JP2013101936A - プラズマ発生装置 - Google Patents
プラズマ発生装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013101936A JP2013101936A JP2012261153A JP2012261153A JP2013101936A JP 2013101936 A JP2013101936 A JP 2013101936A JP 2012261153 A JP2012261153 A JP 2012261153A JP 2012261153 A JP2012261153 A JP 2012261153A JP 2013101936 A JP2013101936 A JP 2013101936A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- region
- longitudinal direction
- discharge
- hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 80
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 30
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 30
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004847 absorption spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000002498 deadly effect Effects 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000001072 vacuum ultraviolet spectrophotometry Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置100であって、長手方向に伸び、プラズマを発生する柱状のプラズマ化領域Pを内包する絶縁体から成る筐体10と、プラズマ化領域Pにプラズマ発生ガスを前記長手方向に対して垂直な方向から長手方向に一様に供給するガス導入部12と、プラズマ化領域Pにおいて、前記長手方向に離間して配置された1対の電極2a,2bと、プラズマ化領域Pに接続され、そのプラズマ化領域Pで生成された前記プラズマを排出し、プラズマ化領域Pの長手方向に沿って配列され、前記プラズマ発生ガスの流れる方向に長く伸びた多数の孔から成る排出部24とを有する。
【選択図】図1
Description
第2の発明は、第1の発明において、ガス導入部は、プラズマ発生ガスをプラズマ化領域に対して、長手方向に一様に供給し、長手方向に対して垂直な方向に案内する多数の案内部から成る拡散部を有することを特徴とする。これにより、プラズマ化領域の長手方向に沿って、一様にプラズマ発生ガスを供給することができる。この案内部は、格子状に形成されていても、多数の孔の壁面で構成されていても良い。
第3の発明は、第1又は第2の発明において、排出部における孔の長さは、プラズマを照射する対象物に対して、放電が形成されない長さであることを特徴とする。これにより、対象物に損傷を与えることがない。孔の長さは、ラジカルの死活を考えると、放電が形成されない長さのうちで、最も短い長さが最も良い。
第6の発明は、第1乃至第5の発明の何れかにおいて、排出部の孔は、長手方向の垂直方向に対して、傾斜している傾斜部を有することを特徴とする。この場合には、電子を孔の傾斜部壁面で効率良く吸収することができ、より純度の高いラジカルを対象物に照射することができる。また、紫外線、真空紫外線、可視光線などが対象物に照射されることが防止される。また、傾斜部の壁面で、プラズマ化領域で発光した紫外線が遮られるので、孔の先端から紫外線が対象物に照射されることが防止される。これにより、対象物が紫外線などのプラズマ化領域から発光した光から受ける損傷を防止することができる。
第7の発明は、第1乃至第6の発明の何れかにおいて、1対の電極は、1cm以上50cm以下の距離で離間して配置されていることを特徴とする。
第8の発明は、第1乃至第7の発明の何れかにおいて、1対の電極の少なくとも一方には、他方と対向する表面に凹凸が形成されていることを特徴とする。
第9の発明は、第1乃至第7の発明の何れかにおいて、柱状のプラズマ化領域の長手方向の長さLcmと、長手方向に垂直な断面積σmm2の関係は、2≦Lσ≦200且つ3≦σ≦25であることを特徴とする。この範囲の時に、効果的にプラズマを発生させることができる。より望ましくは、2≦Lσ≦100且つ3≦σ≦25である。
第10の発明は、排出部の孔のガス流に垂直な断面は、円、楕円、配列方向に垂直な方向に長辺を有する長方形又はスリット状であることを特徴とする。
以上の全ての発明において、大気圧が望ましいが、減圧でも、加圧でも良く、大気圧には、0.5〜2気圧程度も大気圧とする。排出部の孔の先端部の直径は、0.1mm以上、1mm以下とすると良い。この孔の直径が小さい程、ガスの流速が速くなり、ラジカルを消滅させることなく、対象物に照射できる確率が高くなるので、望ましい。ので、この場合に、良好にラジカルを放射することができる。排出部の孔の長さは、一対の電極の間の距離の1/2以上とすることで、対象物に対する放電を有効に防止することができる。
プラズマ発生装置110は、液晶表示器のガラス基板において、異方性導電フィルム(ACF)を貼付する部分を、ACFを貼付する前に洗浄することで、ACFの基板に対する接着度を向上させることができる。
また、電極2a及び2b間を長さ4cmとして、プラズマ化領域Pの断面を正方形として、一辺の長さを変化させたところ、5mm以下で安定して放電した。また、プラズマ化領域Pの断面の一辺の長さを5mmとして、電極2a及び2b間の長さを変化させたところ、距離4cm以下で安定して放電した。
10:筐体
12:ガス導入部
P:プラズマ化領域
16:案内部
18:拡散部
23,25,26:孔
20:拡散部
21:第1拡散部
22:第2拡散部
27:傾斜排出部
24:直線排出部
第2の発明は、第1の発明において、ガス導入部は、プラズマ発生ガスをプラズマ化領域に対して、長手方向に一様に供給し、長手方向に対して垂直な方向に案内する多数の案内部から成る拡散部を有することを特徴とする。これにより、プラズマ化領域の長手方向に沿って、一様にプラズマ発生ガスを供給することができる。この案内部は、格子状に形成されていても、多数の孔の壁面で構成されていても良い。
第3の発明は、第1又は第2の発明において、排出部における孔の長さは、プラズマを照射する対象物に対して、放電が形成されない長さであることを特徴とする。これにより、対象物に損傷を与えることがない。孔の長さは、ラジカルの死活を考えると、放電が形成されない長さのうちで、最も短い長さが最も良い。
第6の発明は、第1乃至第5の発明の何れかにおいて、排出部の孔は、長手方向の垂直方向に対して、傾斜している傾斜部を有することを特徴とする。この場合には、電子を孔の傾斜部壁面で効率良く吸収することができ、より純度の高いラジカルを対象物に照射することができる。また、紫外線、真空紫外線、可視光線などが対象物に照射されることが防止される。また、傾斜部の壁面で、プラズマ化領域で発光した紫外線が遮られるので、孔の先端から紫外線が対象物に照射されることが防止される。これにより、対象物が紫外線などのプラズマ化領域から発光した光から受ける損傷を防止することができる。
第7の発明は、第1乃至第6の発明の何れかにおいて、1対の電極は、1cm以上50cm以下の距離で離間して配置されていることを特徴とする。
第8の発明は、第1乃至第7の発明の何れかにおいて、1対の電極の一方には、他方と対向する表面に凹凸が形成されていることを特徴とする。
第9の発明は、第1乃至第7の発明の何れかにおいて、柱状のプラズマ化領域の長手方向の長さLcmと、長手方向に垂直な断面積σmm2の関係は、2≦Lσ≦200且つ3≦σ≦25であることを特徴とする。この範囲の時に、効果的にプラズマを発生させることができる。より望ましくは、2≦Lσ≦100且つ3≦σ≦25である。
第10の発明は、排出部の孔のガス流に垂直な断面は、円、楕円、配列方向に垂直な方向に長辺を有する長方形又はスリット状であることを特徴とする。
以上の全ての発明において、大気圧が望ましいが、減圧でも、加圧でも良く、大気圧には、0.5〜2気圧程度も大気圧とする。排出部の孔の先端部の直径は、0.1mm以上、1mm以下とすると良い。この孔の直径が小さい程、ガスの流速が速くなり、ラジカルを消滅させることなく、対象物に照射できる確率が高くなるので、望ましい。この場合に、良好にラジカルを放射することができる。排出部の孔の長さは、一対の電極の間の距離の1/2以上とすることで、対象物に対する放電を有効に防止することができる。
プラズマ発生装置110は、液晶表示器のガラス基板において、異方性導電フィルム(ACF)を貼付する部分を、ACFを貼付する前に洗浄することで、ACFの基板に対する接着度を向上させることができる。
また、電極2a及び2b間を長さ4cmとして、プラズマ化領域Pの断面を正方形として、一辺の長さを変化させたところ、5mm以下で安定して放電した。また、プラズマ化領域Pの断面の一辺の長さを5mmとして、電極2a及び2b間の長さを変化させたところ、距離4cm以下で安定して放電した。
10:筐体
12:ガス導入部
P:プラズマ化領域
16:案内部
18:拡散部
23,25,26:孔
20:拡散部
21:第1拡散部
22:第2拡散部
27:傾斜排出部
24:直線排出部
Claims (10)
- 大気圧プラズマ発生装置において、
長手方向に伸び、プラズマを発生する柱状のプラズマ化領域を内包する絶縁体から成る筐体と、
前記プラズマ化領域にプラズマ発生ガスを前記長手方向に対して垂直な方向から長手方向に一様に供給するガス導入部と、
前記プラズマ化領域において、前記長手方向に離間して配置された1対の電極と、
前記プラズマ化領域に接続され、そのプラズマ化領域で生成された前記プラズマを排出し、前記プラズマ化領域の長手方向に沿って配列され、前記プラズマ発生ガスの流れる方向に長く伸びた多数の孔から成る排出部と
を有することを特徴とするプラズマ発生装置。 - 前記ガス導入部は、前記プラズマ発生ガスを前記プラズマ化領域に対して、長手方向に一様に供給し、長手方向に対して垂直な方向に案内する多数の案内部から成る拡散部を有することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。
- 前記排出部における前記孔の長さは、前記プラズマを照射する対象物に対して、放電が形成されない長さであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のプラズマ発生装置。
- 前記排出部の前記孔の先端部の直径は、0.1mm以上、1mm以下であることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記排出部の前記孔の長さは、前記一対の電極の間の距離の1/2以上であることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記排出部の孔は、前記長手方向の垂直方向に対して、傾斜している傾斜部を有することを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記1対の電極が、1cm以上50cm以下の距離で離間して配置されていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記1対の電極の少なくとも一方には、他方と対向する表面に凹凸が形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記柱状のプラズマ化領域の長手方向の長さLcmと、長手方向に垂直な断面積σmm2の関係は、2≦Lσ≦200且つ3≦σ≦25であることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記排出部の孔のガス流に垂直な断面は、円、楕円、配列方向に垂直な方向に長辺を有する長方形又はスリット状であることを特徴とする請求項1乃至請求項9の何れか1項に記載のプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012261153A JP5559292B2 (ja) | 2012-11-29 | 2012-11-29 | プラズマ発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012261153A JP5559292B2 (ja) | 2012-11-29 | 2012-11-29 | プラズマ発生装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008042056A Division JP5145076B2 (ja) | 2008-02-22 | 2008-02-22 | プラズマ発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013101936A true JP2013101936A (ja) | 2013-05-23 |
JP5559292B2 JP5559292B2 (ja) | 2014-07-23 |
Family
ID=48622338
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012261153A Active JP5559292B2 (ja) | 2012-11-29 | 2012-11-29 | プラズマ発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5559292B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017010617A (ja) * | 2015-06-16 | 2017-01-12 | 国立大学法人名古屋大学 | 大気圧プラズマ照射装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11260597A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-09-24 | Matsushita Electric Works Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP2003027210A (ja) * | 1994-07-04 | 2003-01-29 | Seiko Epson Corp | 表面処理方法及び表示装置の製造方法 |
JP2004250727A (ja) * | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Toshiba Corp | 粒子堆積層形成装置及び粒子堆積層形成方法 |
JP2006196210A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Univ Nagoya | プラズマ発生装置 |
JP2006272039A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 洗浄装置、液晶表示器の基板洗浄装置及び液晶表示器組付装置 |
-
2012
- 2012-11-29 JP JP2012261153A patent/JP5559292B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003027210A (ja) * | 1994-07-04 | 2003-01-29 | Seiko Epson Corp | 表面処理方法及び表示装置の製造方法 |
JPH11260597A (ja) * | 1997-12-03 | 1999-09-24 | Matsushita Electric Works Ltd | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP2004250727A (ja) * | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Toshiba Corp | 粒子堆積層形成装置及び粒子堆積層形成方法 |
JP2006196210A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-07-27 | Univ Nagoya | プラズマ発生装置 |
JP2006272039A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 洗浄装置、液晶表示器の基板洗浄装置及び液晶表示器組付装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017010617A (ja) * | 2015-06-16 | 2017-01-12 | 国立大学法人名古屋大学 | 大気圧プラズマ照射装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5559292B2 (ja) | 2014-07-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5145076B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
KR101428524B1 (ko) | 분말 플라즈마 처리 장치 | |
WO2014077181A1 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
JP4296523B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP5725993B2 (ja) | 表面処理装置 | |
CN108781499B (zh) | 等离子发生装置 | |
US20090152097A1 (en) | Plasma generating device and plasma generating method | |
JP2010009890A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP4540519B2 (ja) | 洗浄装置、液晶表示器の基板洗浄装置及び液晶表示器組付装置 | |
CN109429494B (zh) | 液体处理装置 | |
JP5126983B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP5559292B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP6129447B2 (ja) | 水処理装置および水処理方法 | |
JP2003109799A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2010218801A (ja) | 大気圧プラズマ発生装置 | |
JP4984285B2 (ja) | 高密度プラズマ処理装置 | |
WO2006075570A1 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP5481747B2 (ja) | 導電性インクによる導体の製造方法 | |
JP2008218254A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP4930983B2 (ja) | 大気圧プラズマ発生装置 | |
JP2006000699A (ja) | ガス処理方法およびその装置 | |
KR102522689B1 (ko) | 수중 플라즈마 발생 장치 | |
JP6967227B2 (ja) | 電極装置、プラズマ発生装置 | |
JP2012038469A (ja) | 大気圧プラズマジェット装置 | |
KR101104638B1 (ko) | 플라즈마 처리장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130910 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140513 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140605 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5559292 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |