JP2013074270A - Manufacturing method of rigid flexible printed wiring board - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To form, with high insulation quality and high connection credibility, a skip via or a through hole penetrating a support substrate of the center of an inner-layer flexible wiring board.SOLUTION: A prepared hole is formed on a support film of a flexible wiring board by laser drilling, and the prepared hole is filled with resin of an adhesive layer of a copper-foiled coverlay film, thereby manufacturing an inner-layer flexible wiring board. At a position of the prepared hole filled with the resin, a hole for skip via or a hole for through hole penetrating the support film is formed with a diameter smaller than that of the prepared hole by layer drilling, the hole for skip via or the hole for through hole is desmeared, and the hole for skip via or the hole for through hole is filled with copper plating, thereby forming a skip via or a through hole.

Description

本発明は、フレキシブル配線板とリジッド配線板とからなるリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a rigid flexible printed wiring board comprising a flexible wiring board and a rigid wiring board.

近年、折りたたみ式の携帯電話等の携帯用電子機器には、リジッドフレキシブルプリント配線板が使用されている。このようなプリント配線板として例えば特許文献1の技術が知られている。特許文献1では、柔軟性のない硬質のリジッド部を柔軟性のあるフレキ部を介して連結するとともに、リジッド部においては、フレキシブル配線板の配線パターンとリジッド配線板の配線パターンを、ビアフィルめっきによる金属柱を介して電気的に接続してリジッドフレキシブルプリント配線板を製造する技術が開示されている。   In recent years, rigid flexible printed wiring boards have been used in portable electronic devices such as folding mobile phones. As such a printed wiring board, for example, the technique of Patent Document 1 is known. In Patent Document 1, a rigid rigid part having no flexibility is connected through a flexible flexible part. In the rigid part, the wiring pattern of the flexible wiring board and the wiring pattern of the rigid wiring board are formed by via fill plating. A technique for manufacturing a rigid flexible printed wiring board by being electrically connected via a metal column is disclosed.

特許文献1では、ポリイミドシートを中心の支持基板に用いた内層フレキシブル配線板に配線パターンを形成した。そして、その内層フレキシブル配線板の両側に厚さが同じリジッド部のコア基板を並置した上で、そのコア基板の全面と、内層フレキシブル配線板の一部に、その上下面に絶縁層を積層してリジッドフレキシブルプリント配線板を製造していた。その製造過程で、内層フレキシブル配線板の両面にビルドアップ層を積層した後に、穴あけ用レーザ光を、ビルドアップ層の表面から内層フレキシブル配線板内の金属層に達するまで照射して、ビルドアップ層と内層フレキシブル配線板の層との複数の絶縁層を貫く2階高バイアホール(スキップビア)を形成した。しかし、内層フレキシブル配線板の中心の支持基板を貫くスキップビアあるいはスルーホールは形成していなかった。   In patent document 1, the wiring pattern was formed in the inner layer flexible wiring board which used the polyimide sheet for the center support substrate. Then, after placing a rigid core substrate having the same thickness on both sides of the inner flexible wiring board, insulating layers are laminated on the upper and lower surfaces of the entire core substrate and a part of the inner flexible wiring board. Rigid flexible printed wiring boards were manufactured. In the manufacturing process, after laminating build-up layers on both sides of the inner layer flexible wiring board, the laser beam for drilling is irradiated from the surface of the build-up layer until reaching the metal layer in the inner layer flexible wiring board. And a second-floor high via hole (skip via) penetrating a plurality of insulating layers of the inner flexible wiring board layer. However, a skip via or a through hole penetrating the support substrate at the center of the inner layer flexible wiring board has not been formed.

国際公開WO2008/050399号公報International Publication WO2008 / 050399

特許文献1の技術で、仮に、内層フレキシブル配線板の中心の支持基板を貫くスキップビアあるいはスルーホールを形成すれば、その支持基板にポリイミドシート、あるいは、LCP基板(液晶ポリマー)のシートを用いた場合は、以下の問題が生じた。すなわち、内層フレキシブル配線板の中心の支持基板にポリイミドシートや液晶ポリマーのシートを用いる場合は、それらの材料が過マンガン酸を用いたデスミアに対する耐性が強く、材料の表面が容易に粗化されないので、一般的デスミア処理ではその材料への無電解めっきの密着性が悪く、ひどい場合には無電解めっきが析出しない問題があった。   If the skip via or the through hole penetrating the support substrate at the center of the inner layer flexible wiring board is formed with the technique of Patent Document 1, a polyimide sheet or a sheet of an LCP substrate (liquid crystal polymer) is used for the support substrate. If the following problem occurred. That is, when a polyimide sheet or a liquid crystal polymer sheet is used as the support substrate at the center of the inner layer flexible wiring board, the material is highly resistant to desmear using permanganic acid, and the surface of the material is not easily roughened. In general desmear treatment, the adhesion of the electroless plating to the material is poor, and in a severe case, the electroless plating does not precipitate.

そのため、これらの材料の密着性を改善するために、プラズマ処理などでの強力なデスミア処理を行えば良いとも考えられるが、プラズマ処理によるデスミア処理を行う場合は、処理能力が高い過マンガン酸を用いたウエットラインによるデスミア処理よりもデスミアのコストが高くなる問題があった。   Therefore, in order to improve the adhesion of these materials, it may be necessary to perform a powerful desmear treatment such as a plasma treatment. However, when performing a desmear treatment by a plasma treatment, permanganic acid having a high treatment capacity is used. There has been a problem that the cost of desmear becomes higher than the desmear treatment by the wet line used.

また、リジッドフレキシブルプリント配線板において、フレキシブル配線板を貫くスキップビアあるいはスルーホールを設けた場合、フレキ部のフレキシブル配線板が屈曲させられる際に、フレキシブル配線板を貫くスキップビアあるいはスルーホールにストレスが加わりスキップビアあるいはスルーホールのめっき接続部分が破損し易いので、そのスキップビアあるいはスルーホールの接続信頼性が低い問題があった。   In addition, in a rigid flexible printed wiring board, when a skip via or through hole is provided that penetrates the flexible wiring board, stress is applied to the skip via or through hole that penetrates the flexible wiring board when the flexible wiring board in the flexible part is bent. In addition, since the plating connection portion of the skip via or the through hole is easily broken, there is a problem that the connection reliability of the skip via or the through hole is low.

特に、リジッドフレキシブルプリント配線板の内層フレキシブル配線板に、耐デスミア性が異なる異なる複数の絶縁層にまたがるスキップビアあるいはスルーホールを形成する場合は、以下のように、絶縁性と接続信頼性のバランスを取った最適なデスミアを行うのが難しい問題があった。つまり、絶縁層とスキップビアあるいはスルーホールの接続信頼性を高くするために、それが形成される穴壁の絶縁樹脂との密着力を強くするようにデスミアを強くすると、その強いデスミアによって、耐デスミア性が低い絶縁層の粗化が進んで絶縁信頼性が悪くなる問題がおきる等、絶縁性と接続信頼性のバランスを取るのが難しい問題があった。   In particular, when skip vias or through holes that span multiple insulation layers with different desmear resistance are formed on the inner flexible wiring board of rigid flexible printed wiring boards, the balance between insulation and connection reliability is as follows. There was a problem that it was difficult to perform the optimal desmear. In other words, in order to increase the connection reliability between the insulating layer and the skip via or through hole, if the desmear is strengthened so as to increase the adhesion between the insulating resin of the hole wall in which it is formed, There has been a problem that it is difficult to balance insulation and connection reliability, such as the problem of poor insulation reliability due to progress of roughening of the insulating layer having low desmear property.

本発明の課題は、上記の問題を解決して、内層フレキシブル配線板の中心の支持基板を貫くスキップビアあるいはスルーホールを、絶縁性を高く、かつ、接続信頼性を高くしたリジッドフレキシブルプリント配線を得ることである。   An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide a rigid flexible printed wiring having a high insulation and a high connection reliability with a skip via or a through hole penetrating the support substrate in the center of the inner layer flexible wiring board. Is to get.

上記の課題を解決するために、本発明は、硬質のリジッド部を柔軟性のあるフレキ部を介して連結したリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、
フレキシブル配線板の支持フィルムに、レーザ穴あけにより下孔を形成する工程と、
前記下孔を、銅箔付きカバーレイフィルムの接着層の樹脂で充填して内層フレキシブル配線板を製造する工程と、
前記樹脂で充填された下穴の位置に、レーザ穴あけにより、前記下穴の径より小さい径で、前記支持フィルムを貫くスキップビア用穴あるいはスルーホール用孔を形成する工程と、
前記スキップビア用穴あるいはスルーホール用孔をデスミアする工程と、
前記スキップビア用穴あるいはスルーホール用孔を銅めっきで充填してスキップビアあるいはスルーホールを形成する工程と、
前記内層フレキシブル配線板の表面の前記リジッド部の領域にビルドアップ層を形成する工程を有することを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法である。
In order to solve the above problems, the present invention is a method for manufacturing a rigid flexible printed wiring board in which a rigid rigid part is connected via a flexible flexible part,
Forming a pilot hole in the support film of the flexible wiring board by laser drilling; and
Filling the lower hole with a resin of an adhesive layer of a coverlay film with a copper foil to produce an inner layer flexible wiring board;
Forming a skip via hole or a through hole hole penetrating the support film at a position smaller than the diameter of the pilot hole by laser drilling at the position of the pilot hole filled with the resin;
Desmearing the skip via hole or the through hole; and
A step of filling the skip via hole or through hole with copper plating to form a skip via or through hole; and
It is a manufacturing method of a rigid flexible printed wiring board, comprising a step of forming a buildup layer in a region of the rigid portion on the surface of the inner layer flexible wiring board.

また、本発明は、上記のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、
金属柱中間ランドの金属層を有するフレキシブル配線板の支持フィルムに、レーザ穴あけにより、前記金属柱中間ランドに達するスキップビア下穴を形成する工程と、
前記スキップビア下穴を、銅箔付きカバーレイフィルムの接着層の樹脂で充填して内層フレキシブル配線板を製造する工程と、
前記樹脂で充填されたスキップビア下穴の位置に、レーザ穴あけにより、前記スキップビア下穴の径より小さい径で、前記支持フィルムを貫き前記金属柱中間ランドに達するスキップビア用穴を形成する工程と、
前記スキップビア用穴をデスミアする工程と、
前記スキップビア用穴を銅めっきで充填してスキップビアを形成する工程と、
前記内層フレキシブル配線板の表面の前記リジッド部の領域にビルドアップ層を形成する工程を有することを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法である。
Further, the present invention is a method for producing the above rigid flexible printed wiring board,
A step of forming a skip via pilot hole reaching the metal pillar intermediate land by laser drilling in the support film of the flexible wiring board having the metal layer of the metal pillar intermediate land;
Filling the skip via pilot hole with the resin of the adhesive layer of the coverlay film with copper foil to produce an inner layer flexible wiring board;
A step of forming a skip via hole that penetrates the support film and reaches the metal land intermediate land by laser drilling at a position of the skip via pilot hole filled with the resin, with a diameter smaller than the diameter of the skip via pilot hole. When,
Desmearing the skip via hole;
Filling the skip via hole with copper plating to form a skip via;
It is a manufacturing method of a rigid flexible printed wiring board, comprising a step of forming a buildup layer in a region of the rigid portion on the surface of the inner layer flexible wiring board.

また、本発明は、上記のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、
フレキシブル配線板の支持フィルムに上下面からのレーザ穴あけにより、前記支持フィルムを貫通する貫通下孔を形成する工程と、
前記貫通下孔を、銅箔付きカバーレイフィルムの接着層の樹脂で充填して内層フレキシブル配線板を製造する工程と、
前記樹脂で充填された貫通下孔の位置に、上下面からのレーザ穴あけにより、前記貫通下孔の径より小さい径で、内層フレキシブル配線板を貫通するスルーホール用孔を形成する工程と、
前記スルーホール用孔をデスミアする工程と、
前記スルーホール用孔を銅めっきで充填してスルーホールを形成する工程と、
前記内層フレキシブル配線板の表面の前記リジッド部の領域にビルドアップ層を形成する工程を有することを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法である。
Further, the present invention is a method for producing the above rigid flexible printed wiring board,
Forming a through hole that penetrates the support film by laser drilling from the upper and lower surfaces of the support film of the flexible wiring board; and
Filling the through hole with a resin of an adhesive layer of a coverlay film with a copper foil to produce an inner layer flexible wiring board;
Forming a through-hole for penetrating the inner flexible wiring board with a diameter smaller than the diameter of the through-hole by laser drilling from the upper and lower surfaces at the position of the through-hole filled with the resin;
Desmearing the through hole,
Filling the through hole with copper plating to form a through hole;
It is a manufacturing method of a rigid flexible printed wiring board, comprising a step of forming a buildup layer in a region of the rigid portion on the surface of the inner layer flexible wiring board.

本発明は、フレキシブル配線板1aの支持フィルム1にレーザ穴あけにより、金属柱中間ランド3及び4に達するスキップビア下穴3a、4aを形成して、そのスキップビア下穴3a、4aを、銅箔付きカバーレイフィルム20の接着層22の樹脂で充填して内層フレキシブル配線板30を製造する。次に、その樹脂で充填されたスキップビア下穴3a、4aの位置に、レーザ穴あけにより、スキップビア下穴3a、4aの径より小さい径で、金属柱中間ランド3及び4に達するスキップビア用穴3b、4bを形成する。   The present invention forms skip via pilot holes 3a and 4a reaching the metal pillar intermediate lands 3 and 4 by laser drilling in the support film 1 of the flexible wiring board 1a, and the skip via pilot holes 3a and 4a are formed of copper foil. The inner layer flexible wiring board 30 is manufactured by filling with the resin of the adhesive layer 22 of the attached cover lay film 20. Next, for the skip via that reaches the metal pillar intermediate lands 3 and 4 with a diameter smaller than the diameter of the skip via pilot holes 3a and 4a by laser drilling at the position of the skip via pilot holes 3a and 4a filled with the resin. Holes 3b and 4b are formed.

そうすると、そのスキップビア用穴3b、4bに露出する樹脂は接着層22の樹脂であり、支持フィルム1の樹脂は露出しないので、そのスキップビア用穴3b、4bに露出する樹脂が良好にデスミアでき、銅めっきでその穴を充填してスキップビア3c及び4cを形成する。ここで、デスミア性が劣る支持フィルム1の樹脂は接着層22の樹脂で保護されて露出しないので、安定したデスミアが行え、デスミア条件の最適化が行える。それにより、デスミアされるスキップビア3c及び4cの樹脂のデスミアによる絶縁劣化を軽減でき、樹脂部分の絶縁信頼性が優れたスキップビア3c及び4cを形成できる効果がある。   Then, since the resin exposed in the skip via holes 3b and 4b is the resin of the adhesive layer 22 and the resin of the support film 1 is not exposed, the resin exposed in the skip via holes 3b and 4b can be satisfactorily desmeared. Then, the vias are filled with copper plating to form skip vias 3c and 4c. Here, since the resin of the support film 1 which is inferior in desmear property is protected by the resin of the adhesive layer 22 and is not exposed, stable desmear can be performed and desmear conditions can be optimized. Accordingly, it is possible to reduce insulation deterioration due to desmearing of the resin of the skip vias 3c and 4c to be desmeared, and there is an effect that the skip vias 3c and 4c having excellent insulation reliability of the resin portion can be formed.

また、スキップビア用穴3b及び4bの底に露出する金属柱中間ランド3及び4の表面は、スキップビア下穴3a、4aを形成する際のレーザ穴あけと、スキップビア用穴3b、4bを形成する際のレーザー穴あけとの2度のレーザー穴あけによって表面の樹脂をレーザーで除去するので、スキップビア用穴3b及び4bの底に露出する金属柱中間ランド3及び4の表面の樹脂が良好に除去されるため、金属柱中間ランド3及び4の表面にスキップビア3c及び4cの充填めっきが強固に結合して形成され、高い接続信頼性を有するスキップビア3c及び4cが形成できる効果がある。   Further, the surface of the metal pillar intermediate lands 3 and 4 exposed at the bottoms of the skip via holes 3b and 4b is formed with laser drilling when the skip via lower holes 3a and 4a are formed, and the skip via holes 3b and 4b. Since the resin on the surface is removed by the laser drilling twice with the laser drilling at the time of drilling, the resin on the surface of the metal pillar intermediate lands 3 and 4 exposed at the bottom of the skip via holes 3b and 4b is removed well. Therefore, the filling plating of the skip vias 3c and 4c is firmly bonded to the surfaces of the metal pillar intermediate lands 3 and 4, and the skip vias 3c and 4c having high connection reliability can be formed.

(a)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の平面図である。(b)は、図1(a)の断面図である。(A) It is a top view of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (B) is sectional drawing of Fig.1 (a). 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (f)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。(g)は、図5(f)の平面図である。(F) It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (G) is a top view of FIG.5 (f). (h)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。(i)は、図6(h)の平面図である。(H) It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (I) is the top view of FIG.6 (h). 本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (n)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する平面図である。(o)は、図8(n)の断面図である。(N) It is a top view explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (O) is sectional drawing of FIG.8 (n). (p)本発明の第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する平面図である。(q)は、図9(p)の断面図である。(P) It is a top view explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 1st Embodiment of this invention. (Q) is sectional drawing of FIG.9 (p). 本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board of the 2nd Embodiment of this invention. (a)本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板の平面図である。(b)は図13(a)の断面図である。(A) It is a top view of the rigid flexible printed wiring board of the 2nd Embodiment of this invention. (B) is sectional drawing of Fig.13 (a).

<第1の実施形態>
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。図1(a)に、本発明の第1の実施形態の、リジッド部101とフレキ部102を併せ持つ10層のリジッドフレキシブルプリント配線板10の平面図を示し、図1(b)に、その側面の断面図を示す。図2〜図9は、第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10の製造方法を説明する断面図及び平面図である。
<First Embodiment>
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A shows a plan view of a 10-layer rigid flexible printed wiring board 10 having both a rigid portion 101 and a flexible portion 102 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 2-9 is sectional drawing and the top view explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board 10 of 1st Embodiment.

図1(b)に示すように、第1の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10は、ポリイミド樹脂フィルムや液晶ポリマーフィルムなどの有機樹脂の、厚さが10μm以上で100μm以下で可撓性のあるフィルム状の支持フィルム1を中心に持つ。支持フィルム1の表裏面には銅箔2aをエッチングして配線パターン2が形成されている。   As shown in FIG.1 (b), the rigid flexible printed wiring board 10 of 1st Embodiment is flexible with the thickness of 10 micrometers or more and 100 micrometers or less of organic resins, such as a polyimide resin film and a liquid crystal polymer film. It has a certain film-like support film 1 at the center. A wiring pattern 2 is formed on the front and back surfaces of the support film 1 by etching the copper foil 2a.

また、ポリイミド樹脂フィルムや液晶ポリマーフィルムから成るフレキシブル配線板1aには、図2(c)のように、上面と下面から穴あけ用レーザ光Lを照射して穴あけすることで、上側の面から下の金属柱中間ランド3に至るスキップビア下穴3aを形成し、下側の面から上の金属柱中間ランド4に至るスキップビア下穴4aを形成する。   In addition, as shown in FIG. 2 (c), the flexible wiring board 1a made of a polyimide resin film or a liquid crystal polymer film is irradiated with the laser beam L for drilling from the upper surface and the lower surface, so that the flexible wiring board 1a is lowered from the upper surface. The skip via pilot hole 3a reaching the metal pillar intermediate land 3 is formed, and the skip via pilot hole 4a extending from the lower surface to the upper metal pillar intermediate land 4 is formed.

図3(d)のように、支持フィルム1を貫くスキップビア下穴3aと4aが形成されたフレキシブル配線板1aの両面を銅箔付きカバーレイフィルム20で覆う。銅箔付きカバーレイフィルム20は、全体の厚さが20μm〜70μmのフィルムであり、片面に厚さ12μm程度の銅箔20aが張り合わされ、その銅箔20aの下層に厚さ8μm〜60μmのエポキシ系接着層を有する。そのエポキシ系接着層は、下層側の厚さ20〜40μm程度のエポキシ系接着層22と上層のポリイミドフィルムなどの絶縁樹脂フィルム21の層との2層構成で形成されていても良い。この銅箔付きカバーレイフィルム20を支持フィルム1の両面に接着することで、図3(e)のように、支持フィルム1のスキップビア下穴3aと4aがエポキシ系接着層22の樹脂で封入された内層フレキシブル配線板30を製造する。   As shown in FIG. 3D, both surfaces of the flexible wiring board 1a in which the skip via pilot holes 3a and 4a penetrating the support film 1 are formed are covered with a coverlay film 20 with a copper foil. The cover foil film 20 with a copper foil is a film having a total thickness of 20 μm to 70 μm, a copper foil 20 a having a thickness of about 12 μm is laminated on one side, and an epoxy having a thickness of 8 μm to 60 μm is laminated on the lower layer of the copper foil 20 a. It has a system adhesive layer. The epoxy adhesive layer may be formed in a two-layer configuration of an epoxy adhesive layer 22 having a thickness of about 20 to 40 μm on the lower layer side and an insulating resin film 21 layer such as an upper polyimide film. By bonding this cover lay film 20 with copper foil to both surfaces of the support film 1, the skip via prepared holes 3a and 4a of the support film 1 are encapsulated with resin of the epoxy adhesive layer 22 as shown in FIG. The inner flexible wiring board 30 thus manufactured is manufactured.

次に、図4(f)のように、内層フレキシブル配線板30の上面と下面から穴あけ用レーザ光Lを照射して穴あけすることで、樹脂で封入されたスキップビア下穴3a及び4aの中に、そのスキップビア下穴3a、4aの穴径より小さい穴径で、金属柱中間ランド3及び4に達するスキップビア用穴3b及び4bを形成する。また、内層フレキシブル配線板30の下面と上面から、穴あけ用レーザ光Lを照射して、スキップビア用穴3bと4bが形成された金属柱中間ランド3と4のスキップビア用穴3bと4bと反対側の面に、金属柱中間ランド3と4に達する金属柱バイアホール用穴23aを形成する。更に、内層フレキシブル配線板30の上面と下面から、穴あけ用レーザ光Lを照射して、外層近くのランド2bに達するブラインドバイアホール用の穴24aを形成する。   Next, as shown in FIG. 4 (f), by drilling by irradiating a laser beam L for drilling from the upper surface and the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30, the inside of the skip via pilot holes 3a and 4a sealed with resin. In addition, the skip via holes 3b and 4b reaching the metal pillar intermediate lands 3 and 4 are formed with a hole diameter smaller than that of the skip via pilot holes 3a and 4a. Further, the laser beam L for drilling is irradiated from the lower surface and the upper surface of the inner-layer flexible wiring board 30, and the skip via holes 3b and 4b of the metal pillar intermediate lands 3 and 4 in which the skip via holes 3b and 4b are formed. Metal pillar via hole 23a reaching metal pillar intermediate lands 3 and 4 is formed on the opposite surface. Further, a laser beam L for drilling is irradiated from the upper surface and the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30 to form a blind via hole hole 24a reaching the land 2b near the outer layer.

穴あけ用レーザ光Lによりスキップビア用穴3b、4bと金属柱バイアホール用穴23aとブラインドバイアホール用の穴24aを形成した場合は、それらの穴の底の金属面に薄い樹脂膜が残る場合がある。それらの穴底の残渣を除去するためと、穴の壁面を粗化して金属めっきと壁面との密着力を強くするためにデスミア処理を行う。このデスミア処理は、強アルカリにより樹脂を膨潤させ、その後、クロム酸、過マンガン酸塩水溶液などの酸化剤を使用して樹脂を分解除去する。   When the skip via holes 3b and 4b, the metal pillar via hole 23a, and the blind via hole 24a are formed by the laser beam L for drilling, a thin resin film remains on the metal surface at the bottom of those holes There is. A desmear process is performed in order to remove the residue at the bottoms of the holes and to roughen the wall surfaces of the holes to increase the adhesion between the metal plating and the wall surfaces. In the desmear treatment, the resin is swollen with a strong alkali, and then the resin is decomposed and removed using an oxidizing agent such as chromic acid or a permanganate aqueous solution.

次に、図4(g)のように、その内層フレキシブル配線板30の全面に無電解銅めっきに続いて電解銅めっき処理を行う。それにより、スキップビア用穴3b、4bと、金属柱バイアホール用穴23aとブラインドバイアホール用の穴24aに銅めっきの層で埋め込んで、2階高バイアホール(スキップビア)3c、4cと、ブラインドバイアホール23及び24を形成する。これにより、内層フレキシブル配線板30の上面から下面まで、スキップビア3c、金属柱中間ランド3、ブラインドバイアホール23を接続した第1の金属めっき柱を形成し、内層フレキシブル配線板30の下面から上面まで、スキップビア4c、金属柱中間ランド4、ブラインドバイアホール23を接続した第2の金属めっき柱を形成する。   Next, as shown in FIG. 4G, the entire surface of the inner layer flexible wiring board 30 is subjected to electrolytic copper plating subsequent to electroless copper plating. Accordingly, the via holes 3b and 4b for the skip vias, the metal pillar via hole 23a and the blind via hole 24a are filled with a copper plating layer, and the second floor high via holes (skip vias) 3c and 4c are formed. Blind via holes 23 and 24 are formed. As a result, the first metal plating column connecting the skip via 3c, the metal column intermediate land 3, and the blind via hole 23 is formed from the upper surface to the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30. The second metal plating column connecting the skip via 4c, the metal column intermediate land 4, and the blind via hole 23 is formed.

そして、図5(h)のように、内層フレキシブル配線板30の表面の金属めっき層をエッチングして表面に金属めっきパターンを形成した後に、図1(b)のように、その内層フレキシブル配線板30の一部の、第1の金属めっき柱又は第2の金属めっき柱を含む領域のリジッド部101の表側の面及び裏側の面にビルドアップ層40d、50d、60dを積層し、リジッド部101以外の内層フレキシブル配線板30の部分をフレキ部102として露出させたリジッドフレキシブルプリント配線板10を製造する。   And after etching the metal plating layer of the surface of the inner-layer flexible wiring board 30 as shown in FIG.5 (h) and forming a metal plating pattern on the surface, the inner-layer flexible wiring board is shown in FIG.1 (b). The build-up layers 40d, 50d, and 60d are laminated on the front side surface and the back side surface of the rigid portion 101 in the region including the first metal plating column or the second metal plating column in a part of the rigid portion 101. The rigid flexible printed wiring board 10 in which the other portion of the inner layer flexible wiring board 30 is exposed as the flexible portion 102 is manufactured.

このリジッドフレキシブルプリント配線板10は、図1(b)のように、内層フレキシブル配線板30に形成したスキップビア3cを含む第1の金属めっき柱と、スキップビア4cを含む第2の金属めっき柱の上層及び下層に銅めっきが充填されたブラインドバイアホール41、51、61接続されて強固な多層金属めっき柱が形成されている。   As shown in FIG. 1B, the rigid flexible printed wiring board 10 includes a first metal plating column including a skip via 3c and a second metal plating column including a skip via 4c formed in the inner flexible wiring board 30. Blind via holes 41, 51, 61 filled with copper plating in the upper layer and the lower layer are connected to form a strong multilayer metal plating column.

その多層金属めっき柱はリジッド部101に食い込んで強固に保持されるとともに、スキップビア3cの上下に形成された金属柱用ランド3dと金属柱中間ランド3とが、内層フレキシブル配線板30の上層のカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層とを上下から挟んで保持する。また、スキップビア4cの上下に形成された金属柱中間ランド4と金属柱用ランド4dとが、内層フレキシブル配線板30の上層の支持フィルム1の層とカバーレイフィルム20の層とを上下から挟んで保持する。それにより、カバーレイフィルム20が支持フィルム1の樹脂層に強固に結合され、カバーレイフィルム20と支持フィルム1との接合の信頼性を向上させる効果がある。   The multi-layer metal plating pillar bites into the rigid portion 101 and is firmly held, and the metal pillar lands 3d and the metal pillar intermediate lands 3 formed above and below the skip via 3c are formed on the upper layer of the inner flexible wiring board 30. The cover lay film 20 layer and the support film 1 layer are sandwiched and held from above and below. Further, the metal pillar intermediate lands 4 and the metal pillar lands 4d formed above and below the skip via 4c sandwich the upper layer of the support film 1 and the layer of the coverlay film 20 from the upper and lower sides of the inner flexible wiring board 30, respectively. Hold on. Thereby, the cover lay film 20 is firmly bonded to the resin layer of the support film 1, and there is an effect of improving the reliability of joining between the cover lay film 20 and the support film 1.

(製造方法)
以下で、図2から図9を参照して、本発明の実施形態の、10層のリジッドフレキシブルプリント配線板10の製造方法を説明する。
(内層フレキシブル配線板の製造方法)
先ず、リジッドフレキシブルプリント配線板10を構成する内層フレキシブル配線板30の製造方法を説明する。
(Production method)
Below, with reference to FIGS. 2-9, the manufacturing method of the 10-layer rigid flexible printed wiring board 10 of embodiment of this invention is demonstrated.
(Inner layer flexible wiring board manufacturing method)
First, the manufacturing method of the inner layer flexible wiring board 30 which comprises the rigid flexible printed wiring board 10 is demonstrated.

(工程1)
図2(a)のように、フレキ部102を形成する素材として、ポリイミド樹脂フィルム又は液晶ポリマーフィルムを支持フィルム1とし、両面に厚さが12μmから35μmの銅箔2aを有するフレキシブル配線板1aを準備する。そのフレキシブル配線板1aの支持フィルム1は可撓性のあるポリイミド樹脂フィルム又は液晶ポリマーフィルムである。
ここで用いるフレキシブル配線板1aは、それを構成する銅箔2aと支持フィルム1の間には、屈曲性・折り曲げ性を高めるために、接着剤層は存在しない方が好ましいが、その間に接着剤層が存在するフレキシブル配線板1aを用いることも可能である。
(Process 1)
As shown in FIG. 2A, a flexible wiring board 1a having a polyimide resin film or a liquid crystal polymer film as a support film 1 and a copper foil 2a having a thickness of 12 μm to 35 μm on both sides is used as a material for forming the flexible portion 102. prepare. The support film 1 of the flexible wiring board 1a is a flexible polyimide resin film or liquid crystal polymer film.
The flexible wiring board 1a used here preferably has no adhesive layer between the copper foil 2a constituting the flexible wiring board 1a and the support film 1 in order to improve bendability and bendability. It is also possible to use the flexible wiring board 1a having a layer.

(工程2)
次に、図2(b)のように、フレキシブル配線板1aの銅箔2aをエッチングすることで、フレキシブル配線板1aの両面に配線パターン2を形成し、下面に金属柱中間ランド3を形成し、上面に金属柱中間ランド4を形成し、また、後に形成するブラインドバイアホール24の位置にランド2bを形成する。
(Process 2)
Next, as shown in FIG. 2B, by etching the copper foil 2a of the flexible wiring board 1a, the wiring pattern 2 is formed on both surfaces of the flexible wiring board 1a, and the metal pillar intermediate land 3 is formed on the lower surface. The metal pillar intermediate land 4 is formed on the upper surface, and the land 2b is formed at the position of the blind via hole 24 to be formed later.

(工程3)
図2(c)のように、ポリイミド樹脂フィルム又は液晶ポリマーフィルムから成るフレキシブル配線板1aの上側の面から、炭酸ガスレーザやYAGレーザなどのレーザ穴あけ装置を用いて、穴あけ用のレーザ光Lを照射することで、フレキシブル配線板1aの下面の厚さが12μmから35μmの金属柱中間ランド3に至る、直径が約80〜200μm程度のスキップビア下穴3aを形成する。同様にして、フレキシブル配線板1aの下側の面から上面の金属柱中間ランド4に至るスキップビア下穴4aを形成する。
(Process 3)
As shown in FIG. 2C, the laser beam L for drilling is irradiated from the upper surface of the flexible wiring board 1a made of a polyimide resin film or a liquid crystal polymer film using a laser drilling device such as a carbon dioxide laser or a YAG laser. As a result, a skip via pilot hole 3a having a diameter of about 80 to 200 μm, which reaches the metal pillar intermediate land 3 having a thickness of the lower surface of the flexible wiring board 1a of 12 μm to 35 μm, is formed. Similarly, a skip via prepared hole 4a is formed from the lower surface of the flexible wiring board 1a to the metal pillar intermediate land 4 on the upper surface.

(変形例1)
変形例1として、上記の工程2から工程3までの工程を、以下の工程2Aから工程3で行うこともできる。
(Modification 1)
As a first modification, the steps from step 2 to step 3 described above can be performed in the following steps 2A to 3.

(工程2A)
先ず、図2(a)の、フレキシブル配線板1aの両面の銅箔2aをエッチングして、スキップビア下穴3aの位置の上層の銅箔2aの部分に、スキップビア下穴3a形成用の窓をあけ、スキップビア下穴4aの位置の下層の銅箔2aの部分に、スキップビア下穴4a形成用の窓をあけて、下地の支持フィルム1を露出させる。
(Process 2A)
First, the copper foil 2a on both sides of the flexible wiring board 1a in FIG. 2A is etched, and a window for forming the skip via under hole 3a is formed in the upper layer of the copper foil 2a at the position of the skip via under hole 3a. And a window for forming the skip via lower hole 4a is opened in the lower copper foil 2a portion at the position of the skip via lower hole 4a to expose the underlying support film 1.

(工程2B)
次に、レーザ穴あけ装置を用いて、フレキシブル配線板1aの表裏に露出した下地の絶縁樹脂フィルム21の面に穴あけ加工用レーザ光Lを照射することで、上側から金属柱中間ランド3に至るスキップビア下穴3aを形成し、下側から金属柱中間ランド4に至るスキップビア下穴4aを形成する。スキップビア下穴3aと4aとしては、直径が80〜200μm程度の穴をあける。
(Process 2B)
Next, by using a laser drilling device, the surface of the underlying insulating resin film 21 exposed on the front and back of the flexible wiring board 1a is irradiated with a laser beam L for drilling, so that the skip from the upper side to the metal pillar intermediate land 3 is skipped. A via via hole 3a is formed, and a skip via pilot hole 4a extending from the lower side to the metal pillar intermediate land 4 is formed. As the skip via pilot holes 3a and 4a, holes having a diameter of about 80 to 200 μm are formed.

(工程3)
次に、フレキシブル配線板1aのスキップビア下穴3aと4a形成用の窓以外の銅箔2aの部分をエッチングすることで、フレキシブル配線板1aの両面に配線パターン2を形成し、下面に金属柱中間ランド3を形成し、上面に金属柱中間ランド4を形成し、また、後に形成するブラインドバイアホール24の位置にランド2bを形成する。これにより、図2(c)のフレキシブル配線板1aが得られる。
(Process 3)
Next, the wiring pattern 2 is formed on both surfaces of the flexible wiring board 1a by etching portions of the copper foil 2a other than the windows for forming the skip via pilot holes 3a and 4a of the flexible wiring board 1a, and the metal pillars are formed on the lower surface. The intermediate land 3 is formed, the metal pillar intermediate land 4 is formed on the upper surface, and the land 2b is formed at the position of the blind via hole 24 to be formed later. Thereby, the flexible wiring board 1a of FIG.2 (c) is obtained.

(工程4)
次に、図3(d)のように、支持フィルム1を貫くスキップビア下穴3aと4aが形成されたフレキシブル配線板1aの両面に、外層側の銅箔20aと、ポリイミドフィルムなどの絶縁樹脂フィルム21と、内層側の熱硬化性のエポキシ系接着層22とから成る銅箔付きカバーレイフィルム20を積層する。
(Process 4)
Next, as shown in FIG. 3 (d), the copper foil 20a on the outer layer side and an insulating resin such as a polyimide film are formed on both surfaces of the flexible wiring board 1a in which the skip via pilot holes 3a and 4a penetrating the support film 1 are formed. A coverlay film 20 with a copper foil comprising a film 21 and a thermosetting epoxy adhesive layer 22 on the inner layer side is laminated.

銅箔付きカバーレイフィルム20は、全体の厚さが20μm〜70μmのフィルムであり、片面に厚さ12μm程度の銅箔20aが張り合わされ、その銅箔20aの下層にポリ
イミドフィルムなどの絶縁樹脂フィルム21と、その下層に厚さ20μm〜40μm程度のエポキシ系接着層を有する。
The cover foil film 20 with a copper foil is a film having a total thickness of 20 μm to 70 μm, a copper foil 20 a having a thickness of about 12 μm is laminated on one side, and an insulating resin film such as a polyimide film is laminated on the lower layer of the copper foil 20 a. 21 and an epoxy adhesive layer having a thickness of about 20 μm to 40 μm in the lower layer.

この銅箔付きカバーレイフィルム20を支持フィルム1の両面に接着することで、図3(e)のように、支持フィルム1のスキップビア下穴3aと4aを銅箔付きカバーレイフィルム20の絶縁樹脂フィルム21のエポキシ系接着層22の樹脂で封入した内層フレキシブル配線板30を製造する。   By bonding the coverlay film 20 with copper foil to both surfaces of the support film 1, the skip via prepared holes 3a and 4a of the support film 1 are insulated from the coverlay film 20 with copper foil as shown in FIG. The inner flexible wiring board 30 encapsulated with the resin of the epoxy adhesive layer 22 of the resin film 21 is manufactured.

(工程5)
次に、その内層フレキシブル配線板30の銅箔付きカバーレイフィルム20の銅箔20aを、内層の金属柱中間ランド3と4の表側と裏側の部分と、ランド2bの外層側の部分をエッチングして除去して、下地の絶縁樹脂フィルム21を露出させる。
(Process 5)
Next, the copper foil 20a of the coverlay film 20 with the copper foil of the inner layer flexible wiring board 30 is etched on the front and back portions of the inner metal pillar intermediate lands 3 and 4 and the outer layer portion of the land 2b. The underlying insulating resin film 21 is exposed.

(工程6)
そして、図4(f)のように、炭酸ガスレーザやYAGレーザなどのレーザ穴あけ装置を用いて、基板の表裏に露出した下地の絶縁樹脂フィルム21の面に穴あけ加工用レーザ光Lを照射することで、樹脂で封入されたスキップビア下穴3a及び4aの中に、そのスキップビア下穴3a、4aの穴径より小さい、直径が50μmから100μmの穴で、金属柱中間ランド3及び4に達するスキップビア用穴3b及び4bを形成する。
(Step 6)
Then, as shown in FIG. 4F, the surface of the underlying insulating resin film 21 exposed on the front and back surfaces of the substrate is irradiated with a laser beam L for drilling using a laser drilling device such as a carbon dioxide laser or a YAG laser. In the skip via pilot holes 3a and 4a encapsulated with resin, the metal pillar intermediate lands 3 and 4 reach the metal pillar intermediate lands 3 and 4 with holes having diameters of 50 μm to 100 μm which are smaller than the diameters of the skip via pilot holes 3a and 4a. Skip via holes 3b and 4b are formed.

また、スキップビア用穴3bが上側に形成された金属柱中間ランド3の下側に、内層フレキシブル配線板30の下面から、穴あけ用レーザ光Lを照射して、下面から金属柱中間ランド3に達する金属柱バイアホール用穴23aを形成する。スキップビア用穴4bが下側に形成された金属柱中間ランド4の上側に、内層フレキシブル配線板30の上面から、穴あけ用レーザ光Lを照射して、上面から金属柱中間ランド4に達する金属柱バイアホール用穴23aを形成する。更に、内層フレキシブル配線板30の上面と下面から、穴あけ用レーザ光Lを照射して、外層近くのランド2bに達するブラインドバイアホール用の穴24aを形成する。   Further, a laser beam L for drilling is irradiated from the lower surface of the inner flexible wiring board 30 to the lower side of the metal pillar intermediate land 3 formed with the skip via hole 3b on the upper side, and the metal pillar intermediate land 3 is irradiated from the lower surface. Reaching metal pillar via hole 23a is formed. Metal that reaches the metal column intermediate land 4 from the upper surface by irradiating the upper side of the metal column intermediate land 4 with the skip via hole 4b on the upper surface of the inner flexible wiring board 30 from the upper surface of the inner flexible wiring board 30 A pillar via hole hole 23a is formed. Further, a laser beam L for drilling is irradiated from the upper surface and the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30 to form a blind via hole hole 24a reaching the land 2b near the outer layer.

(工程7)
次に、その基板を、強アルカリに浸漬して、スキップビア用穴3b、4bと金属柱バイアホール用穴23aとブラインドバイアホール用の穴24aの底に残留している樹脂を膨潤させ、その後、クロム酸、過マンガン酸塩水溶液などの酸化剤を使用して樹脂を分解除去するデスミア処理を行う。
(Step 7)
Next, the substrate is immersed in strong alkali to swell the resin remaining at the bottoms of the skip via holes 3b, 4b, the metal pillar via hole 23a, and the blind via hole 24a, Then, desmear treatment is performed to decompose and remove the resin using an oxidizing agent such as chromic acid or an aqueous permanganate solution.

このデスミア処理では、スキップビア用穴3b及び4bの穴の底の金属面に残る薄い樹脂膜は、スキップビア下穴3a及び4aに封入された樹脂であり、支持フィルム1のポリイミド樹脂フィルムや液晶ポリマーフィルム等のデスミア性が劣る樹脂はスキップビア用穴3b及び4bの穴の底の金属面に残っていないので、スキップビア用穴3b及び4bの穴の底の樹脂残渣と穴の壁面の樹脂とを良好にデスミアできる。   In this desmear process, the thin resin film remaining on the bottom metal surface of the skip via holes 3b and 4b is a resin sealed in the skip via lower holes 3a and 4a. Resin with poor desmear properties such as polymer film does not remain on the metal surface at the bottom of the holes of the skip via holes 3b and 4b, so the resin residue at the bottom of the holes of the skip via holes 3b and 4b and the resin on the wall surface of the hole And can be desmeared well.

それにより、その穴に形成するスキップビア3c及び4cのめっき金属の穴底の金属層との接続信頼性を高くできる効果がある。また、そのめっき金属の樹脂との密着力も強いので、スキップビア3c及び4cと、スキップビア下穴3a及び4aに封入されていた樹脂とスキップビア3c及び4cのめっき金属との界面が剥離することが無く、スキップビア3c及び4cの近傍の樹脂の絶縁信頼性を高くできる効果がある。   Thereby, there is an effect that it is possible to increase the connection reliability of the skip vias 3c and 4c formed in the holes with the metal layer at the bottom of the plated metal. Further, since the adhesion of the plating metal to the resin is strong, the interface between the skip vias 3c and 4c and the resin sealed in the skip via prepared holes 3a and 4a and the plating metal of the skip vias 3c and 4c is peeled off. The insulation reliability of the resin in the vicinity of the skip vias 3c and 4c can be increased.

(工程8)
次に、無電解銅めっき液に基板を浸漬することで、そのスキップビア用穴3bと4b、金属柱バイアホール用穴23a、及び、ブラインドバイアホール用の穴24aの壁面に無
電解銅めっき皮膜を形成する。
(Process 8)
Next, by immersing the substrate in an electroless copper plating solution, the electroless copper plating film is formed on the wall surfaces of the skip via holes 3b and 4b, the metal pillar via hole 23a, and the blind via hole 24a. Form.

(工程9)
次に、その基板の下地の銅箔20aに電解銅めっき装置の陰極を接続して、基板を、平滑剤を添加した電解銅めっき浴に浸漬し、めっき浴をよく攪拌して、内層フレキシブル配線板30の両面における銅めっき浴の流動速度を速くして、基板の全面に電解銅めっきするパネルめっき処理を行う。
(Step 9)
Next, the cathode of the electrolytic copper plating apparatus is connected to the underlying copper foil 20a of the substrate, the substrate is immersed in an electrolytic copper plating bath to which a smoothing agent is added, the plating bath is thoroughly stirred, and the inner layer flexible wiring A panel plating process for electrolytically plating the entire surface of the substrate is performed by increasing the flow rate of the copper plating bath on both surfaces of the plate 30.

それにより、平滑剤は、内層フレキシブル配線板30の両面への銅めっき層の成長を抑制する一方、スキップビア用穴3bと4b、金属柱バイアホール用穴23a、及び、ブラインドバイアホール用の穴24aを埋める電解銅めっきの層の成長が抑制されない。そのため、スキップビア用穴3bと4b、金属柱バイアホール用穴23a、及び、ブラインドバイアホール用の穴24aを電解銅めっきで充填したスキップビア3cと4c、及び、ブラインドバイアホー23と24が形成される一方、内層フレキシブル配線板30の両面に形成される銅めっき層の厚さを、スキップビア3cと4cの半径よりも薄く形成することができる。   Thereby, the smoothing agent suppresses the growth of the copper plating layer on both surfaces of the inner layer flexible wiring board 30, while skip via holes 3b and 4b, metal pillar via hole 23a, and blind via hole. Growth of the electrolytic copper plating layer filling 24a is not suppressed. Therefore, skip via holes 3b and 4b, metal pillar via hole 23a, and blind via hole 24a filled with electrolytic copper plating are formed as skip vias 3c and 4c and blind via holes 23 and 24. On the other hand, the thickness of the copper plating layer formed on both surfaces of the inner layer flexible wiring board 30 can be made thinner than the radius of the skip vias 3c and 4c.

こうして、図4(g)のように、そのスキップビア用穴3b、4bと、金属柱バイアホール用穴23aに電解銅めっきの層を埋め込んで、スキップビア3c、4cと、ブラインドバイアホール23を形成することで、内層フレキシブル配線板30の上面から下面まで、スキップビア3c、金属柱中間ランド3、ブラインドバイアホール23を接続した第1の金属めっき柱を形成する。同様に、内層フレキシブル配線板30の下面から上面まで、スキップビア4c、金属柱中間ランド4、ブラインドバイアホール23を接続した第2の金属めっき柱を形成する。また、ブラインドバイアホール用の穴24aを銅めっきで充填してブラインドバイアホール24を形成する。   Thus, as shown in FIG. 4G, the skip via holes 3b and 4b and the metal pillar via hole 23a are filled with an electrolytic copper plating layer, and the skip vias 3c and 4c and the blind via hole 23 are formed. By forming the first metal plating column, the skip via 3c, the metal column intermediate land 3, and the blind via hole 23 are connected from the upper surface to the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30. Similarly, a second metal plating column connecting the skip via 4c, the metal column intermediate land 4, and the blind via hole 23 is formed from the lower surface to the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30. Further, the blind via hole 24 is formed by filling the hole 24a for the blind via hole with copper plating.

(工程10)
次に、エッチングレジストパターンで基板の表面の銅めっき層を保護してエッチングして銅の金属導体パターンを形成した後にエッチングレジストを剥離して図5(h)の断面図と図5(i)の平面図で示すような、表面に銅の金属導体パターンを形成した基板を製造する。
(Process 10)
Next, the copper plating layer on the surface of the substrate is protected and etched with the etching resist pattern to form a copper metal conductor pattern, and then the etching resist is peeled off, and the cross-sectional view of FIG. A substrate having a copper metal conductor pattern formed on the surface as shown in the plan view of FIG.

すなわち、図5(h)の断面図と図5(i)の平面図のように、
(1)リジッド部101に、内層フレキシブル配線板30の上面から下面まで、金属柱用ランド3d、スキップビア3c、金属柱中間ランド3、ブラインドバイアホール23、ランド23bを接続した第1の金属めっき柱を形成する。
(2)更に、リジッド部101に、内層フレキシブル配線板30の下面から上面まで、金属柱用ランド4d、スキップビア4c、金属柱中間ランド4、ブラインドバイアホール23、ランド23cを接続した第2の金属めっき柱を形成する。
(3)また、リジッド部101の絶縁樹脂フィルム21の表面に、ブラインドバイアホール24に接続するランド24bを形成する。
That is, as shown in the sectional view of FIG. 5H and the plan view of FIG.
(1) First metal plating in which the metal column land 3d, the skip via 3c, the metal column intermediate land 3, the blind via hole 23, and the land 23b are connected to the rigid portion 101 from the upper surface to the lower surface of the inner layer flexible wiring board 30. Form a pillar.
(2) Further, a second metal column land 4d, a skip via 4c, a metal column intermediate land 4, a blind via hole 23, and a land 23c are connected to the rigid portion 101 from the lower surface to the upper surface of the inner layer flexible wiring board 30. A metal plating column is formed.
(3) Further, a land 24 b connected to the blind via hole 24 is formed on the surface of the insulating resin film 21 of the rigid portion 101.

(4)そして、リジッド部101とフレキ部102を合わせた全領域中の所定位置に、位置合せマーク26のパターンとその他の配線パターンを形成し、また、リジッド部101とフレキ部102の境界部分に重なる枠状の補強用金属パターン25を形成する。   (4) Then, the pattern of the alignment mark 26 and other wiring patterns are formed at predetermined positions in the entire region where the rigid portion 101 and the flexible portion 102 are combined, and the boundary portion between the rigid portion 101 and the flexible portion 102 is formed. A frame-shaped reinforcing metal pattern 25 is formed so as to overlap.

ここで、カバーレイの絶縁樹脂フィルム21上に形成する位置合せマーク26の位置は、図5(i)のようなリジッド部101内に限定されず、フレキ部102内に位置合せマーク26を形成することもできる。   Here, the position of the alignment mark 26 formed on the insulating resin film 21 of the cover lay is not limited to the rigid portion 101 as shown in FIG. 5 (i), and the alignment mark 26 is formed in the flexible portion 102. You can also

フレキ部102内に位置合せマーク26を形成すると、完成したリジッドフレキシブルプリント配線板10では、位置合せマーク26がフレキ部102に露出して、その位置の観察が容易になるので、位置合せマーク26に位置を合わせて形成されたリジッドフレキシブルプリント配線板10各部との位置ずれの測定が容易になる効果がある。例えば、枠状の補強用金属パターン25上にレーザ加工溝27によって垂直に形成されたビルドアップ層40d、50d、60dの端部の側面の位置と位置合せマーク26との相対位置のずれ量の測定が容易になる効果がある。   When the alignment mark 26 is formed in the flexible portion 102, the alignment mark 26 is exposed to the flexible portion 102 in the completed rigid flexible printed wiring board 10, and the observation of the position becomes easy. Thus, there is an effect that it becomes easy to measure a positional deviation with respect to each part of the rigid flexible printed wiring board 10 formed in accordance with the position. For example, the amount of relative displacement between the position of the side surface of the end of the build-up layers 40d, 50d, and 60d formed perpendicularly by the laser processing groove 27 on the frame-shaped reinforcing metal pattern 25 and the alignment mark 26 This has the effect of facilitating measurement.

スキップビア3cの上下に形成された金属柱用ランド3dと金属柱中間ランド3とが、内層フレキシブル配線板30の上層のカバーレイフィルム20の層と支持フィルム1の層とを上下から挟んで保持する。また、スキップビア4cの上下に形成された金属柱中間ランド4と金属柱用ランド4dとが、内層フレキシブル配線板30の上層の支持フィルム1の層とカバーレイフィルム20の層とを上下から挟んで保持する。それにより、カバーレイフィルム20が支持フィルム1の樹脂層に強固に結合され、カバーレイフィルム20と支持フィルム1との接合の信頼性を向上させる効果がある。   The metal pillar lands 3d and the metal pillar intermediate lands 3 formed above and below the skip via 3c hold the upper coverlay film 20 layer and the support film 1 layer sandwiched from above and below the inner flexible wiring board 30. To do. Further, the metal pillar intermediate lands 4 and the metal pillar lands 4d formed above and below the skip via 4c sandwich the upper layer of the support film 1 and the layer of the coverlay film 20 from the upper and lower sides of the inner flexible wiring board 30, respectively. Hold on. Thereby, the cover lay film 20 is firmly bonded to the resin layer of the support film 1, and there is an effect of improving the reliability of joining between the cover lay film 20 and the support film 1.

また、ブラインドバイアホール24に内層側で接続するランド2b、ブラインドバイアホール23に内層側で接続する金属柱中間ランド3又は4と、ブラインドバイアホール23と24に外層側で連結するランド23bと24bとが、上下から、その間の絶縁樹脂フィルム21とエポキシ系接着層22を挟み込んで保持し、絶縁樹脂フィルム21とエポキシ系接着層22とを直接に強固に保持することができる効果がある。   Further, a land 2b connected to the blind via hole 24 on the inner layer side, a metal pillar intermediate land 3 or 4 connected to the blind via hole 23 on the inner layer side, and lands 23b and 24b connected to the blind via holes 23 and 24 on the outer layer side. However, there is an effect that the insulating resin film 21 and the epoxy adhesive layer 22 are sandwiched and held from above and below, and the insulating resin film 21 and the epoxy adhesive layer 22 can be directly and firmly held.

特に、カバーレイの絶縁樹脂フィルム21に接する層の銅箔20aから金属柱用ランド3d、4d、ランド23b、24bを形成したので、ランド23b、24bの層とその内層の金属柱中間ランド3又は4又はランド2bの層との上下の間隔を小さくすることができる。それにより、それらの層のランドの間に挟み込む絶縁樹脂フィルム21とエポキシ系接着層22とを上下のランドで挟み込んで強く保持することができる効果がある。   In particular, since the metal pillar lands 3d, 4d and lands 23b, 24b are formed from the copper foil 20a of the layer in contact with the insulating resin film 21 of the coverlay, the layers of the lands 23b, 24b and the inner metal pillar intermediate land 3 or 4 or the space between the land 2b and the upper and lower layers can be reduced. Accordingly, there is an effect that the insulating resin film 21 and the epoxy adhesive layer 22 sandwiched between the lands of those layers can be sandwiched between the upper and lower lands and strongly held.

また、図5(h)の左右の個々のリジッド部101内に第1の金属めっき柱と第2の金属めっき柱とを混在させることが望ましい。そのように、第1の金属めっき柱と第2の金属めっき柱を1つのリジッド部内に混在させると、リジッド部に加わる機械的ストレスが上下のブラインドバイアホール23をつなぐ金属柱中間ランド3又は4に集中する際に、そのストレスが、支持フィルム1の下面に形成された金属柱中間ランド3と、上面の金属柱中間ランド4とに、支持フィルム1の下面と上面とに分散される。それにより、リジッド部に加わる機械的ストレスが支持フィルム1の下面側と上面側に分散され、リジッド部を機械的ストレスに対して強くできる効果があり、リジッドフレキシブルプリント配線板10の信頼性を高くできる効果がある。   In addition, it is desirable to mix the first metal plating column and the second metal plating column in the left and right rigid portions 101 in FIG. As described above, when the first metal plating column and the second metal plating column are mixed in one rigid part, the mechanical stress applied to the rigid part is the metal column intermediate land 3 or 4 connecting the upper and lower blind via holes 23. When concentrated on the metal film, the stress is distributed to the lower surface and the upper surface of the support film 1 in the metal column intermediate land 3 formed on the lower surface of the support film 1 and the metal column intermediate land 4 on the upper surface. Thereby, the mechanical stress applied to the rigid portion is dispersed on the lower surface side and the upper surface side of the support film 1, and the rigid portion can be strengthened against the mechanical stress, and the reliability of the rigid flexible printed wiring board 10 is increased. There is an effect that can be done.

(工程11)
次に、図6(j)の側面図と図6(k)の平面図のように、枠状の補強用金属パターン25で囲まれる内層フレキシブル配線板30の絶縁樹脂フィルム21の表面を矩形の薄剥離フィルム31で覆い、矩形の薄剥離フィルム31の端部は、枠状の補強用金属パターン25に接着する。
(Step 11)
Next, as shown in the side view of FIG. 6 (j) and the plan view of FIG. 6 (k), the surface of the insulating resin film 21 of the inner layer flexible wiring board 30 surrounded by the frame-shaped reinforcing metal pattern 25 is rectangular. The thin peeling film 31 is covered, and the end of the rectangular thin peeling film 31 is adhered to the frame-shaped reinforcing metal pattern 25.

(工程12 ビルドアップ層の形成)
次に、図7(l)のように、この内層フレキシブル配線板30の上下にビルドアップ層40d、50d、60dを順次に積層し、第1の金属めっき柱及び第2の金属めっき柱の上側と下側に、ブラインドバイアホール41、51、61の柱状の金属めっきを連結することで、強固な多層金属めっき柱を形成したリジッドフレキシブルプリント配線板10を製造する。
(工程13)
次に、図7(m)のように、リジッド部101にソルダーレジスト70を印刷する。
(Process 12 Build-up layer formation)
Next, as shown in FIG. 7 (l), build-up layers 40d, 50d, and 60d are sequentially stacked on the upper and lower sides of the inner layer flexible wiring board 30, and the upper side of the first metal plating column and the second metal plating column. By connecting the columnar metal plating of the blind via holes 41, 51, 61 to the lower side, the rigid flexible printed wiring board 10 in which a strong multilayer metal plating column is formed is manufactured.
(Step 13)
Next, as illustrated in FIG. 7M, the solder resist 70 is printed on the rigid portion 101.

(工程14)
次に、図8(n)の平面図と図8(o)の断面図のように、炭酸ガスレーザやYAGレーザなどの加工用レーザ光Lを、表層のビルドアップ層60dから、薄剥離フィルム31の層を貫いて枠状の補強用金属パターン25に達するまで照射することで、フレキ部102とリジッド部101との境界部分に重なる枠状の補強用金属パターン25の上にレーザ加工溝27を形成する。
(Step 14)
Next, as shown in the plan view of FIG. 8 (n) and the cross-sectional view of FIG. 8 (o), a processing laser beam L such as a carbon dioxide laser or a YAG laser is applied from the surface buildup layer 60d to the thin release film 31. The laser processing groove 27 is formed on the frame-shaped reinforcing metal pattern 25 that overlaps the boundary portion between the flexible portion 102 and the rigid portion 101 by irradiating through the layers until reaching the frame-shaped reinforcing metal pattern 25. Form.

この工程において、加工用レーザ光Lは、位置合せマーク26を基準にして、薄剥離フィルム31の枠状の補強用金属パターン25との接着部分に、プラスマイナス20μmの精度で正確に位置を合わせて照射することで、レーザ加工溝27を正確な位置に形成する。枠状の補強用金属パターン25は、加工用レーザ光Lを反射させて、その高さで穴の形成を停止させるストッパ層となる。   In this process, the processing laser beam L is accurately aligned with an accuracy of plus or minus 20 μm on the bonding portion of the thin release film 31 with the frame-shaped reinforcing metal pattern 25 with reference to the alignment mark 26. As a result, the laser processing groove 27 is formed at an accurate position. The frame-shaped reinforcing metal pattern 25 is a stopper layer that reflects the processing laser light L and stops the formation of holes at the height thereof.

レーザ加工溝27により、薄剥離フィルム31と枠状の補強用金属パターン25の接着部分を正確に除去でき、薄剥離フィルム31を内層フレキシブル配線板30から切り離すことができる。レーザ加工溝27で囲まれる領域の内側がフレキ部102になり、外側の領域がリジッド部101になる。   The laser-processed groove 27 can accurately remove the adhesion portion between the thin release film 31 and the frame-shaped reinforcing metal pattern 25, and the thin release film 31 can be separated from the inner layer flexible wiring board 30. The inner side of the region surrounded by the laser processing groove 27 is the flexible portion 102, and the outer region is the rigid portion 101.

(工程15)
機械的な外形ルーター加工により、図9(p)の平面図のように、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102の上面及び下面の樹脂層を引き剥がす以前の基板から、個々のリジッドフレキシブルプリント配線板10を切り出す外形加工を行い、リジッドフレキシブルプリント配線板10の外形を作成する。
(Step 15)
By mechanical external router processing, as shown in the plan view of FIG. 9 (p), each rigid flexible print is removed from the substrate before the resin layer on the upper and lower surfaces of the flexible flexible printed circuit board 10 is peeled off. The outer shape of the wiring board 10 is cut out, and the outer shape of the rigid flexible printed wiring board 10 is created.

この外形加工は、フレキ部102の条件及び下面の樹脂層が未だフレキ部102から剥離されない状態の基板に対して行う。その基板は、フレキ部102もリジッド部101と同じ厚さであり、全体が硬いリジッドな状態であるので、フレキ部102の外形をルータで加工しても、フレキ部102の外形加工によるバリが発生しない効果がある。そのため、ルーター加工により、フレキ部102の外形を高い品質で形成できる効果がある。   This external processing is performed on the substrate in a state where the condition of the flexible portion 102 and the resin layer on the lower surface are not yet peeled from the flexible portion 102. Since the flexible part 102 has the same thickness as the rigid part 101 and is in a hard rigid state as a whole, even if the outer shape of the flexible part 102 is processed by a router, burrs due to the outer shape processing of the flexible part 102 are not generated. There is an effect that does not occur. Therefore, there is an effect that the outer shape of the flexible portion 102 can be formed with high quality by router processing.

そのために、先の工程14においては、フレキ部102とリジッド部101との境界部分に重ならない部分の枠状の補強用金属パターン25の上の薄剥離フィルム31の層には、レーザ加工溝27を形成しないでおくことが望ましい。そうすることで、その、レーザ加工溝27を形成しない部分の枠状の補強用金属パターン25の上で、フレキ部102の上のビルドアップ層40d、50d、60dとリジッド101の上のビルドアップ層が連結して、フレキ部102の上のビルドアップ層40d、50d、60dの樹脂層が基板に強固に保持される。そのため、外形ルータによる加工でストレスが加わる際にも、フレキ部102の上のビルドアップ層が基板に支えられて剥がれることがない効果がある。   Therefore, in the previous step 14, the laser processing groove 27 is formed in the layer of the thin release film 31 on the frame-shaped reinforcing metal pattern 25 in a portion that does not overlap the boundary portion between the flexible portion 102 and the rigid portion 101. It is desirable not to form. By doing so, the build-up layers 40d, 50d, 60d on the flexible portion 102 and the build-up on the rigid 101 are formed on the frame-shaped reinforcing metal pattern 25 where the laser processing groove 27 is not formed. The layers are connected, and the resin layers of the build-up layers 40d, 50d, and 60d on the flexible portion 102 are firmly held on the substrate. Therefore, even when stress is applied during processing by the external router, there is an effect that the buildup layer on the flexible portion 102 is not supported and peeled off by the substrate.

(工程16:フレキ部露出工程)
そして、図9(q)の断面図のように、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102の上面及び下面の、薄剥離フィルム31と、その上のビルドアップ層40d、50d、60dを引き剥がす。すなわち、基板の上面及び下面から、薄剥離フィルム31、及び、ビルドアップ層40d、50d、60dと薄剥離フィルム31を引き剥がしてフレキ部102の内層フレキシブル配線板30を露出させてリジッドフレキシブルプリント配線板10を仕上げる。
(Process 16: Flexible part exposure process)
Then, as shown in the cross-sectional view of FIG. 9 (q), the thin release film 31 and the build-up layers 40d, 50d, and 60d on the upper and lower surfaces of the flexible portion 102 of the rigid flexible printed wiring board 10 are peeled off. . That is, from the upper and lower surfaces of the substrate, the thin release film 31 and the build-up layers 40d, 50d, 60d and the thin release film 31 are peeled off to expose the inner flexible wiring board 30 of the flexible portion 102, thereby rigid flexible printed wiring. The board 10 is finished.

ここで、薄剥離フィルム31がビルドアップ層40d、50d、60dと一緒に、リジッドフレキシブルプリント配線板10のフレキ部102から剥離されて除去され、薄剥離フィルム31が残留しないので、フレキ部の表面の電気特性が薄剥離フィルム31の材質に影響されない効果がある。   Here, since the thin release film 31 is peeled off and removed from the flexible portion 102 of the rigid flexible printed wiring board 10 together with the build-up layers 40d, 50d, and 60d, and the thin release film 31 does not remain, the surface of the flexible portion This has the effect that the electrical characteristics of the thin release film 31 are not affected by the material.

また、加工用レーザ光Lで形成したレーザ加工溝27に露出したビルドアップ層40d、50d、60dの断面がリジッド部101の端部を成す。本実施形態で製造したリジッドフレキシブルプリント配線板10は、そのリジッド部101の端部の位置を、位置合せマーク26の位置と比較する検査を行うことで、リジッド部101の端部の位置のズレ量を完成品で検査できる効果がある。   Further, the cross sections of the build-up layers 40 d, 50 d, 60 d exposed in the laser processing groove 27 formed by the processing laser light L form the end of the rigid portion 101. The rigid flexible printed wiring board 10 manufactured in the present embodiment performs an inspection for comparing the position of the end portion of the rigid portion 101 with the position of the alignment mark 26, thereby shifting the position of the end portion of the rigid portion 101. The amount can be inspected with the finished product.

本実施形態では、デスミア処理の際に、スキップビア用穴3b及び4bの穴の底の金属面に残る薄い樹脂膜は、スキップビア下穴3a及び4aに封入された樹脂のみであり、支持フィルム1の材料であるポリイミド樹脂フィルムや液晶ポリマーフィルム等のデスミア性が劣る樹脂は穴に露出しないので、その穴に露出する樹脂が良好にデスミアでき、その穴にめっきしてスキップビア3c及び4cを充填する金属と金属柱中間ランド3及び4とが強固に接続でき、高い接続信頼性を有するスキップビア3c及び4cが形成できる効果がある。   In the present embodiment, the thin resin film remaining on the bottom metal surface of the skip via holes 3b and 4b during the desmear process is only the resin sealed in the skip via pilot holes 3a and 4a, and the support film. Resin with poor desmear properties, such as polyimide resin film and liquid crystal polymer film, which is material 1 is not exposed in the hole, so that the resin exposed in the hole can be satisfactorily desmeared, and the hole is plated with skip vias 3c and 4c. The metal to be filled and the metal pillar intermediate lands 3 and 4 can be firmly connected, and there is an effect that the skip vias 3c and 4c having high connection reliability can be formed.

また、そのスキップビア下穴3a及び4aに封入された樹脂とスキップビア3c及び4cのめっき金属との密着力も強く、スキップビア3c及び4cの近傍の樹脂の絶縁信頼性を高くできる効果がある。   Further, the adhesion between the resin sealed in the skip via pilot holes 3a and 4a and the plated metal of the skip vias 3c and 4c is strong, and there is an effect that the insulation reliability of the resin in the vicinity of the skip vias 3c and 4c can be increased.

<第2の実施形態>
図10〜図13は、本発明の第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10の製造方法を説明する断面図である。図13(b)に、第2の実施形態の、リジッドフレキシブルプリント配線板10の断面図を示す。
<Second Embodiment>
FIGS. 10-13 is sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board 10 of the 2nd Embodiment of this invention. FIG. 13B is a sectional view of the rigid flexible printed wiring board 10 according to the second embodiment.

第2の実施形態が、第1の実施形態と異なる点は、内層フレキシブル配線板30の支持フィルム1に、その支持フィルム1を貫通する貫通下孔28bを形成し、その貫通下孔28bを銅箔付きカベーレイフィルム20のエポキシ系接着層21の樹脂で充填した内層フレキシブル配線板30を形成することである。また、内層フレキシブル配線板30の表裏から穴あけ用レーザ光Lを照射して穴あけすることで、その樹脂で充填された貫通下孔28bの位置に、その貫通下孔28bの径より小さな穴径で内層フレキシブル配線板30を貫通するスルーホール用孔28dを形成し、そのスルーホール用孔28dを充填する内層金属めっき柱(スルーホール)28を形成することである。   The second embodiment is different from the first embodiment in that a through lower hole 28b penetrating the support film 1 is formed in the support film 1 of the inner layer flexible wiring board 30, and the through lower hole 28b is made of copper. It is to form the inner layer flexible wiring board 30 filled with the resin of the epoxy adhesive layer 21 of the coverable film 20 with foil. Further, by drilling by irradiating laser light L for drilling from the front and back of the inner layer flexible wiring board 30, the hole diameter smaller than the diameter of the lower through hole 28b is formed at the position of the lower through hole 28b filled with the resin. The through-hole hole 28d penetrating the inner-layer flexible wiring board 30 is formed, and the inner-layer metal plating column (through-hole) 28 filling the through-hole hole 28d is formed.

(製造方法)
第2の実施形態のリジッドフレキシブルプリント配線板10の製造方法を以下で説明する。
(工程1)
工程1では、図10(a)のように、第1の実施形態の工程1と同じ、ポリイミド樹脂フィルム又は液晶ポリマーフィルムを支持フィルム1とし、両面に厚さが12μmから35μmの銅箔2aを有するフレキシブル配線板1aを用いる。
(Production method)
The manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board 10 of 2nd Embodiment is demonstrated below.
(Process 1)
In step 1, as shown in FIG. 10 (a), the same polyimide resin film or liquid crystal polymer film as in step 1 of the first embodiment is used as the support film 1, and copper foil 2a having a thickness of 12 μm to 35 μm is formed on both sides. The flexible wiring board 1a which has is used.

(工程2)
図10(b)のように、フレキシブル配線板1aの両面の銅箔2aをエッチングして、貫通下孔28bの位置の上層の銅箔2aの部分に、直径が80〜200μm程度の、貫通下孔形成用の窓28aをあけて、下地の支持フィルム1を露出させる。
(Process 2)
As shown in FIG. 10 (b), the copper foil 2a on both sides of the flexible wiring board 1a is etched, and the upper portion of the copper foil 2a at the position of the through hole 28b has a diameter of about 80 to 200 μm. A hole forming window 28a is opened to expose the underlying support film 1.

(工程3)
次に、図10(c)のように、レーザ穴あけ装置を用いて穴あけ加工用レーザ光Lを上面側と下面側から照射することで、フレキシブル配線板1aの上面と下面の貫通下孔形成用の窓28aから、その窓に露出した支持フィルム1にレーザ穴あけ加工をすることで、支持フィルム1の上面側の穴と下面側との穴を連結させて貫通させた貫通下孔28bを形成する。これにより、直径が80〜200μm程度の貫通下孔28bが形成される。
(Process 3)
Next, as shown in FIG. 10 (c), by irradiating the drilling laser beam L from the upper surface side and the lower surface side using a laser drilling device, the through hole is formed on the upper surface and the lower surface of the flexible wiring board 1a. A through hole 28b is formed by connecting the hole on the upper surface side and the hole on the lower surface side of the support film 1 by laser drilling the support film 1 exposed in the window from the window 28a. . As a result, a through hole 28b having a diameter of about 80 to 200 μm is formed.

(工程4)
次に、図10(d)のように、フレキシブル配線板1aの銅箔2aを更にエッチングすることで、フレキシブル配線板1aの両面に配線パターン2を形成し、また、後に形成するブラインドバイアホール24の位置にランド2bを形成する。
(Process 4)
Next, as shown in FIG. 10D, by further etching the copper foil 2a of the flexible wiring board 1a, the wiring pattern 2 is formed on both surfaces of the flexible wiring board 1a, and a blind via hole 24 to be formed later is formed. The land 2b is formed at the position.

(工程5)
図10(e)のように、銅箔20aとポリイミドフィルムなどの絶縁樹脂フィルム21と熱硬化性のエポキシ系接着層22とから成る銅箔付きカバーレイフィルム20を、フレキシブル配線板1aの両面に積層し、図11(f)のような、貫通下孔28bをエポキシ系接着層22の樹脂で封入した内層フレキシブル配線板30を製造する。
(Process 5)
As shown in FIG. 10 (e), a coverlay film 20 with a copper foil comprising a copper foil 20a, an insulating resin film 21 such as a polyimide film, and a thermosetting epoxy adhesive layer 22 is provided on both surfaces of the flexible wiring board 1a. The inner flexible wiring board 30 in which the through holes 28b are sealed with the resin of the epoxy adhesive layer 22 as shown in FIG.

(工程6)
次に、図11(g)のように、内層フレキシブル配線板30の両面の銅箔付きカバーレイフィルム20の銅箔20aをエッチングして、樹脂で封入した貫通下孔28bの中心位置の銅箔20aの部分に、貫通下孔28bより直径が小さいスルーホール用孔形成用の窓28cを、直径が50〜150μm程度に形成して、下地の絶縁樹脂フィルム21を露出させる。また、銅箔20aに、ブラインドバイアホール用の窓24cを形成する。
(Step 6)
Next, as shown in FIG. 11G, the copper foil 20a of the coverlay film 20 with the copper foil on both sides of the inner layer flexible wiring board 30 is etched, and the copper foil at the center of the through hole 28b encapsulated with resin. A through hole forming window 28c having a diameter smaller than that of the through lower hole 28b is formed in the portion 20a so as to have a diameter of about 50 to 150 μm, and the underlying insulating resin film 21 is exposed. Further, a blind via hole window 24c is formed in the copper foil 20a.

(工程7)
図11(h)のように、炭酸ガスレーザやYAGレーザなどのレーザ穴あけ装置を用いて、穴あけ用レーザ光Lを内層フレキシブル配線板30の上面側と下面側から照射することで、樹脂で封入した貫通下孔28bの中心位置にスルーホール用孔28dを穿孔する。
(Step 7)
As shown in FIG. 11 (h), a laser drilling device such as a carbon dioxide laser or a YAG laser is used to irradiate the laser beam L for drilling from the upper surface side and the lower surface side of the inner layer flexible wiring board 30, thereby encapsulating with resin. A through-hole hole 28d is drilled at the center position of the through-hole 28b.

これで形成したスルーホール用孔28dの中央部分は、上下の開口部分より直径が小さい直径が約50μmの砂時計状のスルーホール用孔28dが形成される。また、穴あけ用レーザ光Lを、内層フレキシブル配線板30の上面側と下面側からブラインドバイアホール用の窓24cに照射して、外層近くのランド2bに達するブラインドバイアホール用の穴24aを形成する。   In the center portion of the through-hole hole 28d thus formed, an hourglass-shaped through-hole hole 28d having a diameter smaller than the upper and lower opening portions and having a diameter of about 50 μm is formed. Further, a blind via hole 24a reaching the land 2b near the outer layer is formed by irradiating the blind laser beam L to the blind via hole window 24c from the upper surface side and the lower surface side of the inner layer flexible wiring board 30. .

(工程8)
次に、その基板をデスミア液に浸漬することで、スルーホール用孔28d及びブラインドバイアホール用の穴24aのデスミア処理を行った上で、無電解銅めっき液に基板を浸漬することで、そのスルーホール用孔28d及びブラインドバイアホール用の穴24aの壁面に無電解銅めっき皮膜を形成する。
(Process 8)
Next, the substrate is immersed in a desmear solution, and after the desmear treatment of the through hole hole 28d and the blind via hole 24a, the substrate is immersed in an electroless copper plating solution, Electroless copper plating films are formed on the wall surfaces of the through-hole hole 28d and the blind via-hole hole 24a.

(工程9)
次に、内層フレキシブル配線板30の全面に触媒核を付与し、更に、無電解銅めっき浴に浸漬することで、厚さ0.1μmから数μmの無電解銅めっき皮膜を形成する。次に、図12(i)のように、平滑剤を添加した電解銅めっき液を用い、めっき浴をよく攪拌して、内層フレキシブル配線板30の両面における銅めっき浴の流動速度を速くして電解銅めっきする。
(Step 9)
Next, a catalyst nucleus is imparted to the entire surface of the inner layer flexible wiring board 30 and further immersed in an electroless copper plating bath to form an electroless copper plating film having a thickness of 0.1 μm to several μm. Next, as shown in FIG. 12 (i), using an electrolytic copper plating solution to which a smoothing agent is added, the plating bath is well stirred, and the flow rate of the copper plating bath on both surfaces of the inner layer flexible wiring board 30 is increased. Electrolytic copper plating.

それにより、平滑剤は、内層フレキシブル配線板30の両面への銅めっき層の成長を抑
制する一方、スルーホール用孔28d及びブラインドバイアホール用の穴24aを埋める電解銅めっきの層の成長が抑制されない。それにより、スルーホール用孔28dを電解銅めっきで充填して内層金属めっき柱(スルーホール)28を形成し、また、ブラインドバイアホール用の穴24aを電解銅めっきの層で充填してブラインドバイアホール24を形成する。
Thereby, the smoothing agent suppresses the growth of the copper plating layer on both surfaces of the inner layer flexible wiring board 30, while suppressing the growth of the electrolytic copper plating layer filling the through hole 28d and the blind via hole 24a. Not. As a result, the through-hole hole 28d is filled with electrolytic copper plating to form an inner metal plating column (through-hole) 28, and the blind via hole 24a is filled with an electrolytic copper-plating layer to blind blind vias. Hole 24 is formed.

(工程10)
次に、エッチングレジストパターンで基板の表面の銅めっき層を保護して、内層フレキシブル配線板30の銅箔20aをエッチングし、エッチング後にエッチングレジストを剥離する。
(Process 10)
Next, the copper plating layer on the surface of the substrate is protected with the etching resist pattern, the copper foil 20a of the inner layer flexible wiring board 30 is etched, and the etching resist is peeled off after the etching.

これにより、図12(j)の断面図のように、内層フレキシブル配線板30の上面と下面に、
(1)内層金属めっき柱28の上側と下側のランド28eを形成する。
(2)また、第1の実施形態と同様に、ブラインドバイアホール24に接続するランド24bを形成する。
As a result, as shown in the sectional view of FIG.
(1) The upper and lower lands 28e of the inner metal plating column 28 are formed.
(2) Further, similarly to the first embodiment, the land 24b connected to the blind via hole 24 is formed.

(3)そして、位置合せマーク26のパターンとその他の配線パターンを形成する。
(4)そして、特に、リジッド部101とフレキ部102の境界部分に重なる枠状の補強用金属パターン25を形成する。
(3) Then, a pattern of the alignment mark 26 and other wiring patterns are formed.
(4) In particular, a frame-shaped reinforcing metal pattern 25 is formed so as to overlap the boundary portion between the rigid portion 101 and the flexible portion 102.

これ以降の製造方法は、第1の実施形態の工程11以降の製造方法を実施することで、図13のように、内層フレキシブル配線板30のリジッド部101の上下にビルドアップ層40d、50d、60dを順次に積層し、内層金属めっき柱28の上側と下側に、銅めっきが充填されたブラインドバイアホール41、51、61を接続することで、強固な多層金属めっき柱を形成する。そして、ソルダーレジスト70を印刷し、外形加工を行ってリジッドフレキシブルプリント配線板10を製造する。   The manufacturing method after this implements the manufacturing method after the process 11 of 1st Embodiment, and as shown in FIG. 13, buildup layer 40d, 50d, the upper and lower sides of the rigid part 101 of the inner-layer flexible wiring board 30, 60d is sequentially laminated, and the blind via holes 41, 51, 61 filled with copper plating are connected to the upper side and the lower side of the inner metal plating column 28, thereby forming a strong multilayer metal plating column. Then, the solder resist 70 is printed and the outer shape is processed to manufacture the rigid flexible printed wiring board 10.

本実施形態では、図10(c)のように、フレキシブル配線板1aの支持フィルム1に上下面からのレーザ穴あけにより、支持フィルム1を貫通する貫通下孔28bを形成して、図11(f)のように、その貫通下孔28bを、銅箔付きカバーレイフィルム20の接着層22の樹脂で充填して内層フレキシブル配線板30を製造する。次に、図11(h)のように、その樹脂で充填された貫通下孔28bの位置に、上下面からのレーザ穴あけにより、樹脂を充填した貫通下孔28bの位置にその径より小さい径で、内層フレキシブル配線板30を貫通するスルーホール用孔28dを形成する。   In this embodiment, as shown in FIG. 10 (c), through holes 28b penetrating through the support film 1 are formed in the support film 1 of the flexible wiring board 1a by laser drilling from the upper and lower surfaces. The inner flexible wiring board 30 is manufactured by filling the through hole 28b with the resin of the adhesive layer 22 of the coverlay film 20 with the copper foil as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 11 (h), a diameter smaller than the diameter of the through hole 28b filled with resin by laser drilling from the upper and lower surfaces at the position of the through hole 28b filled with the resin. Thus, the through-hole hole 28d penetrating the inner layer flexible wiring board 30 is formed.

そうすると、そのスルーホール用孔28dに露出する樹脂は接着層22の樹脂であり、支持フィルム1の樹脂は露出しないので、そのスルーホール用孔28dに露出する樹脂が良好にデスミアでき、図12(i)のように、銅めっきにより穴を充填して内層金属めっき柱28を形成する。ここで、デスミア性が劣る支持フィルム1の樹脂は露出しないので、安定したデスミアが行え、デスミア条件の最適化が行えるので、デスミアされる内層金属めっき柱28の樹脂のデスミアによる絶縁劣化を軽減でき、樹脂部分の絶縁信頼性が優れた内層金属めっき柱28を形成できる効果がある。   Then, the resin exposed to the through-hole hole 28d is the resin of the adhesive layer 22, and the resin of the support film 1 is not exposed. Therefore, the resin exposed to the through-hole hole 28d can be satisfactorily desmeared, and FIG. As in i), the inner metal plating column 28 is formed by filling the hole with copper plating. Here, since the resin of the support film 1 having inferior desmear property is not exposed, stable desmearing can be performed and desmear conditions can be optimized, so that deterioration of insulation due to desmearing of the resin of the inner metal plating column 28 to be desmeared can be reduced. There is an effect that the inner metal plating column 28 having excellent insulation reliability of the resin portion can be formed.

また、支持基板1を貫通している貫通下孔28bの中に、上下面からのレーザ穴あけにより形成したスルーホール用孔28dを銅めっきで充填するので、銅めっきで一体に形成された強固な内層金属めっき柱(スルーホール)28が形成され、その内層金属めっき柱(スルーホール)28に高い接続信頼性を持たせることができる効果がある。   In addition, since the through hole 28d formed by laser drilling from the upper and lower surfaces is filled in the through lower hole 28b penetrating the support substrate 1 with copper plating, it is firmly formed integrally with copper plating. The inner metal plating column (through hole) 28 is formed, and there is an effect that the inner metal plating column (through hole) 28 can have high connection reliability.

なお、本発明は、上記の実施形態に限定されず、内層フレキシブル配線板30の上に、
ローフロー樹脂のシートを積層することでリジッド部101のビルドアップ層を形成してリジッドフレキシブルプリント配線板を製造することもできる。その場合も、高い接続信頼性を有するスキップビア3c、4c、及び内層金属めっき柱(スルーホール)28を形成することができる効果がある。
In addition, this invention is not limited to said embodiment, On the inner-layer flexible wiring board 30,
A rigid flexible printed wiring board can also be manufactured by forming a build-up layer of the rigid portion 101 by laminating low-flow resin sheets. Also in that case, there is an effect that the skip vias 3c and 4c and the inner metal plating column (through hole) 28 having high connection reliability can be formed.

1・・・・・支持フィルム
1a・・・・フレキシブル配線板
2・・・・・配線パターン
2a・・・・銅箔
2b、23b、24b・・・ランド
3、4・・・金属柱中間ランド
3a、4a・・・スキップビア下穴
3b、4b・・・スキップビア用穴
3c、4c・・・2階高バイアホール(スキップビア)
3d、4d・・・金属柱用ランド
10・・・・リジッドフレキシブルプリント配線板
20・・・・銅箔付きカバーレイフィルム
20a・・・銅箔
21・・・・絶縁樹脂フィルム
22・・・・接着層
23、24、41、42、51、61・・・・ブラインドバイアホール
23a・・・金属柱バイアホール用穴
24a・・・ブラインドバイアホール用の穴
24c・・・ブラインドバイアホール用の窓
25・・・・枠状の補強用金属パターン
26・・・・位置合せマーク
27・・・・レーザ加工溝
28・・・・内層金属めっき柱(スルーホール)
28a・・・貫通下孔形成用の窓
28b・・・貫通下孔
28c・・・スルーホール用孔形成用の窓
28d・・・スルーホール用孔
28e・・・ランド
30・・・・内層フレキシブル配線板
31・・・・薄剥離フィルム
32・・・・枠状の第1の溝
40a・・・プリプレグ
40b・・・薄銅箔
40d、50d、60d・・・ビルドアップ層
70・・・ソルダーレジスト
101・・・リジッド部
102・・・フレキ部
L・・・・・レーザ光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support film 1a ... Flexible wiring board 2 ... Wiring pattern 2a ... Copper foil 2b, 23b, 24b ... Land 3, 4 ... Metal pillar intermediate land 3a, 4a ... Skip via pilot holes 3b, 4b ... Skip via holes 3c, 4c ... 2nd floor high via holes (skip vias)
3d, 4d ... Land for metal pillar 10 ... Rigid flexible printed circuit board 20 ... Coverlay film 20a with copper foil ... Copper foil 21 ... Insulating resin film 22 ... Adhesive layer 23, 24, 41, 42, 51, 61 ... Blind via hole 23a ... Metal pillar via hole 24a ... Blind via hole 24c ... Blind via hole window 25... Frame-shaped reinforcing metal pattern 26... Alignment mark 27... Laser processing groove 28.
28a ... Windows for forming through holes 28b ... Through holes 28c ... Windows for forming holes for through holes 28d ... Holes for through holes 28e ... Lands 30 ... Inner layer flexible Wiring board 31 ... Thin release film 32 ... Frame-shaped first groove 40a ... Prepreg 40b ... Thin copper foils 40d, 50d, 60d ... Build-up layer 70 ... Solder Resist 101 ... Rigid part 102 ... Flexible part L ... Laser light

Claims (3)

硬質のリジッド部を柔軟性のあるフレキ部を介して連結したリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、
フレキシブル配線板の支持フィルムに、レーザ穴あけにより下孔を形成する工程と、
前記下孔を、銅箔付きカバーレイフィルムの接着層の樹脂で充填して内層フレキシブル配線板を製造する工程と、
前記樹脂で充填された下穴の位置に、レーザ穴あけにより、前記下穴の径より小さい径で、前記支持フィルムを貫くスキップビア用穴あるいはスルーホール用孔を形成する工程と、
前記スキップビア用穴あるいはスルーホール用孔をデスミアする工程と、
前記スキップビア用穴あるいはスルーホール用孔を銅めっきで充填してスキップビアあるいはスルーホールを形成する工程と、
前記内層フレキシブル配線板の表面の前記リジッド部の領域にビルドアップ層を形成する工程を有することを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法。
A method for producing a rigid flexible printed wiring board in which a rigid rigid part is connected via a flexible flexible part,
Forming a pilot hole in the support film of the flexible wiring board by laser drilling; and
Filling the lower hole with a resin of an adhesive layer of a coverlay film with a copper foil to produce an inner layer flexible wiring board;
Forming a skip via hole or a through hole hole penetrating the support film at a position smaller than the diameter of the pilot hole by laser drilling at the position of the pilot hole filled with the resin;
Desmearing the skip via hole or the through hole; and
A step of filling the skip via hole or through hole with copper plating to form a skip via or through hole; and
A method for producing a rigid flexible printed wiring board comprising a step of forming a buildup layer in a region of the rigid portion on the surface of the inner layer flexible wiring board.
請求項1記載のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、
金属柱中間ランドの金属層を有するフレキシブル配線板の支持フィルムに、レーザ穴あけにより、前記金属柱中間ランドに達するスキップビア下穴を形成する工程と、
前記スキップビア下穴を、銅箔付きカバーレイフィルムの接着層の樹脂で充填して内層フレキシブル配線板を製造する工程と、
前記樹脂で充填されたスキップビア下穴の位置に、レーザ穴あけにより、前記スキップビア下穴の径より小さい径で、前記支持フィルムを貫き前記金属柱中間ランドに達するスキップビア用穴を形成する工程と、
前記スキップビア用穴をデスミアする工程と、
前記スキップビア用穴を銅めっきで充填してスキップビアを形成する工程と、
前記内層フレキシブル配線板の表面の前記リジッド部の領域にビルドアップ層を形成する工程を有することを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法。
It is a manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board according to claim 1,
A step of forming a skip via pilot hole reaching the metal pillar intermediate land by laser drilling in the support film of the flexible wiring board having the metal layer of the metal pillar intermediate land;
Filling the skip via pilot hole with the resin of the adhesive layer of the coverlay film with copper foil to produce an inner layer flexible wiring board;
A step of forming a skip via hole that penetrates the support film and reaches the metal land intermediate land by laser drilling at a position of the skip via pilot hole filled with the resin, with a diameter smaller than the diameter of the skip via pilot hole. When,
Desmearing the skip via hole;
Filling the skip via hole with copper plating to form a skip via;
A method for producing a rigid flexible printed wiring board comprising a step of forming a buildup layer in a region of the rigid portion on the surface of the inner layer flexible wiring board.
請求項1記載のリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、
フレキシブル配線板の支持フィルムに上下面からのレーザ穴あけにより、前記支持フィルムを貫通する貫通下孔を形成する工程と、
前記貫通下孔を、銅箔付きカバーレイフィルムの接着層の樹脂で充填して内層フレキシブル配線板を製造する工程と、
前記樹脂で充填された貫通下孔の位置に、上下面からのレーザ穴あけにより、前記貫通下孔の径より小さい径で、内層フレキシブル配線板を貫通するスルーホール用孔を形成する工程と、
前記スルーホール用孔をデスミアする工程と、
前記スルーホール用孔を銅めっきで充填してスルーホールを形成する工程と、
前記内層フレキシブル配線板の表面の前記リジッド部の領域にビルドアップ層を形成する工程を有することを特徴とするリジッドフレキシブルプリント配線板の製造方法。
It is a manufacturing method of the rigid flexible printed wiring board according to claim 1,
Forming a through hole that penetrates the support film by laser drilling from the upper and lower surfaces of the support film of the flexible wiring board; and
Filling the through hole with a resin of an adhesive layer of a coverlay film with a copper foil to produce an inner layer flexible wiring board;
Forming a through-hole for penetrating the inner flexible wiring board with a diameter smaller than the diameter of the through-hole by laser drilling from the upper and lower surfaces at the position of the through-hole filled with the resin;
Desmearing the through hole,
Filling the through hole with copper plating to form a through hole;
A method for producing a rigid flexible printed wiring board comprising a step of forming a buildup layer in a region of the rigid portion on the surface of the inner layer flexible wiring board.
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