JP2013008851A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013008851A5 JP2013008851A5 JP2011140729A JP2011140729A JP2013008851A5 JP 2013008851 A5 JP2013008851 A5 JP 2013008851A5 JP 2011140729 A JP2011140729 A JP 2011140729A JP 2011140729 A JP2011140729 A JP 2011140729A JP 2013008851 A5 JP2013008851 A5 JP 2013008851A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- functional liquid
- discharge
- diameter
- substrate
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Description
また、「低沸点溶媒」とは、75℃以上105℃未満の沸点を有する溶媒であり、水(沸点100℃)、アセトニトリル(沸点82℃)などが挙げられる。「中沸点溶媒」とは、105℃以上190℃未満の沸点を有する溶媒であり、例えば、シクロヘキサン(沸点160℃)などが挙げられる。
本例に示す導電性パターン形成方法では、水及びアセトニトリルを含有するめっき用触媒担持ポリマー液を用いた実験により、めっき用触媒担持ポリマー液に低沸点溶媒を含有する効果を検証している(詳細後述)。
めっき工程では(ステップS18)、めっき用触媒又はめっき用触媒前駆体が付与されためっき用触媒担持ポリマーのパターンに対して無電解めっき処理を施すことで、めっき用触媒担持ポリマーのパターンの中に取り込まれためっき触媒を核としてめっき金属(例えば、銅)が成長し、導電性パターンとなるめっき膜が形成される。
する効果を検証している(詳細後述)。
する効果を検証している(詳細後述)。
吐出条件設定工程により設定される吐出条件には、基材上の形成されるドットの直径(ドットサイズ)D 2 、ドット間ピッチW、吐出時の液滴の直径(吐出液滴径)D 1 が含まれる。
本例に示すめっき用触媒担持ポリマーのパターン形成では、次式(11)の関係を満たすようにドットサイズD 2 、ドット間ピッチW、吐出液滴径D 1 が決められる。
次に、ドット間ピッチについて説明する。図8は、ドット間ピッチとパターン幅との関係を示すグラフであり、図9(a)から(g)は、ドット間ピッチとパターンの平面形状
(顕微鏡写真)との関係を示す説明図である。
(顕微鏡写真)との関係を示す説明図である。
上記の如く構成されためっき用触媒担持ポリマーのパターン形成方法(システム)によれば、めっき用触媒担持ポリマー液が高沸点溶媒を含むことでインクジェット方式による良好な吐出性能が確保され、かつ、めっき用触媒担持ポリマー液が低沸点溶媒を含むことで該液の濡れ広がりが抑制され、めっき用触媒担持ポリマーのパターンの微細化が可能となる。
以上、本発明に係る機能性液体パターン形成方法、導電性パターン形成方法及びシステムについて詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行ってもよい。
なる。
なる。
(発明2):発明1に記載の機能性液体パターン形成方法において、前記めっき用触媒担持高分子化合物の分子量は50000以下であることを特徴とする。
(発明8):めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性液体を、飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式D1<W<D2の関係を満たす吐出条件に基づき、インクジェット方式により前記基材上に吐出させる機能性液体吐出工程と、前記機能性液体吐出工程における機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、前記形成された機能性液体のパターンにめっき触媒又はめっき触媒前駆体を付与するめっき触媒付与工程と、前記めっき触媒又は前記めっき触媒前駆体が付与された機能性液体のパターンにめっき処理を施すめっき処理工程と、を含むことを特徴とする導電性パターン形成方法。
(発明10):めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性液体を基材上に吐出させるインクジェットヘッドと、飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式D1<W<D2の関係を満たす吐出条件に基づき、前記インクジェットヘッドの吐出を制御する吐出制御手段と、前記記インクジェットヘッドによる機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、を備えたことを特徴とする機能性液体パターン形成システム。
(発明12):めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性
液体を含有する機能性液体を基材上に吐出させるインクジェットヘッドと、飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式D1<W<D2の関係を満たす吐出条件に基づき、前記インクジェットヘッドの吐出を制御する吐出制御手段と、前記インクジェットヘッドによる機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、前記形成された機能性液体のパターンにめっき触媒又はめっき触媒前駆体を付与するめっき触媒付与手段と、前記めっき触媒又は前記めっき触媒前駆体が付与された機能性液体のパターンにめっき処理を施すめっき処理手段と、を備えたことを特徴とする導電性パターン形成システム。
液体を含有する機能性液体を基材上に吐出させるインクジェットヘッドと、飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式D1<W<D2の関係を満たす吐出条件に基づき、前記インクジェットヘッドの吐出を制御する吐出制御手段と、前記インクジェットヘッドによる機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、前記形成された機能性液体のパターンにめっき触媒又はめっき触媒前駆体を付与するめっき触媒付与手段と、前記めっき触媒又は前記めっき触媒前駆体が付与された機能性液体のパターンにめっき処理を施すめっき処理手段と、を備えたことを特徴とする導電性パターン形成システム。
Claims (15)
- めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性液体を、飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、インクジェット方式により前記基材上に吐出させる機能性液体吐出工程と、
前記機能性液体吐出工程における機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、
を含むことを特徴とする機能性液体パターン形成方法。 - 前記めっき用触媒担持高分子化合物の分子量は50000以下であることを特徴とする請求項1に記載の機能性液体パターン形成方法。
- 前記機能性液体吐出工程は、前記機能性液体のドットの間隔W、前記機能性液体のドットの直径D2が、次式
W≦D2/2
の関係を満たす吐出条件に基づき、前記機能性液体を吐出させることを特徴とする請求項1又は2に記載の機能性液体パターン形成方法。 - 前記加熱工程は、前記基材の表面温度が45℃以上となるように前記基材を加熱することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の機能性液体パターン形成方法。
- 前記基材に密着補助層を形成する密着補助層形成工程を含み、
前記機能性液体吐出工程は、密着補助層が形成された基材に前記機能性液体を吐出させることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の機能性液体パターン形成方法。 - 前記機能性液体吐出工程は、前記機能性液体のパターンを二層以上積層させるとともに、二層目以降のパターン形成において、前記機能性液体の液滴の直径D1、前記機能性液体のドットの間隔W、前記機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、前記機能性液体を吐出させることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の機能性液体パターン形成方法。 - 前記機能性液体吐出工程は、二層目以降のパターン形成が一層目のパターン形成と同一の吐出条件に基づくことを特徴とする請求項6に記載の機能性液体パターン形成方法。
- めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性液体を、飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、インクジェット方式により前記基材上に吐出させる機能性液体吐出工程と、
前記機能性液体吐出工程における機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、
前記形成された機能性液体のパターンにめっき触媒又はめっき触媒前駆体を付与するめっき触媒付与工程と、
前記めっき触媒又は前記めっき触媒前駆体が付与された機能性液体のパターンにめっき処理を施すめっき処理工程と、
を含むことを特徴とする導電性パターン形成方法。 - 前記機能性液体吐出工程は、前記機能性液体のパターンを二層以上積層させるとともに、二層目以降のパターン形成において、前記機能性液体の液滴の直径D1、前記機能性液体のドットの間隔W、前記機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、前記機能性液体を吐出させることを特徴とする請求項8に記載の導電性パターン形成方法。 - めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性液体を基材上に吐出させるインクジェットヘッドと、
飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、前記インクジェットヘッドの吐出を制御する吐出制御手段と、
前記インクジェットヘッドによる機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、
を備えたことを特徴とする機能性液体パターン形成システム。 - 前記吐出制御手段は、前記機能性液体のパターンを二層以上積層させるとともに、二層目以降のパターン形成において、前記機能性液体の液滴の直径D1、前記機能性液体のドットの間隔W、前記機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、前記インクジェットヘッドの吐出を制御することを特徴とする請求項10に記載の機能性液体パターン形成システム。 - めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性液体を基材上に吐出させるインクジェットヘッドと、
飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、前記インクジェットヘッドの吐出を制御する吐出制御手段と、
前記インクジェットヘッドによる機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、
前記形成された機能性液体のパターンにめっき触媒又はめっき触媒前駆体を付与するめっき触媒付与手段と、
前記めっき触媒又は前記めっき触媒前駆体が付与された機能性液体のパターンにめっき処理を施すめっき処理手段と、
を備えたことを特徴とする導電性パターン形成システム。 - 前記吐出制御手段は、前記機能性液体のパターンを二層以上積層させるとともに、二層目以降のパターン形成において、前記機能性液体の液滴の直径D1、前記機能性液体のドットの間隔W、前記機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、前記インクジェットヘッドの吐出を制御することを特徴とする請求項12に記載の導電性パターン形成システム。 - めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性液体を、飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、インクジェット方式により前記基材上に吐出させる機能性液体吐出工程と、
前記機能性液体吐出工程における機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、
を含むことを特徴とする機能性液体パターン構造体製造方法。 - めっき用触媒担持高分子化合物、190℃以上240℃未満の沸点を有する高沸点溶媒及び75℃以上105℃未満の沸点を有する低沸点溶媒を含有する機能性液体を、飛翔中における機能性液体の液滴を球形状とみなしたときの直径D1、基材上に形成される機能性液体のドットの間隔W、前記基材上に形成される機能性液体のドットの直径D2が、次式
D1<W<D2
の関係を満たす吐出条件に基づき、インクジェット方式により前記基材上に吐出させる機能性液体吐出工程と、
前記機能性液体吐出工程における機能性液体の吐出開始から吐出終了までの間、前記基材を加熱する加熱工程と、
前記形成された機能性液体のパターンにめっき触媒又はめっき触媒前駆体を付与するめっき触媒付与工程と、
前記めっき触媒又は前記めっき触媒前駆体が付与された機能性液体のパターンにめっき処理を施すめっき処理工程と、
を含むことを特徴とする導電性パターン構造体製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011140729A JP2013008851A (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 機能性液体パターン形成方法、導電性パターン形成方法、機能性液体パターン形成システム、導電性パターン形成システム、機能性液体パターン構造体製造方法、及び導電性パターン構造体製造方法 |
PCT/JP2012/065708 WO2012176793A1 (ja) | 2011-06-24 | 2012-06-20 | パターン形成方法、パターン形成システム、及びパターン構造体製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011140729A JP2013008851A (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 機能性液体パターン形成方法、導電性パターン形成方法、機能性液体パターン形成システム、導電性パターン形成システム、機能性液体パターン構造体製造方法、及び導電性パターン構造体製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013008851A JP2013008851A (ja) | 2013-01-10 |
JP2013008851A5 true JP2013008851A5 (ja) | 2014-03-13 |
Family
ID=47422625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011140729A Pending JP2013008851A (ja) | 2011-06-24 | 2011-06-24 | 機能性液体パターン形成方法、導電性パターン形成方法、機能性液体パターン形成システム、導電性パターン形成システム、機能性液体パターン構造体製造方法、及び導電性パターン構造体製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013008851A (ja) |
WO (1) | WO2012176793A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6514427B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2019-05-15 | サムスン エスディアイ カンパニー,リミテッドSamsung Sdi Co.,Ltd. | 樹脂膜、樹脂膜の製造方法、及び塗工液 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4003273B2 (ja) * | 1998-01-19 | 2007-11-07 | セイコーエプソン株式会社 | パターン形成方法および基板製造装置 |
JP2005057140A (ja) * | 2003-08-06 | 2005-03-03 | Seiko Epson Corp | 多層配線基板とその製造方法 |
GB0403234D0 (en) * | 2004-02-13 | 2004-03-17 | Xaar Technology Ltd | Method of operating droplet deposition apparatus |
JP2007335442A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Konica Minolta Holdings Inc | 導電性パターン及び導電性パターンの作製方法 |
US8313571B2 (en) * | 2007-09-21 | 2012-11-20 | Microchem Corp. | Compositions and processes for manufacturing printed electronics |
JP5258283B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | 金属箔付基板、及びその作製方法 |
JP2010135628A (ja) * | 2008-12-05 | 2010-06-17 | Sharp Corp | パターン形成方法およびパターン形成基板 |
JP5396871B2 (ja) * | 2009-01-20 | 2014-01-22 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットインクおよび金属パターン形成方法 |
JP5243322B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録装置及びパターン形成方法 |
JP2010239057A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 回路基板の作製方法 |
US8277698B2 (en) * | 2009-07-10 | 2012-10-02 | Lg Chem, Ltd. | Infrared curable ink composition for color filter and color filter |
JP5363257B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2013-12-11 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ製造方法及びカラーフィルタ製造装置 |
JP2011075676A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Fujifilm Corp | カラーフィルタ製造方法及びカラーフィルタ製造装置 |
-
2011
- 2011-06-24 JP JP2011140729A patent/JP2013008851A/ja active Pending
-
2012
- 2012-06-20 WO PCT/JP2012/065708 patent/WO2012176793A1/ja active Application Filing
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4545785B2 (ja) | 微細配線形成方法 | |
JP2013110315A5 (ja) | ||
JP6221509B2 (ja) | 画像形成装置、画像形成方法及びその画像形成方法により印刷した印刷物、並びに、印刷物の生産方法 | |
EP1428662A3 (en) | Monolithic ink-jet printhead and method for manufacturing the same | |
JP2012004555A5 (ja) | ||
JP2008294391A (ja) | 表面エネルギー制御を用いたパターニング方法 | |
JP2013008851A5 (ja) | ||
KR100309989B1 (ko) | 마이크로 인젝팅 디바이스의 노즐 플레이트 어셈블리와 그 제조방법 | |
JP2016022683A (ja) | 画像形成装置、画像形成システム、及び印刷物を生産する方法 | |
JP6384170B2 (ja) | 画像形成装置、画像形成システム、及び印刷物を生産する方法 | |
EP2276632B1 (en) | Process of manufacturing ink-jet print head having improved adhesion with time and its use in combination with a water-based ink containing acidic species | |
US9259922B2 (en) | Thermal ink jet printing | |
US9670381B2 (en) | Fluorinated organosiloxane network composition | |
JP5541129B2 (ja) | インクジェット装置 | |
WO2010029934A1 (ja) | 基板及び導電性パターン形成方法 | |
US7559630B2 (en) | Substantially planar fluid ejection actuators and methods related thereto | |
US9211567B2 (en) | Method and apparatus for applying a material on a substrate | |
JP5608737B2 (ja) | インク噴射面上をコーティングするポリシルセスキオキサンを有する印刷ヘッド | |
JP2009544489A5 (ja) | ||
Miskiewicz et al. | Inkjet printing as alternative approach to conventional spin-on material coatings | |
JP5882669B2 (ja) | 配線基板の製造装置及び配線基板の製造方法 | |
US20140360978A1 (en) | Method of manufacturing a liquid ejection head | |
JP2022010071A (ja) | 流体吐出デバイスの原子層堆積酸化物層 | |
JP2011204748A (ja) | 配線パターン形成方法、及び配線基板 | |
KR20000034821A (ko) | 마이크로 인젝팅 디바이스의 후막층 형성방법 |