JP2012532981A - 皮膜形成用組成物及びその組成物が塗布される皮膜 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】一般式R1SiX3で表れる3官能性シラン、一般式R2SiX’3で表れる3官能性シラン、一般式SiX”4で表れる4官能性シランを、同時または順次に重合して得られるオリゴマ(ここで、R1は、アルキル基またはフェニル基の中から選ばれる少なくともいずれか一つであり、R2は、一つ以上の不飽和結合を含む炭化水素基であり、X、X’及びX”は、互いに同一または異なる加水分解性基である)と、ラジカル開始剤と、前記オリゴマとラジカル開始剤を溶解する溶媒と、を含んで構成され、これらの成分が重合して形成される。
Description
特に、ガラス表面に前記組成物をさらに堅固に結合させるために、シランカップリング剤とアクリル共重合体を用いており、共重合反応によってC‐C系結合を生成し、これから熱硬化反応によってSi‐O結合を生成することにより、表面強度を向上させている。
‐(Si‐O‐)n
(nは、20以上の自然数である)
[化2]
Si‐(C‐)nSi
(nは、2以上4以下の自然数である)
(1)ハロゲン元素
(2)水素
(3)炭素数1〜4の炭素化合物
の少なくともいずれか一つを含むが、特に前記炭素化合物は、
(3‐1)シアニド、シアネート、イソシアネート、チオシアネートなどの擬ハロゲン基;
(3‐2)アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、アニリノ、フェニルメチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、N‐フェニル‐N‐メチルアミノなどのアルキルアミノ基;
(3‐3)メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec‐ブトキシ、t‐ブトキシ、ベンジルなどのアルコキシ基;
(3‐4)アセトキシ、プロピルオキシ、ピバロイルオキシ、オクチルオキシ、ベンゾキシなどのアシルオキシ基;
(3‐5)メチルエチルケトオキシム、アセトアルドキシム、アセトンオキシム、ブチルアルドキシム、ヘキサノンオキシム、4‐ペンテン‐2オキシム、シクロペンタオキシム、シクロヘキサオキシム、2‐メチルシクロペンタオキシム、ベンズアルドキシム、アセトフェノキシム、ベンゾフェノキシム、ベンジルエチルケトオキシムなどのオキシム基;
などが挙げられる。
Si‐Cl+H2O=Si‐OH+HCl(極めて速い反応速度)
(2)2Si‐CH3+[O]→Si‐CH2‐CH2‐Si+H2O
(3)Si‐CH3+CH2=CH‐Si‐+[O]→Si‐CH2‐CH2‐CH(OH)‐Si
(4)n_Si‐CH=CH2→[‐CH(‐Si)‐CH2‐CH(Si‐)‐CH2‐]n
原料状態の各シランモノマー(3種)を混合した後、水と触媒を加えて加水分解し、シラノール基(SiOH)を生成させ、シラノール基を互いに反応させ縮重合させる。この際、原料状態のシランモノマーを相互混合せず、各種別で独立して加水分解し、シラノール基をそれぞれ生成させた後、これらを混合し、反応を誘導して縮重合させてもよい。
原料状態の各シランモノマー(3種)を混合した後、ラジカル開始剤を加えてモノマーを重合させる。
(2)Si‐CH3+CH2=CH‐Si→Si‐CH(OH)‐CH2CH2‐Si
(3)Si‐CH=CH2+CH2=CH‐Si→Si‐CH=CH‐CH2CH2‐Si
本発明による塗布組成物を調製するための実施例1は、以下のようである。
ビニルトリエトキシシラン190.3g、メチルトリエトキシシラン178.3g、テトラエトキシシラン208.3g、ブチルアセテート1リットルを約2リットル容量の三口フラスコに仕込み、フラスコの内容物を激しく攪拌しながら、1モル/リットル濃度の硝酸2mlと純水180mlを混合した溶液をフラスコに設置された滴下漏斗を用いて30分間滴下する。
以降、内容物の温度が50℃以下となってから、還流冷却器を設置し、常圧下で加熱して3時間還流させる。
#2:Bis(2‐t‐butylperoxyisopropyl)benzene
#3:Bis(2‐ethylhexyl)peroxydicarbonate
PGMEA:PropyleneGlycolMonomethylEtherAcetate
IPA:IsoprophylAlcohol
PGME:PropyleneGlycolMonomethylEther
このように形成された薄膜を100℃の温度で15分間プリベークし、次いで250℃の温度で15分間硬化した後、可視光透過率、鉛筆硬度試験、及び絶縁耐圧試験を実施し、上記した表1に示した。
(1)シロキサンの調製
下記の表2によって、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシランを、それぞれ組成を異ならせて配合し、約2リットル容量の三口フラスコに仕込み、溶媒としてブチルアセテート1リットル(208.3g)をさらに加えた後、フラスコの内容物を激しく攪拌しながら、1モル/リットル濃度の硝酸2mlと純水180mlを混合した溶液をフラスコに設置された滴下漏斗を用いて30分間滴下する。
以降、内容物の温度が50℃以下となってから、還流冷却器を設置し、常圧下で加熱して3時間還流させる。
#2:Bis(2‐t‐butylperoxyisopropyl)benzene
#3:Bis(2‐ethylhexyl)peroxydicarbonate
PGMEA:PropyleneGlycolMonomethylEtherAcetate
IPA:IsoprophylAlcohol
PGME:PropyleneGlycolMonomethylEther
このように形成された薄膜を100℃の温度で15分間プリベークし、次いで250℃の温度で15分間硬化した後、可視光透過率、鉛筆硬度試験、及び絶縁耐圧試験を実施し、上記した表3に示した。
本実施例では、上述した実施例1,2の塗布組成物と、本発明で適用したオリゴマ以外のオリゴマをラジカル開始剤と一緒に重合して調製した塗布組成物とを、それぞれ比較し、本発明の優秀性を立証しようする。
下記の表4によって、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシランを、それぞれ組成を異ならせて配合し、約2リットル容量の三口フラスコに仕込み、溶媒としてブチルアセテート1リットル(208.3g)をさらに加えた後、フラスコの内容物を激しく攪拌しながら、1モル/リットル濃度の硝酸2mlと純水180mlを混合した溶液をフラスコに設置された滴下漏斗を用いて30分間滴下する。
以降、内容物の温度が50℃以下となってから、還流冷却器を設置し、常圧下で加熱して3時間還流させる。
このように形成された薄膜を100℃の温度で15分間プリベークし、次いで250℃の温度で15分間硬化した後、可視光透過率、鉛筆硬度試験、及び絶縁耐圧試験を実施し、上記した表5に示した。
本実施例では、本発明で適用したシランのうち、R2に該当するビニル基置換3官能性シランを、本発明の範囲内で他の炭化水素基に代替し、ラジカル開始剤を使用したものと使用しなかったものによって比較することにより、ラジカル開始剤を使用する本発明の優秀性を立証しようとする。
下記の表6によって、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3‐グリシドキシプロピルトリエトキシシランを、それぞれ組成を異ならせて配合し、約2リットル容量の三口フラスコに仕込み、溶媒としてブチルアセテート1リットル(208.3g)をさらに加えた後、フラスコの内容物を激しく攪拌しながら、1モル/リットル濃度の硝酸2mlと純水180mlを混合した溶液をフラスコに設置された滴下漏斗を用いて30分間滴下する。
以降、内容物の温度が50℃以下となってから、還流冷却器を設置し、常圧下で加熱して3時間還流させる。
このように形成された薄膜を100℃の温度で15分間プリベークし、次いで250℃の温度で15分間硬化した後、可視光透過率、鉛筆硬度試験、及び絶縁耐圧試験を実施し、上記した表7に示した。
Claims (11)
- 一般式R1SiX3で表れる3官能性シラン、一般式R2SiX’3で表れる3官能性シラン、一般式SiX”4で表れる4官能性シランを、同時または順次に重合して得られるオリゴマ(ここで、R1は、アルキル基またはフェニル基の中から選ばれる少なくともいずれか一つであり、R2は、一つ以上の不飽和結合を含む炭化水素基であり、X、X’及びX”は、互いに同一または異なる加水分解性基である)と、
ラジカル開始剤と、
前記オリゴマとラジカル開始剤を溶解する溶媒と、を含んで構成され、
これらの成分が重合して形成されることを特徴とする皮膜形成用組成物。 - 前記シランが、一般式R1SiX3で表れる3官能性シランのうち、アルキル基置換3官能性シランである場合、一般式CH3SiX3で表れるメチル基置換3官能性シランであり、R2SiX’3で表れる3官能性シランの場合、一般式C2H3SiX’3で表れるビニル基置換3官能性シランであることを特徴とする請求項1に記載の皮膜形成用組成物。
- 前記加水分解性基(X、X’、X”)が、ハロゲン元素、水素、または炭素数1〜4の炭素化合物の中から選ばれる少なくと一つであることを特徴とする請求項1に記載の皮膜形成用組成物。
- 前記炭素数1〜4の炭素化合物が、擬ハロゲン基、アルキルアミノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、オキシム基を含み、これらの少なくともいずれか一つであることを特徴とする請求項3に記載の皮膜形成用組成物。
- 前記擬ハロゲン基がイソシアネートであり、アルコキシ基がメトキシまたはエトキシの中から選ばれる少なくともいずれか一つであり、アシルオキシ基がアセトキシであり、オキシム基がメチルエチルケトンであることを特徴とする請求項4に記載の皮膜形成用組成物。
- 前記ラジカル開始剤が、前記全てのシランの全重量を100とする場合、0.001〜1重量%であることを特徴とする請求項1に記載の皮膜形成用組成物。
- 前記オリゴマを得るための重合方法が、ラジカル重合、加水分解重縮合、ラジカル重合と加水分解重縮合の順次反応、加水分解重縮合とラジカル重合の順次反応、及びラジカル重合と加水分解重縮合の同時反応の中から選ばれるいずれか一つであることを特徴とする請求項1に記載の皮膜形成用組成物。
- 前記ラジカル開始剤が、ケトンペルオキシド類、ペルオキシケタール類、ハイドロペルオキシド類、ジアルキルペルオキシド類、ジアクリルペルオキシド類、ペルオキシカーボネート類、ペルオキシ酸エステル類、ペルオキシアルキル化合物類の少なくともいずれか一つを含む有機ペルオキシドであることを特徴とする請求項1に記載の皮膜形成用組成物。
- 主鎖の構造が化学式1であるシロキサンオリゴマであり、加熱によって側鎖が架橋して化学式2の構造を生成することを特徴とする皮膜形成用組成物。
[化1]
‐(Si‐O‐)n
(nは、20以上の自然数である)
[化2]
Si‐(C‐)nSi
(nは、2以上4以下の自然数である) - 前記皮膜形成用組成物が、基板上に塗布されることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の皮膜形成用組成物。
- 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の皮膜形成用組成物を基板上に塗布して形成されることを特徴とする皮膜。
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