JP2013041954A - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リアクタ101内部の処理室120内の試料台108内に配置された電極に高周波電源125からの電力が整合器124を介して供給しつつ前記プラズマを用いてウエハ107が処理されるプラズマ処理装置であって、前記処理中に前記電界の電力を複数の値に変動させて検出された前記電力の値の変化に対する前記プラズマの発光の強度、前記プラズマの発光の強度の時間変動の大きさ、前記整合器の整合位置及び前記電極に供給される前記高周波電力の電圧の値の変化を含む特性データのうち少なくとも2つ種類のデータの値の遷移点の前記電力の特定の値が、別のリアクタにおいて前記ウエハと同じ種類のウエハの前記処理中に検出された前記特性データを用いて検出された前記特定の値に合わせる。
【選択図】図1
Description
以下、本発明の第1の実施例を図1乃至図10を用いて説明する。
101 リアクタ
102 シャワープレート
103 マグネトロン
104 マイクロ波整合器
105 マイクロ波導波管
106 マイクロ波導入窓
107 ウエハ
108 処理台
109 調圧バルブ
110 バルブ
111 下部リアクタ
112,113,114 ソレノイドコイル
115,116 ヨーク
117 共振器
120 真空処理室
121 光センサ
122 光ファイバ
123 計測ポート
124 マッチングボックス
125 高周波電源
126 電圧計
127,128 可変コイル
129 コンデンサ
130 分光器
141,142 可変コンデンサ
143 高周波コイル
Claims (7)
- 真空容器の内部に配置された処理室及びこの処理室内に配置されその表面に処理対象の膜が配置されたウエハが載置される試料台と、前記処理室内に上方からこの処理室内にプラズマを形成するための電界を供給する手段と、前記処理室内のガスが排気される排気口とを備えた少なくとも1つのリアクタとを備え、前記試料台内に配置された電極に高周波電源からの電力が整合器を介して供給しつつ前記プラズマを用いて前記ウエハが処理されるプラズマ処理装置であって、
前記処理中に前記電界の電力を複数の値に変動させて検出された前記電力の値の変化に対する前記プラズマの発光の強度、前記プラズマの発光の強度の時間変動の大きさ、前記整合器の整合位置及び前記電極に供給される前記高周波電力の電圧の値の変化を含む特性データのうち少なくとも2つ種類のデータの値が急激に遷移する前記電力の特定の値が、別のリアクタにおいて前記ウエハと同じ種類のウエハについて実施された前記処理中に検出された前記特性データを用いて検出された前記特定の値に合わせられたプラズマ処理装置。 - 真空容器の内部に配置された処理室及びこの処理室内に配置されその表面に処理対象の膜が配置されたウエハが載置される試料台と、前記処理室内に上方からこの処理室内にプラズマを形成するために供給される電界を形成する第1の電源と、前記処理室内のガスが排気される排気口とを備えた少なくとも1つのリアクタと、前記ウエハの処理中に前記試料台内に配置された電極に整合器を介して高周波電力を供給する第2の電源とを備え、前記プラズマを用いて前記ウエハが処理されるプラズマ処理装置であって、
前記処理中に前記第1の電源からの電力を複数の値に変動させて検出された前記電力の値の変化に対する前記プラズマの発光の強度、前記プラズマの発光の強度の時間変動の大きさ、前記整合器の整合位置及び前記電極に供給される前記高周波電力の電圧の値の変化を含む特性データのうち少なくとも2つ種類のデータの値が急激に遷移する前記第1の電源からの電力の特定の値が、別のリアクタにおいて前記ウエハと同じ種類のウエハの処理中に検出された前記特性データを用いて検出された前記特定の値に合わせられたプラズマ処理装置。 - 請求項1または2に記載のプラズマ処理装置であって、前記処理室内に前記プラズマを形成するために供給される電界がマイクロ波の電界であるプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至3の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、前記別のリアクタが別のプラズマ処理装置に設置されたリアクタであるプラズマ処理装置。
- 真空容器から構成されるリアクタの内部の処理室内に配置された試料台上にその表面に処理対象の膜が配置されたウエハを載置して、前記処理室内に上方からこの処理室内に電界を供給してプラズマを形成し試料台内に配置された電極に高周波電源からの電力が整合器を介して供給しつつ前記プラズマを用いて前記ウエハを処理するプラズマ処理方法であって、
予め前記ウエハと同じ種類のウエハの処理中に前記電界の電力を複数の値に変動させて検出された前記電力の値の変化に対する前記プラズマの発光の強度、前記プラズマの発光の強度の時間変動の大きさ、前記整合器の整合位置及び前記電極に供給される前記高周波電力の電圧の値の変化を含む特性データを検出し、これらのうち少なくとも2つ種類のデータの値が急激に遷移する前記電力の特定の値を、別のリアクタにおいて前記ウエハと同じ種類のウエハについて実施された前記処理中に検出された前記特性データを用いて検出された前記特定の値に合致させて前記ウエハを処理するプラズマ処理方法。 - 請求項5に記載のプラズマ処理方法であって、前記処理室内に前記プラズマを形成するために供給される電界がマイクロ波の電界であるプラズマ処理方法。
- 請求項5または6に記載のプラズマ処理方法であって、前記別のリアクタが別のプラズマ処理装置に設置されたリアクタであるプラズマ処理方法。
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