JP2013036106A - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】成膜装置は、真空状態の容器21内で蒸発源を放電させることにより、容器21内の処理物Wの表面を、蒸発源から放出されて電荷を帯びた膜材粒子で被覆し、処理物Wの表面に薄膜を生成するものであって、筒状の容器21は、蒸発源に用いられる素材で形成される。
【選択図】図2
Description
また、前記技術によれば、処理物の周囲全面を膜材粒子で被覆するためには、処理物の表面が均等に蒸発源に面するように処理物を回転させるための回転機構が必要となっていた。
なお、本発明の技術的範囲は以下の実施例に限定されるものではなく、本明細書及び図面に記載した事項から明らかになる本発明が真に意図する技術的思想の範囲全体に、広く及ぶものである。
まず始めに、第一実施形態に係る成膜装置10の概略について、図1を用いて説明する。
成膜装置10は、処理物ホルダー系として、ガス供給手段11と、処理物冷却手段13と、電圧印加手段15と、を備える。また、排気系として排気手段19を、成膜系として成膜手段20を備える。
処理物冷却手段13は冷却ポンプ等で構成され、給水管13aを介して冷却水等の冷却媒体を処理物Wの周囲に供給し、排水管13bを介して還元させている。なお、本実施形態においては冷却媒体を用いて処理物Wを冷却する構成としているが、熱伝導率の大きい冷却板等を用いて処理物Wを冷却する構成とすることも可能である。
電圧印加手段15は電源装置であり、処理物Wに導線15aを介して接続され、処理物Wに数百ボルトの電圧を印加する。また、蒸発源である容器21には、導線17aを介して電源17が接続されている。
また、本実施形態に係る容器21は、AIPパイプ状蒸発源としてアーク放電させる場合でも、スパッタパイプ状蒸発源としてグロー放電させる場合でも、適用することが可能である。
即ち、本実施形態によれば、真空状態の容器21内で蒸発源を放電させて、簡易な構成で処理物Wの表面に薄膜を生成する際の成膜効率を向上させることが可能となるのである。
次に、第二実施形態に係る成膜装置について、図3を用いて説明する。なお、本実施形態で説明する成膜装置について、前記第一実施形態と共通する部分に関しては詳細な説明を省略する。
本実施形態に係る成膜装置において、容器121は、下面に開口部を有する筒状の蒸発源で形成される。また、図3(a)に示す如く、容器121の開口部は、前記開口部に配置される処理物W1の表面で密閉される。容器121の内側に面する処理物W1の表面には、凹陥形状の処理面WP1が形成されている。
そして、前記第一実施形態と同様に、真空状態の容器121内で容器121を形成する蒸発源を放電させることにより、容器121の内側に面する処理物W1の表面のうち、処理面WP1を蒸発源から放出された膜材粒子で被覆し、処理物W1の表面に薄膜を生成するのである。
なお、処理物W2の処理面WP2が開放されている(反対側の面と連通している)場合は、図3(b)に示す如く、処理物W2における容器121と反対側に閉塞部材131を配置することにより、容器121の開口部を、処理物W2の表面で密閉する構成とできる。
21 容器
W 処理物
Claims (6)
- 筒状の蒸発源と、前記蒸発源の内部を密閉空間とする密閉面と、で容器を形成し、真空状態の前記容器内で前記蒸発源を放電させることにより、前記容器内に配置した処理物の表面を前記蒸発源から放出された膜材粒子で被覆し、前記処理物の表面に薄膜を生成する、
ことを特徴とする、成膜装置。 - 前記密閉面は前記蒸発源で形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の成膜装置。
- 開口部を有する筒状の蒸発源で容器を形成し、真空状態の前記容器内で前記容器を形成する蒸発源を放電させることにより、前記開口部に配置した処理物における前記容器の内側に面する表面を前記蒸発源から放出された膜材粒子で被覆し、前記処理物の表面に薄膜を生成する、成膜装置であって、
前記容器の開口部は、前記処理物の表面で密閉される、
ことを特徴とする、成膜装置。 - 筒状の蒸発源と、前記蒸発源の内部を密閉空間とする密閉面と、で容器を形成し、真空状態の前記容器内で前記蒸発源を放電させることにより、前記容器内に配置した処理物の表面を前記蒸発源から放出された膜材粒子で被覆し、前記処理物の表面に薄膜を生成する、成膜方法。
- 前記密閉面は前記蒸発源で形成されていることを特徴とする、請求項4に記載の成膜方法。
- 開口部を有する筒状の蒸発源で容器を形成し、処理物の表面で前記容器の開口部を密閉し、真空状態の前記容器内で前記容器を形成する蒸発源を放電させることにより、前記処理物における前記容器の内側に面する表面を前記蒸発源から放出された膜材粒子で被覆し、前記処理物の表面に薄膜を生成する、成膜方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011174695A JP5668637B2 (ja) | 2011-08-10 | 2011-08-10 | 成膜装置及び成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2013036106A true JP2013036106A (ja) | 2013-02-21 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5668637B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015040313A (ja) * | 2013-08-20 | 2015-03-02 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜装置 |
DE102015111102A1 (de) | 2014-07-11 | 2016-01-14 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Filmausbildungsvorrichtung |
US10378097B2 (en) | 2016-08-10 | 2019-08-13 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Film forming apparatus |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6344437B2 (ja) | 2016-07-27 | 2018-06-20 | トヨタ自動車株式会社 | 高周波供給構造 |
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JP2000144413A (ja) * | 1998-08-14 | 2000-05-26 | Leybold Syst Gmbh | 基板を薄膜で被覆するための装置 |
-
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US9966234B2 (en) | 2014-07-11 | 2018-05-08 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Film forming device |
US10378097B2 (en) | 2016-08-10 | 2019-08-13 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Film forming apparatus |
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JP5668637B2 (ja) | 2015-02-12 |
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