JP2012502624A - 除草剤耐性植物 - Google Patents
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Abstract
Description
[式中、
R1及びR2は、独立して水素、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロ、シアノ、ヒドロキシ、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、アリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR6で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR6で置換されたヘテロアリールであり;
R3は、水素、C1−C10アルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、C3−C10シクロアルキル、C3−C10シクロアルキル−C1−C6アルキル−、C1−C10アルコキシ−C1−C6アルキル−、C1−C10シアノアルキル−、C1−C10アルコキシカルボニル−C1−C6アルキル−、N−C1−C3アルキル−アミノカルボニル−C1−C6アルキル−、N,N−ジ−(C1−C3アルキル)−アミノカルボニルC1−C6アルキル−、アリール−C1−C6アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR7で置換されたアリール−C1−C6アルキル−、又はヘテロシクリル−C1−C6アルキル−若しくはヘテロシクリル部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR7で置換されたヘテロシクリル−C1−C6アルキル−であり;
R4は、アリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR8で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくは1〜4個の同一でも相異してもよいR8で置換されたヘテロアリールであり;
R5は、ヒドロキシ、R9−オキシ−、R10−カルボニルオキシ−、トリ−R11−シリルオキシ−又はR12−スルホニルオキシ−であり、
各R6、R7及びR8は独立して、ハロ、シアノ、ニトロ、C1−C10アルキル、C1−C4ハロアルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、ヒドロキシ、C1−C10アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C10アルコキシ−C1−C4アルキル−、C3−C7シクロアルキル、C3−C7シクロアルコキシ、C3−C7シクロアルキル−C1−C4アルキル−、C3−C7シクロアルキル−C1−C4アルコキシ−、C1−C6アルキルカルボニル−、フォルミル、C1−C4アルコキシ−カルボニル−、C1−C4アルキルカルボニルオキシ−、C1−C10アルキルチオ−、C1−C4ハロアルキルチオ−、C1−C10アルキルスルフィニル−、C1−C4ハロアルキルスルフィニル−、C1−C10アルキルスルホニル−、C1−C4ハロアルキルスルホニル−、アミノ、C1−C10アルキルアミノ−、ジ−C1−C10アルキルアミノ−、C1−C10アルキルカルボニルアミノ−、アリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリール、ヘテロアリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリール、アリール−C1−C4アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリール−C1−C4アルキル−、ヘテロアリール−C1−C4アルキル−若しくはヘテロアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリール−C1−C4アルキル−、アリールオキシ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリールオキシ−、ヘテロアリールオキシ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリールオキシ−、アリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリールチオ−、又はヘテロアリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリールチオ−であり;
R9は、C1−C10アルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、又はアリール−C1−C4アルキル−若しくはアリール部分が1〜5個のハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル又はC1−C6アルコキシから独立して選択される置換基で置換されたアリール−C1−C4アルキル−であり;
R10は、C1−C10アルキル、C3−C10シクロアルキル、C3−C10シクロアルキル−C1−C10アルキル−、C1−C10ハロアルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、C1−C4アルコキシ−C1−C10アルキル−、C1−C4アルキルチオ−C1−C4アルキル、C1−C10アルコキシ、C2−C10アルケニルオキシ、C2−C10アルキニルオキシ、C1−C10アルキルチオ−、N−C1−C4アルキル−アミノ−、N,N−ジ−(C1−C4アルキル)−アミノ−、アリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR14で置換されたアリール、アリール−C1−C4アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR14で置換されたアリール−C1−C4アルキル−、ヘテロアリール−C1−C4アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR14で置換されたヘテロアリール−C1−C4アルキル−、アリールオキシ若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR14で置換されたアリールオキシ、ヘテロアリールオキシ若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR14で置換されたヘテロアリールオキシ、アリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR14で置換されたアリールチオ−、又はヘテロアリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR14で置換されたヘテロアリールチオ−であり;
各R11は、独立して、C1−C10アルキル、又はフェニル、若しくはハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル若しくはC1−C6アルコキシから独立して選択される1〜5個の置換基で置換されたフェニルであり;
R12は、C1−C10アルキル、又はフェニル、若しくはハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル若しくはC1−C6アルコキシから独立して選択される1〜5個の置換基で置換されたフェニルであり;
各R13は、独立してハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル若しくはC1−C6アルコキシであり;そして
各R14は、独立してハロ、シアノ、ニトロ、C1−C10アルキル、C1−C4ハロアルキル、C1−C10アルコキシ、C1−C4アルコキシカルボニル−、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C10アルキルチオ−、C1−C4ハロアルキルチオ−、C1−C10アルキルスルフィニル−、C1−C4ハロアルキルスルフィニル−、C1−C10アルキルスルホニル−、C1−C4ハロアルキルスルホニル−、アリール若しくはハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル若しくはC1−C6アルコキシから独立して選択される1〜5個の置換基で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくはハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル若しくはC1−C6アルコキシから独立して選択される1〜4個の置換基で置換されたヘテロアリールである]
の化合物、又はその塩若しくはN−オキシド;
[式中、
R1及びR2は、独立して水素、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロ、シアノ、ヒドロキシ、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、アリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR6で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR6で置換されたヘテロアリールであり;
R3は、C1−C4ハロアルキル、C2−C4ハロアルケニル又はC2−C4ハロアルキニルであり;
R4は、アリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR8で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくは1〜4個の同一でも相異してもよいR8で置換されたヘテロアリールであり;
R5は、ヒドロキシ、又はヒドロキシ基に代謝され得る基であり、
各R6及びR8は独立して、ハロ、シアノ、ニトロ、C1−C10アルキル、C1−C4ハロアルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、ヒドロキシ、C1−C10アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C10アルコキシ−C1−C4アルキル−、C3−C7シクロアルキル、C3−C7シクロアルコキシ、C3−C7シクロアルキル−C1−C4アルキル−、C3−C7シクロアルキル−C1−C4アルコキシ−、C1−C6アルキルカルボニル−、フォルミル、C1−C4アルコキシカルボニル−、C1−C4アルキルカルボニルオキシ−、C1−C10アルキルチオ−、C1−C4ハロアルキルチオ−、C1−C10アルキルスルフィニル−、C1−C4ハロアルキルスルフィニル−、C1−C10アルキルスルホニル−、C1−C4ハロアルキルスルホニル−、アミノ、C1−C10アルキルアミノ−、ジ−C1−C10アルキルアミノ−、C1−C10アルキルカルボニルアミノ−、アリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリール、ヘテロアリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリール、アリール−C1−C4アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリール−C1−C4アルキル−、ヘテロアリール−C1−C4アルキル−若しくはヘテロアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリール−C1−C4アルキル−、アリールオキシ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリールオキシ−、ヘテロアリールオキシ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリールオキシ−、アリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリールチオ−、又はヘテロアリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリールチオ−であり;そして
各R13は、独立してハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル若しくはC1−C6アルコキシである]
の化合物、又はその塩若しくはN−オキシド;
[式中、
R1及びR2は、独立して水素、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロ、シアノ、ヒドロキシ、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、アリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR6で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR6で置換されたヘテロアリールであり;
R3は、水素、C1−C10アルキル、C1−C4ハロアルキル、C2−C10アルケニル、C2−C4ハロアルケニル、C2−C10アルキニル、C2−C4ハロアルキニル、C3−C10シクロアルキル、C3−C10シクロアルキル−C1−C6アルキル−、C1−C10アルコキシ−C1−C6アルキル−、C1−C10シアノアルキル−、C1−C10アルコキシカルボニル−C1−C6アルキル−、N−C1−C3アルキル−アミノカルボニル−C1−C6アルキル−、N,N−ジ−(C1−C3アルキル)−アミノカルボニル−C1−C6アルキル−、アリール−C1−C6アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR7で置換されたアリール−C1−C6アルキル−、又はヘテロシクリル−C1−C6アルキル−若しくはヘテロシクリル部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR7で置換されたヘテロシクリル−C1−C6アルキル−であり;
R4は、アリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR8で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくは1〜4個の同一でも相異してもよいR8で置換されたヘテロアリールであり;
R5は、ヒドロキシ、又はヒドロキシ基に代謝され得る基であり、
各R6、R7及びR8は独立して、ハロ、シアノ、ニトロ、C1−C10アルキル、C1−C4ハロアルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、ヒドロキシ、C1−C10アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C10アルコキシ−C1−C4アルキル−、C3−C7シクロアルキル、C3−C7シクロアルコキシ、C3−C7シクロアルキル−C1−C4アルキル−、C3−C7シクロアルキル−C1−C4アルコキシ−、C1−C6アルキルカルボニル−、フォルミル、C1−C4アルコキシカルボニル−、C1−C4アルキルカルボニルオキシ−、C1−C10アルキルチオ−、C1−C4ハロアルキルチオ−、C1−C10アルキルスルフィニル−、C1−C4ハロアルキルスルフィニル−、C1−C10アルキルスルホニル−、C1−C4ハロアルキルスルホニル−、アミノ、C1−C10アルキルアミノ−、ジ−C1−C10アルキルアミノ−、C1−C10アルキルカルボニルアミノ−、アリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリール、ヘテロアリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリール、アリール−C1−C4アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリール−C1−C4アルキル−、ヘテロアリール−C1−C4アルキル−若しくはヘテロアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリール−C1−C4アルキル−、アリールオキシ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリールオキシ−、ヘテロアリールオキシ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリールオキシ−、アリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリールチオ−、又はヘテロアリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリールチオ−であり;そして
各R13は、独立してハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル若しくはC1−C6アルコキシである]
の化合物、又はその塩若しくはN−オキシド;
[式中、
A1、A2、A3及びA4は、独立して、C−R1又はNであり、但しA1、A2、A3及びA4の1つ以上がNであり、及び但し、A1及びA4の両方がNの場合、A2及びA3は両方がC−R1ではなく;
各R1は、独立して水素、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、ハロ、シアノ、ヒドロキシ、C1−C4アルコキシ、C1−C4アルキルチオ、アリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR6で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR6で置換されたヘテロアリールであり;
R3は、水素、C1−C10アルキル、C1−C4ハロアルキル、C2−C10アルケニル、C2−C4ハロアルケニル、C2−C10アルキニル、C2−C4ハロアルキニル、C3−C10シクロアルキル、C3−C10シクロアルキル−C1−C6アルキル−、C1−C10アルコキシ−C1−C6アルキル−、C1−C10シアノアルキル−、C1−C10アルコキシカルボニル−C1−C6アルキル−、N−C1−C3アルキル−アミノカルボニル−C1−C6アルキル−、N,N−ジ−(C1−C3アルキル)−アミノカルボニル−C1−C6アルキル−、アリール−C1−C6アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR7で置換されたアリール−C1−C6アルキル−、又はヘテロシクリル−C1−C6アルキル−若しくはヘテロシクリル部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR7で置換されたヘテロシクリル−C1−C6アルキル−であり;
R4は、アリール若しくは1〜5個の同一でも相異してもよいR8で置換されたアリール、又はヘテロアリール若しくは1〜4個の同一でも相異してもよいR8で置換されたヘテロアリールであり;
R5は、ヒドロキシ、又はヒドロキシ基に代謝され得る基であり、
各R6、R7及びR8は独立して、ハロ、シアノ、ニトロ、C1−C10アルキル、C1−C4ハロアルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、ヒドロキシ、C1−C10アルコキシ、C1−C4ハロアルコキシ、C1−C10アルコキシ−C1−C4アルキル−、C3−C7シクロアルキル、C3−C7シクロアルコキシ、C3−C7シクロアルキル−C1−C4アルキル−、C3−C7シクロアルキル−C1−C4アルコキシ−、C1−C6アルキルカルボニル−、フォルミル、C1−C4アルコキシカルボニル−、C1−C4アルキルカルボニルオキシ−、C1−C10アルキルチオ−、C1−C4ハロアルキルチオ−、C1−C10アルキルスルフィニル−、C1−C4ハロアルキルスルフィニル−、C1−C10アルキルスルホニル−、C1−C4ハロアルキルスルホニル−、アミノ、C1−C10アルキルアミノ−、ジ−C1−C10アルキルアミノ−、C1−C10アルキルカルボニルアミノ−、アリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリール、ヘテロアリール若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリール、アリール−C1−C4アルキル−若しくはアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリール−C1−C4アルキル−、ヘテロアリール−C1−C4アルキル−若しくはヘテロアリール部分が1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリール−C1−C4アルキル−、アリールオキシ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリールオキシ−、ヘテロアリールオキシ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリールオキシ−、アリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたアリールチオ−、又はヘテロアリールチオ−若しくは1〜3個の同一でも相異してもよいR13で置換されたヘテロアリールチオ−であり;そして
各R13は、独立してハロ、シアノ、ニトロ、C1−C6アルキル、C1−C6ハロアルキル若しくはC1−C6アルコキシである]
の化合物、又はその塩若しくはN−オキシド;並びに
[式中、
R1は、C1−C6アルキル又はC1−C6アルキルオキシ−C1−C6アルキルであり;
R2は水素又はC1−C6アルキルであり;
Gは、水素、−(C=L)R3、−(SO2)R4、又は−(P=L)R5R6であり、ここでLが酸素又は硫黄であり;
R3は、水素、C1−C6アルキル、C3−C8シクロアルキル、C2−C6アルケニル、C2−C6アルキニル、C6−C10アリール、C6−C10アリール−C1−C6アルキル、C1−C6アルキルオキシ、C3−C8シクロアルキルオキシ、C2−C6アルケニルオキシ、C2−C6アルキニルオキシ、C6−C10アリールオキシ、C6−C10アリール−C1−C6アルキルオキシ−、アミノ、C1−C6アルキルアミノ、C2−C6アルケニルアミノ、C6−C10アリールアミノ、ジ(C1−C6アルキル)アミノ、ジ(C2−C6アルケニル)アミノ、(C1−C6アルキル)(C6−C10アリール)アミノ、又は3〜8員の窒素含有ヘテロ環式環であり、
R4は、C1−C6アルキル、C6−C10アリール、C1−C6アリールアミノ基、又はジ(C1−C6アルキル)アミノであり;そして
R5及びR6は、同一でも相異してもよく、そして独立してC1−C6アルキル、C3−C8シクロアルキル、C2−C6アルケニル、C6−C10アリール、C1−C6アルキルオキシ、C3−C8シクロアルキルオキシ、C6−C10アリールオキシ、C6−C10アリール−C1−C6アルキルオキシ、C1−C6アルキルチオ、C1−C6アルキルアミノ又はジ(C1−C6アルキル)アミノであり、
ここでR3、R4、R5及びR6の基の任意のものが、ハロゲン、C3−C8シクロアルキル、C6−C10アリール、C6−C10アリール−C1−C6アルキル−、C3−C8シクロアルキルオキシ、C6−C10アリールオキシ、C6−C10アリール−C1−C6アルキルオキシ、C6−C10アリールアミノ、(C1−C6アルキル)(C6−C10アリール)アミノ、及び1つ以上のC1−C6アルキルで置換されていてもよい3〜8員の窒素含有ヘテロ環式環で置換されてもよく;
Z1はC1−C6アルキルであり;
Z2はC1−C6アルキルであり;
nは0、1、2、3又は4であり;
そしてnが2以上の整数を表すとき各Z2は、同一でも相異してもよく、そして、Z1及びZ2の基の中の炭素原子の数の合計が、2以上である]
の化合物;
からなる群から選択される。
の化合物において、R1、R2、R3及びR4は、独立して、水素、ブロモ、クロロ又はフルオロであり;但しR1、R2、R3及びR4の1つ以上がブロモ、クロロ又はフルオロのいずれかであり、最も好ましくは、当該式(IIa)の化合物において、R1及びR4はフルオロ、そしてR2及びR3はクロロであり(ハロキシジン)、又はR1、R2及びR3はクロロ、そしてR4は水素である(ピリクロール)。
式(Ia)
[式中、
R1及びR2は、水素であり、又は一緒になってエチレン橋を形成し;
R3は、ヒドロキシ又はフェニルチオ−であり;R4は、ハロゲン、ニトロ、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ−C1−C4アルキル−、C1−C4アルコキシ−C1−C4アルコキシ−C1−C4アルキル−であり;
Xは、メチン、炭素又はC−R5であり、ここでR5は、水素、C1−C4ハロアルコキシC1−C4アルキル、又は以下の基
であり;そして
R6は、アルキルスルホニル−又はハロアルキルである]
の化合物;
[式中、
R1はヒドロキシ、フェニルカルボニル−C1−C4アルコキシ−若しくはフェニル部分のパラ位がハロゲン又はC1−C4アルキルで置換されたフェニルカルボニル−C1−C4アルコキシ−、又はフェニルスルホニルオキシ−若しくはフェニル部分のパラ位がハロゲン又はC1−C4アルキルで置換されたフェニルスルホニルオキシ−であり;
R2はC1−C4アルキルであり;
R3は水素又はC1−C4アルキルであり;
R4及びR6は、独立してハロゲン、C1−C4アルキル、C1−C4ハロアルキル、又はC1−C4アルキルスルホニル−であり;そして
R5は、水素、C1−C4アルキル、C1−C4アルコキシ− C1−C4アルコキシ−、又は
の基である]
の化合物;
[式中、
R1はシクロプロピルであり;
R2及びR4は独立してハロゲン、C1−C4ハロアルキル、又はC1−C4アルキルスルホニル−であり;そして
R3は水素である]
の化合物;
からなる群から選択される。
ベンゾビシクロン(CAS RN 156963−66−5)、メソトリオン(CAS RN 104206−82−8)、スルコトリオン(CAS RN 99105−77−8)、テフリルトリオン(CAS RN 473278−76− 1)、テンボトリオン(CAS RN 335104−84−2)、4−ヒドロキシ−3−[[2−(2−メトキシエトキシ)メチル]−6−(トリフルオロメチル)−3−ピリジニル]カルボニル]−ビシクロ[3.2.1]オクト−3−エン−2−オン(CAS RN 352010−68−5)、ケトスピラドックス(CAS RN 192708−91−1)若しくはその遊離酸(CAS RN 187270−87−7)、ベンゾフェナップ(CAS RN 82692−44−2)、ピラスルフォトール(CAS RN 365400− 11−9)、ピラゾリネート(CAS RN 58011−68−0)、ピラゾキシフェン(CAS RN 71561−11−0)、トプラメゾン(CAS RN 210631−68−8)、[2−クロロ−3−(2−メトキシエトキシ)−4−(メチルスルホニル)フェニル](1−エチル−5−ヒドロキシ−1H−ピラゾル−4−イル)−メタノン(CAS RN 128133−27−7)、(2,3−ジヒドロ−3,3,4−トリメチル1,1−ジオキシドベンゾ[b]チエン−5−イル)(5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−ピラゾル−4−イル)−メタノン(CAS RN 345363−97−5)、イソキサクロルトール(CAS RN 141112−06−3)、イソキサフルトール(CAS RN 141112−29−0)、α−(シクロプロピルカルボニル)−2−(メチルスルホニル)−β−オキソ−4−クロロ−ベンゼンプロパンニトリル(CAS RN 143701−66−0)、並びにα−(シクロプロピルカルボニル)−2−(メチルスルホニル)−β−オキソ−4−(トリフルオロメチル)−ベンゼンプロパンニトリル(CAS RN 143701−75−1)。
W−(R/K)−F−L−R−P−H−T−I−R−G−T;及び/又は
N−G−(Y/F)−I−V−G−I−N−Q−I−(Y/F)−D;及び/又は
I−A−I−T−K−D−L−P;及び/又は
Y−(R/Q)−(F/W)−(I/V)−W−N−L−F−Y
を1つ以上含むことを特徴とする。
昆虫細胞及びE. coliを用いた植物HST酵素のクローニング及び発現
cDNAライブラリーから得られたアラビドプシス(配列番号11)及びイネ(配列番号12若しくは配列番号13)、又は合成した、完全長HSTコード配列(ATG開始コドンを除く)を、EcoRIフランク部位を加えて増幅する。これらの、完全長配列、及び切断コード配列(ARG 64から開始する成熟配列をコードし、アラビドプシスのものは配列番号21、イネのものは配列番号22及び23である)を、両方ともpAcG3Xベクター(BD Biosciences Cat. No. 21415P)中のEcoRI部位に挿入してクローニングし、これらを用いてSf9 (スポンドプテラ・フギペルダ(Spodoptera fugiperda))昆虫細胞を(下記のように)形質転換して、細胞中で、Xa因子開裂部位を有するN末端GST融合タンパク質として、発現させた。同様に、変異した切断成熟(ARG 69)アラビドプシスHSTをコードする、昆虫細胞にコドンを最適化したDNA配列(配列番号24)を、pAcG3XのEcoRI部位に挿入してクローニングし、これをSf9細胞中でN末端GST融合タンパク質として発現させた。アラビドプシスHSTのSWISSPROT受入番号(タンパク質)は、Q1ACB3であり、アラビドプシスHSTのEMBL受入番号(DNA)は、DQ231060である。
細胞の増殖及びHST酵素抽出物の調製
GST N末端融合タンパク質として成熟アラビドプシス又はクラミドモナスHSTを発現する、E. coli BL21A1細胞を増殖させ、回収し、破砕し、そしてHSTを発現している膜フラクションが得られる。
HST酵素のアッセイ
プレニルトランスフェラーゼ(HST)活性は、ファルネシル2リン酸(FDP)をプレニル供与体として使用する、[U−I4C]ホモゲンチセートのプレニル化の割合を判定することにより測定される。14Cホモゲンチセートは、Lアミノ酸オキシダーゼ及びHPPDを使用して、14Cチロシンから調製される。
表1
様々な原料(表示される)に由来するHSTを使用して行われた、様々な濃度の様々な化合物における、(対照に対する)HST反応の阻害パーセンテージの計測結果を示す。アッセイはTLCに基づき、MFBQの生成量が推定された。
表2
全抽出(TLCではなく)アッセイに基づく、アラビドプシスHSTの阻害のIC50の推定値を示す。これらの推定値は、HPP濃度50μMのみで実施された3点の用量曲線から得られた。
ヘテロ接合HST酵素を発現するステーブル遺伝子組換え植物株の調製
例えば、配列番号11のアラビドプシスHSTを、二重の35s CMVプロモーター配列及びTMV翻訳エンハンサー配列の下流かつnos遺伝子由来の3’ターミネーターの上流にクローニングする。この発現カセットをpMJB1(WO98/20144に記載)中にライゲーションし、そしてpBIN19内にライゲーションし、そして、植物形質転換に先立ち、アグロバクテリウム・ツメファシエンス(Agrobacterium tumefaciens)株LBA4404を形質転換する。
表3
化合物2.3(表中で化合物3と表記される)処理11日後の、アラビドプシスHST遺伝子改変タバコ植物の評価を示す。非処理対照と比較して、全ての植物が、50Og/haの処理で影響を受け、矮小化し、そして成長が遅れる。しかしながら、分裂組織が白色化し、本質的に死滅する対照と異なり、多くのHST遺伝子組換え植物は、分裂組織が緑色で、復活し、そして一部のものは、本質的に脱色していない。植物は、0〜10のスケールで評点され、0は、本質的に脱色し/焼け、及び分裂組織が死滅/白色化した状態を意味し、そして10は、植物全体が緑色でダメージを受けていないように見えるものを意味する。
アラビドプシスHST、アベナHPPD又はシュードモナスHPPDを発現するように形質転換したT1及びT2遺伝子組換え植物の生産及び更なる試験
上記実施例のT0遺伝子組換えタバコ植物株B8及びG9を、自家受粉させる。各株の自家受粉により得られた種子の約50個を、3インチのポットに入れた土/ピート混合物に植え、温室中で7〜10日育て、そして、500g/haの化合物2.3を噴霧する(全て前記実施例と同じ)。各株において、約3/4の植物が前記除草剤に対して有意な抵抗性を示し、そしてそれらの幾つかの植物(恐らく単一挿入事象のホモ接合体)は、最高の抵抗性を見せる。より高度に耐性のT1植物の幾つかを再び自家受粉して、T2植物のバッチを生産する。
表6
メソトリオンで処理したアラビドプシスHSTタバコのT0株の試験を示す。アラビドプシスHSTで形質転換したタバコの5つの株は、10g/haのメソトリオンで処理して10日で、同様に処理した野生型株よりも、ダメージが少なかった。アラビドプシスHSTの発現は、HPPD除草剤、メソトリオンに対する、ある程度の耐性を付与する。
HST除草剤に対する、アベナHPPDを発現する植物の抵抗性
二重強化35S CMVプロモーター領域、Nos3’ターミネーター及びTMV翻訳エンハンサーの操作可能な支配化にある、アベナ・サティバ(Avena sativa)の野生型HPPD遺伝子を発現するタバコの稔性T1株は、WO0246387に詳述されているようにして、生産された。メソトリオン耐性T0事象の自家受粉に由来するT1種子約30〜40個を、7〜10日齢まで育て、上記のように噴霧及び評価を行い、そしてそれらの結果(処理後6日)を、下記表7に描写する。本実験の条件下では、アベナHPPDは、HST阻害因子2.30及び3.6の両方に対して、ある程度の耐性が認められる。
タバコの形質転換、及びHST除草剤に耐性のHST発現形質転換体の選択
マスタープレートから前記バイナリーベクターpBinAT HST(実施例6に記載)を保有するアグロバクテリウム・ツメファシエンス(Agrobacterium tumefaciens)の単一細菌コロニーを、100mg/lのリファンピシン及び50mg/lのカナマイシンを含有する10mlのLBに播種する。これを、200rpmで攪拌しながら、28℃で一昼夜インキュベーションする。
ヘテロ接合HPPD酵素を発現するステーブル遺伝子組換え植物株の育苗及び試験
タバコ、ダイズ及びトウモロコシの遺伝子組換え株は、例えばアベナ(配列番号26)、コムギ(配列番号27)、シュードモナス・フルオレッセンス(Pseudomonas fluorescence)(配列番号25)及び、WO 02/46387等に記載されるシェワネラ・コルウェリアナ(Shewanella colwelliana)(配列番号28)等に由来する、様々なヘテロ接合HPPDを発現するように改変されていてもよい。
様々なヘテロ接合HST及びHPPD酵素を発現し、且つそれらが重複して組み合わされて発現する遺伝子組換え植物の調製
除草剤耐性の温室試験
配列番号11の完全長アラビドプシス(開始コドン保有)HSTを、前記の様に、二重の35s CMVプロモーター配列及びTMV翻訳エンハンサー配列の下流かつnos遺伝子由来の3’ターミネーターの上流にクローニングする。この発現カセットをpMJB1(WO98/20144に記載)中にライゲーションし、そしてpBIN19内にライゲーションし、そして、植物形質転換に先立ち、アグロバクテリウム・ツメファシエンス(Agrobacterium tumefaciens)株LBA4404を形質転換する。上記のように、この発現コンストラクトを、バイナリーベクターにクローニングし(pBIN 35SアラビドプシスHST)、これを用いてタバコ植物を形質転換して、30〜50個の遺伝子組換え事象の集団を作成し、それらをカルスの段階で更に区分して、各遺伝子組換え「事象」から、2〜4個のクローン植物を生産する。そしてそれらを再生させ、土に植え、温室に移して試験する。
表9
タバコ事象のT0集団は、前記(1)35SアラビドプシスHST遺伝子、(2)SSUコムギHPPD遺伝子又は(3)35SクラミドモナスHST遺伝子を有する発現カセットを択一的に保有する。除草剤ダメージの評価は、100gの化合物2.30の噴霧後の様々な時点で行われる。パラメーター「ht」は、対照植物と比較しての高さの減少%を指し、一方、パラメーター「blch」は、対照植物と比較しての分裂組織で観察される脱色の%を指す。3つのコンストラクトによる形質転換のいずれもが化合物2.30に対する耐性を付与することは明らかである。前記2つのHST遺伝子のいずれかで形質転換した集団において、最もダメージが少ない(矮化が30%未満の事象が約50%ある)最多数の植物が観察された。
表10
タバコ事象のT0集団は、前記(1)アラビドプシスHST遺伝子、(2)コムギHPPD遺伝子又は(3)クラミドモナスHST遺伝子を有する発現カセットを択一的に保有する。除草剤ダメージの評価は、40gの化合物1.1の噴霧後の様々な時点で行われる。パラメーター「ht」は、対照植物と比較しての高さの減少%を指し、一方、パラメーター「blch」は、対照植物と比較しての分裂組織で観察される脱色の%を指す。3つのコンストラクトによる形質転換のいずれもが化合物1.1に対する耐性を提供する。前記2つのHST遺伝子のいずれかで形質転換した集団において、最もダメージが少ない(矮化が35%未満の事象が50%超ある)最多数の植物が観察された。
タバコ事象のT0集団は、前記(1)アラビドプシスHST遺伝子、(2)アラビドプシスHST遺伝子と重ねたコムギHPPD遺伝子又は(3)クラミドモナスHST遺伝子を有する発現カセットを択一的に保有する。除草剤ダメージの評価は、500gの化合物2.3の噴霧後の様々な時点で行われる。パラメーター「ht」は、対照植物と比較しての高さの減少%を指し、一方、パラメーター「blch」は、対照植物と比較しての分裂組織で観察される脱色の%を指す。3つのコンストラクトによる形質転換のいずれもが化合物2.30に対する耐性を提供する。前記HPPD及びHST遺伝子の組み合わせで重ねて形質転換した植物において、最もダメージが少ない(矮化が30%未満の事象が50%超ある)最多数の植物が観察された。
タバコ事象のT0集団は、前記(1)アラビドプシスHST遺伝子、又は(2)クラミドモナスHST遺伝子を有する発現カセットを択一的に保有する。除草剤ダメージの評価は、15g/haのメソトリオンの噴霧後の様々な時点で行われる。前記クラミドモナスHST遺伝子を保有する多くの植物株がメソトリオンに対する一定の耐性を示し、特に3つの株は、同様に処理した対照植物と比較して、顕著に良好な緑化及び回復を示した。
ダイズ形質転換ベクターの構築
双子葉植物(ダイズ)の形質転換用のバイナリーベクターは、例えば、クラミドモナスHSTコード配列(配列番号15)の発現を駆動するアラビドプシスUBQ3にNos遺伝子3’ターミネーターを繋げて構築される。当該遺伝子は、HST遺伝子コード領域の推定アミノ酸配列に基づいて、ダイズでの発現用にコドン最適化されている。クラミドモナスHST遺伝子にコードされるタンパク質のアミノ酸配列は、配列番号5に提供されている。必要に応じて、当該形質転換ベクターは、形質転換プロセス中のグルフォシネートベースの選択のために、2つのPAT遺伝子カセット(1つは35Sプロモーターを有し、1つはCMPプロモーターを有し、そしていずれもnosターミネーターを付したPAT遺伝子を有する)も含む。
ダイズT0植物の樹立及び選択
ダイズの形質転換は、当業者に周知の方法を使用して行われる。組織培養物からT0植物を取り、これらを、2’’角型のポット中の、1%のgranular Marathon(登録商標)(Olympic Horticultural Products, Co., Mainland, PA)を混合した飽和土(Redi−Earth(登録商標) Plug and Seedling Mix, Sun Gro Horticulture, Bellevue, WA)で、Redi−Earth(登録商標)Mixが5〜10g/galのものに植え、温室に移す。植物を保湿ドームで覆い、そして、以下の:日中24℃;夜間18℃;明期23時間;相対湿度80%の環境条件に設定したConviron chamber(Pembina, ND)内に置く。
HPPD/HST除草剤混合物
少量のHPPD阻害剤の添加の、HST除草剤の除草剤活性に対する影響
タバコ(サムスン種)の小植物を、無菌状態の、1/3の強度のMurashige and Skoog塩培地で出来た、様々な量の除草剤を含む寒天中で成長させた。発芽した小植物の脱色ダメージは、処理の7日後に評価される。小植物は、透明なパースペクスに覆われ、18℃(夜)及び24℃(昼)、明期16時間(〜500〜900μmol/m2)、暗期8時間の体制で育てられる。除草剤の影響を受ける小植物は、脱色されて白色化し、成長が低下する。コルビー式を使用して、相乗的/拮抗的応答が計算される(Colby, S. R. (Calculating synergistic and antagonistic responses of herbicide Combinations”, Weeds, 15, p. 20−22, 1967)。
表13
寒天中のタバコ苗に対する、HST除草剤及びHPPD除草剤の二重施用の効果を示す。寒天中で発芽したタバコ種子を、0.004ppmのメソトリオンの存在下又は非存在下、様々な用量のハロキシジン及び0.75%DMSOで処理して、その7日後に観察される脱色%を評価する。メソトリオン自体は、この用量において、通常35%の脱色ダメージを生じるので、様々な用量のハロキシジンとの混合物におけるダメージの予想される値は、Colby (1967)により記載されるようにして計算される。
液体上で育ったタバコ苗に対する、HST除草剤及びHPPD除草剤の二重施用の効果を示す。液体培養培地上で発芽したタバコ種子を、0.001又は0.0005ppmのメソトリオンの存在下又は非存在下、様々な濃度のHST除草剤の化合物2.13及び0.75% v/v DMSOで処理して、その20日後に観察される脱色%を評価する。これらのメソトリオンの用量では、単独で施用する場合は最小で、それぞれ20%、又は0%の脱色ダメージしか生じない。
表15a及び15b
液体培養培地上で育てたタバコの苗に対する、HST除草剤及びHPPD除草剤の二重施用の傷害効果を示す。液体培養培地上で発芽したタバコ種子を、0.001ppmのメソトリオンの存在下又は非存在下、様々な濃度のHST除草剤の、ハロキシジン(表15a)及び化合物2.13(表15b)、並びに0.75% v/v DMSOで処理して、その14日後に観察される脱色%を評価する。かかるメソトリオンの用量では、最小(0〜5%v)のダメージしか生じない。
HST及びHPPD除草剤の混合物による、温室中の雑草の防除
雑草の種を、適切な土(例えば50%ピート、John Innes soil no 3)を入れたトレイに植え、日中24〜27℃;夜間18〜21℃、及び明期が約14時間(UKの夏季、又はこれより長い)の条件の温室中で育てる。湿度は〜65%で、明度は、ベンチレベルで最大2000μmol/m2である。0.2〜0.25%のX−77界面活性剤を含む水に溶かした試験化合物をトレイに噴霧し、そして、適切なトラックスプレーヤー(例えば植物の頂点から約2インチの高さにノズルを備えたDeVriesスプレーチャンバー)中を約2mphで移動する、適切なトラックスプレーヤー上のブームから噴霧される。スプレー体積は適切には、500〜1000l/haである。噴霧は、発芽前に、及び発芽して約7〜12日後の小植物に対して、両方の時点で行われる。
HPPD及びHST除草剤の間の相乗作用を示す更なる研究
表18及び19に結果を描写する更なる試験において、雑草の種子を、50%ピート/John Innes soil no 3を入れたトレイに植え、日中24〜27℃;夜間18〜21℃、及び明期が約15時間の温室中で育てる。湿度は〜65%で、明度は、ベンチレベルで最大2000μmol/m2である。再び、噴霧化合物を0.2%のX77界面活性剤に溶かし、これが、植物の頂点から約2インチの高さにノズルを備えた2mphで移動するトラックスプレーヤー上のブームから噴霧される。噴霧体積は、500l/haである。噴霧は、発芽前、及び小植物が発芽してから約7〜12日後の両方において実行される。植物は、処理の14日後、0〜100%のスケールで評点される除草剤ダメージにより評価される。HPPD阻害除草剤は、化合物A22(4−ヒドロキシ−3−[[2−(2−メトキシエトキシ)メチル]−6−(トリフルオロメチル)−3−ピリジニル]カルボニル]−ビシクロ[3.2.1]オクト−3−エン−2−オン)であり、単独で、及び様々なHST除草剤との混合物として、いずれも2g/haで噴霧される。結果及び噴霧率を、表18及び19に描写する。ここでも、Colby式を使用して、前記混合物を用いた処理の後に観察された相乗スコアを、各成分を単独で用いた場合の結果を基準として計算した。正の相乗効果は、HPPD除草剤と広範なHST阻害剤除草剤とを、発芽前及び発芽後の両方において、様々な雑草に施用するときに観察される。
Claims (48)
- 作物及び雑草が生育する圃場(locus)で選択的に雑草を防除する方法であって、雑草を防除する量の、ホモゲンチセートソラネシルトランスフェラーゼ(HST)阻害除草剤及び/又はヒドロキシフェニルピルベートジオキシゲナーゼ(HPPD)阻害除草剤を含有する農薬組成物を前記圃場に施用することを含み、前記作物が、HSTをコードする領域を含む1つ以上の組換えポリヌクレオチドを保有する、前記方法。
- 前記作物が、ヒドロキシフェニルピルベートジオキシゲナーゼ(HPPD)をコードする領域を含む追加の組換えポリヌクレオチドを保有する、請求項1に記載の方法。
- 作物及び雑草が生育する圃場で選択的に雑草を防除する方法であって、雑草を防除する量の、ホモゲンチセートソラネシルトランスフェラーゼ(HST)阻害除草剤を含有する農薬組成物を前記圃場に施用することを含み、前記作物が、HPPD酵素をコードする領域を含む1つ以上の組換えポリヌクレオチドを保有する、前記方法。
- 前記農薬組成物が、HST阻害除草剤及びヒドロキシフェニルピルベートジオキシゲナーゼ(HPPD)阻害除草剤を含有する、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記HST阻害除草剤が、式(IIa)、(IIb)、(IIc)、(IId)、(IIe)及び(IIf)からなる群から選択される、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 前記HPPD阻害除草剤が、メソトリオン、スルコトリオン、イソキサフルトール、テンボトリオン、トプラメゾン、ベンゾフェナップ、ピラゾレート、ピラゾキシフェン、ピラスルフォトール、ケトスピラドックス若しくはその遊離酸、4−ヒドロキシ−3−[[2−(2−メトキシエトキシ)メチル]−6−(トリフルオロメチル)−3−ピリジニル]カルボニル]−ビシクロ[3.2.1]オクト−3−エン−2−オン、[2−クロロ−3−(2−メトキシエトキシ)−4−(メチルスルホニル)フェニル](1−エチル−5−ヒドロキシ−1H−ピラゾル−4−イル)−メタノン、α−(シクロプロピルカルボニル)−2−(メチルスルホニル)−β−オキソ−4−(トリフルオロメチル)−ベンゼンプロパンニトリル、(2,3−ジヒドロ−3,3,4−トリメチル1,1−ジオキシドベンゾ[b]チエン−5−イル)(5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−ピラゾル−4−イル)−メタノンからなる群から選択される、請求項1、2、4及び5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記HST酵素が、アラビドプシス・サリアナ(Arabidopsis thaliana)、グリシン・マックス(Glycine max)、オリザ・サティバ(Oryza sativa)又はクラミドモナス・レインハルドティイ(Chlamydomonas reinhardtii)に由来する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- 前記HST酵素が、
(a)配列番号1〜10として記載されるHST酵素;及び
(b)以下のポリペプチドモチーフ:
W−(R/K)−F−L−R−P−H−T−I−R−G−T;及び/又は
N−G−(Y/F)−I−V−G−I−N−Q−I−(Y/F)−D;及び/又は
I−A−I−T−K−D−L−P;及び/又は
Y−(R/Q)−(F/W)−(I/V)−W−N−L−F−Y
の1つ以上を保有するHST
からなる群から選択される、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。 - 前記作物が、更なる除草剤耐性酵素をコードする更なる組換えポリペプチドを保有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記更なる除草剤耐性酵素が、5−エノールピルビルシキミ酸−3−リン酸合成酵素(EPSPS)、グリホセートアセチルトランスフェラーゼ(GAT)、シトクロームP450、ホスフィノトリシンアセチルトランスフェラーゼ(PAT)、アセト乳酸合成酵素(ALS)、プロトポルフィリノーゲンオキシダーゼ(PPGO)、フィトエンデサチュラーゼ(PD)、ジカンバ分解酵素及びアリールオキシ除草剤分解酵素からなる群から選択される、請求項9に記載の方法。
- 前記農薬組成物が、1つ以上の追加の除草剤を含有する、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 前記1つ以上の追加の除草剤が、グリホセート(その農薬として許容される塩を含む);グルフォシネート(その農薬として許容される塩を含む);クロロアセトアニリド、例えばアラクロール、アセトクロール、メトラクトール、S−メトラクロール;光化学系II阻害剤、例えば、アメトリン、アトラジン、シアナジン及びテルブチラジン(terbuthylazine)等のトリアジン、ヘキサジノン及びメトリブジン等のトリアジノン、並びにクロロトルウロン(chlorotoluron)、ジウロン、イソプロトウロン(isoproturon)、リンウロン及びテルブチウロン等の尿素等;ALS阻害剤、例えば、アミドスルフウロン、クロルスルフウロン、フルピルスルフウロン、ハロスルフウロン、ニコスルフウロン、プリミスルフウロン、プロスルフウロン、リムスルフウロン、トリアスルフウロン、トリフロキシスルフウロン及びトリトスルフウロン等のスルホニル尿素等;ジフェニルエーテル、例えばアシフルロフェン及びフォメサフェン等からなる群から選択される、請求項11に記載の方法。
- 前記1つ以上の追加の除草剤が、グリホセート及び/又はPS−II阻害除草剤である、請求項12に記載の方法。
- 更に殺昆虫剤及び/又は殺真菌剤を前記圃場に施用することを含む、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
- 植物の作用可能なプロモーターと作用可能に連結したHST酵素をコードする領域を保有する組換えポリヌクレオチドであって、当該HST酵素をコードする領域が、配列番号11、配列番号12、配列番号14又は配列番号15に記載されたポリヌクレオチド配列を含まない、前記ポリヌクレオチド。
- 前記HSTが、配列番号3、配列番号6、配列番号7、配列番号8、配列番号9及び配列番号10からなる群から選択される、請求項15に記載の組換えポリヌクレオチド。
- (i)植物の作用可能なプロモーターと作用可能に連結したHST酵素をコードする領域、並びに(ii)植物の作用可能なプロモーターと作用可能に連結した、ヒドロキシフェニルピルベートジオキシゲナーゼ(HPPD)、5−エノールピルビルシキキミ酸−3−リン酸合成酵素(EPSPS)、グリホセートアセチルトランスフェラーゼ(GAT)、シトクロームP450、ホスフィノトリシンアセチルトランスフェラーゼ(PAT)、アセト乳酸合成酵素(ALS)、プロトポルフィリノーゲンオキシダーゼ(PPGO)、フィトエンデサチュラーゼ(PD)、ジカンバ分解酵素及びアリールオキシ除草剤分解酵素からなる群から選択される除草剤耐性酵素をコードする、1つ以上の追加の領域を保有する、組換えポリヌクレオチド。
- (i)HST酵素をコードする領域及び(ii)HPPDをコードする1つ以上の追加の領域を保有する、請求項17に記載の組換えポリヌクレオチド。
- 除草剤耐性酵素をコードする1つ以上の追加の領域を保有する、請求項17に記載の組換えポリヌクレオチド。
- 前記ポリヌクレオチドが、(i)HST酵素をコードする領域、(ii)HPPD酵素をコードする領域及び(iii)グリホセート耐性酵素をコードする領域を保有する、請求項19に記載の組換えポリヌクレオチド。
- 請求項15〜20のいずれか1項に記載の組換えポリヌクレオチドを保有するベクター。
- HST阻害除草剤及び/又はHPPD阻害除草剤に耐性の、請求項15〜20のいずれか1項に記載の組換えポリヌクレオチドを保有する植物細胞。
- 前記植物が、トウモロコシ、ダイズ、コムギ、オオムギ、テンサイ、イネ及びサトウキビから選択される、請求項22に記載の植物細胞。
- 請求項22又は請求項23のいずれか1項に記載の植物細胞を含む、HST阻害剤及び/又はHPPD阻害剤耐性植物。
- 請求項22に記載の植物細胞を含む、種子、又はこれに由来する材料。
- HST阻害及び/又はHPPD阻害除草剤に耐性の遺伝子組換え植物を生産する方法であって、植物材料を、HSTをコードする領域、及び任意でHPPDをコードする領域を保有する組換えポリヌクレオチドで形質転換する工程、形質転換した植物材料を、HST阻害剤及び/又はHPPD阻害剤を使用して選択する工程、並びに得られた材料を形態的に正常な稔性植物に再生させる工程を含む、前記方法。
- 前記組換えポリヌクレオチドが、非HST阻害除草剤の標的をコードする領域、並びに/又は、昆虫、真菌及び/若しくは線虫に対する耐性を形質転換された植物材料に付与することが出来るタンパク質をコードする領域を更に保有する、請求項26に記載の方法。
- 請求項26又は27のいずれかに記載の方法により取得される、形態的に正常な稔性全形植物。
- HST酵素をコードする領域を植物の形質転換の選択マーカーとして保有する、組換えポリヌクレオチドの使用。
- 全体的に又は部分的にHSTを阻害することにより機能する除草剤に耐性を有する植物の生産における、HST酵素をコードする領域を保有する組換えポリヌクレオチドの使用。
- 植物形質転換における選択剤としての、HST阻害剤の使用。
- 潜在的な除草剤のインビトロスクリーニングにおける、組換えHST酵素の使用。
- HPPD阻害除草剤及びHST阻害除草剤を含む、除草組成物。
- 前記HPPD阻害組成物が請求項6に記載のものである、請求項33に記載の除草組成物。
- 前記HST阻害除草剤が、請求項5に記載のものである、請求項33又は34のいずれかに記載の除草組成物。
- 含有されるHPPD阻害除草剤とHST阻害除草剤とのモル比率が100:1〜1:100である、請求項33〜35のいずれか1項に記載の除草組成物。
- 含有されるHPPD阻害除草剤とHST阻害除草剤とのモル比率が20:1〜1:20である、請求項36に記載の除草組成物。
- 1つ以上の追加の農薬成分を更に含有する、請求項33〜37のいずれか1項に記載の除草組成物。
- 前記1つ以上の追加の農薬成分が除草剤を含む、請求項38に記載の除草組成物。
- 前記追加の除草剤が、グリホセート(その農薬として許容される塩を含む);グルフォシネート(その農薬として許容される塩を含む);クロロアセトアニリド、例えばアラクロール、アセトクロール、メトラクトール、S−メトラクロール;光化学系II阻害剤、例えば、アメトリン、アトラジン、シアナジン及びテルブチラジン等のトリアジン、ヘキサジノン及びメトリブジン等のトリアジノン、並びにクロロトルウロン、ジウロン、イソプロトウロン、リンウロン及びテルブチウロン等の尿素等;ALS阻害剤、例えば、アミドスルフウロン、クロルスルフウロン、フルピルスルフウロン、ハロスルフウロン、ニコスルフウロン、プリミスルフウロン、プロスルフウロン、リムスルフウロン、トリアスルフウロン、トリフロキシスルフウロン及びトリトスルフウロン等のスルホニル尿素等;ジフェニルエーテル、例えばアシフルロフェン及びフォメサフェン等からなる群から選択される、請求項39に記載の除草組成物。
- 前記追加物が、グリホセート、グルフォシネート、アトラジン及びS−メトラクロールからなる群から選択される除草剤である、請求項40に記載の除草組成物。
- 作物及び雑草が生育する圃場で選択的に雑草を防除する方法であって、雑草を防除する量の、請求項33〜41のいずれか1項に記載の除草組成物を前記圃場に施用することを含む、前記方法。
- 前記組成物中に、単独で施用される場合に通常は雑草に対して致死未満量(sub−lethal)のHPPD阻害除草剤が存在する、請求項42に記載の方法。
- HST阻害除草剤が10〜2000g/ha施用され、そしてHPPD阻害除草剤が、5〜1000g ai/ha施用される、請求項43に記載の方法。
- 前記作物が、前記除草組成物中に含有される除草剤に対する耐性を増大させる1つ以上の除草剤耐性酵素をコードする領域を含む組換えポリヌクレオチドを保有する、請求項42〜44のいずれか1項に記載の方法。
- 前記除草剤耐性酵素が、HST、HPPD、EPSPS、GAT、シトクロームP450、PAT、ALS、PPGO、フィトエンデサチュラーゼ(PD)及びジカンバ分解酵素からなる群から選択される、請求項45に記載の方法。
- 前記作物が、トウモロコシ、コムギ、オオムギ、イネ、ソルガム、ダイズ、テンサイ及びサトウキビから選択される、請求項42〜46のいずれか1項に記載の方法。
- HST阻害除草剤の雑草防除効率を増大させるための、致死未満量のHPPD阻害除草剤の使用。
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