JP2012234937A - Rigid flexible printed circuit board and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rigid flexible printed circuit board which has a blind via hole that reaches a wiring pattern of a multilayer flexible wiring board from a build-up layer finely formed therein.SOLUTION: A method for manufacturing the rigid flexible printed circuit board includes the steps of: forming a metal pillar intermediate land on the surface of a support film formed over a region of a rigid part and flexible part; forming an inner layer flexible wiring board having a coverlay film laminated on both surfaces of the support film; forming a hole which reaches the metal pillar intermediate land from the both surfaces of the inner layer flexible wiring board; forming a metal plated pillar which is formed integrally with the metal pillar intermediate land by filling the hole with metal plating; forming an alignment mark and a reinforcing metal pattern at a boundary portion of the flexible part and rigid part on the surface of the inner layer flexible wiring board; laminating build-up layers in a region of the rigid part of the inner layer flexible wiring board; adjusting a position to the alignment mark, and vertically forming the side face of the end part of the build-up layer on the reinforcing metal pattern.

Description

本発明は、フレキシブル配線板とリジッド配線板とからなるリジッドフレキシブルプリント配線板及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a rigid flexible printed wiring board comprising a flexible wiring board and a rigid wiring board, and a method for manufacturing the same.

近年、折りたたみ式の携帯電話等の携帯用電子機器には、リジッドフレキシブルプリント配線板が使用されている。このようなプリント配線板として特許文献1や特許文献2の技術が知られている。特に、特許文献2では、柔軟性のない硬質のリジッド部を柔軟性のあるフレキ部を介して連結するとともに、リジッド部においては、フレキシブル配線板の配線パターンとリジッド配線板の配線パターンを、ビアフィルめっきによる金属柱を介して電気的に接続する技術が開示されている。   In recent years, rigid flexible printed wiring boards have been used in portable electronic devices such as folding mobile phones. As such a printed wiring board, the techniques of Patent Document 1 and Patent Document 2 are known. In particular, in Patent Document 2, a rigid rigid part having no flexibility is connected via a flexible flexible part. In the rigid part, the wiring pattern of the flexible wiring board and the wiring pattern of the rigid wiring board are connected to the via fill. A technique for electrically connecting via metal columns by plating is disclosed.

特開平3−141693号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-141693 国際公開WO2008/050399号公報International Publication WO2008 / 050399

しかし、特許文献1の技術では、硬化性樹脂にシリコン系離型剤、フッ素系離型剤などの離型剤の混入された樹脂組成物がコートされて仕上げられたもの、表面が離型性のある接着テープあるいは、プリプレグの樹脂成分と相溶しない樹脂成分が塗布されて形成された剥離部をリジッドフレキシブルプリント配線板上に有する。それにより、その剥離部の上に形成した樹脂層を剥離部から剥離することでフレキ部を形成するので、剥離部がフレキ部に残留する問題があった。すなわち、この剥離部がリジッドフレキシブルプリント配線板上に残留しているので、その剥離部の材料によるフレキ部の表面の絶縁性の低下やその他の基板の電気特性に好ましく無い影響を与える可能性が高い問題があった。   However, in the technique of Patent Document 1, a curable resin is coated with a resin composition mixed with a release agent such as a silicon release agent or a fluorine release agent, and the surface is releasable. A peeling portion formed by applying a resin component that is not compatible with the adhesive tape or the resin component of the prepreg is provided on the rigid flexible printed wiring board. Thereby, since the flexible part is formed by peeling the resin layer formed on the peeled part from the peeled part, there is a problem that the peeled part remains in the flexible part. That is, since the peeled portion remains on the rigid flexible printed wiring board, there is a possibility that the surface insulation of the flexible portion due to the material of the peeled portion may be adversely affected and the electrical characteristics of other substrates may be adversely affected. There was a high problem.

一方、特許文献2のリジッドフレキシブルプリント配線板では、配線パターンを形成した多層フレキシブル配線板の両側に厚さが同じリジッド部のコア基板を並置し、そのコア基板と多層フレキシブル配線板の一部の両側に、樹脂フローがほとんど発生しないローフロー樹脂のシートの絶縁層を積層し、そのコア基板と多層フレキシブル配線板の全面に銅膜を形成した内層フレキシブル配線板を製造していた。そして、その内層フレキシブル配線板の両面に絶縁層と配線パターンとブラインドバイアホールからなるビルドアップ層を積層し、加工用レーザー光を、ビルドアップ層の表面から多層フレキシブル配線板の一部の両側の絶縁層の端部の位置の銅膜に達するまで照射して溝を形成した。そうして、その溝の位置からから多層フレキシブル配線板の両側のビルドアップ層を剥離することでフレキ部を形成したリジッドフレキシブルプリント配線板を製造していた。   On the other hand, in the rigid flexible printed wiring board of Patent Document 2, a rigid core substrate having the same thickness is juxtaposed on both sides of a multilayer flexible wiring board on which a wiring pattern is formed, and a part of the core substrate and the multilayer flexible wiring board are arranged. An inner layer flexible wiring board in which an insulating layer of a low flow resin sheet that hardly generates resin flow is laminated on both sides and a copper film is formed on the entire surface of the core substrate and the multilayer flexible wiring board has been manufactured. Then, a build-up layer composed of an insulating layer, a wiring pattern, and a blind via hole is laminated on both surfaces of the inner-layer flexible wiring board, and a processing laser beam is applied to both sides of a part of the multilayer flexible wiring board from the surface of the build-up layer. Irradiation was performed until the copper film at the end of the insulating layer was reached to form a groove. Then, the rigid flexible printed wiring board which formed the flexible part by peeling the buildup layer of the both sides of a multilayer flexible wiring board from the position of the groove | channel was manufactured.

しかし、特許文献2の技術では、多層フレキシブル配線板の一部の両側に形成する絶縁層が、樹脂フローがほとんど発生しないローフロー樹脂のシートを、予め所望の部分を所望の形状が抜き取られた状態で使用するため、以下の問題が発生する。   However, in the technique of Patent Document 2, the insulating layer formed on both sides of a part of the multilayer flexible wiring board is a state in which a desired shape is extracted in advance from a low-flow resin sheet that hardly generates resin flow. This causes the following problems.

(問題点1)フレキシブル配線板が露出する所望の部分が凹んだ形状になるため、積層プレスにおける加熱加圧成型時に、圧力が均一にかかり、且つフレキシブル配線板が露出部にボンディング樹脂が流れ込まないように十分な追従性を有し、且つ離形成を有するクッション材を使用する必要がある。   (Problem 1) Since the desired portion where the flexible wiring board is exposed has a recessed shape, pressure is applied uniformly during the heat and pressure molding in the lamination press, and the bonding resin does not flow into the exposed portion of the flexible wiring board. Thus, it is necessary to use a cushioning material having sufficient followability and having a separation formation.

(問題点2)上記のクッション材を用いても、ギャップが150μm程度が限界であり、多層フレキシブル配線板の上に形成できるビルドアップ層は2層までのビルドアップが限界である問題があった。   (Problem 2) Even when the above cushioning material is used, the gap is limited to about 150 μm, and the build-up layer that can be formed on the multilayer flexible wiring board has a problem that the build-up up to two layers is the limit. .

(問題点3)ビルド層の絶縁樹脂にローフロー樹脂のシートを使用するため、内層回路パターン間への追従性が悪く、積層ボイドが発生しやすい。また内層回路パターンの凹凸が積層板表面に影響するため、内層回路パターンにファインパターン(例えばL/S=75/75未満)の形成が困難である問題がある。   (Problem 3) Since a low-flow resin sheet is used for the insulating resin of the build layer, followability between inner layer circuit patterns is poor, and laminated voids are likely to occur. Further, since the unevenness of the inner layer circuit pattern affects the surface of the laminate, there is a problem that it is difficult to form a fine pattern (for example, less than L / S = 75/75) on the inner layer circuit pattern.

(問題点4)また、形成した樹脂層の下に露出させる多層フレキシブル配線板の表面に配線パターンが形成できない。そのため、その多層フレキシブル配線板の上に形成したビルドアップ層から多層フレキシブル配線板の配線パターンに達するブラインドバイアホールの高さが高くなり、そのブラインドバイアホールを微細に形成することができず、配線パターンの高密度化のために障害となる問題があった。   (Problem 4) Moreover, a wiring pattern cannot be formed on the surface of the multilayer flexible wiring board exposed under the formed resin layer. Therefore, the height of the blind via hole reaching the wiring pattern of the multilayer flexible wiring board from the build-up layer formed on the multilayer flexible wiring board becomes high, and the blind via hole cannot be formed finely. There has been a problem that becomes an obstacle to increasing the density of patterns.

本発明は、上記の問題を解決して、多層フレキシブル配線板の上に形成できるビルドアップ層を多層に形成できるようにし、また、多層フレキシブル配線板とビルドアップ層とを接続するブラインドバイアホールの高さを低くして配線パターンを高密度に形成したリジッドフレキシブルプリント配線板と、その製造方法を提供するものである。   The present invention solves the above-described problems, enables a multilayer build-up layer that can be formed on a multilayer flexible wiring board to be formed in multiple layers, and provides a blind via hole that connects the multilayer flexible wiring board and the build-up layer. The present invention provides a rigid flexible printed wiring board in which a wiring pattern is formed at a high density by reducing the height, and a manufacturing method thereof.

上記の課題を解決するために、本発明は、硬質のリジッド部を柔軟性のあるフレキ部を介して連結したリジッドフレキシブルプリント配線板であって、前記リジッド部とフレキ部の領域にまたがる支持フィルムの面に金属柱中間ランドが形成され、前記支持フィルムの両面にカバーレイフィルムが積層されて成る内層フレキシブル配線板を有し、前記内層フレキシブル配線板の両面から前記金属柱中間ランドに達する穴を有し、該穴に金属めっきが充填されて前記金属柱中間ランドと一体に形成した金属めっき柱を有し、前記内層フレキシブル配線板の面に、位置合せマークと、前記フレキ部とリジッド部との境界部分の補強用金属パターンが形成され、前記内層フレキシブル配線板の前記リジッド部の領域にビルドアップ層が積層され、前記位置合せマークに位置が合わせられて、該ビルドアップ層の端部の側面が前記補強用金属パターン上に垂直に形成されていることを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板である。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a rigid flexible printed wiring board in which a rigid rigid portion is connected via a flexible flexible portion, and the support film extends over the region of the rigid portion and the flexible portion. A metal pillar intermediate land is formed on the surface of the support film, and an inner layer flexible wiring board is formed by laminating coverlay films on both sides of the support film, and a hole reaching the metal pillar intermediate land from both surfaces of the inner layer flexible wiring board is formed. And having a metal plating column formed integrally with the metal column intermediate land by filling the hole with metal plating, and on the surface of the inner layer flexible wiring board, an alignment mark, the flexible portion and the rigid portion A reinforcing metal pattern is formed at the boundary portion of the inner layer, and a buildup layer is laminated on the region of the rigid portion of the inner layer flexible wiring board. Are combined is positioned in alignment marks, a rigid flexible printed wiring board side of the end of the build-up layer is characterized in that it is vertically formed on the metal reinforcement pattern.

また、本発明は、上記のリジッドフレキシブルプリント配線板であって、前記金属柱中間ランドの片面の前記金属めっき柱の部分が、最外層部分に金属柱用ランドを有するとともに、中間部分に1階ランドを有する2階高バイアホールであり、該1階ランドの外層側の前記2階高バイアホールの直径が、内層側の直径より大きいことを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板である。   Further, the present invention is the above-mentioned rigid flexible printed wiring board, wherein the metal plating column portion on one side of the metal column intermediate land has a metal column land in the outermost layer portion, and a first floor in the intermediate portion. A rigid flexible printed wiring board, characterized in that the second floor high via hole has a land, and the diameter of the second floor high via hole on the outer layer side of the first floor land is larger than the diameter on the inner layer side.

また、本発明は、硬質のリジッド部を柔軟性のあるフレキ部を介して連結したリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、前記リジッド部の領域と前記フレキ部の領域にまたがる支持フィルムの少なくとも片方の面の前記リジッド部の領域に金属柱中間ランドを形成する工程と、前記支持フィルムの両面に銅箔付きカバーレイフィルムを積層することで内層フレキシブル配線板を製造する工程と、前記内層フレキシブル配線板の両面から穴あけ用レーザー光を照射することで、前記金属柱中間ランドに達する穴を形成する工程と、該穴に金属めっきを充填することで前記金属柱中間ランドと一体に形成した金属めっき柱を形成する工程と、前記内層フレキシブル配線板の面に、位置合せマークと、前記フレキ部とリジッド部との境界部分の補強用金属パターンを形成する工程と、前記内層フレキシブル配線板の前記リジッド部の領域にビルドアップ層を積層する工程と、前記位置合せマークに位置を合わせて、前記フレキ部と前記リジッド部との境界部分の前記ビルドアップ層に加工用レーザー光を照射することで前記ビルドアップ層の端部の側面を前記補強用金属パターン上に垂直に露出させる溝を形成する工程と、前記溝を境にしてフレキ部上の前記ビルドアップ層及び前記薄剥離フィルムを分離して除去する工程を有することを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法である。   The present invention also relates to a method for manufacturing a rigid flexible printed wiring board in which a rigid rigid portion is connected via a flexible flexible portion, the support film extending over the rigid portion region and the flexible portion region. Forming a metal pillar intermediate land in the region of the rigid portion on at least one surface, manufacturing an inner-layer flexible wiring board by laminating a coverlay film with copper foil on both surfaces of the support film, and the inner layer Forming a hole reaching the metal pillar intermediate land by irradiating laser light for drilling from both sides of the flexible wiring board, and filling the hole with metal plating, and forming the hole integrally with the metal pillar intermediate land A step of forming a metal plating column, an alignment mark on the surface of the inner layer flexible wiring board, the flexible portion and the rigid portion; A step of forming a reinforcing metal pattern at a boundary portion, a step of laminating a build-up layer in the region of the rigid portion of the inner layer flexible wiring board, and a position of the flexible portion and the rigid in alignment with the alignment mark Forming a groove that exposes the side surface of the end of the build-up layer vertically on the reinforcing metal pattern by irradiating the build-up layer at the boundary portion with the processing laser beam; and the groove It is a manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board characterized by having the process of isolate | separating and removing the said buildup layer and said thin peeling film on a flexible part on the boundary.

また、本発明は、上記のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、前記金属柱中間ランドを形成する工程において、前記金属柱中間ランドに対向し、中心に空孔を有する1階ランドを形成し、前記金属柱中間ランドに達する穴を形成する工程において、前記金属柱中間ランドから遠い側の面から、前記1階ランドを経由して前記金属柱中間ランドに向けて前記穴あけ用レーザー光を照射することで、前記穴あけ用レーザー光の周辺部を前記1階ランドで遮らせて前記空孔を通った該穴あけ用レーザー光のみを前記金属柱中間ランドに達させることで、前記金属柱中間ランドに達する穴の直径に段差を形成したことを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法である。   Further, the present invention is a method of manufacturing the above rigid flexible printed wiring board, wherein in the step of forming the metal pillar intermediate land, a first-floor land facing the metal pillar intermediate land and having a hole in the center is provided. Forming the hole reaching the metal column intermediate land, and forming the hole from the surface far from the metal column intermediate land toward the metal column intermediate land via the first floor land. , The peripheral portion of the laser beam for drilling is blocked by the first-floor land, and only the laser beam for drilling that has passed through the holes reaches the metal column intermediate land. A method for manufacturing a rigid flexible printed wiring board, wherein a step is formed in a diameter of a hole reaching an intermediate land.

本発明によると、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102から薄剥離フィルム31を剥離して除去するので、フレキ部102の表面の電気特性が薄剥離フィルム31の材質によって影響されない効果がある。   According to the present invention, since the thin release film 31 is peeled off and removed from the flexible portion 102 of the rigid flexible printed wiring board 10, the electrical characteristics of the surface of the flexible portion 102 are not affected by the material of the thin release film 31.

また、本発明は、多層配線したフレキシブル配線板1a上に薄いカバーレイフィルム20を積層し、そのカバーレイフィルム20の層に埋め込んで形成したブラインドバイアホールの高さを低くして、そのランドの径を小さくすることで、カバーレイフィルム20上の配線パターンを高密度に形成できる効果がある。   In the present invention, a thin coverlay film 20 is laminated on the flexible wiring board 1a having a multilayer wiring, and the height of the blind via hole formed by being embedded in the layer of the coverlay film 20 is lowered. By reducing the diameter, the wiring pattern on the coverlay film 20 can be formed with high density.

特に、本発明は、カバーレイフィルムの外層側の面に、位置合せマークとフレキ部とリジッド部との境界部分の補強用金属パターンが形成され、その位置合せマークに位置を合わせたレーザー加工で、補強用金属パターン上の薄剥離フィルムの端部の位置に重なる溝を正確な位置に形成する。そのため、その溝が正確な位置に、補強用金属パターン上に垂直に形成される。一方、その位置合せマークに位置を合わせて、薄剥離フィルムを、その端部を溝の形成位置に正確に位置を合わせて形成する。それにより、レーザー加工で形成する溝が、薄剥離フィルムの端部に正確にかかるように位置を合せて形成できる。それにより、その溝の位置の端部からフレキ部上の薄剥離フィルムを、フレキ部及びリジッド部に残留しないように完全に除去できる効果がある。   In particular, according to the present invention, a reinforcing metal pattern is formed at the boundary between the alignment mark, the flexible portion, and the rigid portion on the outer layer side surface of the coverlay film, and laser processing is performed by aligning the alignment mark with the alignment mark. Then, a groove that overlaps the position of the end of the thin release film on the reinforcing metal pattern is formed at an accurate position. Therefore, the groove is vertically formed on the reinforcing metal pattern at an accurate position. On the other hand, by aligning the position with the alignment mark, the thin release film is formed by accurately aligning the end portion with the groove forming position. Thereby, the groove | channel formed by laser processing can be formed in position so that it may apply | hang | start to the edge part of a thin peeling film correctly. Thereby, there is an effect that the thin release film on the flexible portion can be completely removed from the end portion of the groove so as not to remain on the flexible portion and the rigid portion.

また、本発明は、補強用金属パターンが平坦なカバーレイフィルムを上から押さえて補強する効果がある。また、リジッド部とフレキ部の境界部分の補強用金属パターン上に垂直にビルドアップ層を掘って形成された溝により、その溝の壁面を端面にしたリジッド部のビルドアップ層の端部が形成される。そのため、そのリジッド部に隣接するフレキ部は、そのフレキ部の上面にビルドアップ層の樹脂の一部が被さることが無い。そのように、フレキ部の上面に被さるビルドアップ層の樹脂が残留してフレキ部の柔軟性を損なうことが無いので、リジッド部とフレキ部の境界部分に柔軟性があり、屈曲の繰り返しへの耐久力が高いフレキ部が得られる効果がある。   Moreover, this invention has the effect which presses and reinforces the coverlay film with a flat reinforcing metal pattern from the top. Also, the end of the rigid build-up layer with the wall surface of the groove as the end face is formed by the groove formed by digging the build-up layer vertically on the reinforcing metal pattern at the boundary between the rigid part and the flexible part Is done. Therefore, in the flexible part adjacent to the rigid part, a part of the resin of the buildup layer does not cover the upper surface of the flexible part. As such, since the resin of the build-up layer covering the upper surface of the flexible part does not remain and does not impair the flexibility of the flexible part, the boundary part between the rigid part and the flexible part is flexible, and the bending is repeated. There is an effect that a flexible part having high durability can be obtained.

(a)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の平面図である。(b)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の側断面図である。(A) It is a top view of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (B) It is a sectional side view of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (p)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する平面図である。(q)図7(p)の断面図である。(P) It is a top view explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (Q) It is sectional drawing of FIG.7 (p). (r)図7(p)のリジッドフレキシブルプリント配線板の正面の断面図である。(s)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する正面の断面図である。(R) It is sectional drawing of the front of the rigid flexible printed wiring board of FIG.7 (p). (S) It is front sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (t)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する平面図である。(u)図9(t)の断面図である。(T) It is a top view explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (U) It is sectional drawing of FIG.9 (t). 本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 2nd Embodiment of this invention.

<第1の実施形態>
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。図1(a)に、本発明の第1の実施形態の、リジッド部101とフレキ部102を併せ持つ10層のリジッドフレキシブルプリント配線板10の平面図を示し、図1(b)に、その側面の断面図を示す。図2〜図9は、第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10の製造方法を説明する側断面図及び平面図である。
<First Embodiment>
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A shows a plan view of a 10-layer rigid flexible printed wiring board 10 having both a rigid portion 101 and a flexible portion 102 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 2 to 9 are a side cross-sectional view and a plan view for explaining a method of manufacturing the rigid flexible printed wiring board 10 of the first embodiment.

図1(b)に示すように、第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂などの有機樹脂からなる厚さが10μm以上で100μm以下で可撓性のあるフィルム状の支持フィルム1を中心に持つ。支持フィルム1の表裏面には銅箔2aをエッチングして配線パターン2が形成されている。   As shown in FIG.1 (b), the rigid flexible printed wiring board 10 of 1st Embodiment is flexible with the thickness which consists of organic resins, such as an epoxy resin, a polyimide resin, and a polyester resin, 10 micrometers or more and 100 micrometers or less. It has a film-like support film 1 with a center. A wiring pattern 2 is formed on the front and back surfaces of the support film 1 by etching the copper foil 2a.

図2(c)のように、配線パターン2が形成された可撓性のある絶縁樹脂から成る支持フィルム1の両面を、銅箔付きカバーレイフィルム20で覆う。銅箔付きカバーレイフィルム20は、片面に厚さ12μm程度の銅箔20aが張り合わされ、その銅箔20aの下層に厚さ8μm〜13μmのポリイミドフィルムなどの絶縁樹脂フィルム21を有する。その絶縁樹脂フィルム21の層に接着剤層22が20μm程度の厚さに形成されている。銅箔付きカバーレイフィルム20は、全体の厚さが40μm〜50μmのフィルムである。この銅箔付きカバーレイフィルム20を支持フィルム1の両面に接着して内層フレキシブル配線板30を形成する。   As shown in FIG. 2C, both surfaces of the support film 1 made of a flexible insulating resin on which the wiring pattern 2 is formed are covered with a coverlay film 20 with a copper foil. The cover lay film 20 with a copper foil has a copper foil 20a having a thickness of about 12 μm attached to one surface, and an insulating resin film 21 such as a polyimide film having a thickness of 8 μm to 13 μm, which is a lower layer of the copper foil 20a. An adhesive layer 22 is formed on the insulating resin film 21 to a thickness of about 20 μm. The coverlay film 20 with a copper foil is a film having an overall thickness of 40 μm to 50 μm. The coverlay film 20 with copper foil is adhered to both surfaces of the support film 1 to form the inner layer flexible wiring board 30.

この内層フレキシブル配線板30には、図3(e)のように、フレキシブル配線板1aの下面の金属柱中間ランド3に、内層フレキシブル配線板30の上側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層を貫通して金属柱中間ランド3に至る
2階高バイアホール用穴3aを形成し、内層フレキシブル配線板30の下側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層を貫通して金属柱中間ランド3に至る金属柱バイアホール用穴23aが形成される。また、フレキシブル配線板1aの上面の金属柱中間ランド4に、内層フレキシブル配線板30の下側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層を貫通して金属柱中間ランド4に至る2階高バイアホール用穴4aを形成し、内層フレキシブル配線板30の上側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層を貫通して金属柱中間ランド4に至る金属柱バイアホール用穴23aが形成される。
As shown in FIG. 3 (e), the inner layer flexible wiring board 30 has a metal pillar intermediate land 3 on the lower surface of the flexible wiring board 1 a, and a coverlay film 20 with copper foil from the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30. The second via hole 3a is formed through the layer of the support film 1 and the metal pillar intermediate land 3, and the coverlay film 20 with copper foil is formed from the lower surface of the inner flexible wiring board 30. A metal pillar via hole 23a that penetrates the layer and reaches the metal pillar intermediate land 3 is formed. Further, the metal pillar intermediate land 4 on the upper surface of the flexible wiring board 1a penetrates the layer of the coverlay film 20 with copper foil and the layer of the support film 1 from the lower surface of the inner flexible wiring board 30 to the middle of the metal pillar. A metal pillar via that forms a second via hole 4a leading to the land 4 and penetrates the layer of the cover foil film 20 with copper foil from the upper surface of the inner flexible wiring board 30 to the metal pillar intermediate land 4 Hole hole 23a is formed.

そして、図3(f)のように、その2階高バイアホール用穴3a、4aと、金属柱バイアホール用穴23aに電解銅めっきの層を埋め込んで、2階高バイアホール3b、4bと、ブラインドバイアホール23を形成することで、内層フレキシブル配線板30の上面から下面まで、2階高バイアホール3b、金属柱中間ランド3、ブラインドバイアホール23を接続した第1の金属めっき柱を形成し、内層フレキシブル配線板30の下面から上面まで、2階高バイアホール4b、金属柱中間ランド4、ブラインドバイアホール23を接続した第2の金属めっき柱を形成する。   Then, as shown in FIG. 3 (f), the second floor high via holes 3a, 4a and the metal pillar via hole 23a are filled with an electrolytic copper plating layer, and the second floor high via holes 3b, 4b By forming the blind via hole 23, the first metal plating column connecting the second floor high via hole 3b, the metal pillar intermediate land 3, and the blind via hole 23 is formed from the upper surface to the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30. Then, the second metal plating column connecting the second-floor high via hole 4b, the metal column intermediate land 4, and the blind via hole 23 is formed from the lower surface to the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30.

そして、この内層フレキシブル配線板30の一部の、第1の金属めっき柱又は第2の金属めっき柱を含む領域の表側の面及び裏側の面にリジッド部101を積層し、リジッド部101以外の内層フレキシブル配線板30の部分をフレキ部102としたリジッドフレキシブルプリント配線板10を製造する。   And the rigid part 101 is laminated | stacked on the surface of the front side of the area | region containing the 1st metal plating pillar or the 2nd metal plating pillar of a part of this inner-layer flexible wiring board 30, and a back side surface, Other than the rigid part 101 The rigid flexible printed wiring board 10 in which the flexible layer 102 is the portion of the inner layer flexible wiring board 30 is manufactured.

このリジッドフレキシブルプリント配線板10は、特に、内層フレキシブル配線板30に形成した第1の金属めっき柱と第2の金属めっき柱が、その上層及び下層のビルドアップ層40dに柱状に金属めっきを充填して形成するブラインドバイアホール41と連結する強固な多層金属めっき柱が形成されている。   In this rigid flexible printed wiring board 10, in particular, the first metal plating column and the second metal plating column formed on the inner layer flexible wiring board 30 are filled with metal plating in a columnar shape in the upper and lower buildup layers 40d. Thus, a strong multilayer metal plating column connected to the blind via hole 41 is formed.

その多層金属めっき柱はリジッド部101に食い込んで強固に保持されるとともに、2階高バイアホール3bの上下に形成された金属柱用ランド3cと金属柱中間ランド3とが、内層フレキシブル配線板30の上層のカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層とを上下から挟んで保持する。また、2階高バイアホール4bの上下に形成された金属柱中間ランド4と金属柱用ランド4cとが、内層フレキシブル配線板30の上層の支持フィルム1の層とカバーレイフィルム20の層とを上下から挟んで保持する。それにより、カバーレイフィルム20が支持フィルム1の樹脂層に強固に結合され、カバーレイフィルム20と支持フィルム1との接合の信頼性を向上させる効果がある。   The multi-layer metal plating pillars are bitten into the rigid portion 101 and are firmly held, and the metal pillar lands 3c and the metal pillar intermediate lands 3 formed above and below the second-floor high via hole 3b are connected to the inner flexible wiring board 30. The upper layer of the coverlay film 20 and the layer of the support film 1 are sandwiched and held from above and below. In addition, the metal pillar intermediate lands 4 and the metal pillar lands 4c formed above and below the second-floor high via hole 4b connect the upper support film 1 layer and the coverlay film 20 layer of the inner flexible wiring board 30 to each other. Hold it from above and below. Thereby, the cover lay film 20 is firmly bonded to the resin layer of the support film 1, and there is an effect of improving the reliability of joining between the cover lay film 20 and the support film 1.

(製造方法)
以下で、図2から図9を参照して、本発明の実施形態の、10層のリジッドフレキシブルプリント配線板10の製造方法を説明する。
(Production method)
Below, with reference to FIGS. 2-9, the manufacturing method of the 10-layer rigid flexible printed wiring board 10 of embodiment of this invention is demonstrated.

(内層フレキシブル配線板の製造方法)
先ず、リジッドフレキシブルプリント配線板10を構成する内層フレキシブル配線板30の製造方法を説明する。
(Inner layer flexible wiring board manufacturing method)
First, the manufacturing method of the inner layer flexible wiring board 30 which comprises the rigid flexible printed wiring board 10 is demonstrated.

(工程1)
図2(a)のように、フレキ部102を形成する素材として、通常のフレキシブル配線板1aを準備する。そのフレキシブル配線板1aは、両面に銅箔2aを有し、銅箔2aを保持する支持フィルム1の基材がポリイミドなどの可撓性のある耐熱性樹脂から構成されるフレキシブル配線板1aである。ここで用いるフレキシブル配線板1aは、それを構成する銅箔2aと支持フィルム1の間には、屈曲性・折り曲げ性を高めるために、接着剤層
は存在しない方が好ましいが、その間に接着剤層が存在するフレキシブル配線板1aを用いることも可能である。
(Process 1)
As shown in FIG. 2A, a normal flexible wiring board 1a is prepared as a material for forming the flexible portion 102. The flexible wiring board 1a is a flexible wiring board 1a having a copper foil 2a on both sides and the base material of the support film 1 holding the copper foil 2a made of a flexible heat-resistant resin such as polyimide. . The flexible wiring board 1a used here preferably has no adhesive layer between the copper foil 2a constituting the flexible wiring board 1a and the support film 1 in order to improve bendability and bendability. It is also possible to use the flexible wiring board 1a having a layer.

(工程2)
次に、図2(b)のように、フレキシブル配線板1aの銅箔2aをエッチングすることで、フレキシブル配線板1aの両面に配線パターン2を形成し、下面に金属柱中間ランド3を形成し、上面に金属柱中間ランド4を形成し、また、後に形成するブラインドバイアホール24の位置にランド2bを形成する。
(Process 2)
Next, as shown in FIG. 2B, by etching the copper foil 2a of the flexible wiring board 1a, the wiring pattern 2 is formed on both surfaces of the flexible wiring board 1a, and the metal pillar intermediate land 3 is formed on the lower surface. The metal pillar intermediate land 4 is formed on the upper surface, and the land 2b is formed at the position of the blind via hole 24 to be formed later.

(工程3)
図2(c)のように、銅箔20aとポリイミドフィルムなどの絶縁樹脂フィルム21と熱硬化性の接着剤層22とから成る銅箔付きカバーレイフィルム20を、フレキシブル配線板1aの両面に積層し、図3(d)のような内層フレキシブル配線板30を製造する。
(Process 3)
As shown in FIG. 2 (c), a coverlay film 20 with a copper foil comprising a copper foil 20a, an insulating resin film 21 such as a polyimide film, and a thermosetting adhesive layer 22 is laminated on both surfaces of the flexible wiring board 1a. Then, the inner layer flexible wiring board 30 as shown in FIG.

(工程4)
次に、図3(e)のように、その内層フレキシブル配線板30の銅箔付きカバーレイフィルム20の銅箔20aを、内層の金属柱中間ランド3と4の表側と裏側の部分と、ランド2bの外層側の部分をエッチングして除去して、下地の絶縁樹脂フィルム21を露出させる。
(Process 4)
Next, as shown in FIG. 3 (e), the copper foil 20a of the coverlay film 20 with the copper foil of the inner layer flexible wiring board 30 is connected to the front and back portions of the inner metal pillar intermediate lands 3 and 4 and the land. The portion on the outer layer side of 2b is removed by etching, and the underlying insulating resin film 21 is exposed.

(工程5)
そして、その基板の表裏に露出した絶縁樹脂フィルム21の面から、炭酸ガスレーザーやYAGレーザなどのレーザー穴あけ装置を用いて、穴あけ用レーザー光を照射することで、フレキシブル配線板1aの下面の金属柱中間ランド3に、内層フレキシブル配線板30の上側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層を貫通して金属柱中間ランド3に至る2階高バイアホール用穴3aを形成し、内層フレキシブル配線板30の下側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層を貫通して金属柱中間ランド3に至る金属柱バイアホール用穴23aを形成する。
(Process 5)
And the metal of the lower surface of the flexible wiring board 1a is irradiated from the surface of the insulating resin film 21 exposed on the front and back of the substrate using a laser drilling device such as a carbon dioxide laser or a YAG laser. A hole for a second floor high via hole that extends from the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30 to the intermediate intermediate land 3 through the layer of the coverlay film 20 with copper foil and the layer of the support film 1 in the intermediate intermediate land 3. 3a is formed, and a metal pillar via hole 23a extending from the lower surface of the inner flexible wiring board 30 to the metal pillar intermediate land 3 through the layer of the cover foil film 20 with copper foil is formed.

また、フレキシブル配線板1aの上面の金属柱中間ランド4に、内層フレキシブル配線板30の下側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層を貫通して金属柱中間ランド4に至る2階高バイアホール用穴4aを形成し、内層フレキシブル配線板30の上側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層を貫通して金属柱中間ランド4に至る金属柱バイアホール用穴23aを形成される。また、ランド2bの外層側の部分から、ランド2bに達するブラインドバイアホール用の穴24aを形成する。  Further, the metal pillar intermediate land 4 on the upper surface of the flexible wiring board 1a penetrates the layer of the coverlay film 20 with copper foil and the layer of the support film 1 from the lower surface of the inner flexible wiring board 30 to the middle of the metal pillar. A metal pillar via that forms a second via hole 4a leading to the land 4 and penetrates the layer of the cover foil film 20 with copper foil from the upper surface of the inner flexible wiring board 30 to the metal pillar intermediate land 4 Hole hole 23a is formed. Further, a blind via hole hole 24a reaching the land 2b is formed from the outer layer side portion of the land 2b.

その金属柱バイアホール用穴23a及びブラインドバイアホール用の穴24aの形状は、穴あけ用レーザー光を入射する側の基板の表面の直径が50〜150μmの穴をあける。金属柱バイアホール用穴23aの、金属柱中間ランド3及び4の位置での直径は、基板の表面での直径より約30μm程度小さい直径50μmの円錐台状の金属柱バイアホール用穴23aを形成する。   The shape of the metal pillar via hole 23a and the blind via hole 24a is a hole having a diameter of 50 to 150 μm on the surface of the substrate on the side where the drilling laser light is incident. The diameter of the metal pillar via hole 23a at the position of the metal pillar intermediate lands 3 and 4 is formed as a frustum-shaped metal pillar via hole 23a having a diameter of 50 μm, which is about 30 μm smaller than the diameter on the surface of the substrate. To do.

(工程6)
次に、その基板をデスミア液に浸漬することで、2階高バイアホール用穴3aと4a、金属柱バイアホール用穴23a、及び、ブラインドバイアホール用の穴24aのデスミア処理を行った上で、無電解銅めっき液に基板を浸漬することで、その2階高バイアホール用穴3aと4a、金属柱バイアホール用穴23a、及び、ブラインドバイアホール用の穴24aの壁面に無電解銅めっき皮膜を形成する。
(Step 6)
Next, after the substrate is immersed in a desmear solution, the second-floor high via hole holes 3a and 4a, the metal pillar via hole 23a, and the blind via hole 24a are subjected to a desmear process. By immersing the substrate in an electroless copper plating solution, the second floor high via hole holes 3a and 4a, the metal pillar via hole 23a, and the blind via hole hole 24a are electroless copper plated. Form a film.

(工程7)
次に、図3(f)のように、その基板の下地の銅箔20aに電解銅めっき装置の陰極を接続して、基板を、平滑剤を添加した電解銅めっき浴に浸漬し、めっき浴をよく攪拌して、内層フレキシブル配線板30の両面における銅めっき浴の流動速度を速くして、基板の全面に電解銅めっきするパネルめっき処理を行う。
(Step 7)
Next, as shown in FIG. 3 (f), the cathode of the electrolytic copper plating apparatus is connected to the copper foil 20a underlying the substrate, and the substrate is immersed in an electrolytic copper plating bath to which a smoothing agent is added. Is sufficiently stirred to increase the flow rate of the copper plating bath on both surfaces of the inner flexible wiring board 30 to perform a panel plating process for electrolytic copper plating on the entire surface of the substrate.

それにより、平滑剤は、内層フレキシブル配線板30の両面への銅めっき層の成長を抑制する一方、2階高バイアホール用穴3aと4a、金属柱バイアホール用穴23a、及び、ブラインドバイアホール用の穴24aを埋める電解銅めっきの層の成長が抑制されない。そのため、2階高バイアホール用穴3aと4a、金属柱バイアホール用穴23a、及び、ブラインドバイアホール用の穴24aを電解銅めっきで充填した2階高バイアホール3bと4b、及び、ブラインドバイアホー23と24が形成される一方、内層フレキシブル配線板30の両面に形成される銅めっき層の厚さを、2階高バイアホール3bと4bの半径よりも薄く形成することができる。以上の処理により、内層フレキシブル配線板30の両面に、2階高バイアホール用穴3aと4aの半径の4割の厚さの約16μmの厚さの銅めっき層を形成する。   Thereby, the smoothing agent suppresses the growth of the copper plating layer on both surfaces of the inner layer flexible wiring board 30, while the second floor high via hole 3a and 4a, the metal pillar via hole 23a, and the blind via hole. The growth of the electrolytic copper plating layer filling the hole 24a for use is not suppressed. Therefore, second floor high via holes 3a and 4a, metal pillar via hole 23a, and blind via hole 24a filled with electrolytic copper plating, second floor high via holes 3b and 4b, and blind via While the ahos 23 and 24 are formed, the thickness of the copper plating layer formed on both surfaces of the inner layer flexible wiring board 30 can be made thinner than the radius of the second floor high via holes 3b and 4b. By the above processing, a copper plating layer having a thickness of about 16 μm, which is 40% of the radius of the second-floor high via hole 3a and 4a, is formed on both surfaces of the inner-layer flexible wiring board 30.

それにより、図3(f)のように、その2階高バイアホール用穴3a、4aと、金属柱バイアホール用穴23aに電解銅めっきの層を埋め込んで、2階高バイアホール3b、4bと、ブラインドバイアホール23を形成することで、内層フレキシブル配線板30の上面から下面まで、2階高バイアホール3b、金属柱中間ランド3、ブラインドバイアホール23を接続した第1の金属めっき柱を形成し、内層フレキシブル配線板30の下面から上面まで、2階高バイアホール4b、金属柱中間ランド4、ブラインドバイアホール23を接続した第2の金属めっき柱を形成する。また、ブラインドバイアホール用の穴24aを銅めっきで充填してブラインドバイアホール24を形成する。   Thus, as shown in FIG. 3 (f), the second floor high via holes 3a, 4a and the metal pillar via hole holes 23a are filled with an electrolytic copper plating layer, and the second floor high via holes 3b, 4b. By forming the blind via hole 23, the first metal plating column connecting the second floor high via hole 3b, the metal column intermediate land 3, and the blind via hole 23 from the upper surface to the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30 is formed. The second metal plating column is formed by connecting the second floor high via hole 4b, the metal column intermediate land 4, and the blind via hole 23 from the lower surface to the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30. Further, the blind via hole 24 is formed by filling the hole 24a for the blind via hole with copper plating.

(工程8)
次に、エッチングレジストパターンで基板の表面の銅めっき層を保護してエッチングし、エッチング後にエッチングレジストを剥離する。
(Process 8)
Next, the copper plating layer on the surface of the substrate is protected and etched with the etching resist pattern, and the etching resist is peeled off after the etching.

その銅めっき層のエッチングにより、図3(g)のように、リジッド部101に、内層フレキシブル配線板30の上面から下面まで、金属柱用ランド3c、2階高バイアホール3b、金属柱中間ランド3、ブラインドバイアホール23、ランド23bを接続した第1の金属めっき柱を形成し、内層フレキシブル配線板30の下面から上面まで、金属柱用ランド4c、2階高バイアホール4b、金属柱中間ランド4、ブラインドバイアホール23、ランド23bを接続した第2の金属めっき柱を形成する。また、更に、リジッド部101の絶縁樹脂フィルム21の表面に、ブラインドバイアホール24に接続するランド24bと、位置合せマーク26のパターンと、補強用金属パターン25と、その他の配線パターンを形成する。   By etching the copper plating layer, as shown in FIG. 3G, the metal column land 3c, the second-floor high via hole 3b, and the metal column intermediate land are formed on the rigid portion 101 from the upper surface to the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30. 3. Form a first metal plating column connecting the blind via hole 23 and the land 23b, and from the lower surface to the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30, the metal column land 4c, the second floor high via hole 4b, and the metal column intermediate land 4. A second metal plating column connecting the blind via hole 23 and the land 23b is formed. Further, on the surface of the insulating resin film 21 of the rigid portion 101, lands 24b connected to the blind via holes 24, a pattern of alignment marks 26, a reinforcing metal pattern 25, and other wiring patterns are formed.

特に、補強用金属パターン25は、リジッド部101とフレキ部102の境界部分に形成する。この補強用金属パターン25は、後にフレキ部102とリジッド部101の境界部分に照射する加工用レーザー光Lをその位置で遮断するストッパ層として用いる。   In particular, the reinforcing metal pattern 25 is formed at the boundary portion between the rigid portion 101 and the flexible portion 102. The reinforcing metal pattern 25 is used as a stopper layer that blocks the processing laser light L to be irradiated later on the boundary portion between the flexible portion 102 and the rigid portion 101 at that position.

工程8では、多層配線したフレキシブル配線板1a上に積層した薄いカバーレイフィルム20の層に埋め込んで形成したブラインドバイアホール23と24を、ビルドアップ層の配線をフレキシブル配線板1aの配線パターンに接続するブラインドバイアホールとして形成し、そのブラインドバイアホールの高さを低くしたので、そのブラインドバイアホール23と24を、そのランド23bと24bの径を小さくして微細に形成できる。そのため、カバーレイの絶縁樹脂フィルム21上に配線パターンを高密度に形成できる効果がある。   In step 8, the blind via holes 23 and 24 formed by embedding in the thin coverlay film 20 layer laminated on the multilayered flexible wiring board 1a are connected to the wiring pattern of the flexible wiring board 1a. As the blind via hole is formed and the height of the blind via hole is reduced, the blind via holes 23 and 24 can be formed finely by reducing the diameters of the lands 23b and 24b. Therefore, the wiring pattern can be formed with high density on the insulating resin film 21 of the cover lay.

また、2階高バイアホール3bの上下に形成された金属柱用ランド3cと金属柱中間ランド3とが、内層フレキシブル配線板30の上層のカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層とを上下から挟んで保持する。また、2階高バイアホール4bの上下に形成された金属柱中間ランド4と金属柱用ランド4cとが、内層フレキシブル配線板30の上層の支持フィルム1の層とカバーレイフィルム20の層とを上下から挟んで保持する。それにより、カバーレイフィルム20が支持フィルム1の樹脂層に強固に結合され、カバーレイフィルム20と支持フィルム1との接合の信頼性を向上させる効果がある。   Further, the metal pillar lands 3c and the metal pillar intermediate lands 3 formed above and below the second-floor high via hole 3b connect the layer of the coverlay film 20 on the upper layer of the inner flexible wiring board 30 and the layer of the support film 1 to each other. Hold it from above and below. In addition, the metal pillar intermediate lands 4 and the metal pillar lands 4c formed above and below the second-floor high via hole 4b connect the upper support film 1 layer and the coverlay film 20 layer of the inner flexible wiring board 30 to each other. Hold it from above and below. Thereby, the cover lay film 20 is firmly bonded to the resin layer of the support film 1, and there is an effect of improving the reliability of joining between the cover lay film 20 and the support film 1.

また、ブラインドバイアホール24に内層側で接続するランド2b、ブラインドバイアホール23に内層側で接続する金属柱中間ランド3又は4と、ブラインドバイアホール23と24に外層側で連結するランド23bと24bとが、上下から、その間の絶縁樹脂フィルム21と接着剤層22を挟み込んで保持し、絶縁樹脂フィルム21と接着剤層22とを直接に強固に保持することができる効果がある。   Further, a land 2b connected to the blind via hole 24 on the inner layer side, a metal pillar intermediate land 3 or 4 connected to the blind via hole 23 on the inner layer side, and lands 23b and 24b connected to the blind via holes 23 and 24 on the outer layer side. However, there is an effect that the insulating resin film 21 and the adhesive layer 22 are sandwiched and held from above and below, and the insulating resin film 21 and the adhesive layer 22 can be directly and firmly held.

特に、カバーレイの絶縁樹脂フィルム21に接する層の銅箔20aから金属柱用ランド3c、4c、ランド23b、24bを形成したので、ランド23b、24bの層とその内層の金属柱中間ランド3又は4又はランド2bの層との上下の間隔を小さくすることができる。それにより、それらの層のランドの間に挟み込む絶縁樹脂フィルム21と接着剤層22とを上下のランドで挟み込んで強く保持することができる効果がある。   In particular, since the metal pillar lands 3c, 4c and lands 23b, 24b are formed from the copper foil 20a of the layer in contact with the insulating resin film 21 of the coverlay, the layers of the lands 23b, 24b and the inner metal pillar intermediate land 3 or 4 or the space between the land 2b and the upper and lower layers can be reduced. Accordingly, there is an effect that the insulating resin film 21 and the adhesive layer 22 sandwiched between the lands of those layers can be sandwiched between the upper and lower lands and strongly held.

また、図3(g)の左右の個々のリジッド部101内に第1の金属めっき柱と第2の金属めっき柱とを、混在させることが望ましい。そのように、第1の金属めっき柱と第2の金属めっき柱を1つのリジッド部内に混在させると、リジッド部に加わる機械的ストレスが上下のブラインドバイアホール23をつなぐ金属柱中間ランド3又は4に集中する際に、そのストレスが、フレキシブル配線板1aの下面の金属柱中間ランド3と、上面の金属柱中間ランド4とに、フレキシブル配線板1aの下面と上面に分散される。それにより、リジッド部に加わる機械的ストレスがフレキシブル配線板1aの下面と上面に分散され、リジッド部を機械的ストレスに対して強くできる効果があり、リジッドフレキシブルプリント配線板10の信頼性を高くできる効果がある。   In addition, it is desirable to mix the first metal plating column and the second metal plating column in the left and right rigid portions 101 in FIG. As described above, when the first metal plating column and the second metal plating column are mixed in one rigid part, the mechanical stress applied to the rigid part is the metal column intermediate land 3 or 4 connecting the upper and lower blind via holes 23. The stress is distributed to the lower surface and the upper surface of the flexible wiring board 1a in the metal pillar intermediate land 3 on the lower surface of the flexible wiring board 1a and the metal pillar intermediate land 4 on the upper surface of the flexible wiring board 1a. Thereby, the mechanical stress applied to the rigid portion is distributed to the lower surface and the upper surface of the flexible wiring board 1a, so that the rigid portion can be strengthened against the mechanical stress, and the reliability of the rigid flexible printed wiring board 10 can be increased. effective.

(工程9)
次に、図4(h)のように、内層フレキシブル配線板30のカバーレイの絶縁樹脂フィルム21とその上の補強用金属パターン25上に薄剥離フィルム31を設置する。薄剥離フィルム31は、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102の領域を覆い補強用金属パターン25にかかる領域に設置する。薄剥離フィルム31の端部の位置は、位置合わせマーク26を基準にして、補強用金属パターン25上に後に形成する第1の溝27aと第2の溝27bの位置に、正確に位置を合わせて設置する。
(Step 9)
Next, as shown in FIG. 4H, a thin release film 31 is placed on the insulating resin film 21 of the coverlay of the inner layer flexible wiring board 30 and the reinforcing metal pattern 25 thereon. The thin release film 31 covers the region of the flexible portion 102 of the rigid flexible printed wiring board 10 and is installed in the region over the reinforcing metal pattern 25. The positions of the end portions of the thin release film 31 are accurately aligned with the positions of the first groove 27a and the second groove 27b to be formed later on the reinforcing metal pattern 25 with reference to the alignment mark 26. Install.

薄剥離フィルム31で覆われたフレキ部102は、リジッドフレキシブルプリント配線板10が完成した際に露出させる。薄剥離フィルム31には、フレキ部101の表面のカバーレイフィルム20から剥離がし易いフッ素系樹脂フィルム、PBTフィルム、PP延伸フィルム、PETフィルム、ポリオレフィンフィルム等を用いる。   The flexible portion 102 covered with the thin release film 31 is exposed when the rigid flexible printed wiring board 10 is completed. As the thin release film 31, a fluorine-based resin film, a PBT film, a PP stretched film, a PET film, a polyolefin film, or the like that can be easily peeled off from the coverlay film 20 on the surface of the flexible portion 101 is used.

(工程10)
次に、図4(i)のように、内層フレキシブル配線板30の両面に、回路パターン間への埋め込み性、及び積層後の表面平滑性に優れた溶融粘度が1000pois(10000Pa・s)以下のプリプレグ40aと薄銅箔40bを組み合わせ、加熱加圧成型することにより、図4(j)のようにビルドアップ層40dを形成する。
(Process 10)
Next, as shown in FIG. 4 (i), the melt viscosity excellent in embedding between circuit patterns and surface smoothness after lamination on both surfaces of the inner layer flexible wiring board 30 is 1000 poise (10000 Pa · s) or less. The prepreg 40a and the thin copper foil 40b are combined and heated and pressed to form the buildup layer 40d as shown in FIG. 4 (j).

(工程11)
次に、図5(k)のように、炭酸ガスレーザー加工装置を使用して、位置合せマーク26を基準にしてレーザー光の照射位置を合わせたレーザー穴あけにより、薄銅箔40bの上からブラインドバイアホール41及び42用の穴41a及び42aを形成する。穴41a及び42aは、70〜150μm程度の直径を持ち、2階高バイアホール3b、4b、ブラインドバイアホール23、24に達する穴を形成する。
(Step 11)
Next, as shown in FIG. 5 (k), by using a carbon dioxide laser processing device, blind drilling is performed from above the thin copper foil 40b by laser drilling in which the laser beam irradiation position is aligned based on the alignment mark 26. Holes 41a and 42a for via holes 41 and 42 are formed. The holes 41 a and 42 a have a diameter of about 70 to 150 μm and form holes reaching the second floor high via holes 3 b and 4 b and the blind via holes 23 and 24.

(工程12)
次に、図5(l)のように、基板の全面に銅めっきするパネルめっき処理を行うことで、基板のブラインドバイアホール41及び42用の穴41a及び42aに銅めっきを充填しブラインドバイアホール41及び42を形成する。
(Step 12)
Next, as shown in FIG. 5 (l), by performing a panel plating process for copper plating on the entire surface of the substrate, the holes 41a and 42a for the blind via holes 41 and 42 of the substrate are filled with the copper plating and the blind via holes are formed. 41 and 42 are formed.

(工程13)
次に、図5(m)のように、基板の表面の銅めっき層をエッチングすることで、2階高バイアホール3b、4b、ブラインドバイアホール23、24に連結するブラインドバイアホール41と42のパターンと、加工用レーザーストッパ用銅箔パターン43を含む配線パターンを形成する。
(Step 13)
Next, as shown in FIG. 5M, by etching the copper plating layer on the surface of the substrate, the blind via holes 41 and 42 connected to the second floor high via holes 3b and 4b and the blind via holes 23 and 24 are formed. A wiring pattern including the pattern and the copper foil pattern 43 for processing laser stopper is formed.

これにより、ブラインドバイアホール24が表側のビルドアップ層40dのブラインドバイアホール42に連結し、ブラインドバイアホール42と24から成る柱状の銅めっきが、ビルドアップ層40dに埋め込まれて支えられることで、より強固に支えられる効果がある。   Thereby, the blind via hole 24 is connected to the blind via hole 42 of the front-side buildup layer 40d, and the columnar copper plating composed of the blind via holes 42 and 24 is embedded and supported in the buildup layer 40d. There is an effect to be supported more firmly.

内層フレキシブル配線板30よりも下層に形成する加工用レーザーストッパ用銅箔パターン43は、後に、図8(r)のように、リジッドフレキシブルプリント配線板10の上面側から照射した加工用レーザー光Lを、内層フレキシブル配線板30よりも下面側の位置で遮断する位置に加工用レーザーストッパ用銅箔パターン43のパターンを形成する。   The processing laser stopper copper foil pattern 43 formed below the inner layer flexible wiring board 30 is later processed laser light L irradiated from the upper surface side of the rigid flexible printed wiring board 10 as shown in FIG. The pattern of the copper foil pattern 43 for a laser stopper for processing is formed at a position where it is cut off at a position on the lower surface side of the inner layer flexible wiring board 30.

ここで形成した加工用レーザーストッパ用銅箔パターン43は以下の様に用いる。すなわち、後の工程で、フレキ部102とリジッド部101の間の補強用金属パターン25の上に加工用レーザー光を照射してフレキ部102の表層のビルドアップ層とリジッド部101を切り離す溝を形成する。その際に、その加工用レーザー光を、加工用レーザーストッパ用銅箔パターン43で停止させて、それより下層で補強用金属パターン25までの間のビルドアップ層の樹脂には、加工用レーザーストッパ用銅箔パターン43以外の領域に加工用レーザー光を正確に位置を合わせて照射できる効果がある。   The copper foil pattern 43 for processing laser stopper formed here is used as follows. That is, in a later step, a groove that separates the surface build-up layer of the flexible portion 102 and the rigid portion 101 by irradiating the processing laser beam on the reinforcing metal pattern 25 between the flexible portion 102 and the rigid portion 101. Form. At that time, the laser beam for processing is stopped at the copper foil pattern 43 for processing laser stopper, and the resin for the build-up layer between the lower layer and the reinforcing metal pattern 25 has a processing laser stopper. There is an effect that the processing laser light can be accurately aligned and irradiated on the area other than the copper foil pattern 43 for processing.

(工程14)
次に、工程10から工程13まの処理と同様な処理を繰り返すことで、図6(n)のように、基板の両面の内層側から外層側に、ビルドアップ層50dと60dを順次に形成する。そのビルドアップ層50dには、ブラインドバイアホール41に連結するブラインドバイアホール51を形成し、ビルドアップ層60dには、そのブラインドバイアホール51に連結するブラインドバイアホール61を形成する。
(工程15)
次に、図6(o)のように、リジッド部101にソルダーレジスト70を印刷する。
(Step 14)
Next, by repeating the same process as the process from the process 10 to the process 13, the build-up layers 50d and 60d are sequentially formed from the inner layer side to the outer layer side of both surfaces of the substrate as shown in FIG. 6 (n). To do. A blind via hole 51 connected to the blind via hole 41 is formed in the buildup layer 50d, and a blind via hole 61 connected to the blind via hole 51 is formed in the buildup layer 60d.
(Step 15)
Next, the solder resist 70 is printed on the rigid portion 101 as shown in FIG.

(工程16)
次に、図7(p)の平面図と図7(q)の側面図と図8(r)の側面図のように、位置合せマーク26を基準にして位置を合わせた炭酸ガスレーザーなどの加工用レーザー光Lを、フレキ部102とリジッド部101の境界部分の補強用金属パターン25の上の表層のビルドアップ層から補強用金属パターン25に達するまで照射する。すなわち、加工用
レーザー光Lにより、フレキ部102の表層のビルドアップ層と図7(q)の左側のリジッド部101を切り離す第1の溝27aと、図7(q)の右側のリジッド部101を切り離す第2の溝27bを形成する。
(Step 16)
Next, as shown in the plan view of FIG. 7 (p), the side view of FIG. 7 (q), and the side view of FIG. 8 (r), a carbon dioxide laser or the like aligned with the alignment mark 26 as a reference. The processing laser beam L is irradiated from the surface buildup layer on the reinforcing metal pattern 25 at the boundary between the flexible portion 102 and the rigid portion 101 until the reinforcing metal pattern 25 is reached. That is, by the processing laser beam L, the first groove 27a that separates the build-up layer on the surface of the flexible portion 102 from the left rigid portion 101 in FIG. 7 (q), and the right rigid portion 101 in FIG. 7 (q). A second groove 27b is formed to separate the.

この加工は、カバーレイフィルム20の外層側の面に、位置合せマーク26が形成され、その位置合せマーク26を基準にして、補強用金属パターン25にかからせて設置した薄剥離フィルム31の端部に加工用レーザー光Lを正確に位置を合わせて照射することで第1の溝27aと第2の溝27bを形成する。それにより、薄剥離フィルム31が第1の溝27aと第2の溝27bの間のみに残留し、その薄剥離フィルム31がフレキ部の領域上のビルドアップ層にのみ残留するようにできる。そのため、フレキ部102の領域上のビルドアップ層を除去する際に薄剥離フィルム31も完全に除去して、リジッドフレキシブルプリント配線板10に残留させないようにできる効果がある。   In this processing, an alignment mark 26 is formed on the outer layer side surface of the cover lay film 20, and the thin release film 31 placed over the reinforcing metal pattern 25 with reference to the alignment mark 26. The first groove 27a and the second groove 27b are formed by irradiating the end portion with the processing laser beam L with its position accurately aligned. Thereby, the thin release film 31 remains only between the first groove 27a and the second groove 27b, and the thin release film 31 can remain only in the build-up layer on the flexible region. Therefore, when removing the build-up layer on the area of the flexible part 102, the thin release film 31 is also completely removed so that it does not remain on the rigid flexible printed wiring board 10.

また、加工用レーザー光Lを基板の上面側と下面側から照射して、基板から、個々のリジッドフレキシブルプリント配線板10を切り出す。例えば、図8(r)のように、基板の上面側から照射した加工用レーザー光Lにより、内層フレキシブル配線板30よりも下面側の位置の加工用レーザーストッパ用銅箔パターン43に達するまで溝を形成し、基板から、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102を切り出す。   Further, the processing laser beam L is irradiated from the upper surface side and the lower surface side of the substrate, and the individual rigid flexible printed wiring boards 10 are cut out from the substrate. For example, as shown in FIG. 8 (r), the processing laser beam L irradiated from the upper surface side of the substrate is grooved until reaching the processing laser stopper copper foil pattern 43 at the position on the lower surface side of the inner layer flexible wiring board 30. And the flexible portion 102 of the rigid flexible printed wiring board 10 is cut out from the substrate.

(変形例1)
変形例1として、基板から、個々のリジッドフレキシブルプリント配線板10を切り出す外形加工については、機械的な外形ルーター加工で行うこともできる。
(Modification 1)
As a first modification, the outer shape processing for cutting out each rigid flexible printed wiring board 10 from the substrate can be performed by mechanical outer shape router processing.

(工程17)
加工用レーザー光Lで基板に溝を形成した基板から、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102を切り出した後に、図8(s)及び図9(u)のように、基板の上面から、薄剥離フィルム31、及び、その上の、第1の溝27aと第2の溝27bの間の、ビルドアップ層40d、50d、60dとを引き剥がす。また、リジッドフレキシブルプリント配線板10から、下面の樹脂層を引き剥がす。すなわち、リジッドフレキシブルプリント配線板10の下面の、薄剥離フィルム31、及び、その下の、第1の溝27aと第2の溝27bの間の、基板の外枠部分と連結するビルドアップ層40d、50d、60dを引き剥がす。これにより、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102を、ビルドアップ層40d、及び50d、60dから引き剥がして、基板の外枠部分から個別のリジッドフレキシブルプリント配線板10を分離することができる。
(Step 17)
After cutting out the flexible portion 102 of the rigid flexible printed wiring board 10 from the substrate in which grooves are formed in the substrate with the processing laser light L, as shown in FIGS. 8 (s) and 9 (u), from the upper surface of the substrate, The thin release film 31 and the buildup layers 40d, 50d, and 60d between the first groove 27a and the second groove 27b thereon are peeled off. Further, the resin layer on the lower surface is peeled off from the rigid flexible printed wiring board 10. That is, the build-up layer 40d that is connected to the outer frame portion of the substrate between the first release groove 27a and the second release groove 27b below the thin release film 31 on the lower surface of the rigid flexible printed wiring board 10. , 50d, 60d. Thereby, the flexible part 102 of the rigid flexible printed wiring board 10 can be peeled off from the buildup layers 40d, 50d, and 60d, and the individual rigid flexible printed wiring board 10 can be separated from the outer frame portion of the substrate.

ここで、薄剥離フィルム31は、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102から剥離されて除去され、薄剥離フィルム31が残留しないので、フレキ部の表面の電気特性が薄剥離フィルム31の材質に影響されない効果がある。   Here, the thin release film 31 is peeled off and removed from the flexible portion 102 of the rigid flexible printed wiring board 10, and the thin release film 31 does not remain, so that the electrical characteristics of the surface of the flexible portion are the material of the thin release film 31. There is an effect that is not affected.

また、加工用レーザー光Lで形成した溝に露出したビルドアップ層40d、50d、60dの断面がリジッド部101の端部を成す。本実施形態で製造したリジッドフレキシブルプリント配線板10は、そのリジッド部101の端部の位置を、位置合せマーク26の位置と比較する検査を行うことで、リジッド部101の端部の位置のズレ量を完成品で検査できる効果がある。   Further, the cross sections of the build-up layers 40 d, 50 d, and 60 d exposed in the grooves formed by the processing laser beam L form the end portion of the rigid portion 101. The rigid flexible printed wiring board 10 manufactured in the present embodiment performs an inspection for comparing the position of the end portion of the rigid portion 101 with the position of the alignment mark 26, thereby shifting the position of the end portion of the rigid portion 101. The amount can be inspected with the finished product.

第1の実施形態では、内層フレキシブル配線板30内に形成した2階高バイアホール3b、4b、ブラインドバイアホール23、24がブラインドバイアホール41及び42と連結し、そのブラインドバイアホール41及び42がリジッド部101に食い込んで強固に保持される。それとともに、ブラインドバイアホール23に狭い間隔を隔てて連結したランド23bと3又は4、バイアホール24に狭い間隔を隔てて連結したランド24bと
2bが、カバーレイフィルム20の絶縁樹脂フィルム21と接着剤層22を、上下から保持する。その構造がカバーレイフィルム20を、支持フィルム1及びリジッド部101のビルドアップ層40dに強固に結合させるので、カバーレイフィルム20と上下の樹脂層との接合の信頼性を高くできる効果がある。
In the first embodiment, the second-floor high via holes 3b and 4b and the blind via holes 23 and 24 formed in the inner layer flexible wiring board 30 are connected to the blind via holes 41 and 42, and the blind via holes 41 and 42 are connected to each other. It bites into the rigid part 101 and is firmly held. At the same time, the lands 23b and 3 or 4 connected to the blind via hole 23 with a narrow space and the lands 24b and 2b connected to the via hole 24 with a small space are bonded to the insulating resin film 21 of the coverlay film 20. The agent layer 22 is held from above and below. Since the structure firmly bonds the coverlay film 20 to the support film 1 and the buildup layer 40d of the rigid portion 101, there is an effect that the reliability of bonding between the coverlay film 20 and the upper and lower resin layers can be increased.

特に、内層フレキシブル配線板30の外層側の平坦なカバーレイフィルム20を、その外層に直接形成された補強用金属パターン25により、上下からカバーレイフィルム20を押さえて保持することで、内層フレキシブル配線板30がリジッド部101とフレキ部102の境界部分で小さな曲率半径で急に曲がって大きなストレスがその部分に集中することが無いように補強する効果がある。   In particular, the flat coverlay film 20 on the outer layer side of the inner layer flexible wiring board 30 is held by pressing the coverlay film 20 from above and below with the reinforcing metal pattern 25 formed directly on the outer layer. There is an effect that the plate 30 is reinforced so that a large stress is not concentrated on the boundary portion between the rigid portion 101 and the flexible portion 102 with a small curvature radius.

また、リジッド部101とフレキ部102の境界部分は、補強用金属パターン25の上面に達する加工用レーザー光Lで形成した溝27a、27bで分離されていて、しかも、フレキ部102の表面を覆う薄剥離フィルム31がビルドアップ層とともにフレキ部102から除去されるので、補強用金属パターン25の上面に樹脂が被さらない。そうして、リジッド部101側では、ビルドアップ層の端部が、加工用レーザー光Lで形成した溝27a、27bの側面として補強用金属パターン25上に垂直に形成されて、補強用金属パターン25の上面に樹脂が被さらないため、リジッド部101とフレキ部102の境界部分に柔軟性があり、屈曲の繰り返しへの耐久力が高い効果がある。   The boundary portion between the rigid portion 101 and the flexible portion 102 is separated by grooves 27 a and 27 b formed by the processing laser light L reaching the upper surface of the reinforcing metal pattern 25, and covers the surface of the flexible portion 102. Since the thin release film 31 is removed from the flexible portion 102 together with the buildup layer, the resin is not covered on the upper surface of the reinforcing metal pattern 25. Thus, on the rigid portion 101 side, the end of the build-up layer is formed vertically on the reinforcing metal pattern 25 as the side surfaces of the grooves 27a and 27b formed by the processing laser beam L, and the reinforcing metal pattern Since the upper surface of 25 is not covered with resin, the boundary portion between the rigid portion 101 and the flexible portion 102 is flexible, and there is an effect that the durability to repeated bending is high.

従来技術では、内層フレキシブル配線板30の上に、ローフロー樹脂のシートを積層することでリジッド部101のビルドアップ層を形成し、そのビルドアップ層を形成する都度、リジッド部101のパターン及びバイアホールを形成する銅めっき処理を行う技術が用いられることが多かった。その場合は、フレキ部102の表面に銅めっきが残留し、フレキ部102の曲げ性を阻害する問題が発生していた。それに対して、本実施形態では、内層フレキシブル配線板30の上にビルドアップ層40d、50d、60dを形成した後にフレキ部102の上のビルドアップ層40d、50d、60dを除去するので、リジッド部101のパターン及びバイアホールを形成する際の銅めっき処理によってフレキ部102の表面に余分な銅めっきが形成されることが無い。そのため、本実施形態には、フレキ部102の表面に銅めっきが残留した場合に発生するフレキ部102の曲げ性を阻害する問題が発生せず、屈曲性に優れたリジッドフレキシブルプリント配線板10が得られる効果がある。   In the prior art, a build-up layer of the rigid portion 101 is formed by laminating a low-flow resin sheet on the inner layer flexible wiring board 30, and each time the build-up layer is formed, the pattern and via hole of the rigid portion 101 are formed. In many cases, a technique of performing a copper plating process for forming the film is used. In that case, the copper plating remained on the surface of the flexible portion 102, and the problem of hindering the bendability of the flexible portion 102 occurred. On the other hand, in this embodiment, since the buildup layers 40d, 50d, and 60d on the flexible portion 102 are removed after the buildup layers 40d, 50d, and 60d are formed on the inner layer flexible wiring board 30, the rigid portion Excess copper plating is not formed on the surface of the flexible portion 102 by the copper plating process in forming the pattern 101 and the via hole. Therefore, in this embodiment, there is no problem of hindering the bendability of the flexible portion 102 that occurs when copper plating remains on the surface of the flexible portion 102, and the rigid flexible printed wiring board 10 having excellent bendability is provided. There is an effect to be obtained.

<第2の実施形態>
図10〜図12は、本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10の製造方法を説明する側断面図である。図12(h)に、第2の実施形態の、リジッドフレキシブルプリント配線板10の側断面図を示す。第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10は、内層フレキシブル配線板30の上側の面からフレキシブル配線板1aの下面の金属柱中間ランド3に至る2階高バイアホール3fを有し、一方、内層フレキシブル配線板30の下側の面からは、銅箔付きカバーレイフィルム20の絶縁樹脂フィルム21と接着剤層22を貫通して金属柱中間ランド3に至るブラインドバイアホール23を有する。それにより、内層フレキシブル配線板30の上面から下面まで、2階高バイアホール3f、金属柱中間ランド3、ブラインドバイアホール23を接続した第1の金属めっき柱を有する。
<Second Embodiment>
10-12 is a sectional side view explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board 10 of the 2nd Embodiment of this invention. FIG. 12H is a side sectional view of the rigid flexible printed wiring board 10 according to the second embodiment. The rigid flexible printed wiring board 10 of the second embodiment has a second floor high via hole 3f that extends from the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30 to the metal pillar intermediate land 3 on the lower surface of the flexible wiring board 1a. From the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30, there are blind via holes 23 that penetrate the insulating resin film 21 and the adhesive layer 22 of the coverlay film 20 with copper foil and reach the metal pillar intermediate lands 3. Thus, the first-layer metal wiring pillar 30 having the second-floor high via hole 3f, the metal pillar intermediate land 3, and the blind via hole 23 is provided from the upper surface to the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30.

同様に、内層フレキシブル配線板30の下側の面からフレキシブル配線板1aの上面の金属柱中間ランド4に至る2階高バイアホール4fを有し、一方、内層フレキシブル配線板30の上側の面からは、銅箔付きカバーレイフィルム20の絶縁樹脂フィルム21と接着剤層22を貫通して金属柱中間ランド4に至るブラインドバイアホール23を有する。それにより、内層フレキシブル配線板30の下面から上面まで、2階高バイアホール4f
、金属柱中間ランド4、ブラインドバイアホール23を接続した第2の金属めっき柱を有する。
Similarly, it has a second-floor high via hole 4f that extends from the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30 to the metal pillar intermediate land 4 on the upper surface of the flexible wiring board 1a, while from the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30. Has a blind via hole 23 that penetrates through the insulating resin film 21 and the adhesive layer 22 of the coverlay film 20 with copper foil and reaches the metal pillar intermediate land 4. Thereby, from the lower surface to the upper surface of the inner-layer flexible wiring board 30, the second-floor high via hole 4f
, The metal column intermediate land 4 and the second metal plating column connected to the blind via hole 23.

第2の実施形態が第1の実施形態と異なる点は、2階高バイアホール3f及び2階高バイアホール4fが、その最外層部分に金属柱用ランド3g及び4gを有するとともに、2階高バイアホールの中間部分に、中心に空孔3e及び4eが形成された1階ランド3d及び4dを有し、その1階ランド3d及び4dの内層側の2階高バイアホール3f及び4fの直径が、前記1階ランド3d及び4dの空孔3e及び4eの直径である点である。そして、1階ランド3d及び4dの外層側に形成された2階高バイアホールの直径が、内層側の直径より大きい点である。   The second embodiment is different from the first embodiment in that the second-floor high via hole 3f and the second-floor high via hole 4f have metal pillar lands 3g and 4g in their outermost layers, and the second-floor high In the middle part of the via hole, there are first floor lands 3d and 4d formed with holes 3e and 4e in the center. The diameters of the second floor high via holes 3f and 4f on the inner layer side of the first floor lands 3d and 4d are as follows. The diameter of the holes 3e and 4e of the first-floor lands 3d and 4d. The diameter of the second floor high via hole formed on the outer layer side of the first floor lands 3d and 4d is larger than the diameter on the inner layer side.

第2の実施形態は、2階高バイアホールの中間部分に、中心に空孔3e及び4eが形成された1階ランド3d及び4dを有することで、2階高バイアホール3fの最外層部分に接続された金属柱用ランド3g及び4gと、2階高バイアホールの中間部分に接続された1階ランド3d及び4dとが、その間の絶縁樹脂フィルム21と接着剤層22を上下から挟み込んで保持し、絶縁樹脂フィルム21と接着剤層22とを直接に強固に保持することができる効果がある。それにより、カバーレイフィルム20の接着剤層22と支持フィルム1の樹脂層との接合の信頼性、及び、カバーレイフィルム20の絶縁樹脂フィルム21とビルドアップ層40dとの接合の信頼性を向上させる効果がある。   In the second embodiment, the first floor lands 3d and 4d having holes 3e and 4e formed at the center are provided in the middle part of the second floor high via hole, so that the outermost layer portion of the second floor high via hole 3f is provided. The connected metal pillar lands 3g and 4g and the first-floor lands 3d and 4d connected to the middle part of the second-floor high via hole sandwich and hold the insulating resin film 21 and the adhesive layer 22 therebetween. In addition, there is an effect that the insulating resin film 21 and the adhesive layer 22 can be directly and firmly held. Thereby, the reliability of bonding between the adhesive layer 22 of the cover lay film 20 and the resin layer of the support film 1 and the reliability of bonding between the insulating resin film 21 of the cover lay film 20 and the buildup layer 40d are improved. There is an effect to make.

(製造方法)
第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10の製造方法は、工程1は、図10(a)のように、第1の実施形態の工程1と同じフレキシブル配線板1aを用いる。
(工程2)
工程2では、図10(b)のように、フレキシブル配線板1aの銅箔2aをエッチングすることで、第1の実施形態と同様にフレキシブル配線板1aの両面に配線パターン2を形成し、下面に金属柱中間ランド3を形成し、上面に金属柱中間ランド4を形成し、後に形成するブラインドバイアホール24の位置にランド2bを形成する。第2の実施形態では、更に、フレキシブル配線板1aの上面に、下面の金属柱中間ランド3と対応する位置に、中心に空孔3eが形成された1階ランド3dを形成し、フレキシブル配線板1aの下面に、上面の金属柱中間ランド4と対応する位置に、中心に空孔4eが形成された1階ランド4dを形成する。
(Production method)
In the method of manufacturing the rigid flexible printed wiring board 10 of the second embodiment, the process 1 uses the same flexible wiring board 1a as the process 1 of the first embodiment as shown in FIG.
(Process 2)
In step 2, as shown in FIG. 10B, the copper foil 2a of the flexible wiring board 1a is etched to form the wiring pattern 2 on both surfaces of the flexible wiring board 1a as in the first embodiment. The metal column intermediate land 3 is formed on the upper surface, the metal column intermediate land 4 is formed on the upper surface, and the land 2b is formed at the position of the blind via hole 24 to be formed later. In the second embodiment, the first floor land 3d having a hole 3e formed at the center is formed on the upper surface of the flexible wiring board 1a at a position corresponding to the metal pillar intermediate land 3 on the lower surface. On the lower surface of 1a, a first-floor land 4d having a hole 4e in the center is formed at a position corresponding to the metal pillar intermediate land 4 on the upper surface.

第2の実施形態の工程3と工程4は、第1の実施形態と同様に、図10(c)、図11(d)の様に基板を形成する。
(工程5)
工程5では、第1の実施形態の工程5と同様に、図11(e)のように、基板の表裏に露出した絶縁樹脂フィルム21の面から、炭酸ガスレーザーやYAGレーザなどのレーザー穴あけ装置を用いて、穴あけ用レーザー光を照射する。それにより、フレキシブル配線板1aの下面の金属柱中間ランド3に、内層フレキシブル配線板30の上側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層を貫通して金属柱中間ランド3に至る2階高バイアホール用穴3aを形成する。第2の実施形態では、穴あけ用レーザー光が1階ランド3dで遮られ、1階ランド3dの空孔3eを通った光のみが、金属柱中間ランド3に達する。それにより、2階高バイアホール用穴3aは、1階ランド3dの下層部分では1階ランド3dの中心の空孔3eの直径になり、その上層部分より直径が小さくなり、直径が階段状の段差を有する2階高バイアホール用穴3aが形成される。
In step 3 and step 4 of the second embodiment, as in the first embodiment, a substrate is formed as shown in FIGS.
(Process 5)
In step 5, as in step 5 of the first embodiment, as shown in FIG. 11E, a laser drilling device such as a carbon dioxide gas laser or a YAG laser is formed from the surface of the insulating resin film 21 exposed on the front and back of the substrate. Irradiate a laser beam for drilling. As a result, the metal pillar intermediate land 3 on the lower surface of the flexible wiring board 1a passes through the layer of the coverlay film 20 with copper foil and the layer of the support film 1 from the upper surface of the inner flexible wiring board 30 to the middle of the metal pillar. A hole 2a for a second floor high via hole reaching the land 3 is formed. In the second embodiment, the drilling laser light is blocked by the first-floor land 3d, and only the light that has passed through the holes 3e of the first-floor land 3d reaches the metal pillar intermediate land 3. As a result, the hole 2a for the second floor high via hole has the diameter of the hole 3e at the center of the first floor land 3d in the lower layer portion of the first floor land 3d, the diameter is smaller than the upper layer portion, and the diameter is stepped. A second-floor high via hole 3a having a step is formed.

同様に、内層フレキシブル配線板30の下側の面から、銅箔付きカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層を貫通して金属柱中間ランド4に至る2階高バイアホール用
穴4aを形成する。2階高バイアホール用穴4aも2階高バイアホール用穴3aと同様に、穴あけ用レーザー光の周辺光が1階ランド4dで遮られ、1階ランド4dの空孔4eを通った光のみが、金属柱中間ランド4に達する。それにより、2階高バイアホール用穴4aは、1階ランド4dの上層部分では、1階ランド4dの中心の空孔4eの直径になり、その下層部分より直径の小さい、直径が階段状の段差を有する2階高バイアホール用穴4aを形成する。
Similarly, from the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30, a second-floor high via-hole hole 4 a that penetrates the layer of the coverlay film 20 with copper foil and the layer of the support film 1 and reaches the metal pillar intermediate land 4 is formed. Form. Similarly to the second floor high via hole 3a, the second floor high via hole 4a is blocked by the first floor land 4d and the light passing through the hole 4e of the first floor land 4d only in the surrounding laser beam for drilling. However, it reaches the metal pillar intermediate land 4. Thereby, the hole 4a for the second floor high via hole has the diameter of the hole 4e at the center of the first floor land 4d in the upper layer portion of the first floor land 4d, and has a diameter smaller than that of the lower layer portion and has a stepped diameter. A second-floor high via hole 4a having a step is formed.

(工程6と工程7)
図11(f)のように、第1の実施形態の工程6と工程7と同様に、2階高バイアホール用穴3a及び4aに電解銅めっきを充填することで、2階高バイアホール3f及び4fと、その他のブラインドバイアホール23及び24を形成する。
(Step 6 and Step 7)
As shown in FIG. 11 (f), the second floor high via hole 3f can be obtained by filling the second floor high via hole holes 3a and 4a with electrolytic copper plating in the same manner as in steps 6 and 7 of the first embodiment. And 4f and other blind via holes 23 and 24 are formed.

特に、2階高バイアホール3fは、1階ランド3dの上層部分では、その下層部分より直径が大きい直径が階段状の段差を有する電解銅めっきの金属柱に形成され、上層部分の直径が下層部分の直径より大きい分だけ2階高バイアホール3fが1階ランド3dと広い面積で接続し、2階高バイアホール3fと1階ランド3dの接続信頼性が高い効果がある。   In particular, the second-floor high via hole 3f is formed in an electrolytic copper-plated metal column having a stepped step whose diameter is larger than that of the lower layer portion in the upper layer portion of the first-floor land 3d, and the upper layer portion has a lower layer diameter. The second-floor high via hole 3f is connected to the first-floor land 3d in a larger area by an amount larger than the diameter of the portion, and there is an effect that the connection reliability between the second-floor high via hole 3f and the first-floor land 3d is high.

(工程8)
次に、エッチングにより配線パターンを形成し、図12(g)のように、リジッド部101に、内層フレキシブル配線板30の上面から下面まで、金属柱用ランド3g、2階高バイアホール3f、金属柱中間ランド3、ブラインドバイアホール23、ランド23bを接続した第1の金属めっき柱を形成し、内層フレキシブル配線板30の下面から上面まで、金属柱用ランド4g、2階高バイアホール4f、金属柱中間ランド4、ブラインドバイアホール23、ランド23bを接続した第2の金属めっき柱を形成する。
(Process 8)
Next, a wiring pattern is formed by etching. As shown in FIG. 12G, the metal pillar land 3g, the second-floor high via hole 3f, the metal are formed on the rigid portion 101 from the upper surface to the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30. A first metal plating column connecting the column intermediate land 3, the blind via hole 23, and the land 23b is formed, and the metal column land 4g, the second-floor high via hole 4f, the metal are formed from the lower surface to the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30. A second metal plating column connecting the column intermediate land 4, the blind via hole 23, and the land 23b is formed.

(工程9から工程17まで)
第1の実施形態の工程8から工程17と同様の工程により、図12(h)のリジッドフレキシブルプリント配線板10を製造する。
(From step 9 to step 17)
The rigid flexible printed wiring board 10 shown in FIG. 12H is manufactured by the same processes as the processes 8 to 17 of the first embodiment.

なお、本発明は、上記の実施形態に限定されず、カバーレイの絶縁樹脂フィルム21上に形成する位置合せマーク26の位置は、リジッド部101に限定されず、フレキ部102に位置合せマーク26を形成することもできる。フレキ部102に位置合せマーク26を形成すると、位置合せマーク26がフレキ部102に露出して、その位置の観察が容易になるので、位置合せマーク26に位置を合わせて形成されたリジッドフレキシブルプリント配線板10各部との位置ずれの測定が容易になる効果がある。例えば、補強用金属パターン25上に溝27aと27bによって垂直に形成されたビルドアップ層40d、50d、60dの端部の側面の位置と位置合せマーク26との相対位置のずれ量の測定が容易になる効果がある。   In addition, this invention is not limited to said embodiment, The position of the alignment mark 26 formed on the insulating resin film 21 of a coverlay is not limited to the rigid part 101, The alignment mark 26 is set to the flexible part 102. Can also be formed. When the alignment mark 26 is formed on the flexible portion 102, the alignment mark 26 is exposed to the flexible portion 102, and the position can be easily observed. Therefore, the rigid flexible print formed by aligning the position with the alignment mark 26 is provided. There is an effect that the measurement of the positional deviation from each part of the wiring board 10 becomes easy. For example, it is easy to measure the amount of deviation between the position of the side surface of the end of the build-up layers 40d, 50d, and 60d formed vertically by the grooves 27a and 27b on the reinforcing metal pattern 25 and the alignment mark 26. There is an effect to become.

1・・・支持フィルム
1a・・・フレキシブル配線板
2・・・配線パターン
2a・・・銅箔
2b、23b、24b・・・ランド
3、4・・・金属柱中間ランド
3a、4a・・・2階高バイアホール用穴
3b、4b、3f、4f・・・2階高バイアホール
3c、4c、3g、4g・・・金属柱用ランド
3d、4d・・・1階ランド
3e、4e・・・空孔
10・・・リジッドフレキシブルプリント配線板
20・・・銅箔付きカバーレイフィルム
20a・・・銅箔
21・・・絶縁樹脂フィルム
22・・・接着剤層
23、24、41、42、51、61・・・・ブラインドバイアホール
23a・・・金属柱バイアホール用穴
24a・・・ブラインドバイアホール用の穴
25・・・補強用金属パターン
26・・・位置合せマーク
27a・・・第1の溝
27b・・・第2の溝
30・・・内層フレキシブル配線板
31・・・薄剥離フィルム
40a・・・プリプレグ
40b・・・薄銅箔
40d、50d、60d・・・ビルドアップ層
43・・・加工用レーザーストッパ用銅箔パターン
101・・・リジッド部
102・・・フレキ部
L・・・加工用レーザー光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support film 1a ... Flexible wiring board 2 ... Wiring pattern 2a ... Copper foil 2b, 23b, 24b ... Land 3, 4 ... Metal pillar intermediate land 3a, 4a ... 2nd floor high via holes 3b, 4b, 3f, 4f ... 2nd floor high via holes 3c, 4c, 3g, 4g ... Metal pillar lands 3d, 4d ... 1st floor lands 3e, 4e ... -Hole 10 ... Rigid flexible printed wiring board 20 ... Coverlay film 20a with copper foil ... Copper foil 21 ... Insulating resin film 22 ... Adhesive layer 23, 24, 41, 42, 51, 61 ... Blind via hole 23a ... Metal pillar via hole 24a ... Blind via hole 25 ... Reinforcing metal pattern 26 ... Alignment mark 27a ... No. 1 groove 2 b ... 2nd groove | channel 30 ... Inner layer flexible wiring board 31 ... Thin peeling film 40a ... Prepreg 40b ... Thin copper foil 40d, 50d, 60d ... Build-up layer 43 ... Copper foil pattern 101 for processing laser stopper ... Rigid portion 102 ... Flexible portion L ... Laser beam for processing

Claims (4)

硬質のリジッド部を柔軟性のあるフレキ部を介して連結したリジッドフレキシブルプリント配線板であって、前記リジッド部とフレキ部の領域にまたがる支持フィルムの面に金属柱中間ランドが形成され、前記支持フィルムの両面にカバーレイフィルムが積層されて成る内層フレキシブル配線板を有し、前記内層フレキシブル配線板の両面から前記金属柱中間ランドに達する穴を有し、該穴に金属めっきが充填されて前記金属柱中間ランドと一体に形成した金属めっき柱を有し、前記内層フレキシブル配線板の面に、位置合せマークと、前記フレキ部とリジッド部との境界部分の補強用金属パターンが形成され、前記内層フレキシブル配線板の前記リジッド部の領域にビルドアップ層が積層され、前記位置合せマークに位置が合わせられて、該ビルドアップ層の端部の側面が前記補強用金属パターン上に垂直に形成されていることを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板。   A rigid flexible printed wiring board in which a rigid rigid part is connected via a flexible flexible part, and a metal column intermediate land is formed on a surface of a support film that extends over the region of the rigid part and the flexible part. It has an inner layer flexible wiring board formed by laminating coverlay films on both sides of the film, has a hole reaching the metal pillar intermediate land from both sides of the inner layer flexible wiring board, and filled with metal plating in the hole A metal plating column formed integrally with the metal column intermediate land, and a metal pattern for reinforcement at a boundary portion between the alignment mark and the flexible portion and the rigid portion is formed on the surface of the inner layer flexible wiring board, A build-up layer is laminated in the region of the rigid portion of the inner layer flexible wiring board, and the position is aligned with the alignment mark, Rigid flexible printed wiring board, wherein a side surface of the end portion of the buildup layer is vertically formed on the metal reinforcement pattern. 請求項1記載のリジッドフレキシブルプリント配線板であって、前記金属柱中間ランドの片面の前記金属めっき柱の部分が、最外層部分に金属柱用ランドを有するとともに、中間部分に1階ランドを有する2階高バイアホールであり、該1階ランドの外層側の前記2階高バイアホールの直径が、内層側の直径より大きいことを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板。   2. The rigid flexible printed wiring board according to claim 1, wherein a portion of the metal plating column on one side of the metal column intermediate land has a metal column land in an outermost layer portion and a first floor land in an intermediate portion. A rigid flexible printed wiring board, being a second-floor high via hole, wherein a diameter of the second-floor high via hole on the outer layer side of the first-floor land is larger than a diameter on the inner layer side. 硬質のリジッド部を柔軟性のあるフレキ部を介して連結したリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、前記リジッド部の領域と前記フレキ部の領域にまたがる支持フィルムの少なくとも片方の面の前記リジッド部の領域に金属柱中間ランドを形成する工程と、前記支持フィルムの両面に銅箔付きカバーレイフィルムを積層することで内層フレキシブル配線板を製造する工程と、前記内層フレキシブル配線板の両面から穴あけ用レーザー光を照射することで、前記金属柱中間ランドに達する穴を形成する工程と、該穴に金属めっきを充填することで前記金属柱中間ランドと一体に形成した金属めっき柱を形成する工程と、前記内層フレキシブル配線板の面に、位置合せマークと、前記フレキ部とリジッド部との境界部分の補強用金属パターンを形成する工程と、前記内層フレキシブル配線板の前記リジッド部の領域にビルドアップ層を積層する工程と、前記位置合せマークに位置を合わせて、前記フレキ部と前記リジッド部との境界部分の前記ビルドアップ層に加工用レーザー光を照射することで前記ビルドアップ層の端部の側面を前記補強用金属パターン上に垂直に露出させる溝を形成する工程と、前記溝を境にしてフレキ部上の前記ビルドアップ層及び前記薄剥離フィルムを分離して除去する工程を有することを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法。   A rigid flexible printed wiring board manufacturing method in which a rigid rigid part is connected via a flexible flexible part, wherein the rigid film part and the support film spanning the flexible part area are provided on the at least one side of the support film. From the step of forming the metal pillar intermediate land in the region of the rigid part, the step of manufacturing the inner layer flexible wiring board by laminating the coverlay film with copper foil on both sides of the support film, and the both sides of the inner layer flexible wiring board A step of forming a hole reaching the metal column intermediate land by irradiating a laser beam for drilling, and a metal plating column formed integrally with the metal column intermediate land by filling the hole with metal plating A step of reinforcing the alignment mark on the surface of the inner layer flexible wiring board and the boundary between the flexible portion and the rigid portion; A step of forming a metal pattern, a step of laminating a buildup layer in the region of the rigid portion of the inner layer flexible wiring board, and a boundary portion between the flexible portion and the rigid portion in alignment with the alignment mark Irradiating the build-up layer with a processing laser beam to form a groove that vertically exposes the side surface of the end of the build-up layer on the reinforcing metal pattern; The manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board characterized by having the process of isolate | separating and removing the said buildup layer and the said thin peeling film on a part. 請求項3記載のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、
前記金属柱中間ランドを形成する工程において、前記金属柱中間ランドに対向し、中心に空孔を有する1階ランドを形成し、前記金属柱中間ランドに達する穴を形成する工程において、前記金属柱中間ランドから遠い側の面から、前記1階ランドを経由して前記金属柱中間ランドに向けて前記穴あけ用レーザー光を照射することで、前記穴あけ用レーザー光の周辺部を前記1階ランドで遮らせて前記空孔を通った該穴あけ用レーザー光のみを前記金属柱中間ランドに達させることで、前記金属柱中間ランドに達する穴の直径に段差を形成したことを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法。
It is a manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board according to claim 3,
In the step of forming the metal column intermediate land, in the step of forming a first floor land facing the metal column intermediate land and having a hole in the center, and forming a hole reaching the metal column intermediate land, the metal column intermediate land By irradiating the laser beam for drilling from the surface far from the intermediate land toward the metal pillar intermediate land via the first floor land, the peripheral portion of the drilling laser light is the first floor land. Rigid flexible print characterized in that a step is formed in the diameter of the hole reaching the metal column intermediate land by blocking only the laser beam for drilling that has passed through the hole to reach the metal column intermediate land. A method for manufacturing a wiring board.
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