JP2013055141A5 - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents

Claims (7)

1. 基板を処理する処理室と、
   前記処理室内に設けられ、基板を載置した状態で水平回転する基板載置部と、
   前記基板載置部に載置された基板に対向するように前記処理室外に設けられ、前記処理室内へ光を照射する発光部と、
   前記処理室と前記発光部との間に設けられ、前記処理室と前記発光部とを隔てる仕切り部と、
   前記処理室内へ処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
   前記処理室内の雰囲気を排気する排気部とを備えた基板処理装置であって、
   前記仕切り部は、前記発光部から前記処理室内へ照射される光を透過する複数の透過窓と、前記複数の透過窓を構成する透過窓と透過窓との間に設けられ透過窓を固定する窓固定部とを備え、
   前記複数の透過窓のうち少なくとも１つの透過窓の面積は、前記基板の面積よりも小さくなるよう構成された基板処理装置。
2. 請求項１に記載された基板処理装置であって、
   前記透過窓は、該透過窓の中心点から端部までの距離が等しくなるよう構成された基板処理装置。
3. 前記透過窓は、正五角形以上の正多角形である、請求項１に記載の基板処理装置。
4. 前記発光部は、前記処理室内に供給された処理ガスを分解するための光エネルギーを供給する光源ランプである、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
5. 前記発光部は、波長が１００ｎｍから４００ｎｍの光を発するランプである、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
6. 前記発光部は、前記基板を加熱処理する光源ランプである、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
7. 処理室内に設けられ基板を載置する基板載置部と、前記基板載置部に載置された基板に対向するように前記処理室外に設けられ前記処理室内へ光を照射する発光部と、前記処理室と前記発光部との間に設けられ、前記処理室と前記発光部とを隔てる仕切り部と、を備え、前記仕切り部は、前記発光部から前記処理室内へ照射される光を透過する複数の透過窓と、前記複数の透過窓を構成する透過窓と透過窓との間に設けられ透過窓を固定する窓固定部とを備え、前記複数の透過窓のうち少なくとも１つの透過窓の面積は、前記基板の面積よりも小さくなるよう構成された基板処理装置において、
   基板を前記基板載置部に載置する工程と、
   前記処理室内に処理ガスを供給する工程と、
   前記基板が載置された前記基板載置部を回転させながら、前記発光部から前記処理室内へ光を照射する工程と、
   前記基板を前記処理室外に搬出する工程と、を有する基板処理方法。