JP2013026384A - 保護ダイオード及びこれを備えた半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
第1領域と当該第1領域を囲う第2領域と当該第2領域を囲う第3領域とを備える半導体基板と、当該第2領域と当該第3領域との間に設けられた第1絶縁層と、当該第3領域に設けられた第1導電型半導体と、当該第2領域に設けられた第2導電型半導体と、当該第1領域に設けられた容量緩和層と、を備えている保護ダイオード。当該保護ダイオードと、これに接続された第1のパッドと、当該容量緩和層を有しない構造の保護ダイオードと、これに接続された第2のパッドと、を備えている半導体装置。
【選択図】図1
Description
図1には、本実施例の保護ダイオード1が上面から示されている。図2には、図1のA−B線における保護ダイオード1の断面が示されている。
図4には、本実施例の保護ダイオード1が上面から示されている。図5には、図4のA−B線における保護ダイオード1の断面が示されている。以下、第1の実施例と異なる部分について主に説明する。
図7には、半導体装置10内への保護ダイオード1の実装例が示されている。半導体装置10は例えばLSI等の半導体チップである。半導体装置10には、各種の信号を入出力するためのパッド群6が設けられている。パッド群6を構成するパッドには保護ダイオードが適宜接続されている。図7の実装例の場合、比較的低周波数(第1周波数)の信号を入出力するためのパッド6aには、容量緩和層を有しない保護ダイオード20が接続されている。一方、第1周波数の周波数よりも高い第2周波数の信号を入出力するためのパッド6bには、本発明の保護ダイオード1が接続されている。
2 P型ウェル
3 N型半導体層
4 P型半導体層
5a、5b、5c 素子分離部
6 パッド群
6a、6b パッド
10 半導体装置
20 保護ダイオード
c1、c2 PN接合容量
I1、I2 順方向電流
Claims (10)
- 第1領域と前記第1領域を囲う第2領域と前記第2領域を囲う第3領域とを備える半導体基板と、
前記第2領域と前記第3領域との間に設けられた第1絶縁層と、
前記第3領域に設けられた第1導電型半導体と、
前記第2領域に設けられた第2導電型半導体と、
前記第1領域に設けられた容量緩和層と、
を備えていることを特徴とする保護ダイオード。 - 前記容量緩和層は、前記第1の領域に前記第2導電型半導体が形成される場合と比較して、第1導電型の半導体との間に形成される接合容量が少なくなるように構成されていることを特徴とする請求項1に記載の保護ダイオード。
- 前記容量緩和層は、第2絶縁層で構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2の何れかに記載の保護ダイオード。
- 前記第2絶縁層は、STI(Shallow Trench Isolation)で構成されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の保護ダイオード。
- 前記容量緩和層は、前記第1導電型半導体より低濃度の第1導電型半導体で構成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2の何れかに記載の保護ダイオード。
- 前記第1導電型半導体及び前記第2導電型半導体は、一方がアノードとして機能し、他方がカソードとして機能することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の保護ダイオード。
- 半導体基板上に規定された第1領域と前記第1領域を囲う第2領域と前記第2領域を囲う第3領域とを備えると共に、前記第2領域と前記第3領域との間に設けられた第1絶縁層と、前記第3領域に設けられた第1導電型半導体と、前記第2領域に設けられた第2導電型半導体と、前記第1領域に設けられた容量緩和層とを備えた第1保護ダイオードと、
前記半導体基板上に規定された第4領域と前記第4領域を囲う第5領域と前記第5領域を囲う第6領域とを備えると共に、前記第5領域と前記第6領域との間に設けられた第2絶縁層と、前記第6領域に設けられた第1導電型半導体と、前記第4領域から前記第5領域に設けられた第2導電型半導体とを備えた第2保護ダイオードと、
第1周波数で規定される信号を入力及び/又は出力すると共に前記第2保護ダイオードに接続された第1のパッドと、
前記第1周波数よりも高い第2周波数で規定される信号を入力及び/又は出力すると共に前記第1保護ダイオードに接続された第2のパッドと、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 基板上に形成された第1導電型の半導体ウェルと、前記第1導電型の半導体ウェル内において互いに内外位置にあるように形成された第1導電型の外側環状半導体層及び第2導電型の内側半導体層と、前記第1導電型の半導体ウェル内において前記第1導電型の外側環状半導体層と前記第2導電型の内側半導体層との間に形成された絶縁層と、を含む保護ダイオードであって、
前記第2導電型の内側半導体層の中央部が開口していることを特徴とする保護ダイオード。 - 前記第2導電型の内側半導体層は環状であることを特徴とする請求項8に記載の保護ダイオード。
- 前記第2導電型の内側半導体層の内側に形成された第2の絶縁層を更に含むことを特徴とする請求項9に記載の保護ダイオード。
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