１１４）。

次に、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されている重なり判定用転写領域情報及び基板回転後の平坦度不良領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する（Ｓ１１５）。

ＣＰＵ５１は、Ｘ_left及びＸ_rightを対比し、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１１６）。Ｘ_leftがＸ_rightよりも大きいと判断した場合（Ｓ１１６，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）及びインプリント処理条件情報としての基板の回転角度に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１１７）。

一方、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいと判断した場合（Ｓ１１６，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、Ｙ_low及びＹ_upを対比し、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１１８）。
Ｙ_lowがＹ_upよりも大きいと判断した場合（Ｓ１１８，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）及びインプリント処理条件情報としての基板の回転角度に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１１７）。

一方、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいと判断した場合（Ｓ１１８，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていると判定し、平坦度不良領域と、転写領域のうちの凹凸パターン形成領域及び裕度領域とのそれぞれが重なっている面積を算出するとともに、平坦度不良領域と裕度領域との重なっている面積の合計、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との面積の合計及びすべての面積の合計を算出し、算出した面積及び回転角度に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１１９）。

具体的には、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積は、以下のようにして算出することができる。

まず、補助記憶部５３に記憶されている面積算出用凹凸パターン形成領域情報に基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点α’の各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する。そして、当該定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値から、次式により平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積を算出する。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

一方、平坦度不良領域と裕度領域とが重なっている面積は、上記Ｓ１１５において定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値を用いて平坦度不良領域と転写領域とが重なっている面積を次式より算出し、算出された当該面積値から、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積値を減算することにより算出することができる。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

次に、ＣＰＵ５１は、転写領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域情報が補助記憶部５３に記憶されているか否かを判断し（Ｓ１２０）、他の平坦度不良領域情報が記憶されていると判断した場合には（Ｓ１２０，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１１５〜Ｓ１１９の処理を再度行い、他の平坦度不良領域情報が記憶されていないと判断した場合には（Ｓ１２０，Ｎｏ）、基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ１２１）。

基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断した場合には（Ｓ１２１，Ｎｏ）、回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報に基づいて、上記Ｓ１１４における座標データの算出処理を３回行ったか否かを判断する（Ｓ１２３）。一方、基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合には（Ｓ１２１，Ｙｅｓ）、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ１２２）。

凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断した場合（Ｓ１２２，Ｎｏ）、回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報に基づいて、上記Ｓ１１４における座標データの算出処理を３回行ったか否かを判断する（Ｓ１２３）。

座標データ算出処理を３回行っていないと判断した場合（Ｓ１２３，Ｎｏ）、上記Ｓ１１４〜Ｓ１２２の処理を再度行う。一方、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合（Ｓ１２２，Ｙｅｓ）、又は座標データ算出処理を３回行ったと判断した場合（Ｓ１２３，Ｙｅｓ）、補助記憶部５３に記憶されているすべての面積値（平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なり面積、平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積、Ｓ１１７において記憶された面積(＝０)）の合計値を算出し、当該合計面積値が０であるか否かを判断する（Ｓ１２４）。

当該合計面積値が０であると判断した場合（Ｓ１２４，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写基板データベース５７に格納する（Ｓ１２５）。

一方、当該合計面積値が０でないと判断した場合（Ｓ１２４，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、補助記憶部５３に記憶されている各面積値と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納する（Ｓ１２６）。

＜インプリント用基板選択処理−移動＞
上記Ｓ１２６にて各種情報を関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納した後、図１５に示すように、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件データを取得し、当該インプリント条件データに基づいて、基板に対する転写位置をずらした状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する（Ｓ１２７）。

移動不可と判断した場合（Ｓ１２７，Ｎｏ）、後述の裏面使用に関する重なり判定処理（図１７参照）に移行する。一方、移動可能と判断した場合（Ｓ１２７，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報に基づいて基板データベース５５から当該基板の表面側の転写許可領域に関する情報を取得するとともに、インプリントシステムデータベース５９から移動許容領域に関するデータを取得し（Ｓ１２８）、当該転写許可領域と移動許容領域との重なる領域を移動可能領域として設定する（Ｓ１２９）。

ＣＰＵ５１は、移動可能領域の最外周上のすべての位置にインプリント用モールドの転写領域の中心をあわせたときに、インプリント用モールドの転写領域が転写許可領域内に位置するか否かを判断する（Ｓ１３０）。具体的には、インプリント用モールドの転写領域の中心を移動可能領域の最外周に沿って一周移動させたときの当該転写領域の軌跡の最外周により構成される領域が、転写許可領域よりも大きければ、転写領域の少なくとも一部が転写許可領域外に位置すると判断することができ、当該転写領域の軌跡の最外周により構成される領域が、転写許可領域よりも小さければ、転写領域が転写許可領域内に位置すると判断することができる。

インプリント用モールドの転写領域の少なくとも一部が転写許可領域外に位置すると判断した場合（Ｓ１３０，Ｎｏ）、上記Ｓ１２９にて設定された移動可能領域を、インプリント用モールドの転写領域の対角長さの半分の長さ分狭めた領域を移動領域として設定し（Ｓ１３１）、インプリント用モールドの転写領域が転写許可領域内に位置すると判断した場合（Ｓ１３０，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１２９にて設定された移動可能領域を移動領域として設定する（Ｓ１３２）。

続いて、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されている初期転写位置情報に基づいて、当該初期転写位置に基板とインプリント用モールドとを対向配置させたときにおける、当該インプリント用モールドの転写領域の中心を通るＸ軸及びＹ軸のそれぞれに平行な補助線を移動領域内に引き、補助記憶部５３に記憶されている移動距離に関する情報（Ｘ_pitch，Ｙ_pitch）に基づいて、各補助線に平行、かつ当該移動距離ごとに離間した補助線を引き、それらの補助線の各交点及び各補助線と移動領域の最外周との交点の座標を算出して、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１３３）。

次に、インプリント用モールドの転写領域の中心を任意の一の交点に移動させたときにおける重なり判定用転写領域の座標データ（点α及び点βの座標値）を算出し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１３４）。

続いて、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶された平坦度情報及び移動後の重なり判定用転写領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する（Ｓ１３５）。

ＣＰＵ５１は、Ｘ_left及びＸ_rightを対比し、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１３６）。Ｘ_leftがＸ_rightよりも大きいと判断した場合（Ｓ１３６，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）及びインプリント処理条件情報としての基板に対する転写位置に関する情報（初期転写位置からのＸ軸方向及びＹ軸方向への移動距離に関する情報）を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１３７）。

一方、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいと判断した場合（Ｓ１３６，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、Ｙ_low及びＹ_upを対比し、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１３８）。Ｙ_lowがＹ_upよりも大きいと判断した場合（Ｓ１３８，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）及びインプリント処理条件情報としての基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１３７）。

一方、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいと判断した場合（Ｓ１３８，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていると判定し、平坦度不良領域と、転写領域のうちの凹凸パターン形成領域及び裕度領域とのそれぞれが重なっている面積を算出するとともに、平坦度不良領域と裕度領域との重なっている面積の合計、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との面積の合計及びすべての面積の合計を算出し、算出した面積及び転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１３９）。

具体的には、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積は、以下のようにして算出することができる。

まず、補助記憶部５３に記憶されている面積算出用凹凸パターン形成領域情報に基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点α’の各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する。そして、当該定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値から、次式により平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積を算出する。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

一方、平坦度不良領域と裕度領域とが重なっている面積は、上記Ｓ１３５において定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値を用いて平坦度不良領域と転写領域とが重なっている面積を次式より算出し、算出された当該面積値から、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積値を減算することにより算出することができる。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

次に、ＣＰＵ５１は、転写領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域情報が補助記憶部５３に記憶されているか否かを判断し（Ｓ１４０）、他の平坦度不良領域情報が記憶されていると判断した場合には（Ｓ１４０，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１３５〜Ｓ１３９の処理を再度行い、他の平坦度不良領域情報が記憶されていないと判断した場合には（Ｓ１４０，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶されているすべての面積値（平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なり面積、平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積、Ｓ１３７において記憶された面積(＝０)）の合計値を算出し、当該合計面積値が０であるか否かを判断する（Ｓ１４１）。

当該合計面積値が０であると判断した場合（Ｓ１４１，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写基板データベース５７に格納する（Ｓ１４２）。

一方、当該合計面積値が０でないと判断した場合（Ｓ１４１，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に他の合計面積値が記憶されているか否かを判断し（Ｓ１４３）、他の合計面積値が記憶されていないと判断した場合（Ｓ１４３，Ｎｏ）、上記Ｓ１４１にて算出した合計面積値及びインプリント処理条件情報としての基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１４４）。

他の合計面積値が記憶されていると判断した場合（Ｓ１４３，Ｙｅｓ）、補助記憶部５３に記憶されている他の合計面積値が、上記Ｓ１４１にて算出した合計面積値よりも大きいか否かを判断する（Ｓ１４５）。

他の合計面積値が大きいと判断した場合（Ｓ１４５，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１４１にて算出した合計面積値及びインプリント処理条件情報としての基板に対する転写位置に関する情報に、補助記憶部５３に記憶された情報を更新し（Ｓ１４６）、他の合計面積値が、上記Ｓ１４１にて算出した合計面積値以下であると判断した場合（Ｓ１４５，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶された情報を更新することなく、Ｓ１４７以降の処理に移行する。

その後、ＣＰＵ５１は、すべての交点における重なり判定処理を行ったか否かを判断し（Ｓ１４７）、すべての交点における重なり判定処理を行っていないと判断した場合（Ｓ１４７，Ｎｏ）、上記Ｓ１３４〜Ｓ１４６の処理を再度行う。

一方、すべての交点における重なり判定処理を行ったと判断した場合（Ｓ１４７，Ｙｅｓ）、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、補助記憶部５３に記憶されている各面積値と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納する（Ｓ１４８）。

＜インプリント用基板選択処理−回転・移動＞
上記Ｓ１４８にて各種情報を関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納した後、図１６に示すように、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件データを取得し、当該インプリント条件データに基づいて基板と転写領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する（Ｓ１４９）。

回転不可と判断した場合（Ｓ１４９，Ｎｏ）、次の重なり判定処理（図１７参照）に移行する。一方、回転可能と判断した場合（Ｓ１４９，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されている平坦度情報に基づいて、基板の中心を軸としてその軸周りに９０度回転させたときの平坦度不良領域の点Ａ及び点Ｂの座標データを算出し、当該基板の回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報とともに補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１５０）。

次に、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されている初期転写位置情報に基づいて、当該初期転写位置に基板とインプリント用モールドとを対向配置させたときにおける、当該インプリント用モールドの転写領域の中心を通るＸ軸及びＹ軸のそれぞれに平行な補助線を引き、補助記憶部５３に記憶されている移動距離に関する情報（Ｘ_pitch，Ｙ_pitch）に基づいて、各補助線に平行、かつ当該移動距離ごとに離間した補助線を、基板上の移動領域（上記Ｓ１３１又はＳ１３２にて設定された移動領域（図１５参照）を基板の中心を軸としてその軸周りに９０度回転させた領域）内に引き、それらの補助線の各交点及び各補助線と移動領域の最外周との交点の座標を算出して、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１５１）。

そして、インプリント用モールドの転写領域の中心を任意の一の交点に移動させたときにおける重なり判定用転写領域の座標データ（点α及び点βの座標値）を算出し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１５２）。

続いて、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶された回転後の平坦度不良領域の座標データ及び移動後の重なり判定用転写領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する（Ｓ１５３）。

ＣＰＵ５１は、Ｘ_left及びＸ_rightを対比し、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１５４）。Ｘ_leftがＸ_rightよりも大きいと判断した場合（Ｓ１５４，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、並びにインプリント処理条件情報としての基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報（初期転写位置からのＸ軸方向及びＹ軸方向への移動距離に関する情報）を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１５５）。

一方、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいと判断した場合（Ｓ１５４，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、Ｙ_low及びＹ_upを対比し、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１５６）。Ｙ_lowがＹ_upよりも大きいと判断した場合（Ｓ１５６，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、並びにインプリント処理条件情報としての基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１５５）。

一方、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいと判断した場合（Ｓ１５６，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていると判定し、平坦度不良領域と、転写領域のうちの凹凸パターン形成領域及び裕度領域とのそれぞれが重なっている面積を算出するとともに、平坦度不良領域と裕度領域との重なっている面積の合計、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との面積の合計及びすべての面積の合計を算出し、算出した面積、並びにインプリント処理条件情報としての基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１５７）。

具体的には、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積は、以下のようにして算出することができる。

まず、補助記憶部５３に記憶されている面積算出用凹凸パターン形成領域情報に基づいて、移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の座標データ（点α’及び点β’の座標値）を算出し、回転後の平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値、回転後の平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値、回転後の平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＸ座標値、並びに回転後の平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点α’の各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する。そして、当該定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値から、次式により平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積を算出する。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

一方、平坦度不良領域と裕度領域とが重なっている面積は、上記Ｓ１５３において定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値を用いて平坦度不良領域と転写領域とが重なっている面積を次式より算出し、算出された当該面積値から、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積値を減算することにより算出することができる。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

次に、ＣＰＵ５１は、転写領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域情報が補助記憶部５３に記憶されているか否かを判断し（Ｓ１５８）、他の平坦度不良領域情報が記憶されていると判断した場合には（Ｓ１５８，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１５３〜Ｓ１５７の処理を再度行い、他の平坦度不良領域情報が記憶されていないと判断した場合には（Ｓ１５８，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶されているすべての面積値（平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なり面積、平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積、Ｓ１５０において記憶された面積(＝０)）の合計値を算出し、当該合計面積値が０であるか否かを判断する（Ｓ１５９）。

当該合計面積値が０であると判断した場合（Ｓ１５９，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写基板データベース５７に格納する（Ｓ１６０）。

一方、当該合計面積値が０でないと判断した場合（Ｓ１５９，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に他の合計面積値が記憶されているか否かを判断し（Ｓ１６１）、他の合計面積値が記憶されていないと判断した場合（Ｓ１６１，Ｎｏ）、上記Ｓ１５９にて算出した合計面積値、並びにインプリント処理条件情報としての基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１６２）。

他の合計面積値が記憶されていると判断した場合（Ｓ１６１，Ｙｅｓ）、補助記憶部５３に記憶されている他の合計面積値が、上記Ｓ１５９にて算出した合計面積値よりも大きいか否かを判断する（Ｓ１６３）。

他の合計面積値が大きいと判断した場合（Ｓ１６３，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１５９にて算出した合計面積値、並びにインプリント処理条件情報としての基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報に、補助記憶部５３に記憶された情報を更新し（Ｓ１６４）、他の合計面積値が上記Ｓ１５９にて算出した合計面積値以下であると判断した場合（Ｓ１６３，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶された情報を更新することなく、後述するＳ１６５以降の処理に移行する。

その後、ＣＰＵ５１は、すべての交点における重なり判定処理を行ったか否かを判断し（Ｓ１６５）、すべての交点における重なり判定処理を行っていないと判断した場合（Ｓ１６５，Ｎｏ）、上記Ｓ１５２〜Ｓ１６４の処理を再度行う。

一方、すべての交点における重なり判定処理を行ったと判断した場合（Ｓ１６５，Ｙｅｓ）、基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ１６６）。

基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断した場合には（Ｓ１６６，Ｎｏ）、回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報に基づいて、上記Ｓ１５０における座標データの算出処理を３回行ったか否かを判断する（Ｓ１６８）。一方、基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合には（Ｓ１６６，Ｙｅｓ）、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ１６７）。

凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断した場合（Ｓ１６７，Ｎｏ）、回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報に基づいて、上記Ｓ１５０における座標データの算出処理を３回行ったか否かを判断する（Ｓ１６８）。

座標データ算出処理を３回行っていないと判断した場合（Ｓ１６８，Ｎｏ）、上記Ｓ１５０〜Ｓ１６７の処理を再度行う。一方、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合（Ｓ１６７，Ｙｅｓ）、又は座標データ算出処理を３回行ったと判断した場合（Ｓ１６８，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、補助記憶部５３に記憶されている各面積値と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納する（Ｓ１６９）。

＜インプリント用基板選択処理−裏面＞
上記Ｓ１２７にて移動不可と判断された後、又は上記Ｓ１６９にて各種情報を関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納した後、図１７に示すように、基板データベース５５に格納された基板固有情報及び補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件データを取得し、基板の裏面側を用いたインプリント処理が可能であるか否かを判断する（Ｓ１７０）。

裏面使用不可と判断した場合（Ｓ１７０，Ｎｏ）、続いての処理に移行する（図２１参照）。一方、裏面使用可能と判断した場合（Ｓ１７０，Ｙｅｓ）、補助記憶部５３に記憶された平坦度情報に裏面側の平坦度不良領域に関する情報が含まれているか否かを判断する（Ｓ１７１）。平坦度情報に裏面側の平坦度不良領域に関する情報が含まれていないと判断した場合（Ｓ１７１，Ｎｏ）、後述するＳ１７９の処理に移行する。

一方、平坦度情報に裏面側の平坦度不良領域に関する情報が含まれていると判断した場合（Ｓ１７１，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶された平坦度情報及び重なり判定用転写領域情報に基づいて、裏面側の平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＸ座標値、裏面側の平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＹ座標値、裏面側の平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＸ座標値、並びに裏面側の平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する（Ｓ１７２）。

ＣＰＵ５１は、Ｘ_left及びＸ_rightを対比し、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１７３）。Ｘ_leftがＸ_rightよりも大きいと判断した場合（Ｓ１７３，Ｎｏ）、裏面側の平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、初期転写位置情報及びインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１７４）。

一方、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいと判断した場合（Ｓ１７３，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、Ｙ_low及びＹ_upを対比し、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１７５）。Ｙ_lowがＹ_upよりも大きいと判断した場合（Ｓ１７５，Ｎｏ）、裏面側の平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、初期転写位置情報及びインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報とを補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１７４）。

一方、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいと判断した場合（Ｓ１７５，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、裏面側の平坦度不良領域と転写領域とが重なっていると判定し、裏面側の平坦度不良領域と、転写領域のうちの凹凸パターン形成領域及び裕度領域とのそれぞれが重なっている面積を算出するとともに、裏面側の平坦度不良領域と裕度領域との重なっている面積の合計、裏面側の平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なっている面積の合計及び算出した全面積の合計を算出し、算出した面積及びインプリント処理条件情報（裏面使用に関する情報）を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１７６）。

具体的には、裏面側の平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積は、以下のようにして算出することができる。

まず、補助記憶部５３に記憶されている面積算出用凹凸パターン形成領域情報に基づいて、裏面側の平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値、裏面側の平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値、裏面側の平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＸ座標値、並びに裏面側の平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点α’の各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する。そして、当該定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値から、次式により平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積を算出する。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

一方、裏面側の平坦度不良領域と裕度領域とが重なっている面積は、上記Ｓ１７２において定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値を用いて平坦度不良領域と転写領域とが重なっている面積を次式より算出し、算出された当該面積値から、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積値を減算することにより算出することができる。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

次に、ＣＰＵ５１は、転写領域との重なりの有無を判定していない裏面側の他の平坦度不良領域情報が補助記憶部５３に記憶されているか否かを判断し（Ｓ１７７）、他の平坦度不良領域情報が記憶されていると判断した場合には（Ｓ１７７，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１７２〜Ｓ１７６の処理を再度行い、他の平坦度不良領域情報が記憶されていないと判断した場合には（Ｓ１７７，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶されているすべての面積値（平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なり面積、平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積、上記Ｓ１７４において記憶された面積(＝０)）の合計値を算出し、当該合計面積値が０であるか否かを判断する（Ｓ１７８）。

当該合計面積値が０であると判断した場合（Ｓ１７８，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写基板データベース５７に格納する（Ｓ１７９）。

一方、当該合計面積値が０でないと判断した場合（Ｓ１７８，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、補助記憶部５３に記憶されている各面積値と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納する（Ｓ１８０）。

＜インプリント用基板選択処理−裏面・回転＞
上記Ｓ１８０にて基板の識別情報と収納場所情報と補助記憶部５３に記憶されている各面積値とインプリント処理条件情報とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納した後、図１８に示すように、ＣＰＵ５１は、基板データベース５５に格納された基板固有情報及び補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件データを取得し、基板と転写領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する（Ｓ１８１）。

回転不可と判断した場合には（Ｓ１８１，Ｎｏ）、次の重なり判定処理（図１９参照）に移行する。一方、回転可と判断した場合には（Ｓ１８１，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶された平坦度情報に基づいて、基板の中心を軸としてその軸周りに９０度回転させたときの裏面側の平坦度不良領域の点Ａ及び点Ｂの座標データを算出し、補助記憶部５３に記憶するとともに、回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報をあわせて記憶する（Ｓ１８２）。

次に、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶された重なり判定用転写領域情報及び基板回転後の裏面側の平坦度不良領域の座標データに基づいて、裏面側の平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＸ座標値、裏面側の平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＹ座標値、裏面側の平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＸ座標値、並びに裏面側の平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する（Ｓ１８３）。

ＣＰＵ５１は、Ｘ_left及びＸ_rightを対比し、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１８４）。Ｘ_leftがＸ_rightよりも大きいと判断した場合（Ｓ１８４，Ｎｏ）、裏面側の平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報及び基板の回転角度に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１８５）。

一方、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいと判断した場合（Ｓ１８４，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、Ｙ_low及びＹ_upを対比し、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいか否かを判断する（Ｓ１８６）。Ｙ_lowがＹ_upよりも大きいと判断した場合（Ｓ１８６，Ｎｏ）、裏面側の平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報及び基板の回転角度に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１８５）。

一方、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいと判断した場合（Ｓ１８６，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、裏面側の平坦度不良領域と転写領域とが重なっていると判定し、裏面側の平坦度不良領域と、転写領域のうちの凹凸パターン形成領域及び裕度領域とのそれぞれが重なっている面積を算出するとともに、裏面側の平坦度不良領域と裕度領域との重なっている面積の合計、裏面側の平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なっている面積の合計及び算出した全面積の合計を算出し、各面積値、並びに裏面使用に関する情報及び回転角度に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ１８７）。

具体的には、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積は、以下のようにして算出することができる。

まず、補助記憶部５３に記憶されている面積算出用凹凸パターン形成領域情報に基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点α’の各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する。そして、当該定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値から、次式により平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積を算出する。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

一方、平坦度不良領域と裕度領域とが重なっている面積は、上記Ｓ１８３において定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値を用いて平坦度不良領域と転写領域とが重なっている面積を次式より算出し、算出された当該面積値から、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積値を減算することにより算出することができる。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

次に、ＣＰＵ５１は、転写領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域情報が補助記憶部５３に記憶されているか否かを判断し（Ｓ１８８）、他の平坦度不良領域情報が記憶されていると判断した場合には（Ｓ１８８，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１８３〜Ｓ１８７の処理を再度行い、他の平坦度不良領域情報が記憶されていないと判断した場合には（Ｓ１８８，Ｎｏ）、基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ１８９）。

基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断した場合には（Ｓ１８９，Ｎｏ）、回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報に基づいて、上記Ｓ１８２における座標データの算出処理を３回行ったか否かを判断する（Ｓ１９１）。一方、基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合には（Ｓ１８９，Ｙｅｓ）、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ１９０）。

凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断した場合（Ｓ１９０，Ｎｏ）、回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報に基づいて、上記Ｓ１８２における座標データの算出処理を３回行ったか否かを判断する（Ｓ１９１）。

座標データ算出処理を３回行っていないと判断した場合（Ｓ１９１，Ｎｏ）、上記Ｓ１８２〜Ｓ１８８の処理を再度行う。一方、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合（Ｓ１９０，Ｙｅｓ）、又は座標データ算出処理を３回行ったと判断した場合（Ｓ１９１，Ｙｅｓ）、補助記憶部５３に記憶されているすべての面積値（平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なり面積、平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積、Ｓ１８８において記憶された面積(＝０)）の合計値を算出し、当該合計面積値が０であるか否かを判断する（Ｓ１９２）。

当該合計面積値が０であると判断した場合（Ｓ１９２，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写基板データベース５７に格納する（Ｓ１９３）。

一方、当該合計面積値が０でないと判断した場合（Ｓ１９２，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、補助記憶部５３に記憶されている各面積値と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納する（Ｓ１９４）。

＜インプリント用基板選択処理−裏面・移動＞
上記Ｓ１９４にて各種情報を関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納した後、図１９に示すように、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件データを取得し、基板に対する転写位置をずらした状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する（Ｓ１９５）。

移動不可と判断した場合には（Ｓ１９５，Ｎｏ）、続いての処理に移行する（図２１参照）。一方、移動可と判断した場合には（Ｓ１９５，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報に基づいて基板データベース５５から当該基板の裏面側の転写許可領域に関する情報を取得するとともに、インプリントシステムデータベース５９から移動許容領域に関するデータを取得し（Ｓ１９６）、当該転写許可領域と移動許容領域との重なる領域を移動可能領域として設定する（Ｓ１９７）。

ＣＰＵ５１は、移動可能領域の最外周上のすべての位置にインプリント用モールドの転写領域の中心をあわせたときに、インプリント用モールドの転写領域が転写許可領域内に位置するか否かを判断する（Ｓ１９８）。具体的には、インプリント用モールドの転写領域の中心を移動可能領域の最外周に沿って一周移動させたときの当該転写領域の軌跡の最外周により構成される領域が、転写許可領域よりも大きければ、転写領域の少なくとも一部が転写許可領域外に位置すると判断することができ、当該転写領域の軌跡の最外周により構成される領域が、転写許可領域よりも小さければ、転写領域が転写許可領域内に位置すると判断することができる。

インプリント用モールドの転写領域の少なくとも一部が転写許可領域外に位置すると判断した場合（Ｓ１９８，Ｎｏ）、上記Ｓ１９７にて設定された移動可能領域を、インプリント用モールドの転写領域の対角長さの半分の長さ分狭めた領域を移動領域として設定し（Ｓ１９９）、インプリント用モールドの転写領域が転写許可領域内に位置すると判断した場合（Ｓ１９８，Ｙｅｓ）、上記Ｓ１９７にて設定された移動可能領域を移動領域として設定する（Ｓ２００）。

続いて、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されている初期転写位置情報に基づいて、当該初期転写位置に基板とインプリント用モールドとを対向配置させたときにおける、当該インプリント用モールドの転写領域の中心を通るＸ軸及びＹ軸のそれぞれに平行な補助線を移動領域内に引き、補助記憶部５３に記憶されている移動距離に関する情報（Ｘ_pitch，Ｙ_pitch）に基づいて、各補助線に平行、かつ当該移動距離ごとに離間した補助線を引き、それらの補助線の各交点及び各補助線と移動領域の最外周との交点の座標を算出して、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２０１）。

次に、インプリント用モールドの転写領域の中心を任意の一の交点に移動させたときにおける重なり判定用転写領域の座標データ（点α及び点βの座標値）を算出し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２０２）。

続いて、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶された平坦度情報及び移動後の重なり判定用転写領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する（Ｓ２０３）。

ＣＰＵ５１は、Ｘ_left及びＸ_rightを対比し、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいか否かを判断する（Ｓ２０４）。Ｘ_leftがＸ_rightよりも大きいと判断した場合（Ｓ２０４，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報（初期転写位置からのＸ軸方向及びＹ軸方向への移動距離に関する情報）を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２０５）。

一方、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいと判断した場合（Ｓ２０４，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、Ｙ_low及びＹ_upを対比し、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいか否かを判断する（Ｓ２０６）。Ｙ_lowがＹ_upよりも大きいと判断した場合（Ｓ２０６，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２０５）。

一方、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいと判断した場合（Ｓ２０６，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていると判定し、平坦度不良領域と、転写領域のうちの凹凸パターン形成領域及び裕度領域とのそれぞれが重なっている面積を算出するとともに、平坦度不良領域と裕度領域との重なっている面積の合計、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との面積の合計及びすべての面積の合計を算出し、算出した面積及び転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２０７）。

具体的には、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積は、以下のようにして算出することができる。

まず、補助記憶部５３に記憶されている面積算出用凹凸パターン形成領域情報に基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点α’の各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する。そして、当該定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値から、次式により平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積を算出する。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

一方、平坦度不良領域と裕度領域とが重なっている面積は、上記Ｓ２０３において定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値を用いて平坦度不良領域と転写領域とが重なっている面積を次式より算出し、算出された当該面積値から、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積値を減算することにより算出することができる。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

次に、ＣＰＵ５１は、転写領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域情報が補助記憶部５３に記憶されているか否かを判断し（Ｓ２０８）、他の平坦度不良領域情報が記憶されていると判断した場合には（Ｓ２０８，Ｙｅｓ）、上記Ｓ２０３〜Ｓ２０７の処理を再度行い、他の平坦度不良領域情報が記憶されていないと判断した場合には（Ｓ２０８，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶されているすべての面積値（平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なり面積、平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積、Ｓ２０５において記憶された面積(＝０)）の合計値を算出し、当該合計面積値が０であるか否かを判断する（Ｓ２０９）。

当該合計面積値が０であると判断した場合（Ｓ２０９，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写基板データベース５７に格納する（Ｓ２１０）。

一方、当該合計面積値が０でないと判断した場合（Ｓ２０９，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に他の合計面積値が記憶されているか否かを判断し（Ｓ２１１）、他の合計面積値が記憶されていないと判断した場合（Ｓ２１１，Ｎｏ）、上記Ｓ２０９にて算出した合計面積値、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２１２）。

他の合計面積値が記憶されていると判断した場合（Ｓ２１１，Ｙｅｓ）、補助記憶部５３に記憶されている他の合計面積値が、上記Ｓ２０９にて算出した合計面積値よりも大きいか否かを判断する（Ｓ２１３）。

他の合計面積値が大きいと判断した場合（Ｓ２１３，Ｙｅｓ）、上記Ｓ２０９にて算出した合計面積値、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報に、補助記憶部５３に記憶された情報を更新し（Ｓ２１４）、他の合計面積値が、上記Ｓ２０９にて算出した合計面積値以下であると判断した場合（Ｓ２１３，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶された情報を更新することなく、後述するＳ２１５以降の処理に移行する。

その後、ＣＰＵ５１は、すべての交点における重なり判定処理を行ったか否かを判断し（Ｓ２１５）、すべての交点における重なり判定処理を行っていないと判断した場合（Ｓ２１５，Ｎｏ）、上記Ｓ２０２〜Ｓ２１４の処理を再度行う。

一方、すべての交点における重なり判定処理を行ったと判断した場合（Ｓ２１５，Ｙｅｓ）、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、補助記憶部５３に記憶されている各面積値と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納する（Ｓ２１６）。

＜インプリント用基板選択処理−裏面・回転・移動＞
上記Ｓ２１６にて各種情報を関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納した後、図２０に示すように、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント条件データを取得し、当該インプリント条件データに基づいて基板と転写領域とを相対的に回転させた状態でのインプリント処理が可能であるか否かを判断する（Ｓ２１７）。

回転不可と判断した場合（Ｓ２１７，Ｎｏ）、続いての処理（図２１参照）に移行する。一方、回転可能と判断した場合（Ｓ２１７，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されている平坦度情報に基づいて、基板の中心を軸としてその軸周りに９０度回転させたときの平坦度不良領域の点Ａ及び点Ｂの座標データを算出し、当該基板の回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報とともに補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２１８）。

次に、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されている初期転写位置情報に基づいて、当該初期転写位置に基板とインプリント用モールドとを対向配置させたときにおける、当該インプリント用モールドの転写領域の中心を通るＸ軸及びＹ軸のそれぞれに平行な補助線を引き、補助記憶部５３に記憶されている移動距離に関する情報（Ｘ_pitch，Ｙ_pitch）に基づいて、各補助線に平行、かつ当該移動距離ごとに離間した補助線を、基板上の移動領域（上記Ｓ１９９又はＳ２００にて設定された移動領域（図１９参照）を、基板の中心を軸としてその軸周りに９０度回転させた領域）内に引き、それらの補助線の各交点及び各補助線と移動領域の最外周との交点の座標を算出して、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２１９）。

そして、インプリント用モールドの転写領域の中心を任意の一の交点に移動させたときにおける重なり判定用転写領域の座標データ（点α及び点βの座標値）を算出し、補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２２０）。

続いて、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶された回転後の平坦度不良領域の座標データ及び移動後の重なり判定用転写領域の座標データに基づいて、平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＸ座標値、平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点αのＹ座標値、平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＸ座標値、並びに平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び重なり判定用転写領域の点βのＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点αの各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する（Ｓ２２１）。

ＣＰＵ５１は、Ｘ_left及びＸ_rightを対比し、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいか否かを判断する（Ｓ２２２）。Ｘ_leftがＸ_rightよりも大きいと判断した場合（Ｓ２２２，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報、基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報（初期転写位置からのＸ軸方向及びＹ軸方向への移動距離に関する情報）を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２２３）。

一方、Ｘ_leftがＸ_rightよりも小さいと判断した場合（Ｓ２２２，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、Ｙ_low及びＹ_upを対比し、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいか否かを判断する（Ｓ２２４）。Ｙ_lowがＹ_upよりも大きいと判断した場合（Ｓ２２４，Ｎｏ）、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていないと判定し、平坦度不良領域と転写領域との重なり面積に関する情報（面積＝０）、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報、基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２２３）。

一方、Ｙ_lowがＹ_upよりも小さいと判断した場合（Ｓ２２４，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、平坦度不良領域と転写領域とが重なっていると判定し、平坦度不良領域と、転写領域のうちの凹凸パターン形成領域及び裕度領域とのそれぞれが重なっている面積を算出するとともに、平坦度不良領域と裕度領域との重なっている面積の合計、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との面積の合計及びすべての面積の合計を算出し、算出した面積、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報、基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２２５）。

具体的には、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積は、以下のようにして算出することができる。

まず、補助記憶部５３に記憶されている面積算出用凹凸パターン形成領域情報に基づいて、回転後の平坦度不良領域の点ＡのＸ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＸ座標値、回転後の平坦度不良領域の点ＡのＹ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点α’のＹ座標値、回転後の平坦度不良領域の点ＢのＸ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＸ座標値、並びに回転後の平坦度不良領域の点ＢのＹ座標値及び移動後の面積算出用凹凸パターン形成領域の点β’のＹ座標値をそれぞれ対比し、点Ａ及び点α’の各座標値のうちの大きい値をそれぞれＸ_left及びＹ_lowと定義し、点Ｂ及び点βの各座標値のうちの小さい値をそれぞれＸ_right及びＹ_upと定義する。そして、当該定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値から、次式により平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積を算出する。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

一方、平坦度不良領域と裕度領域とが重なっている面積は、上記Ｓ２２１において定義されたＸ_left、Ｘ_right、Ｙ_low及びＹ_upの値を用いて平坦度不良領域と転写領域とが重なっている面積を次式より算出し、算出された当該面積値から、平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域とが重なっている面積値を減算することにより算出することができる。
面積＝(Ｘ_right−Ｘ_left)×(Ｙ_up−Ｙ_low)

次に、ＣＰＵ５１は、転写領域との重なりの有無を判定していない他の平坦度不良領域情報が補助記憶部５３に記憶されているか否かを判断し（Ｓ２２６）、他の平坦度不良領域情報が記憶されていると判断した場合には（Ｓ２２６，Ｙｅｓ）、上記Ｓ２２１〜Ｓ２２５の処理を再度行い、他の平坦度不良領域情報が記憶されていないと判断した場合には（Ｓ２２６，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶されているすべての面積値（平坦度不良領域と凹凸パターン形成領域との重なり面積、平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積、上記Ｓ２２３において記憶された面積(＝０)）の合計値を算出し、当該合計面積値が０であるか否かを判断する（Ｓ２２７）。

当該合計面積値が０であると判断した場合（Ｓ２２７，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、初期転写位置情報と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写基板データベース５７に格納する（Ｓ２２８）。
一方、当該合計面積値が０でないと判断した場合（Ｓ２２７，Ｎｏ）、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に他の合計面積値が記憶されているか否かを判断し（Ｓ２２９）、他の合計面積値が記憶されていないと判断した場合（Ｓ２２９，Ｎｏ）、上記Ｓ２２７にて算出した合計面積値、並びにインプリント処理条件情報としての基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報を補助記憶部５３に記憶する（Ｓ２３０）。

他の合計面積値が記憶されていると判断した場合（Ｓ２２９，Ｙｅｓ）、補助記憶部５３に記憶されている他の合計面積値が、上記Ｓ２２７にて算出した合計面積値よりも大きいか否かを判断する（Ｓ２３１）。

他の合計面積値が大きいと判断した場合（Ｓ２３１，Ｙｅｓ）、上記Ｓ２２７にて算出した合計面積値、並びにインプリント処理条件情報としての裏面使用に関する情報、基板の回転角度に関する情報及び基板に対する転写位置に関する情報に、補助記憶部５３に記憶された情報を更新し（Ｓ２３２）、他の合計面積値が、上記Ｓ２２７にて算出した合計面積値以下であると判断した場合（Ｓ２３１，Ｎｏ）、補助記憶部５３に記憶された情報を更新することなく、後述するＳ２３３以降の処理に移行する。

その後、ＣＰＵ５１は、すべての交点における重なり判定処理を行ったか否かを判断し（Ｓ２３３）、すべての交点における重なり判定処理を行っていないと判断した場合（Ｓ２３３，Ｎｏ）、上記Ｓ２２０〜Ｓ２３２の処理を再度行う。

一方、すべての交点における重なり判定処理を行ったと判断した場合（Ｓ２３３，Ｙｅｓ）、基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ２３４）。

基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断した場合には（Ｓ２３４，Ｎｏ）、回転後の座標データの算出処理回数に関する情報に基づいて、上記Ｓ２１８における座標データの算出処理を３回行ったか否かを判断する（Ｓ２３６）。一方、基板の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合には（Ｓ２３４，Ｙｅｓ）、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致しているか否かを判断する（Ｓ２３５）。

凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していないと判断した場合（Ｓ２３５，Ｎｏ）、回転後の座標データの算出処理の回数に関する情報に基づいて、上記Ｓ２１８における座標データの算出処理を３回行ったか否かを判断する（Ｓ２３６）。

座標データ算出処理を３回行っていないと判断した場合（Ｓ２３６，Ｎｏ）、上記Ｓ２１８〜Ｓ２３５の処理を再度行う。一方、凹凸パターン形成領域の中心とインプリント用モールドの中心とが一致していると判断した場合（Ｓ２３５，Ｙｅｓ）、又は座標データ算出処理を３回行ったと判断した場合（Ｓ２３６，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、基板の識別情報と、収納場所情報と、補助記憶部５３に記憶されている各面積値と、初期転写位置情報と、インプリント処理条件情報とを関連付けて被転写候補基板データベース５８に格納する（Ｓ２３７）。

＜インプリント用基板選択処理−基板選択・優先順位付与＞
上述した重なり判定処理（図１３〜２０）において各種情報が被転写基板データベース５７に格納された場合（Ｓ１１１，Ｓ１２５，Ｓ１４２，Ｓ１６０，Ｓ１７９，Ｓ１９３，Ｓ２１０，Ｓ２２８）、図２１に示すように、ＣＰＵ５１は、被転写基板データベース５７に格納された基板に関する情報を基板データベース５５から削除し（Ｓ２３８）、補助記憶部５３に記憶されている基板枚数情報に基づいて、基板枚数から１を減算する処理を行い、当該基板枚数情報を更新する（Ｓ２３９）。そして、補助記憶部５３に記憶されているインプリント予定枚数情報（Ｎ枚）に基づいて、当該インプリント予定枚数から１を減算する処理を行い、インプリント予定枚数情報（Ｎ−１枚）を更新する（Ｓ２４０）。

続いて、補助記憶部５３に記憶されているインプリント予定枚数情報に基づいて、インプリント予定枚数が０枚になったか否かを判断し（Ｓ２４１）、インプリント予定枚数が０枚になった場合（Ｓ２４１，Ｙｅｓ）、インプリント用基板選択処理を終了する。

上述した重なり判定処理（図１３〜２０）において各種情報が被転写候補基板データベース５８に格納された場合（Ｓ１１２，Ｓ１２６，Ｓ１４８，Ｓ１６９，Ｓ１８０，Ｓ１９４，Ｓ２１６，Ｓ２３７）、補助記憶部５３に記憶されている基板枚数情報に基づいて、基板枚数から１を減算する処理を行い、当該基板枚数情報を更新する（Ｓ２４２）。

上記Ｓ２４１においてインプリント予定枚数が０枚になっていないと判断した場合（Ｓ２４１，Ｎｏ）、又は上記Ｓ２４２において基板枚数情報を更新した後、補助記憶部５３に記憶されている基板枚数情報に基づいて、基板枚数が０枚になったか否かを判断する（Ｓ２４３）。

基板枚数が０枚になっていない（すなわち、基板データベース５５に上記重なり判定処理（図１３〜２０）を行っていない基板が存在する）と判断した場合（Ｓ２４３，Ｎｏ）、基板データベース５５に格納されている一の基板の平坦度情報を取得し、インプリント用基板選択処理における基板の平坦度不良領域とインプリント用モールドの転写領域との重なりを判定する処理を再度行う（図１３〜２０参照）。

一方、基板枚数が０枚になった（すなわち、基板データベース５５に上記重なり判定処理（図１３〜２０）を行っていない基板が存在しない）と判断した場合（Ｓ２４３，Ｙｅｓ）、被転写候補基板データベース５８に基板に関する情報が格納されているか否かを判断する（Ｓ２４４）。

被転写候補基板データベース５８に基板に関する情報が格納されていないと判断した場合（Ｓ２４４，Ｎｏ）、インプリント用基板選択処理を終了する。一方、被転写候補基板データベース５８に基板に関する情報が格納されていると判断した場合（Ｓ２４４，Ｙｅｓ）、被転写候補基板データベース５８に格納された各面積値のうちの平坦度不良領域と裕度領域とが重なる面積の合計値を基準として、被転写候補基板データベース５８に格納されている基板に関する情報をソートする（Ｓ２４５）。次に、当該合計値の小さい順に整列した基板に対し、その順に優先順位情報を付与し、当該優先順位情報を基板の識別情報と関連付けて格納する（Ｓ２４６）。

続いて、ＣＰＵ５１は、被転写候補基板データベース５８に格納されている基板に関するデータの中から、優先順位が最小の基板の平坦度不良領域と裕度領域との重なり面積の合計値に関する情報を取得する（Ｓ２４７）。そして、ＣＰＵ５１は、取得した面積合計値に関する情報に基づいて、面積合計値がインプリント処理可能な許容範囲に含まれるか否かを判断する（Ｓ２４８）。

面積合計値が許容範囲に含まれないと判断した場合（Ｓ２４８，Ｎｏ）、被転写候補基板データベース５８に格納されているすべての基板に関するデータを削除し（Ｓ２４９）、インプリント用基板選択処理を終了する。

一方、面積合計値が許容範囲に含まれると判断した場合（Ｓ２４８，Ｙｅｓ）、ＣＰＵ５１は、被転写候補基板データベース５８に格納されている当該基板に関する情報（基板の識別情報、収容場所情報及びインプリント処理条件情報）を被転写基板データベース５７に移動するとともに（Ｓ２５０）、被転写候補基板データベース５８から当該基板に関する情報を削除し（Ｓ２５１）、基板データベースから当該基板に関する情報を削除する（Ｓ２５２）。

続いて、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント予定枚数情報に基づいて、当該インプリント予定枚数から１を減算する処理を行い、インプリント予定枚数情報を更新する（Ｓ２５３）。そして、ＣＰＵ５１は、補助記憶部５３に記憶されているインプリント予定枚数情報に基づいて、インプリント予定枚数が０枚になったか否かを判断し（Ｓ２５４）、インプリント予定枚数が０枚になった場合（Ｓ２５４，Ｙｅｓ）、インプリント用基板選択処理を終了する。

一方、インプリント予定枚数が０枚になっていない場合（Ｓ２５４，Ｎｏ）、被転写候補基板データベース５８に基板に関する情報が格納されているか否かを判断し（Ｓ２５５）、かかる基板に関する情報が格納されている場合には（Ｓ２５５，Ｙｅｓ）、上記Ｓ２４７〜Ｓ２５４の処理を再度行い、かかる基板に関する情報が格納されていない場合には（Ｓ２５５，Ｎｏ）、インプリント用基板選択処理を終了する。

＜インプリント処理＞
続いて、インプリント用基板選択処理により選択された基板の搬送処理及び当該基板に対するインプリント処理を行う。

図２２に示すように、制御装置５（ＣＰＵ５１）は、被転写基板データベース５７に格納された基板に関する情報の中から当該被転写基板データベース５７に最初に格納された情報を取得し（ＳＣ１０１）、当該基板に関する情報を、通信部５４を介して基板搬送装置４に送信する（ＳＣ１０２）。基板搬送装置４は、制御装置５から送信された当該基板に関する情報を受信し（ＳＴ１０１）、当該基板の収納場所情報に基づいて、選択された基板を基板収納部２から取り出し（ＳＴ１０２）、当該基板をインプリント装置３に搬送し、インプリント装置３の基板ステージに載置する（ＳＴ１０３）。基板搬送装置４は、基板の搬送・載置処理が完了したら、搬送・載置処理が完了した旨の信号を制御装置５に送信する（ＳＴ１０４）。

制御装置５は、基板搬送装置４から送信された当該信号を受信し（ＳＣ１０３）、上記ＳＣ１０２において基板搬送装置４に送信した基板に関する情報をインプリント装置３に送信する（ＳＣ１０４）。

基板搬送装置４により基板が搬送・載置されたインプリント装置３は、制御装置５から送信された当該基板に関する情報を受信し（ＳＩ１０１）、当該基板のインプリント処理条件情報に基づいて、インプリント処理を行う（ＳＩ１０２）。例えば、インプリント処理条件情報に、基板を１８０度回転させた状態で表面に転写するという内容の情報が含まれている場合、インプリント装置３は、基板搬送装置４により基板が載置された基板ステージを１８０度回転させた後、又はインプリント用モールドを保持する保持部を１８０度回転させた後、基板上に樹脂（例えば、エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等のインプリント処理に用いられ得る樹脂）を塗布し、インプリント用モールドを押し付けることにより当該樹脂を押し広げ、インプリント用モールドの凹凸パターンを当該樹脂に転写する。そして、当該樹脂を硬化させた後に、インプリント用モールドを剥がし、インプリント処理を終了させる。インプリント処理が終了した後、インプリント装置３は、制御装置５にインプリント処理が終了した旨の信号を送信し（ＳＩ１０３）、制御装置５は、当該信号を受信する（ＳＣ１０５）。当該信号を受信した制御装置５は、被転写基板データベース５７に格納されている次の基板に関する情報を取得し、基板搬送装置４に送信する。このようにして、被転写基板データベース５７にデータが格納されている全基板に対するインプリント処理を繰り返し行う。

上述したような本実施形態に係るインプリントシステム１においては、インプリント用基板選択処理により選択された基板の表面又は裏面の平坦度が良好な部分にインプリント用モールドの凹凸パターンが転写されるため、当該基板上に塗布された樹脂を、インプリント用モールドの押し付けにより押し広げる際に、当該樹脂の広がりが停滞するのを防止することができ、インプリント用モールドにかかる圧力を略均一にすることができるため、樹脂の広がりにムラが生じるのを防止することができる。そのため、基板への高精度な転写が可能となり、転写された凹凸パターンの高さの基板内でのばらつきや、形状不良等の転写欠陥が生じるのを防止することができ、その結果として、インプリント処理のスループットを向上させることができる。

また、転写後の樹脂の残膜（基板表面と樹脂の凹凸パターンの凹部底面との間に存在する樹脂膜）の厚み（残膜厚）を考慮すると、本実施形態に係るインプリントシステム１における基板の選択処理は効果的である。例えば、インプリント処理における残膜厚のねらいを１０ｎｍ程度に設定した場合において、インプリント処理に付される基板における転写位置の平坦度が１０ｎｍ以上であれば、凹凸パターンが転写された領域に残膜厚のムラが生じる可能性を否定することができない。しかしながら、本実施形態に係るインプリントシステム１によれば、平坦度の良好な基板又は平坦度不良領域を有する基板であっても当該基板における平坦度の良好な部分にインプリント用モールドの凹凸パターンが転写されるため、このような残膜厚のバラつきが生じる可能性を低減することができる。

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

上記実施形態においては、基板の平坦度情報として平坦度不良領域の座標データが基板データベース５５に格納されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、平坦度の良好な領域（所定の平坦度測定装置を用いて基板の被転写面（又は裏面）の平坦度を測定・解析したときにおける所定の平坦度（例えば、１０ｎｍ未満）の領域）の座標データが基板データベース５５に格納されていてもよいし、平坦度の最悪な領域（所定の平坦度測定装置を用いて基板の被転写面（又は裏面）の平坦度を測定・解析したときにおける所定の平坦度（例えば、１０ｎｍ以上）の領域）の座標データと平坦度の好ましくない領域（所定の平坦度測定装置を用いて基板の被転写面（又は裏面）の平坦度を測定・解析したときにおける所定の平坦度（例えば、５ｎｍ以上１０ｎｍ未満）の領域)の座標データとが基板データベース５５に格納されていてもよい。前者の場合、転写領域が平坦度の良好な領域内に含まれているか否かを判断し、含まれていると判断された基板をインプリント処理に適した基板として選択すればよい。また、後者の場合、平坦度の最悪な領域と転写領域とが重なっているか否かを判断するとともに、平坦度の好ましくない領域と転写領域とが重なっているか否かを判断し、いずれも重なっていないと判断された基板をインプリント処理に適した基板として選択するようにしてもよいし、平坦度の最悪な領域と転写領域とが重なっていないと判断された基板（平坦度の好ましくない領域と転写領域とは重なっていると判断された基板）もインプリント処理に適した基板として選択するようにしてもよい。

上記実施形態においては、平坦度不良領域を矩形の枠で囲んだ領域として規定しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、平坦度不良領域を円形又は楕円形の枠で囲んだ領域として規定してもよいし、多角形の枠で囲んだ領域として規定してもよい。前者の場合、円形又は楕円形により表される平坦度不良領域を数式にて定義し、転写領域を表す点α及び点βの座標データを当該数式に代入して点α及び点βのいずれかが平坦度不良領域内に位置するか否かを判定することにより、平坦度不良領域と転写領域とが重なっているか否かを判断すればよい。また、後者の場合、多角形により表される平坦度不良領域を分割して複数の矩形により規定した上で、各矩形により表される平坦度不良領域と転写領域とが重なっているか否かを判断すればよい。

上記実施形態においては、インプリント用基板選択処理が終了した後にインプリント処理が行われるが、本発明はこれに限定されるものではなく、インプリント用基板選択処理と平行してインプリント処理が行われてもよい。この場合において、被転写基板データベース５７に基板に関する情報が最初に格納されたときに、それを引き金としてインプリント処理を開始するようにすればよい。

上記実施形態においては、インプリント処理条件情報をインプリント装置３に送信し、当該インプリント処理条件情報に基づいてインプリント装置３の基板ステージに載置された基板を回転させているが、本発明はこれに限定されるものではなく、基板を予め回転させた上で、インプリント装置３の基板ステージに基板を載置してもよい。この場合において、制御装置５は、基板搬送装置４にインプリント処理条件情報を送信し、その情報に基づいて、基板搬送装置４は基板収納部２から取り出した基板を予め回転させてインプリント装置３の基板ステージに載置すればよく、インプリント装置３は、基板ステージやインプリント用モールドを保持する保持部を回転させることなくインプリント処理を行えばよい。

上記実施形態においては、転写領域には凹凸パターン形成領域と裕度領域とが含まれるが、本発明はこれに限定されるものではなく、転写領域に裕度領域を含めることなく、凹凸パターン形成領域を転写領域として、当該凹凸パターン形成領域と平坦度不良領域とが重なっているか否かを判断してもよい。この場合においては、凹凸パターン形成領域と平坦度不良領域とが重なっていない基板のみをインプリント処理に適した基板として選択し、それらの領域が重なる基板に対して優先順位情報を付与し、優先順位情報が付与された基板を対象としてインプリント処理に適した基板であるか否かを判定しなくてもよいし、それらの領域の重なる面積に応じて優先順位情報を付与し、インプリント処理に適した基板であるか否かを判定してもよい。

上記実施形態においては、転写領域の含まれる裕度領域と平坦度不良領域とが重なる面積の合計値を基準として優先順位情報を付与しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、凹凸パターン形成領域と平坦度不良領域とが重なる面積の合計値を基準として優先順位情報を付与してもよいし、凹凸パターン形成領域と平坦度不良領域とが重なる面積の合計値を第１の基準とし、裕度領域と平坦度不良領域とが重なる面積の合計値を第２の基準として優先順位情報を付与してもよい。このようにして優先順位情報を付与した上で、凹凸パターン形成領域と平坦度不良領域とが重なる面積の合計値が０である基板のみをインプリント用基板として選択するようにしてもよい。

本発明のインプリント用基板選択システムは、半導体製品等の製造過程におけるインプリント処理に適用することができる。

１…インプリントシステム
２…基板収納部
３…インプリント装置
４…基板搬送装置
５…制御装置

Claims (28)

1. インプリント装置にてインプリント用モールドの凹凸形状を転写する対象となる基板を複数収納する基板収納部と、前記基板収納部に収納された複数の基板の中から前記インプリント装置における転写に適した一の基板を選択するための制御装置とを備え、
   前記制御装置は、
   前記基板収納部に収納された基板の一の面の平坦度に関する平坦度情報及び前記基板収納部に収納された各基板に関する基板固有情報を対応付けて記憶する基板関連情報記憶手段と、
   前記インプリント用モールドにおける前記凹凸形状が形成されている領域を含む転写領域に関する情報を記憶する転写領域情報記憶手段と、
   前記平坦度情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記インプリント装置における転写に適した一の基板を選択する基板選択手段と
   を有することを特徴とするインプリント用基板選択システム。
2. 前記平坦度情報には、前記基板収納部に収納された基板の一の面の平坦度が不良である領域に関する情報が含まれ、
   前記制御装置は、前記一の面の平坦度不良領域情報と前記転写領域情報とに基づいて、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する重なり判定手段をさらに有し、
   前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項１に記載のインプリント用基板選択システム。
3. 前記制御装置は、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、
   前記重なり判定手段は、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記一の面の平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、
   前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項２に記載のインプリント用基板選択システム。
4. 前記制御装置は、前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、
   前記重なり判定手段は、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記一の面の平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、
   前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記転写領域を前記一の面の平坦度不良領域に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項２又は３に記載のインプリント用基板選択システム。
5. 前記制御装置は、前記基板の他の面側を用いた前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、
   前記平坦度不良領域情報には、前記基板の他の面側の平坦度が不良である領域に関する他の面側平坦度不良領域情報が含まれ、
   前記重なり判定手段は、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、
   前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項２〜４のいずれかに記載のインプリント用基板選択システム。
6. 前記インプリント条件情報には、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報が含まれ、
   前記重なり判定手段は、前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、
   前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項５に記載のインプリント用基板選択システム。
7. 前記インプリント条件情報には、前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報が含まれ、
   前記重なり判定手段は、前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定した場合に、前記インプリント条件情報、前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かをさらに判定し、
   前記基板選択手段は、前記重なり判定手段により前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項５又は６に記載のインプリント用基板選択システム。
8. 前記制御装置は、前記重なり判定手段により前記平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に両領域の重なる面積を算出する重なり面積算出手段と、前記重なり面積算出手段により算出された面積値に応じて優先順位情報を付与する優先順位情報付与手段と、前記優先順位情報付与手段により付与された優先順位情報に基づいて選択された一の基板に対し、前記インプリント装置における転写が可能であるか否かを判定する転写可否判定手段とをさらに有し、
   前記基板選択手段は、前記転写可否判定手段により前記インプリント装置における転写が可能であると判定された基板を選択することを特徴とする請求項２〜７のいずれかに記載のインプリント用基板選択システム。
9. 前記優先順位情報付与手段は、前記重なり面積算出手段により算出された各面積値のうちの最小値に基づいて前記優先順位情報を付与することを特徴とする請求項８に記載のインプリント用基板選択システム。
10. インプリント装置を用いてインプリント用モールドの凹凸形状を転写するのに適した基板を選択する制御装置において実行されるインプリント用基板選択プログラムであって、
    前記制御装置は、前記基板の一の面の平坦度が不良である領域に関する平坦度不良領域情報を記憶する基板関連情報記憶手段と、前記インプリント用モールドにおける凹凸形状が形成されている領域を含む転写領域に関する情報を記憶する転写領域情報記憶手段とを備え、
    前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記平坦度不良領域情報と、前記転写領域情報記憶手段から読み出された前記転写領域情報とに基づいて、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第１の重なり判定ステップと、
    前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を、前記インプリント装置における転写に適した基板として選択する基板選択ステップと
    を前記制御装置に実行させることを特徴とするインプリント用基板選択プログラム。
11. 前記制御装置は、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに備え、
    前記第１の重なり判定ステップにより前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第２の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させることを特徴とする請求項１０に記載のインプリント用基板選択プログラム。
12. 前記制御装置は、前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、
    前記第１の重なり判定ステップにより前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記移動後平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第３の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させることを特徴とする請求項１０又は１１に記載のインプリント用基板選択プログラム。
13. 前記制御装置は、前記基板の他の面側を用いた前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報を記憶するインプリント条件情報記憶手段をさらに有し、
    前記平坦度不良領域情報には、前記基板の他の面側の平坦度が不良である領域に関する他の面側平坦度不良領域情報が含まれ、
    前記第１の重なり判定ステップにより前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第４の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラム。
14. 前記インプリント条件情報には、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報が含まれ、
    前記第４の重なり判定ステップにより前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域が重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第５の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させることを特徴とする請求項１３に記載のインプリント用基板選択プログラム。
15. 前記インプリント条件情報には、前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能であるか否かに関する情報が含まれ、
    前記第４の重なり判定ステップにより前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域が重なると判定された場合に、前記インプリント条件情報記憶手段から読み出されたインプリント条件情報、前記基板関連情報記憶手段から読み出された前記他の面側平坦度不良領域情報及び前記転写領域情報に基づいて、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第６の重なり判定ステップを前記制御装置に実行させることを特徴とする請求項１３又は１４に記載のインプリント用基板選択プログラム。
16. 前記平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に両領域の重なる面積を算出する重なり面積算出ステップと、
    前記重なり面積算出ステップにより算出された面積値に基づいて優先順位情報を付与する優先順位情報付与ステップと、
    前記優先順位情報付与ステップにより付与された優先順位情報に基づいて選択された一の基板に対し、前記インプリント装置における転写が可能であるか否かを判定する転写可否判定ステップと
    を前記制御装置に実行させ、
    前記基板選択ステップにおいて、前記転写可否判定ステップにより前記インプリント装置における転写が可能であると判定された基板を選択することを特徴とする請求項１０〜１５のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラム。
17. 前記優先順位情報付与ステップにおいて、前記重なり面積算出ステップにより算出された各面積値のうちの最小値に基づいて前記優先順位情報を付与することを特徴とする請求項１６に記載のインプリント用基板選択プログラム。
18. 請求項１０〜１７のいずれかに記載のインプリント用基板選択プログラムを格納した記録媒体。
19. 請求項１〜９のいずれかに記載のインプリント用基板選択システムと、
    前記インプリント用基板選択システムにより選択された基板に対し、前記インプリント用モールドの凹凸形状を転写するインプリント装置と
    を備え、
    前記制御装置は、前記平坦度情報と前記転写領域情報とに基づいて、前記インプリント装置における転写可能領域を設定する転写可能領域設定手段をさらに有し、
    前記インプリント装置は、前記転写可能領域設定手段により設定された転写可能領域に前記インプリント用モールドの凹凸形状が転写されるように、前記制御装置により制御されることを特徴とするインプリントシステム。
20. インプリント装置を用いてインプリント用モールドの凹凸形状を転写するのに適した基板を選択する方法であって、
    前記基板の一の面の平坦度が不良である領域と前記インプリント用モールドにおける凹凸形状が形成されている領域を含む転写領域とが重なるか否かを判定する第１の重なり判定工程と、
    前記第１の重なり判定工程において、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択する基板選択工程と
    を含むことを特徴とするインプリント用基板選択方法。
21. 前記第１の重なり判定工程において、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第２の重なり判定工程をさらに含み、
    前記基板選択工程において、前記第２の重なり判定工程により前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項２０に記載のインプリント用基板選択方法。
22. 前記第１の重なり判定工程において、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第３の重なり判定工程をさらに含み、
    前記基板選択工程において、前記第３の重なり判定工程により前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項２０又は２１に記載のインプリント用基板選択方法。
23. 前記第１の重なり判定工程において、前記一の面の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板の他の面側を用いた前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記基板の他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第４の重なり判定工程をさらに含み、
    前記基板選択工程において、前記第４の重なり判定工程により前記基板の他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項２０〜２２のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法。
24. 前記第４の重なり判定工程において、前記基板の他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させた状態での前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第５の重なり判定工程をさらに含み、
    前記基板選択工程において、前記第５の重なり判定工程により前記基板と前記転写領域とを相対的に回転させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項２３に記載のインプリント用基板選択方法。
25. 前記第４の重なり判定工程において、前記基板の他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定され、かつ前記基板に対する転写位置をずらした状態での前記インプリント装置における転写が可能である場合に、前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重なるか否かを判定する第６の重なり判定工程をさらに含み、
    前記基板選択工程において、前記第６の重なり判定工程により前記転写領域を前記基板に対して相対的に移動させたときに前記他の面側の平坦度不良領域と前記転写領域とが重ならないと判定された基板を選択することを特徴とする請求項２３又は２４に記載のインプリント用基板選択方法。
26. 前記平坦度不良領域と前記転写領域とが重なると判定された場合に、両領域の重なる面積を算出する重なり面積算出工程と、
    前記重なり面積算出工程により算出された面積値に基づいて優先順位を付与する優先順位付与工程と、
    前記優先順位付与工程により付与された優先順位に基づいて選択された一の基板に対し、前記インプリント装置における転写が可能であるか否かを判定する転写可否判定工程と
    をさらに含み、
    前記基板選択工程において、前記転写可否判定工程により前記インプリント装置における転写が可能であると判定された基板を選択することを特徴とする請求項２０〜２５のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法。
27. 前記優先順位付与工程において、前記重なり面積算出工程において算出された各面積値のうちの最小値に基づいて前記優先順位を付与することを特徴とする請求項２６に記載のインプリント用基板選択方法。
28. 請求項２０〜２７のいずれかに記載のインプリント用基板選択方法により選択された基板に対し、前記インプリント装置における転写可能領域を設定する工程と、
    前記インプリント装置を用いて前記インプリント用モールドの凹凸形状を前記転写可能領域に転写する工程と
    を含むことを特徴とするインプリント方法。

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