JP2013025273A - 露光装置及びその制御方法 - Google Patents

Abstract

【課題】回転する試料にビームを照射してパターンデータを露光する技術において、偏向による収差なく良好な長い直線が得ること。
【解決手段】円周位置補正信号生成手段（２７）は、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する。半径位置補正信号生成手段（２９）は、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する。
【選択図】図１

Description

本発明は、例えば、ディスク用原盤露光装置を用いて、ガラス原盤又はウエハ等へ情報を記録するための露光装置及びその制御方法に関するものであり、特に、回転駆動される試料に直線パターンを露光する技術に関する。

近年、光ディスク、ハードディスク等では大容量化が進み、又半導体素子の集積度が向上したことに伴って、数十ｎｍオーダーの微細な加工寸法が要求されるようになり、電子線描画装置による描画精度もさらに高精度のものが要求されている。定盤上に設定された試料室と電子鏡筒からなる電子ビーム描画装置は、試料を載置して平面内に移動自在なステージ上の試料に対して、電子銃から放射された電子ビームを電子レンズで収束し偏向器で偏向させて照射し、所望のパターンを描画する。

一般的に、電子ビーム描画装置は、光ディスク、ハードディスク等の同心円状あるいはスパイラル（螺旋）パターンを露光するスタンパ（金型）製造用途には試料室内部に設けられるステージとして１軸直動ステージと回転ステージの組み合わせ、Ｘ−θステージが用いられ、又、半導体分野のリソグラフィでは、試料室内部に設けられるステージとして直交２軸直動ステージ、Ｘ−Ｙステージが用いられる。

試料室内部にＸ−θステージを搭載した電子ビーム描画装置で直線を露光する従来技術としては、特許文献１で提示されているものがある。特許文献１に提示される技術は、回転移動手段の回転に応じて同心円を露光させるための同心円偏向信号を生成して偏向手段に供給する同心円演算処理手段と、スライド移動手段によりスライド移動した同心円の半径と、生成される多角形の中心からの長さの差分に相当する信号を同心円偏向信号に重畳させて多角形を露光させるための多角形露光信号として偏向手段に供給する多角形演算処理手段とを備えたものである。

これにより、レーザ光を用いたディスク原盤露光装置だけでなく、電子ビームを用いた原盤露光装置も対象とし、ディスク用原盤露光装置を用いて、回転機構が高速回転し、停止することなく直線を露光することにより、多角形を露光することができる。

試料室内部にＸ−Ｙステージを搭載した電子ビーム描画装置で直線を露光する従来技術としては、特許文献２、特許文献３で提示されているように２方式がある。

その一つは、特許文献２などに示されるように、半導体ウエハを載置した試料台を所定の一方向に連続的に移動させながら、これに交差する方向に一定の幅で電子線を走査しつつ、電子線の照射および照射停止を制御することで所望の図形を描画するラスタスキャン方式である。

また、他の一つは、特許文献３などに開示されるように、試料台を間歇的に移動させることによつて、電子光学系の光軸に半導体ウエハの所望の部位を位置決めするとともに、電子光学系の光軸の回りの所定の偏向範囲内すなわちフィールドを複数のサブ・フィールドに分割し、光軸から個々のサブ・フィールド内の基準位置への主偏向と、個々のサブ・フィールド内における前記基準位置を中心とする副偏向とを重畳させることによる電子線の到達位置の制御と、その時の光電子面形状の制御とを適宜組み合わせて目的のパタ−ンを塗り潰すように描画するベクタスキャン方式である。

電子線露光方式では、元の図形データから大量の制御情報を生成して電子光学系に迅速に与える必要があり、大量の図形データの処理時間の長短が、単位時間当たりに処理される半導体ウエハの枚数すなわちスループットに大きく影響する。このため後者の特許文献３の技術では、図形データ中に反復して出現する同一のパターンデータおよび当該パターンデータの描画位置に関する情報を専用のメモリに格納し、必要に応じて読み出すことにより、処理すべき図形データ量を削減して、描画作業の所要時間を短縮しようとしている。

さらに、特許文献４では、被描画物を区画して構成される複数の単位領域の各々を、電子光学系の光軸の回りの最大偏向可能領域を２以上に分割した大きさに含まれる複数のフィールドに区分するとともに、単位領域の境界とは無関係に任意の隣接する複数のフィールドが最大偏向可能領域に含まれるように電子光学系の光軸の被描画物に対する間歇的な位置決め動作を行うようにしている。

特許文献１は、回転移動手段の回転に応じて同心円を露光させるための同心円偏向信号を生成して偏向手段に供給する同心円演算処理手段と、スライド移動手段によりスライド移動した同心円の半径と、生成される多角形の中心からの長さの差分に相当する信号を同心円偏向信号に重畳させて多角形を露光させるための多角形露光信号として偏向手段に供給する多角形演算処理手段とを備える。

そして、特許文献１では、差分に相当する信号を直線補間して偏向手段に印加する構成としている。又、多角形演算処理手段は、同心円の半径と回転移動手段の回転検出信号の分解能に基づいて多角形の頂点位置から回転検出信号の最小分解能に応じた位置の差分を求め、差分に相当する信号を同心円偏向信号に重畳させて多角形を露光させる。

しかしながら、特許文献１の技術では、差分に相当する信号を直線補補間て多角形露光信号とすると、直線長が微小、言い換えれば多角形の辺数が多ければ問題ないが、直線長が長くなると、言い換えると多角形の辺数が少なくなると補間精度が劣化するため、描画される直線の直線性が損なわれる。その結果、露光、描画品質の低下を招く。

特許文献２〜４では、直線露光は互いに直角となる２つの送り機構を移動して露光するため、ディスク用露光装置の回転機構の相対線速度に比べてかなり遅くスループットが低い。

このような問題点を生じさせることなく高精度な直線露光を実現することを課題とした発明としては、例えば、本願発明者らが出願した特願２０１０―２３６５０８がある（この先願は本願出願時において文献公知発明ではない）。しかしながら、この先願においては、偏向量が大きくなると照射スポットに収差が生じ、焦点がぼけるため多角形の一辺長を長くすることができないという課題がある。本願はこの課題の他に、回転ジッタの影響を受けるため多角形の頂点部が半径方向に整列せず、又隣接する直線幅が変動するため露光品質上好ましくないという問題点も課題とする。

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであって、回転する試料にビームを照射してパターンデータを露光する技術において、偏向による収差なく良好な長い直線が得られる露光装置及びその制御方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成する本発明の第１の態様は、ビーム照射手段から照射されるビームを、光学系を介して収束して、原盤に照射し、直線パターンを露光形成する露光装置であって、ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意回転可能な回転角度検出手段が設けられた回転手段と、前記ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意移動可能な位置検出手段が設けられた移動手段と、原盤に対するビームの照射と非照射を制御するブランキング制御手段と、ビームを半径方向に任意に偏向する半径方向偏向制御手段と、ビームを円周方向に任意に偏向する円周方向偏向制御手段と、前記回転角度検出手段からの回転パルス情報と前記ホスト制御装置から設定される任意タイミング角度情報とから、露光開始のタイミング信号を生成するタイミング信号発生手段と、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始及び終了位置情報と、移動ピッチ情報とを入力情報として、各トラックのタイミング信号の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報に基づいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成手段と、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号生成手段と、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成手段と、を備え、前記照射期間信号生成手段が生成したパターン信号を前記ブランキング制御手段に、前記円周位置補正信号生成手段が生成したパターン信号を前記円周方向偏向制御手段に、前記半径位置補正信号生成手段が生成したパターン信号を前記半径方向偏向制御手段に、それぞれ印加することを特徴とする露光装置である。

上記目的を達成する本発明の第２の態様は、ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意回転可能な回転角度検出手段が設けられた回転手段と、前記ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意移動可能な位置検出手段が設けられた移動手段を有し、ビーム照射手段から照射されるビームを、光学系を介して収束して、原盤に照射し、直線パターンを露光形成する露光装置の制御方法であって、原盤の回転角度に基づく回転パルス情報と、任意に設定される任意タイミング角度情報とから、露光開始のタイミング信号を生成するタイミング信号発生工程と、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始及び終了位置情報と、移動ピッチ情報とを入力情報として、各トラックのタイミング信号の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報に基づいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成工程と、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号生成工程と、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成工程と、前記照射期間信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいて原盤に対するビームの照射と非照射を制御するブランキング制御工程と、前記円周位置補正信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいてビームを円周方向に任意に偏向する円周方向偏向制御工程と、前記半径位置補正信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいてビームを半径方向に任意に偏向する半径方向偏向制御工程と、を有することを特徴とする露光装置の制御方法である。

本発明によれば、回転する試料にビームを照射してパターンデータを露光する技術において、偏向による収差なく良好な長い直線が得られる露光装置及びその制御方法を提供することが可能となる。

本発明による実施形態に係る電子ビーム描画装置の断面構成と制御ブロック図である。 本発明による実施形態における座標系を説明するための説明図である。 図１のタイミング信号発生手段（３３）の処理を説明するためのブロック図である。 図１のブランキング制御手段（３２）、半径方向偏向制御手段（３０）、演習方向偏向制御手段（２８）の駆動回路の構成を示す回路図である。 本発明の実施形態により隣接トラック間で重なり率５０％の３ドットで直線を形成する場合の形式模式図である。 本発明の実施形態により隣接トラック間で重なり率５０％の３ドットで直線を形成する場合の各種信号の出力パターンを示す図である。 図１の照射期間信号生成手段（３１）の構成を示すブロック図である。

以下、本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。
図１は、第１の実施形態における電子線描画装置の断面構成と制御ブロック図である。
電子光学鏡筒（１）内の電子銃（２）から放出された電子ビーム（３）は、例えば平行平板電極にて構成したブランカー（４）を通り、電子レンズ（５）で収束し、アパーチャー（６）を介して、電子ビーム（３）を半径方向に偏向する例えば平行平板電極にて構成される半径方向偏向器（７）及び円周方向に偏向する円周方向偏向器（８）で偏向され、電子レンズ（９）で収束されることにより試料（１４）に照射する。ここで、電子ビーム（３）は、図２に示すように半径方向偏向器（７）に正（＋）電圧が印加されると試料（１４）の外周方向に偏向され、又、円周方向偏向器（８）に正（＋）電圧が印加されると図１の鉛直下側に偏向される構成になっている。

試料室（１０）の内部には、例えば、シリコンウエハ上面に感光材料（フォトレジスト）が塗布された試料（１４）が搭載されているステージ（１２）が収納されており、ステージ（１２）は位置コントローラ（２６）により駆動モータ（１１）を回転駆動して駆動される。電子光学鏡筒（１）は、試料室（１０）の上面に据えられている。さらに、電子光学鏡筒（１）と試料室（１０）とからなる本体部は、除振台（１８）の上に設置されている。また、電子光学鏡筒（１）と試料室（１０）の内部は、バルブ（２０）を通してポンプ（２１）により排気され、１０^-5Ｐａオーダーの真空度に保持されている。

ステージ（１２）には、例えば、１パルス当たり１ｎｍ以下の分解能を有するレーザーホロスケール等の位置検出手段（１５）がその位置信号処理手段（３４）を介して設けられており、位置コントローラ（２６）は、ホスト制御装置（６０）から例えばパルス列等の位置指令情報（３９）が入力され、位置検出手段（１５、３４）の現在位置情報（４２）と逐次比較して位置サーボ制御が行われる。

さらに、ステージ（１２）上面には、例えばラジアル及びスラスト方向に静圧軸受を形成したエアスピンドル（６１）が固定されており、エアスピンドル（６１）には回転駆動モータ（１６）を介して、例えば一周を数千〜数十万等分したパルス信号と一周に一回の原点パルス信号を送出するロータリーエンコーダ等の回転角度検出手段（１７）が同軸状に設けられおり、その回転信号処理手段（２４）とともに設けられている。回転駆動モータ（１６）への出力情報及び回転角度検出手段（１７）から回転信号処理手段（２４）を介した回転角度情報（４５、４６）は回転コントローラ（２５）へ接続されており、全体で回転手段を構成し、ホスト制御装置（６０）から例えばパルス列等の回転指令パルス信号（４０）が入力され、回転信号処理手段（２４）を介した回転角度検出手段（１７）のパルス列等の現在回転角度情報（２３）との逐次比較でＰＬＬ制御を行うことにより任意回転可能な構成としている。

さらに、回転信号処理手段（２４）から出力される、回転手段が一周に一回発生する原点信号となるＺ相信号は、回転指令パルス信号（４０）とともにタイミング信号発生手段（３３）に入力されており、タイミング信号発生手段（３３）からは、図３に示す処理により露光開始信号となるタイミング信号（３６ａ）とパターンデータの更新に必要となるデータ書換え信号（３６ｂ）を送出する構成としている。

図３を参照して、タイミング信号発生手段（３３）について説明する。タイミング信号発生手段（３３）は、図３に示すカウンタＣＮＴを有しており、このカウンタＣＮＴは、ホスト制御装置（６０）から回転コントローラ（２５）に印加される回転指令パルス信号（４０）のパルス数を計測する。タイミング信号発生手段（３３）には回転信号処理手段（２４）を介して回転角度検出手段（１７）が試料の１回転に１度発生させる原点信号（Ｚ相信号（４１））も入力されている。

タイミング信号発生手段（３３）は、Ｚ相信号（４１）を回転指令パルス信号（４０）で同期させる。その結果、Ｚ相信号（４１）の立ち上がり時刻に最も近い回転指令パルス信号（４０）をクリア信号（ＣＬＲ信号）とすることができる。得られたＣＬＲ信号でカウンタＣＮＴをクリアさせる。カウンタＣＮＴの値が、図３に示すような、試料の回転角度に対応する、任意に設定される値（Ｍ１，Ｍ２，Ｎ１，Ｎ２）を用いた条件を満たせば、タイミング信号（３６ａ）とデータ書換え信号（３６ｂ）を出力する。

又、タイミング信号（３６ａ）とデータ書換え信号（３６ｂ）は、ホスト制御装置（６０）からの、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始半径／終了半径位置情報、移動ピッチ情報を入力情報として、各トラックのタイミング信号（３６ａ）の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報にもとづいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成手段（３１）に接続されており、照射期間パターン信号は、例えば、図４に示す駆動回路構成とするブランキング制御手段（３２）を介してブランカー（４）に接続している。

さらにタイミング信号（３６ａ）とデータ書換え信号（３６ｂ）は、ホスト制御装置（６０）からの、直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報、回転の線速度情報、ビーム電流情報、円周方向偏向感度情報、ドット数設定情報を入力情報として、単位ドット当りの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号手段（２７）に接続されており、図４に示す駆動回路と同様の構成による円周方向偏向制御手段（２８）を介して円周方向偏向器（８）に接続している。

さらに、タイミング信号（３６ａ）とデータ書換え信号（３６ｂ）は、ホスト制御装置（６０）からの、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドット当りの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向あるいは、幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成手段（２９）に接続されており、パターン信号は、図４に示す駆動回路と同様の構成による半径方向偏向制御手段（３０）を介して半径方向偏向器（７）に接続している。

以上の構成により、ホスト制御装置（６０）からの指令により、任意位置、回転速度で直線パターンが露光可能となる。一般的に回転駆動は、線速度一定方式（これをＣＬＶと称す）と角速度一定方式（これをＣＡＶと称す）があるが、以降はＣＬＶ方式にて説明する。

図５と図６に例えば、隣接トラック間で重なり率５０％の３ドットで直線を形成する場合を示す。図５には、形成模式図を、又、図６には照射期間信号生成手段（３１）、円周位置補正信号生成手段（２７）、半径位置補正信号生成手段（２９）の各出力パターンを示す。図５の模式図では、点線がビーム照射開始を、又、実線はドット形成完了時を示す。Ａ，Ｂ，Ｃ間それぞれで逐次１ドットが形成される。

照射期間信号生成手段（３１）の演算は、所望の直線パターンの半径座標と、露光開始位置、終了位置が与えられれば、幾何学的に、原点信号位置から所望の直線までの時間を算出できる。所要時間Ｔｉは、各トラック毎の円弧距離Ｌｉ（ｉは、トラックＮｏ）を計算し、線速度Ｖで除算すれば得られる。

本実施形態では、照射期間信号生成手段（３１）を図７に示すような構成としている。図７に示すように、照射期間信号生成手段（３１）は、中央演算装置（以下、「ＣＰＵ」と呼ぶ）（５４）と、ＲＡＭ（４７）と、ＲＯＭ（４８）と、外部Ｉ／Ｏ（４９）と、波形パターンメモリ（５０）と、Ｄ／Ａ変換器（５１）と、パルス発振器（５２）と、アドレスカウンタ（５３）とを備える。

ホスト制御装置（６０）から、所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始／終了位置情報、移動ピッチ情報を受け取る外部Ｉ／Ｏ（４９）と、計算プログラムを格納するＲＯＭ（４８）、計算パラメータを読み書きするＲＡＭ（４７）、計算結果をデジタルパターンデータとして格納する波形パターンメモリ（５０）、ＣＰＵ（５４）からの設定で任意周波数のパルス信号を発生し、タイミング信号にて発振開始するパルス発振器（５２）と、発振パルス数をカウントしてアドレス生成するアドレスカウンタ（５３）、アドレスカウンタ（５３）のアドレス出力にもとづいて、波形パターンメモリ（５０）のデジタルパターンデータをアナログ信号に逐次変換する例えば、１４ｂｉｔ程度の出力分解能を持つ、Ｄ／Ａ変換機（５１）から構成している。波形パターンの横軸は、パルス発振器（５２）の発振周波数によって決まり、必要な偏向量は、Ｄ／Ａ変換機（５１）出力の大きさによって決定される。

本実施形態では、入力情報が異なるだけで、円周位置補正信号生成手段（２７）、半径位置補正信号生成手段（２９）の構成は上記同様である。

円周位置補正信号生成手段（２７）は、ホスト制御装置（６０）から、単位ドットに必要なドーズ量情報、回転の線速度情報、ビーム電流情報、円周方向偏向感度情報、ドット数設定情報を入力情報（３８）として、単位ドット当りの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する。

又、半径位置補正信号生成手段（２９）は、ホスト制御装置（６０）から、ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドット当りの照射時間情報を入力情報（３７）として、直線パターンの長さ方向あるいは、幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する。

以上の構成によれば、偏向範囲が狭くても、露光範囲を大きく設定すれば、偏向による収差なく良好な長い直線が得られる。また、小さな偏向量範囲で直線形成できるので、長距離でも露光品質の良好な直線パターンが形成できる。また、半径方向整列性が高く、直線性を損なわない露光、描画が実現でき描画品質の向上がはかれる。

１ 電子光学鏡筒
２ 電子銃
３ 電子ビーム
４ ブランカー
５ 電子レンズ
６ アパーチャー
７ 半径方向偏向器
８ 円周方向偏向器
９ 電子レンズ
１０ 試料室
１１ 駆動モータ
１２ ステージ
１４ 試料
１５ 位置検出手段
１６ 回転駆動モータ
１７ 回転角度検出手段
１８ 除振台
２０ バルブ
２１ ポンプ
２３ 現在回転角度情報
２４ 回転信号処理手段
２５ 回転コントローラ
２６ 位置コントローラ
２７ 円周位置補正信号手段
２８ 円周方向偏向制御手段
２９ 半径位置補正信号生成手段
３０ 半径方向偏向制御手段
３１ 照射期間信号生成手段
３２ ブランキング制御手段
３３ タイミング信号発生手段
３４ 位置信号処理手段
３５ 入力情報
３６ａ タイミング信号
３６ｂ データ書換え信号
３７ 入力情報
３８ 入力情報
３９ 位置指令情報
４０ 回転指令パルス信号
４１ Ｚ相信号
４２ 現在位置情報
４５ 回転角度情報
４６ 回転角度情報
４７ ＲＡＭ
４８ ＲＯＭ
４９ 外部Ｉ／Ｏ
５０ 波形パターンメモリ
５１ Ｄ／Ａ変換器
５２ パルス発振器
５３ アドレスカウンタ
５４ ＣＰＵ
６０ ホスト制御装置
６１ エアスピンドル

特開２００４−３６１８５５号公報 特開昭５５−３４４２４号公報 特開昭５４−９３３６４号公報 特開平２−２９１１０７号公報

Claims (3)

1. ビーム照射手段から照射されるビームを、光学系を介して収束して、原盤に照射し、直線パターンを露光形成する露光装置であって、
   ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意回転可能な回転角度検出手段が設けられた回転手段と、
   前記ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意移動可能な位置検出手段が設けられた移動手段と、
   原盤に対するビームの照射と非照射を制御するブランキング制御手段と、
   ビームを半径方向に任意に偏向する半径方向偏向制御手段と、
   ビームを円周方向に任意に偏向する円周方向偏向制御手段と、
   前記回転角度検出手段からの回転パルス情報と前記ホスト制御装置から設定される任意タイミング角度情報とから、露光開始のタイミング信号を生成するタイミング信号発生手段と、
   所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始及び終了位置情報と、移動ピッチ情報とを入力情報として、各トラックのタイミング信号の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報に基づいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成手段と、
   直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号生成手段と、
   ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成手段と、
   を備え、
   前記照射期間信号生成手段が生成したパターン信号を前記ブランキング制御手段に、
   前記円周位置補正信号生成手段が生成したパターン信号を前記円周方向偏向制御手段に、
   前記半径位置補正信号生成手段が生成したパターン信号を前記半径方向偏向制御手段に、
   それぞれ印加することを特徴とする露光装置。
2. 前記タイミング信号発生手段は、
   回転コントローラへ印加される回転指令パルス信号のパルス数を計測するカウンタを有し、
   前記回転角度検出手段の１回転に１回発生する原点信号の立ち上がり時刻に最も近い前記回転指令パルス信号の立ち上がり信号にて、前記カウンタをカウンタクリアし、
   前記任意タイミング角度情報に基づく設定された任意角度にてタイミング信号を生成することを特徴とする、請求項２記載の露光装置。
3. ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意回転可能な回転角度検出手段が設けられた回転手段と、前記ホスト制御装置からの指令情報に基づいて、任意移動可能な位置検出手段が設けられた移動手段を有し、ビーム照射手段から照射されるビームを、光学系を介して収束して、原盤に照射し、直線パターンを露光形成する露光装置の制御方法であって、
   原盤の回転角度に基づく回転パルス情報と、任意に設定される任意タイミング角度情報とから、露光開始のタイミング信号を生成するタイミング信号発生工程と、
   所望とする直線パターンの、原盤中心を座標原点とする半径方向座標情報と、露光の開始及び終了位置情報と、移動ピッチ情報とを入力情報として、各トラックのタイミング信号の立ち上がり時刻から直線パターン位置までの回転時間を算出し、その算出情報に基づいて設定期間だけビームを照射するパターン信号を生成する照射期間信号生成工程と、
   直線パターンを形成する単位ドットに必要なドーズ量情報と、回転の線速度情報と、ビーム電流情報と、円周方向偏向感度情報と、ドット数設定情報とを入力情報として、単位ドットあたりの円周方向偏向量、照射時間、全ドット形成周波数を算出設定し、逐次露光するドット先頭が直線幅方向に整列するパターン信号を生成する円周位置補正信号生成工程と、
   ドット数設定情報、半径方向偏向感度情報、単位ドットあたりの照射時間情報を入力情報として、直線パターンの長さ方向或いは幅方向の隣接ドットに任意の重なり率となる半径方向偏向量を算出してパターン信号を生成する半径位置補正信号生成工程と、
   前記照射期間信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいて原盤に対するビームの照射と非照射を制御するブランキング制御工程と、
   前記円周位置補正信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいてビームを円周方向に任意に偏向する円周方向偏向制御工程と、
   前記半径位置補正信号生成工程で生成されたパターン信号に基づいてビームを半径方向に任意に偏向する半径方向偏向制御工程と、
   を有することを特徴とする露光装置の制御方法。

Images