JP2012515903A - ヨーレートセンサ - Google Patents
ヨーレートセンサ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012515903A JP2012515903A JP2011546644A JP2011546644A JP2012515903A JP 2012515903 A JP2012515903 A JP 2012515903A JP 2011546644 A JP2011546644 A JP 2011546644A JP 2011546644 A JP2011546644 A JP 2011546644A JP 2012515903 A JP2012515903 A JP 2012515903A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- yaw rate
- rate sensor
- substrate surface
- detection mass
- drive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 125
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 67
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 30
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims description 16
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims description 16
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 13
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 9
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000009432 framing Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5719—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
- G01C19/5733—Structural details or topology
- G01C19/574—Structural details or topology the devices having two sensing masses in anti-phase motion
- G01C19/5747—Structural details or topology the devices having two sensing masses in anti-phase motion each sensing mass being connected to a driving mass, e.g. driving frames
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Gyroscopes (AREA)
Abstract
Description
マイクロマシニング技術によるヨーレートセンサが先行技術において公知になっている。このようなヨーレートセンサは種々異なる応用分野及び自動車領域において、例えばESPシステム、ロールオーバセンシング又はナビゲーションの目的のために使用される。
本発明の目的は、改良されたヨーレートセンサを提供することである。この目的は、請求項1の特徴を備えたヨーレートセンサにより達成される。
図1に、ヨーレートセンサ100の第1の実施の形態の概略的な平面図を示す。ヨーレートセンサ100は基板から製造されており、図1の図平面に位置する基板表面190上のx−y平面に配置されている。基板は、例えばシリコン基板から成っていてよい。ヨーレートセンサ100は第1の可動の素子110と、第2の可動の素子260とを有している。第1の可動の素子110と第2の可動の素子260とは互いに対称的に形成されており、y方向に相並んで配置されている。以下に、第1の可動の素子110について記載する。この記載は第2の可動の素子260に対応する。
Claims (13)
- ヨーレートセンサ(100)であって、
基板表面(190)を有する基板を備えており、
前記基板表面(190)上に配置されている、駆動フレーム(120,520)と第1の検出質量体(130)とを有する第1の可動の素子(110)を備えており、
前記第1の検出質量体(130)の下側に離間して配置されていてかつ前記基板表面(190)に接合されている第1の電極(210)と、前記第1の検出質量体(130)の上側に離間して配置されていてかつ前記基板表面(190)に接合されている第2の電極(220)とを備えており、
前記駆動フレーム(120,520)は少なくとも1つの駆動ばね(140)を介して前記基板に接合されており、
前記検出質量体(130)は少なくとも1つの検出ばね(180,680)を介して前記駆動フレーム(120,520)に接合されており、
前記第1の可動の素子(110)は前記基板表面(190)に対して平行な駆動振動をするように励振可能であり、
前記第1の検出質量体(130)は前記基板表面(190)に対して垂直に変位可能であることを特徴とする、ヨーレートセンサ。 - 導体路平面(230)と、第1の機能平面(240)と、第2の機能平面(250)とが積層されて重畳して配置されており、
前記導体路平面(230)は前記基板表面(190)に接合されており、
前記駆動フレーム(120)は前記第1の機能平面(240)及び前記第2の機能平面(250)に配置されており、
前記第1の検出質量体(130)は少なくとも部分的に前記第1の機能平面(240)に配置されており、
前記第1の電極(210)は前記導体路平面(230)に配置されており、
前記第2の電極(220)は前記第2の機能平面(250)に配置されていることを特徴とする、請求項1記載のヨーレートセンサ。 - 前記ヨーレートセンサ(100)は第2の検出質量体(270)を備えた第2の可動の素子(260)を有しており、
前記第1及び第2の検出質量体(130,270)は連結ばね(170,570)を介して互いに接合されており、
前記第1及び第2の可動の素子(110,260)は、前記基板表面(190)に対して平行な、連結された駆動振動をするように励振可能であることを特徴とする、請求項1又は2記載のヨーレートセンサ。 - 前記第1及び第2の可動の素子(110,260)は、前記第1及び第2の可動の素子(110,260)の逆平行の変位と連結された駆動振動をするように励振可能であることを特徴とする、請求項3記載のヨーレートセンサ。
- 前記第1の可動の素子(110)は前記第2の機能平面(250)に少なくとも部分的に配置されている安定化フレーム(290)を有していることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか一項記載のヨーレートセンサ。
- 前記第1の可動の素子(110)は前記第1の機能平面(240)及び前記第2の機能平面(250)に、第1の機能平面(240)に配置されている底部と前記安定化フレーム(290)により形成されている縁部とを備えた槽形状を有していることを特徴とする、請求項5記載のヨーレートセンサ。
- 前記第1の可動の素子(110)は少なくとも1つの貫通部(280)を有しており、
前記第2の電極(220)は前記貫通部(280)を通じて固定点(285)において前記基板表面(190)に接合されていることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか一項記載のヨーレートセンサ。 - 前記第1の可動の素子(110)を駆動振動するように励振するために、少なくとも1つの駆動櫛形構造体(150)が設けられていることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか一項記載のヨーレートセンサ。
- 前記第1の可動の素子(110)は少なくとも1つの外側ばね(160)を介して前記基板表面(190)に接合されていることを特徴とする、請求項1から8までのいずれか一項記載のヨーレートセンサ。
- 前記第1の機能平面(240)と前記第2の機能平面(250)とは伝導性のシリコンから成っていることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか一項記載のヨーレートセンサ。
- 少なくとも1つの他の電極(310,320)が前記第1の検出質量体(130)の下側及び/又は上側に配置されていることを特徴とする、請求項1から10までのいずれか一項記載のヨーレートセンサ。
- 前記少なくとも1つの他の電極(310,220)は前記第1の検出質量体(130)の静電気的な正帰還、前記第1の検出質量体(130)の位置制御及び/又は直交位相補償のために形成されていることを特徴とする、請求項11記載のヨーレートセンサ。
- 前記第1の検出質量体(130)と前記第1及び第2の電極(210,220)との間の容量の変化から、前記基板表面(190)に対して垂直な前記第1の検出質量体(130)の変位を推定し、前記第1の検出質量体(130)の変位から、前記ヨーレートセンサ(100)に作用するヨーレートを推定するために形成されている評価回路に、前記ヨーレートセンサ(100)は接続されていることを特徴とする、請求項1から12までのいずれか一項記載のヨーレートセンサ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102009000345A DE102009000345A1 (de) | 2009-01-21 | 2009-01-21 | Drehratensensor |
DE102009000345.2 | 2009-01-21 | ||
PCT/EP2009/066302 WO2010083918A1 (de) | 2009-01-21 | 2009-12-03 | Drehratensensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012515903A true JP2012515903A (ja) | 2012-07-12 |
JP5355716B2 JP5355716B2 (ja) | 2013-11-27 |
Family
ID=41611061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011546644A Active JP5355716B2 (ja) | 2009-01-21 | 2009-12-03 | ヨーレートセンサ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8695425B2 (ja) |
EP (1) | EP2389561B1 (ja) |
JP (1) | JP5355716B2 (ja) |
CN (1) | CN102292614B (ja) |
DE (1) | DE102009000345A1 (ja) |
WO (1) | WO2010083918A1 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2974895B1 (fr) * | 2011-05-02 | 2013-06-28 | Commissariat Energie Atomique | Gyrometre a capacites parasites reduites |
DE102012200929B4 (de) * | 2012-01-23 | 2020-10-01 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanische Struktur und Verfahren zur Herstellung einer mikromechanischen Struktur |
JP6338813B2 (ja) * | 2012-04-03 | 2018-06-06 | セイコーエプソン株式会社 | ジャイロセンサー及びそれを用いた電子機器 |
JP6098780B2 (ja) * | 2012-04-19 | 2017-03-22 | セイコーエプソン株式会社 | ジャイロセンサーおよび電子機器 |
US9310202B2 (en) * | 2012-07-09 | 2016-04-12 | Freescale Semiconductor, Inc. | Angular rate sensor with quadrature error compensation |
CN104936748B (zh) * | 2012-12-14 | 2017-10-27 | Abb技术有限公司 | 徒手机器人路径教导 |
DE102013216898B4 (de) * | 2013-08-26 | 2023-02-09 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Bauelements |
JP6398348B2 (ja) * | 2014-06-12 | 2018-10-03 | セイコーエプソン株式会社 | 機能素子、機能素子の製造方法、電子機器、および移動体 |
DE102014212314A1 (de) | 2014-06-26 | 2015-12-31 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanische Sensoreinrichtung |
DE102015213440A1 (de) | 2015-07-17 | 2017-01-19 | Robert Bosch Gmbh | Mechanische Brücke zur Störmodenoptimierung bei Drehratensensoren |
DE102017213644A1 (de) * | 2017-08-07 | 2019-02-07 | Robert Bosch Gmbh | Drehratensensor, Verfahren zur Herstellung eines Drehratensensors |
DE102018219546B3 (de) | 2018-11-15 | 2019-09-12 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches Bauelement |
DE102019200843B4 (de) | 2019-01-24 | 2020-09-24 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches kapazitiv auswertbares Bauelement |
DE102019215179A1 (de) * | 2019-10-02 | 2021-04-08 | Robert Bosch Gmbh | Auswertevorrichtung und Verfahren zum Betreiben eines mit zwei verstellbaren Elektroden-Massen ausgebildeten Sensors |
DE102019215184A1 (de) * | 2019-10-02 | 2021-04-08 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Charakterisieren einer Vibrationsempfindlichkeit eines mit zwei verstellbaren Elektroden-Massen ausgebildeten Sensors |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07120266A (ja) * | 1993-10-27 | 1995-05-12 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 振動ジャイロセンサー |
US5783749A (en) * | 1995-12-07 | 1998-07-21 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Vibrating disk type micro-gyroscope |
JPH11132770A (ja) * | 1997-10-29 | 1999-05-21 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 振動式角速度検出器 |
JP2001021360A (ja) * | 1999-07-08 | 2001-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | 角速度センサ |
JP2004518971A (ja) * | 2001-02-21 | 2004-06-24 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 回転レートセンサー |
JP2005249454A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Mitsubishi Electric Corp | 容量型加速度センサ |
JP2008008884A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Honeywell Internatl Inc | 時間で変動する電圧を使用したmems慣性センサのフォース・リバランシング |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19641284C1 (de) * | 1996-10-07 | 1998-05-20 | Inst Mikro Und Informationstec | Drehratensensor mit entkoppelten orthogonalen Primär- und Sekundärschwingungen |
US6862934B2 (en) * | 2001-10-05 | 2005-03-08 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Tuning fork gyroscope |
US6860151B2 (en) * | 2003-02-07 | 2005-03-01 | Honeywell International Inc. | Methods and systems for controlling movement within MEMS structures |
US7036373B2 (en) * | 2004-06-29 | 2006-05-02 | Honeywell International, Inc. | MEMS gyroscope with horizontally oriented drive electrodes |
FR2895501B1 (fr) * | 2005-12-23 | 2008-02-29 | Commissariat Energie Atomique | Microsysteme, plus particulierement microgyrometre, avec au moins deux massesm oscillantes couplees mecaniquement |
US8100012B2 (en) | 2007-01-11 | 2012-01-24 | Analog Devices, Inc. | MEMS sensor with cap electrode |
US8187902B2 (en) * | 2008-07-09 | 2012-05-29 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | High performance sensors and methods for forming the same |
-
2009
- 2009-01-21 DE DE102009000345A patent/DE102009000345A1/de not_active Withdrawn
- 2009-12-03 JP JP2011546644A patent/JP5355716B2/ja active Active
- 2009-12-03 US US13/138,102 patent/US8695425B2/en active Active
- 2009-12-03 WO PCT/EP2009/066302 patent/WO2010083918A1/de active Application Filing
- 2009-12-03 EP EP09793499.6A patent/EP2389561B1/de active Active
- 2009-12-03 CN CN200980155170.4A patent/CN102292614B/zh active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07120266A (ja) * | 1993-10-27 | 1995-05-12 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 振動ジャイロセンサー |
US5783749A (en) * | 1995-12-07 | 1998-07-21 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Vibrating disk type micro-gyroscope |
JPH11132770A (ja) * | 1997-10-29 | 1999-05-21 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 振動式角速度検出器 |
JP2001021360A (ja) * | 1999-07-08 | 2001-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | 角速度センサ |
JP2004518971A (ja) * | 2001-02-21 | 2004-06-24 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 回転レートセンサー |
JP2005249454A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Mitsubishi Electric Corp | 容量型加速度センサ |
JP2008008884A (ja) * | 2006-06-29 | 2008-01-17 | Honeywell Internatl Inc | 時間で変動する電圧を使用したmems慣性センサのフォース・リバランシング |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5355716B2 (ja) | 2013-11-27 |
EP2389561A1 (de) | 2011-11-30 |
DE102009000345A1 (de) | 2010-07-22 |
CN102292614A (zh) | 2011-12-21 |
US20120006115A1 (en) | 2012-01-12 |
US8695425B2 (en) | 2014-04-15 |
EP2389561B1 (de) | 2016-04-06 |
CN102292614B (zh) | 2015-11-25 |
WO2010083918A1 (de) | 2010-07-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5355716B2 (ja) | ヨーレートセンサ | |
US9593949B2 (en) | Yaw-rate sensor | |
US8261614B2 (en) | Rotational speed sensor having a coupling bar | |
CN102575934B (zh) | 具有嵌套的线性振荡地震元件的双轴抗震旋转速率传感器 | |
US6752017B2 (en) | Rotation speed sensor | |
US6539803B2 (en) | External force measuring device | |
US9476897B2 (en) | Physical quantity sensor | |
US8794069B2 (en) | Angular velocity sensor | |
US9219169B2 (en) | Angular velocity sensor | |
US9261363B2 (en) | Yaw rate sensor | |
US8365597B2 (en) | Apparatus having a movable body | |
US20150143906A1 (en) | Capacitance type physical quantity sensor | |
CN107003333B (zh) | Mems传感器和半导体封装 | |
US8707784B2 (en) | Laminated structure provided with movable portion | |
US9910055B2 (en) | Vibration angular velocity sensor | |
US9335170B2 (en) | Inertial sensor and method of levitation effect compensation | |
US8342022B2 (en) | Micromechanical rotational speed sensor | |
US8955379B2 (en) | Yaw rate sensor and method for manufacturing a mass element | |
JP3669713B2 (ja) | 角速度センサ | |
JP2019023613A (ja) | 容量性微小電気機械加速度計 | |
JP2015004546A (ja) | 静電容量変化検出モジュール及びmemsセンサ | |
CN212158620U (zh) | 一种光栅面内检测的解耦式全对称微陀螺 | |
JP3818318B2 (ja) | 角速度センサ | |
JP3800238B2 (ja) | 角速度センサ及び角速度検出方法 | |
JP2013148530A (ja) | 容量式物理量検出装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130319 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130321 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130618 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130729 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130827 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5355716 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |