JP2013033203A - 回折光学素子及び計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第1の回折光学部と、入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第2の回折光学部と、を有し、前記第1の回折光学部に光を入射することにより発生した回折光を前記第2の回折光学部に入射させ、前記第2の回折光学部より回折光を発生させるものであって、前記第1の回折光学部における回折角度がθ1であり、前記第2の回折光学部における回折角度がθ2である場合、θ1≦θ2であることを特徴とする回折光学素子を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】 図8
Description
(計測装置)
図1に基づき本実施の形態における計測装置について説明する。図1は、本実施の形態における計測装置の構成の一例を示す。本実施の形態における計測装置10は、光源20、回折光学素子30及び撮像素子50を有している。回折光学素子30は、後述する本実施の形態における回折光学素子であり、光源20から出射された光束(入射光)11を入射させることにより、回折光12を発生させる。また、撮像素子50は、回折光12により生じた光スポットの投影パターンが照射されている測定対象物40a及び40bを撮像するためのものである。
次に、本実施の形態における回折光学素子30について説明する。図2に示されるように、本実施の形態における回折光学素子30は、第1の回折光学部110と第2の回折光学部120とを有している。尚、本実施の形態における回折光学素子30は、第1の回折光学部110と第2の回折光学部120とを有するものであるが、第1の回折光学部110及び第2の回折光学部120について、各々第1の回折光学部110となる回折光学素子及び第2の回折光学部120となる回折光学素子等と記載する場合がある。第1の回折光学部110は、光束11を入射させることにより回折光111a、111b、111c、・・・のn1個の回折光群111を発生させる回折光学素子である。第2の回折光学部120は、回折光111a、111b、111c、・・・のn1個の回折光群111を入射させることにより、n2個の回折光群121a、121b、121c・・・を発生させる回折光学素子である。これにより、回折光の数を増やすことができ、回折角の大きな回折光を発生させることができる。従って、投影面140の広い範囲に回折光の光スポットを分布させることができる。尚、本実施の形態では、入射光となる光束11の光軸101方向をZ軸とし、光束11の光軸101に対し垂直方向をX軸、Y軸とする。尚、X軸とY軸とは直交するものとする。
次に、第1の回折光学部110と第2の回折光学部120との関係について説明する。本実施の形態においては、光束11は第1の回折光学部110の面に略垂直に入射するが、第2の回折光学部120には、第1の回折光学部110の回折光が入射するため、第2の回折光学部120の面の法線に対し傾いた角度より光が入射する。
本実施の形態における回折光学素子は、図8に示すように、第1の回折光学部110における回折角度範囲θ1を第2の回折光学部120における回折角度範囲θ2よりも小さくしたもの、即ち、θ1≦θ2としたものである。第2の回折光学部120に入射する光の入射角度を小さくし、第2の回折光学部120の面に垂直に入射する状態に近づけることにより、光量バラツキのない回折光を得ることができる。これにより広い範囲に略均一な光量の回折光を発生させることのできる回折光学素子30を得ることができる。本実施の形態では、回折角度範囲θ1は30°以下であることが好ましく、更には、15°以下であることが好ましい。
また、図9(a)に示すように、第2の回折光学部120において透明基板122の表面に形成される凸部123の高さh2を入射光の入射角度φ0に対応して低くし、所望の光路差となるように形成してもよい。即ち、第2の回折光学部120は、第1の回折光学部110により発生した回折光の回折角度で第2の回折光学部120に光が入射するように設計されていれば、前述した問題は生じない。よって、第1の回折光学部110により発生した回折光の回折角度範囲θ1以下となる角度を角度αとし、この角度αで第2の回折光学部120に光が入射することとして第2の回折光学部120を作製することにより、上記問題は解消される。
h1>h2・・・・・・・・・・・・・(1)
h2≒h1cosα0・・・・・・・・(2)
尚、「≒」は、本実施の形態においては、約±2%の範囲内であることを意味するものであり、これは後述する例3における値に基づくものである。
h1×m1/(m1−1)>h2×m2/(m2−1)・・・・・・・・・・・・(3)
h2×m2/(m2−1)≒{h1×m1/(m1−1)}×cosα0・・・・(4)
また、視点を変えてみると、第2の回折光学部120の設計を下記(5)に示す式を満たすように作製することが好ましい。
Max(θ0、θ0−θ1)<α≦θ0+θ1・・・・・・(5)
Max(θ0、θ0−θ1)とは、θ0とθ0−θ1のうちどちらか大きい方を示すものであり、第2の回折光学部120を作製する際に用いる第2の回折光学部120に入射する光の入射角度である。尚、第2の回折光学部120を作製する際には、第2の回折光学部120に角度αで光を入射させた際に、0次光の光量が最小となるように最適化を行なう。または、第2の回折光学部120から出射される回折光群の光量分布が極小値となるように最適化を行なう。
次に、第2の実施の形態について説明する。本実施の形態における回折光学素子は、第1の回折光学部と第2の回折光学部とを一体化した構造のもの、また、一枚の基板の一方の面に第1の回折光学部となる凸部を形成し他方の面に第2の回折光学部となる凸部を形成したものである。これにより、第1の回折光学部と第2の回折光学部との位置合せが不要となり、回折光学素子が小型化される。
実施例1は、表2〜5における例1に示す回折光学素子であり、第1の回折光学部110の回折角度θ1と第2の回折光学部120の回折角度θ2がθ1≦θ2を満たす場合の例を示す。第1の回折光学部110の基本ユニットを図16(a)に示す。このような基本ユニットを表2に示すピッチPx、Py、回折部段数、1段高さとなるようにフォトリソグラフィ、エッチングによって加工する。このような回折部に光が垂直に入射した場合に、554.3mmの位置にあるスクリーン上の設計によって発生させる回折光の光スポット分布を図16(b)に示す。
実施例2は、表2〜4、6における例2に示す回折光学素子であり、第1の回折光学部110の回折角度θ1と第2の回折光学部120の回折角度θ2がθ1≦θ2を満たす場合の例を示す。第1の回折光学部110の基本ユニットを図19(a)に示す。このような基本ユニットを表2に示すピッチPx、Py、回折部段数、1段高さとなるようにフォトリソグラフィ、エッチングによって加工する。このような回折部に光が垂直に入射した場合に、342.8mmの位置にあるスクリーン上設計によって発生させる回折光の光スポットの分布を図19(b)に示す。
図は設計上のパターンとスポット位置を表しているので図19、20、21は実施例2と同じとなるが、回折光学部120の1段高さは表2、3となる。
図は設計上のパターンとスポット位置を表しているので図16、17、18は実施例1と同じとなるが、回折光学部120の1段高さは表2、3となる。
図は設計上のパターンとスポット位置を表しているので図19、20、21は実施例2と同じとなるが、回折光学部120の1段高さは表2、3となる。
実施例6は、表2〜5における例6に示す回折光学素子であり、第1の回折光学部110の回折角度θ1と第2の回折光学部120の回折角度θ2がθ1≦θ2を満たし、第1の回折光学部110によって発生するスポット数n1と第2の回折光学部120によって発生するスポット数n2がn1≦n2を満たす場合の例を示す。第1の回折光学部110の基本ユニットを図22(a)に示す。このような基本ユニットを表2に示すピッチPx、Py、回折部段数、1段高さとなるようにフォトリソグラフィ、エッチングによって加工する。このような回折部に光が垂直に入射した場合に、554.3mmの位置にあるスクリーン上の設計によって発生させる回折光の光スポット分布を図22(b)に示す。
実施例7は、表2〜5における例7に示す回折光学素子であり、第1の回折光学部110の回折角度θ1と第2の回折光学部120の回折角度θ2がθ1≦θ2を満たし、第1の回折光学部110によって発生するスポット数n1と第2の回折光学部120によって発生するスポット数n2がn1≦n2を満たす場合で、第1の回折光学部110と第2の回折光学部120がそれぞれ2段の回折部からなる場合の例を示す。第1の回折光学部110と第2の回折光学部120から出射される投影パターンは0次回折光を中心に点対称なものとなっている。第1の回折光学部110の基本ユニットを図25(a)に示す。このような基本ユニットを表2に示すピッチPx、Py、回折部段数、1段高さとなるようにフォトリソグラフィ、エッチングによって加工する。このような回折部に光が垂直に入射した場合に、554.3mmの位置にあるスクリーン上の設計によって発生させる回折光の光スポット分布を図25(b)に示す。
実施例8は、表2〜4、6における例8に示す回折光学素子であり、第1の回折光学部110の回折角度θ1と第2の回折光学部120の回折角度θ2がθ1≦θ2を満たし、第1の回折光学部110によって発生するスポット数n1と第2の回折光学部120によって発生するスポット数n2がn1≦n2を満たす場合の例を示す。第1の回折光学部110の基本ユニットを図28(a)に示す。このような基本ユニットを表2に示すピッチPx、Py、回折部段数、1段高さとなるようにフォトリソグラフィ、エッチングによって加工する。このような回折部に光が垂直に入射した場合に、342.8mmの位置にあるスクリーン上の設計によって発生させる回折光の光スポット分布を図28(b)に示す。
図は設計上のパターンとスポット位置を表しているので図16、17、18は実施例2と同じとなるが、回折光学部120の1段高さは表2、3となる。
図は設計上のパターンとスポット位置を表しているので図19、20、21は実施例2と同じとなるが、回折光学部120の1段高さは表2、3となる。
実施例1〜8の回折光学素子を計測装置に用いる。このようにすることで光量ばらつきが小さくでき、高い精度で計測が可能になる。また、第2の回折光学部120によって発生する0次回折光の光量を抑制でき、強い回折光による画像の劣化を抑制できる。
11 光束(入射光)
12 回折光(出射光)
20 光源
30 回折光学素子
40a 測定対象物
40b 測定対象物
50 撮像素子
101 光軸
110 第1の回折光学部
111 回折光群(第1の回折光学部による)
120 第2の回折光学部
121a、121b、121c 回折光群(第1の回折光学部及び第2の回折光学部による)
230 回折光学素子(第1の回折光学部、第2の回折光学部となる)
231 基本ユニット
232 透明基板
233 凸部
Claims (11)
- 入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第1の回折光学部と、
入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第2の回折光学部と、
を有し、
前記第1の回折光学部に光を入射することにより発生した回折光を前記第2の回折光学部に入射させ、前記第2の回折光学部より回折光を発生させるものであって、
前記第1の回折光学部における回折角度がθ1であり、前記第2の回折光学部における回折角度がθ2である場合、
θ1≦θ2
であることを特徴とする回折光学素子。 - 入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第1の回折光学部と、
入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第2の回折光学部と、
を有し、
前記第1の回折光学部に光を入射することにより発生した回折光を前記第2の回折光学部に入射させ、前記第2の回折光学部より回折光を発生させるものであって、
前記第1の回折光学部に形成される回折部の段数と、前記第2の回折光学部に形成される回折部の段数とが等しいものであり、
前記第1の回折光学部に形成される回折部の高さがh1であり、前記第2の回折光学部に形成される回折部の高さがh2である場合、
h1>h2
であることを特徴とする回折光学素子。 - 前記第2の回折光学部における回折光の回折角度の平均をα0とした場合、
h2≒h1cosα0
である請求項2に記載の回折光学素子。 - 入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第1の回折光学部と、
入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第2の回折光学部と、
を有し、
前記第1の回折光学部に光を入射することにより発生した回折光を前記第2の回折光学部に入射させ、前記第2の回折光学部より回折光を発生させるものであって、
前記第1の回折光学部に形成される回折部の段数がm1段であり、前記第2の回折光学部に形成される回折部の段数がm2段であり、
前記第1の回折光学部に形成される回折部の高さがh1であり、前記第2の回折光学部に形成される回折部の高さがh2である場合、
h1×m1/(m1−1)>h2×m2/(m2−1)
であることを特徴とする回折光学素子。 - 前記第2の回折光学部における回折光の回折角度の平均をα0とした場合、
h2×m2/(m2−1)≒{h1×m1/(m1−1)}×cosα0
である請求項4に記載の回折光学素子。 - 入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第1の回折光学部と、
入射する光に対して2次元的な回折光を発生させる第2の回折光学部と、
を有し、
前記第1の回折光学部に波長λの光を入射することにより発生した回折光を前記第2の回折光学部に入射させ、前記第2の回折光学部より回折光を発生させるものであって、
前記第1の回折光学部における回折角度がθ1であり、
前記第2の回折光学部に光が垂直に入射する場合に、波長λ/β1以上、波長λ未満の波長の光に対して第2の回折光学部で発生する回折光の強度の標準偏差、または、0次回折光の強度が極小値をとることを特徴とする回折光学素子。
ここで、β1=ΔL(θ1)/ΔL(0)、
ΔL(θ1)=h2(N2cosθ11−N3cosθ12)、
ΔL(0)=h2(N2−N3)、
h2:第2の回折光学部の高さ、
N2、N3:第2の回折光学部の凹凸を形成する媒質の屈折率
θ11、θ12:角度θ1で第2の回折光学部に入射する光の第2の回折光学部の凹凸中における角度。 - 前記第1の回折光学部及び前記第2の回折光学部のうちいずれか一方または、双方は、複数の基本ユニットが2次元的に配列されている請求項1から6のいずれかに記載の回折光学素子。
- 前記第1の回折光学部は一方の透明基板に形成されており、前記第2の回折光学部は他方の透明基板に形成されている請求項1から7のいずれかに記載の回折光学素子。
- 前記一方の透明基板と前記他方の透明基板とは接着することにより一体化している請求項8に記載の回折光学素子。
- 前記第1の回折光学部は透明基板の一方の面に形成されており、前記第2の回折光学部は前記透明基板の他方の面に形成されている請求項1から7のいずれかに回折光学素子。
- 光を発する光源と、
前記光を入射させ回折光が出射される請求項1から10のいずれかに記載の回折光学素子と、
前記回折光が照射された測定対象物の画像を撮像する撮像部と、
を有することを特徴とする計測装置。
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