JP2012506561A - 空間フィルタリングのための装置および方法 - Google Patents

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Abstract

プロトン交換ポラライザ内で光を偏光させる方法および装置が提供され、望まないモードの光の連結を、統合された空間フィルタにより減少させる。LiNbOまたはLiTaOから形成された基板(16a)のような光学的に透過性の基板は、側部表面を備え、この側部表面は案内されないTMモード光を反射する。入力ファイバ(12)から光は発される。入力ファイバは、一方の端部で基板に接続され、出力ファイバは反対の端部で案内されたTMモード光を受け取るために接続される。空間フィルタ(34、38a−c、42、44)は、光のポラライザの側部に関して一次反射位置に位置決めされる。代替実施形態において、消光費を改善するために、空間フィルタを二次反射位置に配置することもできる。
【選択図】図1

Description

本発明は空間フィルタリングのための装置および方法に関する。
プロトン交換(Proton Exchange, PE)方法により形成される光学導波装置はいくつかのユニークな性質を提供する。プロトン交換のプロセスは、異状軸に関する屈折率だけを減少させ、そのため1つの偏光状態だけをガイドする。他の偏光状態はガイドされず、結局は除去される。プロトン交換装置のこの性質は、本来的にこれらを非常に高性能(60dBまたはそれ以上)なポラライザにする。さらに、この性質は、光ファイバージャイロスコープ(fiber optic gyros, FOG)の構成に用いられる多機能チップ(Multiple Function Chips, MFCs)での使用にとって非常に魅力的である。
ここで、クロストークを備えるプロトン交換ポラライザの概略図を示す図1Aを参照する。プロトン交換ポラライザ10は、光学伝達基板16を形成するLiNbOまたはLiTaO材料を含む。プロトン交換ポラライザ10はさらに、光ファイバー12のための入力連結部としてガラスフェルール20を含み、出力ファイバー14に連結されるガラスフェルール22を含む。光学ファイバー12は、TEモード24およびTMモード26の両方を有する光を受け取る。TEモード24は、導波路内を伝播する光波のための対称な境界条件(すなわち、導波路の両側におけるLiNbO)でのマックスウェル方程式の解を含み、TMモード26は、導波路内を伝播する光波の非対称な境界条件(すなわち、導波路の一方の側のLiNb3および導波路の反対側の空気)でのマックスウェル方程式の解を含む。TEモード光32は、実質的に光学伝播基板16を通るプロトン交換導波路18によりガイドされる。光がファイバー12を出るとき、TMモード26はガイドされないTMモード光30となる。TEモード24は、プロトン交換導波路18によりガイドされるTMモード光32になる。
ガイドされていないTMモード光30は、光学伝達基板16を通って伝播する。ガイドされていないTMモード光30の一部は、ポラライザから逃げる。反射角度28は、具体的な実施形態の寸法により決定され、特に、ガラスフェルール20とガラスフェルール22との間の距離により決定される。
TMモードのガイドされない光30は、光36で示されるように基板16の底部17および側部から反射され、ファイバー14を通って基板を出る。反射されたガイドされないTMモード光36は、光ファイバージャイロのような様々な用途において望まれない。
プロトン交換装置の開発のときに、いくつかの装置は予想される非常に高い消光比(60dBより大きい)を備えないことが分かった。また、ポラライザの消光比は、装置の長さとともに減少することがわかった。異なる装置の調査により、クロストーク/モジュレータ機構は、導波路18によりガイドされず且つ基板16の底部17および側部から反射されるTM光30を備えると結論付けられた。反射されるTM光36は、出口ファイバー14により集められた。より長いポラライザの長さは、小さな反射角度をもたらすと考えられ、これがこのピックアップを増加させると考えられた。異なる長さのいくつかのポラライザがこの理論を確かめるために測定された。
本発明は、望ましくない光のモードのクロスカップリングが統合される空間フィルタにより減少されるプロトン交換ポラライザを提供する。LiNbOまたはLiTaOから形成される基板のような光学的に透過性の基板は、ガイドされないTMモード光を反射する側部表面を備える。光は入口ファイバーから発される。入口ファイバーは、基板の一方の端部に接続され、ガイドされたTMモード光を受け取るために出口ファイバーが反対側の端部に接続される。基板の側部は、ガイドされないTMモード光を出口ファイバーに連結する。この連結は、光ファイバージャイロで用いられるポラライザのような、様々なポラライザの用途において望ましくない。基板の消光比は空間フィルタの導入により改善される。空間フィルタは、ポラライザの側部に対して光の一次反射位置(primary reflection position)に位置決めされる。さらに消光比を改善するために、他の実施形態において空間フィルタを二次反射位置に配置することができる。空間フィルタは、基板内にまたは基板の側部に位置決めされ、これは障壁が物理的方法または化学的方法により形成される。方法はたとえば切断、エッチング、ダイヤモンド機械加工、微細機械加工、またはレーザー加工などである。空間フィルタは、ガイドされないTM光の伝播をブロックするように作用する。
本発明の好ましい実施形態および代替実施形態が以下において添付図面を参照しながら詳細に説明される。添付図面は以下のとおりである。
プロトン交換ポラライザの側面図であり、従来技術による形成されるクロストーク/モジュレータ機構を示す図である。 プロトン交換ポラライザの上面図であり、従来技術による形成されるクロストーク/モジュレータ機構を示す図である。 本発明の一実施形態により形成されるフィルタの側面図である。 本発明の一実施形態により形成されるフィルタの上面図である。 基板の側部にスロットを切断加工して形成された空間フィルタの斜視図である。 図3Aの空間フィルタの側面図である。 基板の側壁に溝を備える基板の斜視図である。 ガイドされないTM光または抗反射層内の光を吸収するために用いられる、基板の側部上の抗反射膜を示す図である。
図2A、2Bは、基板16a内に配置される一体的な空間フィルタ34を備えるプロトン交換ポラライザ11を示している。基板16aは、フェルール20を備えるファイバー12を、フェルール22を備えるファイバー14に連結する。基板16aは、プロトン交換導波路16を統合する。TMモードのガイドされない光30は、光伝導性基板16aを通って伝播するが、基板16a内に統合された空間フィルタ34によりブロックされる。空間フィルタ34は、光波の伝播をブロックすることで反射光が出口ファイバー14に戻って結合するのを防止する。バリアまたは空間フィルタ34は、様々なプロセスで作ることができ、基板16a内に空間フィルタ34を物理的に堆積させるプロセスを含むことができる。基板は、ガイドされないTMモード光30の伝播を防ぐ空隙を基板16a内に形成するために切削加工することができる。側部を、ダイアモンド機械加工、エッチング加工、微小機械加工、またはレーザー加工してもよい。代替的に、表面を、TMモードのガイドされない光30の伝播路内に空間フィルタを提供するように、単純にスクラッチ加工または同様な損傷を与える加工をしてもよい。
反射したTMモード光30は、基板16aの側部39内に空間フィルタ34を形成することにより実質的に取り除かれる。基板16a内に統合された空間フィルタ34またはバリアにより、反射したTM光30は実質的にブロックされる。しかし、反射が生じる多数の経路が存在する。高い性能を達成するために、一次反射および二次反射を実質的に取り除かなければならない。一次反射および二次反射を十分に取り除くために、3つの等間隔の空間フィルタが必要であることが実験的に分かった。
図3A、3Bは、ダイシング切断により形成される空間フィルタを示している。図3Aは、3つのスロット38a、38b、38cを備える基板16の斜視図である。スロット38a、38cは、二次反射を減衰させるために用いられ、スロット38bは、一次反射を取り除くことを意図している。基板16の側部は、基板16の高さ全体にわたって切り取られた状態で示されている。側面図は、基板16の側部に切断加工された、一次反射および二次反射を減衰させるスロット38a、38b、38cを示している。
図4は、基板76上でミクロエッチングされた溝42を示す。このミクロエッチングされた溝42は、入射ビーム光に対して実質的に約45°の角度で基板76の垂直側部上に形成される。このようにして、反射した光は、入射ビームに対して約90°の角度ではねかえされる。この溝は、化学エッチングにより、または機械加工(切削、研磨等)により形成することができる。
図5は、基板86の側部から反射が生じないように基板86の側面において抗反射層44または吸収層44を用いる、本発明の代替実施形態を示している。抵反射層は、フッ化マグネシウム、シリコン、またはポリマーのような誘電体材料の堆積により形成することができる。
本発明は、米国特許第5475772号明細書に記載されているような、基板の底部表面上に位置する空間フィルタと組み合わせることができる。本特許文献は参照により本明細書に組み込まれる。

Claims (10)

  1. プロトン交換ポラライザ装置(11)であって、
    前記装置は、光学的に透過性の基板(16a)を有し、前記基板は、第1表面、および前記第1表面に実質的に垂直な第2表面および第3表面を備え、1つの偏光状態の光だけを案内するために、前記表面は大きな屈折率を備える異状軸を備え、
    前記装置はさらに、前記光学的に透過性の基板の前記第1表面上に形成されるプロトン交換導波路(18)を有し、前記プロトン交換導波路は、1つの偏光状態の光だけを案内するために、大きな屈折率を備える異状軸を備え、且つ、第1端部上に入口連結部および第2端部上に出口連結部を備え、
    前記装置は、前記光学的に透過性の基板の前記第2表面および前記第3表面に関して形成される抗反射要素を備え、
    前記入口連結部に入る光は、TEモードおよびTMモードを備え、
    TEモードを備える光は、前記プロトン交換導波路により実質的に案内され、
    TMモードを備える光は、実質的に案内されず、
    TMモードを備える光の一部は、前記光学的に透明な基板を通って伝播し、この光のほとんど全ては、前記抗反射要素により反射されない、装置。
  2. 請求項1に記載の装置であって、前記基板はLiNbOを有する、装置。
  3. 請求項1に記載の装置であって、前記基板はLiTaOを有する、装置。
  4. 請求項1に記載の装置であって、前記抗反射要素は、前記第2表面および前記第3表面上に形成される微小溝のアレイを有し、前記微小溝のアレイは、前記プロトン交換導波路の前記第1端部から前記第2端部の方向に対して約45°の方向を備える、装置。
  5. 請求項1に記載の装置であって、前記抗反射要素は、前記第2表面および前記第3表面上に形成される1つまたはそれ以上の変形部を有し、前記変形部の1つは、前記基板の異状軸に対してほぼ垂直な長手方向を備えるスロットであり、前記1つまたはそれ以上のスロットは、第1スロット、第2スロットおよび第3スロットを含み、前記第2スロットは、前記光学的に透過性の基板の前記第1端部および前記第2端部からほぼ等距離にあり、前記第1スロットは、前記第2スロットおよび前記光学的に透過性の基板の前記第1端部からほぼ等距離にあり、前記第3スロットは、前記第2スロットおよび前記光学的に透過性の基板の前記第2端部からほぼ等距離にある、装置。
  6. 光を偏光させる方法であって、
    前記方法は、光学的に透過性の基板の第1表面上に形成されるプロトン交換導波路で光を受け取るステップを有し、前記導波路は、1つの偏光状態の光だけを案内するために大きな屈折率を備える異状軸を有し、且つ、第1端部上に入口連結部を有し、第2端部上に出口連結部を有し、前記入口連結部に入る光はTEモードおよびTMモードを有し、TEモードを備える光は前記プロトン交換導波路により実質的に案内され、TMモードを備える光は実質的に案内されず、
    前記方法は、前記光学的に透過性の基板の第2表面および第3表面に関して形成された抗反射要素により、TMモードを備える光の少なくとも一部をブロックするステップを有し、前記第2表面および前記第3表面は、前記第1表面に対してほぼ垂直である、方法。
  7. 請求項6に記載の方法であって、前記抗反射要素は、前記第2表面および前記第3表面上に形成された微小溝のアレイを有する、方法。
  8. 請求項6に記載の方法であって、前記微小溝のアレイは、前記プロトン交換導波路の前記第1端部から前記第2端部の方向に対して約45°の方向を備える、方法。
  9. 請求項6に記載の方法であって、前記抗反射要素は、前記第2表面および前記第3表面上に形成される1つまたはそれ以上の変形部を有する、方法。
  10. 請求項9に記載の方法であって、前記変形部の1つは、前記基板の異状軸にほぼ垂直な長手方向を備えるスロットであり、前記変形部は、第1スロット、第2スロット、および第3スロットを含み、前記第2スロットは、前記基板の前記第1端部および前記第2端部からほぼ等距離にあり、前記第1スロットは、前記第2スロットおよび前記基板の前記第1端部からほぼ等距離にあり、前記第3スロットは、前記第2スロットおよび前記基板の前記第2端部からほぼ等距離にある、方法。
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