JP2012219377A - 大容量薄膜形成用蒸着装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】薄膜を蒸着するための装置の稼動停止周期を延ばし、装置の使用効率を高めることができる大容量薄膜形成用蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数の原料容器110およびセンサー150を設け、原料容器110に収容される原料物質1の量を分散することによって、単一の大容量の原料容器を用いる場合に比べて原料物質1の加熱に必要な熱量を減少させ、第2のヒーター190で噴射口130の周囲の温度を上昇させることによって、噴射口130の周囲では常に原料物質が気化された状態を維持する。
【選択図】図1
【解決手段】複数の原料容器110およびセンサー150を設け、原料容器110に収容される原料物質1の量を分散することによって、単一の大容量の原料容器を用いる場合に比べて原料物質1の加熱に必要な熱量を減少させ、第2のヒーター190で噴射口130の周囲の温度を上昇させることによって、噴射口130の周囲では常に原料物質が気化された状態を維持する。
【選択図】図1
Description
本発明は、大容量薄膜形成用蒸着装置に関し、より詳細には、有機物質を気化させ、基板上に薄膜形態で蒸着できる大容量薄膜形成用蒸着装置に関する。
有機発光表示装置は、自体発光特性を有する次世代の表示装置であって、液晶表示装置(Liquid Crystal Display Device;LCD)に比べて視野角、コントラスト、応答速度、消費電力などの側面で優れた特性を有する。
有機発光表示装置は、走査ラインとデータラインとの間にマトリックス方式で連結されて画素を構成する有機発光素子を含む。有機発光素子は、アノード電極及びカソード電極と、アノード電極とカソード電極との間に形成され、正孔輸送層、有機発光層及び電子輸送層を含む有機薄膜層とで構成されており、アノード電極とカソード電極に所定の電圧が印加されると、アノード電極を通して注入される正孔とカソード電極を通して注入される電子とが有機発光層で再結合するようになり、この過程で発生するエネルギー差によって光を放出する。
有機薄膜層の蒸着工程で使用される有機材料は、無機材料とは異なり、高い蒸気圧が必要でなく、高温での分解及び変性が容易である。このような素材の特性により、従来の有機薄膜は、タングステン材質の原料容器に有機材料を充填し、原料容器の加熱によって有機材料を気化させ、これを基板上に蒸着させた。
しかし、原料容器内に貯蔵可能な有機材料の量が限定されるので、蒸着工程の途中で有機材料を頻繁に再充填しなければならなく、充填過程で毎度薄膜形成用蒸着装置の稼動を停止しなければならないという問題があった。
また、最近、大面積基板に薄膜を蒸着するために、大容量の原料容器を設置することによって有機材料の充填量を増大させる方法が提案されたが、増大された原料容器の加熱によって有機材料を気化させるとき、原料容器により多くの熱量が供給されることによって有機材料の変性問題が発生した。
したがって、本発明の目的は、このような従来の問題点を解決するために、複数の原料容器を使用して収容可能な原料物質の量を増加させることによって、薄膜を蒸着するための装置の稼動停止周期を延ばし、原料物質の気化速度は高めながら原料物質の気化温度は低下させることによって、装置の使用効率を高めることができる大容量薄膜形成用蒸着装置を提供することにある。
前記のような目的を達成するために、本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置は、基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される複数の原料容器と、前記原料容器の上側に前記原料容器と連通するように結合され、前記原料容器から気化された原料物質が通過する気化チャンバーと、前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化された原料物質を上側に噴射する噴射口と、前記気化チャンバーの内部で前記原料容器の上側に設置され、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料容器に熱を供給する第1のヒーターと、前記気化チャンバーに設置され、前記気化チャンバーを通過する気化された原料物質の量を感知するセンサーと、前記センサーから前記気化チャンバー内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、前記原料容器から気化される原料物質の量を制御する制御部とを含むことを特徴とする。
また、前記のような目的を達成するために、本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置は、基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される複数の原料容器と、前記原料容器の上側に前記原料容器と連通するように結合され、前記原料容器から気化された原料物質が通過する気化チャンバーと、前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化された原料物質を上側に噴射する噴射口と、前記気化チャンバーの内部で前記原料容器の上側に設置され、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料容器に熱を供給する第1のヒーターと、前記原料容器に設置され、前記原料容器から流出する気化された原料物質の量を感知する複数のセンサーと、前記センサーから前記原料容器内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、前記原料容器から気化される原料物質の量を制御する制御部とを含むことを特徴とする。
また、前記のような目的を達成するために、本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置は、基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される複数の原料容器と、前記原料容器の上側に前記原料容器と連通するように結合され、前記原料容器から気化された原料物質が通過する気化チャンバーと、前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化された原料物質を上側に噴射する噴射口と、前記原料容器に設置され、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料容器に熱を供給する複数の第1のヒーターと、前記気化チャンバーに設置され、前記気化チャンバーを通過する気化された原料物質の量を感知するセンサーと、前記センサーから前記気化チャンバー内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、前記原料容器から気化される原料物質の量を制御する制御部とを含むことを特徴とする。
また、前記のような目的を達成するために、本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置は、基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される複数の原料容器と、前記原料容器の上側に前記原料容器と連通するように結合され、前記原料容器から気化された原料物質が通過する気化チャンバーと、前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化された原料物質を上側に噴射する噴射口と、前記原料容器に設置され、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料容器に熱を供給する複数の第1のヒーターと、前記原料容器に設置され、前記原料容器から流出する気化された原料物質の量を感知する複数のセンサーと、前記センサーから前記原料容器内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、前記原料容器から気化される原料物質の量を制御する制御部とを含むことを特徴とする。
本発明に係る大容量薄膜形成用蒸着装置において、望ましくは、前記原料容器にそれぞれ結合され、前記原料容器内の原料物質を前記第1のヒーターに近づく方向又は前記第1のヒーターから遠ざかる方向に移送させる複数の移送ユニットをさらに含む。
本発明に係る大容量薄膜形成用蒸着装置において、望ましくは、前記制御部は、前記センサーから気化される原料物質の量のフィードバックを受け、気化される原料物質の量が予め設定された基準量より少ないと、原料物質を前記第1のヒーターに近づく方向に移送させるように前記移送ユニットに信号を伝送したり、前記第1のヒーターの温度を上昇させる信号を伝送し、気化される原料物質の量が予め設定された基準量より多いと、原料物質を前記第1のヒーターから遠ざかる方向に移送させるように前記移送ユニットに信号を伝送したり、前記第1のヒーターの温度を下降させる信号を伝送する。
本発明に係る大容量薄膜形成用蒸着装置において、望ましくは、前記気化チャンバーの内部に設置され、前記第1のヒーターによって前記原料容器に熱が供給される間、前記原料容器に収容された原料物質又は不純物が飛散して前記噴射口に付着されることを遮断する遮断板をさらに含む。
本発明に係る大容量薄膜形成用蒸着装置において、望ましくは、前記遮断板は、平板形態で設けられ、前記気化チャンバーの内壁から一定距離だけ離隔するように配置される。
本発明に係る大容量薄膜形成用蒸着装置において、望ましくは、前記気化チャンバーの上面及び側面に設置され、前記気化チャンバーを通過する気化された原料物質の液体又は固体状態への相変化を防止するために、前記気化チャンバーに熱を供給する第2のヒーターをさらに含む。
本発明に係る大容量薄膜形成用蒸着装置において、望ましくは、前記原料容器と前記気化チャンバーは着脱可能に結合される。
本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置によると、原料物質を加熱するのに必要な熱量を減少させることによって、原料容器に収容された原料物質の変性を防止することができ、複数の原料容器からの原料物質の気化速度を増加させることによって基板に薄膜を蒸着させる速度も高めることができる。
また、本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置によると、原料容器と第1のヒーターとの間の距離又は第1のヒーターの温度を調節し、原料容器から気化される原料物質の量を制御することによって、気化される原料物質の量を安定的に維持することができる。
また、本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置によると、原料容器から上側に飛散する原料物質又は不純物が噴射口に付着されることを遮断し、噴射口の閉塞現象を防止することによって、生産の中断状況を防止し、長時間の連続生産を可能にする。
また、本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置によると、第1のヒーターの温度制御による原料容器内の原料物質の温度反応を迅速に行うことができ、原料容器内の原料物質の温度も大きな変動なしに所望の目標温度に一定に維持することができ、原料物質の安定的な気化によって均一な蒸着及び大面積蒸着を行うことができる。
また、本発明の大容量薄膜形成用蒸着装置によると、気化チャンバーを通過する気化された原料物質の液体又は固体状態への相変化を防止することができ、基板上に蒸着されずに残った気化された原料物質が噴射口に付着されて噴射口を閉塞する現象を防止することができる。
以下、本発明に係る大容量薄膜形成用蒸着装置の各実施例を添付の図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の第1の実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置を簡略に示した図である。
図1を参照すると、本実施例の大容量薄膜形成用蒸着装置100は、有機物質を気化させ、基板上に薄膜形態で蒸着できる装置であって、原料容器110、気化チャンバー120、噴射口130、第1のヒーター140、冷却部146、センサー150、制御部160、移送ユニット170、遮断板180、及び第2のヒーター190を含む。
本発明は、有機発光表示装置(Organic Light Emitting Device:OLED)を製造する装置を提示したものであって、本発明に提示される原料物質としては、例えば、有機材料が使用されることが望ましい。
前記原料容器110は、基板10上に蒸着される原料物質1が固体又は液体状態で収容されるものであって、一側が開口される円筒状に形成される。本実施例では、複数の原料容器110が設けられ、気化チャンバー120の下側にそれぞれ結合される。一般に、原料容器110はタングステン材質で製作され、原料容器110の内部には、基板10に蒸着される原料物質1である有機材料が充填される。
複数の原料容器110を設け、原料容器110に収容される原料物質1の量を分散することによって、単一の大容量の原料容器を用いる場合に比べて原料物質1の加熱に必要な熱量を減少させることができる。したがって、供給される熱により、原料容器110に収容された原料物質の変性を防止することができる。また、複数の原料容器110から気化される原料物質の気化速度を増加できるので、基板10に薄膜を蒸着させる速度も高めることができる。
このとき、原料容器110には、図示していないが、蒸着工程が行われる間、原料容器110の内部を真空圧力の環境に維持させるための真空ラインを連結することができる。原料物質1の変性は、原料容器110内の高い温度及び圧力によって発生する。したがって、原料物質1の変性を防止するためには、原料容器110内の温度及び圧力を低く維持しなければならない。また、原料物質1の気化温度は真空度の影響を多く受け、真空度が低くなるほど気化温度も低くなる傾向があるので、原料容器110内の真空度を低く維持することが、原料物質1の変性を防止するのにより効率的である。
前記気化チャンバー120は、原料容器110から気化された原料物質が通過する空間を提供するものであって、原料容器110の上側でそれぞれの原料容器110と連通するように結合される。後述する第1のヒーター140によって原料容器110に収容されていた固体状態又は液体状態の原料物質1が加熱され、加熱された原料物質1は気化されて上側に蒸発される。蒸発される原料物質1は、原料容器110の上側に配置された気化チャンバー120の内部に流入し、気化された原料物質は、気化チャンバー120を通過して後述する噴射口130を介して基板10側に噴射される。
気化チャンバー120は、相当な量の気化された原料物質1を収容できる程度の体積で形成される。原料容器110から気化された原料物質1が気化チャンバー120の内部に十分に収容されることによって、噴射口130を介して基板10側に噴射される原料物質の量を安定的に維持することができる。十分な内部空間を有するように気化チャンバー120が形成されることによって、気化チャンバー120は一種のアキュムレーターとしての機能を行うことができる。
気化チャンバー120は、原料容器110と着脱可能に結合される。原料容器110の内部に基板10に蒸着させる原料物質、すなわち、有機材料を充填しようとする場合、蒸着工程を中断し、原料容器110を気化チャンバー120から分離する。その後、原料容器110内への原料物質の充填が完了すると、再び原料容器110を気化チャンバー120に結合し、蒸着工程を行う。
前記噴射口130は、気化チャンバー120を通過した気化された原料物質を上側に、すなわち、基板10側に噴射する開口部であって、気化チャンバー120の上部に形成される。噴射口130は、基板10の幅方向に一直線に配列され、基板10と対向するように配置される。
噴射口130は、ノズル形態の別途の部品で製作され、気化チャンバー120の上部に結合することもでき、気化チャンバー120の上部壁に貫通ホールの形態で一体に成形することもできる。
前記第1のヒーター140は、原料容器110に収容された原料物質を気化させるために原料容器110に熱を供給するものであって、気化チャンバー120の内部で原料容器110の上側に設置される。
第1のヒーター140は、原料物質1を気化させ得る熱エネルギーを供給できる多様な形態で具現することができる。例えば、第1のヒーター140としては、コアヒーター又はランプヒーターなどが使用可能であり、本実施例ではコアヒーターが使用される。第1のヒーター140は、気化チャンバー120の内部でプレートに抵抗熱線が巻かれることによって形成される。このときに使用される抵抗熱線は、Ta、W、Mo金属又はこれらの合金線からなる。
本発明では、原料容器110と連通した気化チャンバー120に第1のヒーター140が設置されることによって、媒介部材を経らずに第1のヒーター140の熱を原料容器110に直接伝達できるという特徴がある。したがって、第1のヒーター140の温度制御による原料容器110内の原料物質の温度反応を迅速に行うことができ、原料容器110内の原料物質の温度も大きな変動なしに所望の目標温度に一定に維持することができる。
前記冷却部146は、原料容器110の内部に収容された原料物質1が第1のヒーター140の熱によって変性されることを防止するために、原料容器110に収容された原料物質を冷却する。冷却部146は、原料容器110の外側に設置され、望ましくは、原料容器110の外周面を取り囲むように備えられる。
冷却部146は、原料物質1が収容された原料容器110の内部を冷却可能な多様な形態で具現することができる。本実施例では、例えば、冷却部146として、冷却ジャケットが使用される。冷却部146は、原料容器110の外周面に冷却水が流れる冷却流路が取り囲まれて形成される。
前記センサー150は、気化チャンバー120に設置され、気化チャンバー120を通過する気化された原料物質の量を感知する。センサー150で測定される気化された原料物質の量によって第1のヒーター140の温度及び移送ユニット170の作動方向又は移送速度を制御し、気化される原料物質の量を調節する。
前記制御部160は、センサー150から気化チャンバー120内の原料物質の量のフィードバックを受け、第1のヒーター150又は移送ユニット180を制御し、原料容器110から気化される原料物質1の量を制御する。
すなわち、気化チャンバー120内の原料物質の量が基準量より少ないと、原料物質1を第1のヒーター140に近づく方向に移送させるように移送ユニット170に信号を伝送したり、第1のヒーター140の温度を上昇させる信号を伝送する。したがって、原料容器110で気化される原料物質の量を増加させることができる。
一方、気化チャンバー120内の原料物質の量が基準量より多いと、原料物質1を第1のヒーター140から遠ざかる方向に移送させるように移送ユニット170に信号を伝送したり、第1のヒーター140の温度を下降させる信号を伝送する。したがって、原料容器110で気化される原料物質の量を減少させることができる。
このとき、一つのセンサー150が気化チャンバー120に設置されるので、制御部160は、後述する複数の移送ユニット170を同時に制御する。
前記移送ユニット170は、複数設けられて複数の原料容器110にそれぞれ結合され、原料容器110内の原料物質1を第1のヒーター140に近づく方向又は第1のヒーター140から遠ざかる方向に往復移送させる。移送ユニット170を用いて原料物質1と第1のヒーター150との間の距離を調節することによって、原料容器110で気化される原料物質の量を制御することができる。
移送ユニット170は、直線往復運動を行える多様な形態で具現することができる。移送ユニット170としては、空圧シリンダー、リニアモーター、回転モーターとボールスクリューとを組み合わせた構成などの通常の技術者によく知られた構成を採用できるので、それについての詳細な説明は省略する。
前記遮断板180は、第1のヒーター140によって原料容器110に熱が供給される間、原料容器110に収容された原料物質又は不純物が飛散して噴射口130に付着されることを遮断する。
第1のヒーター140によって原料容器110内の原料物質が加熱される間、固体又は液体状態の原料物質1の表面では気化された原料物質が蒸発されることが正常であるが、液体状態の原料物質1の液滴が急に上側に飛散したり、原料物質内に混じっていた不純物が急に上側に飛散する現象が発生するおそれがある。
このとき、上側に飛散する原料物質又は不純物が噴射口130にくっ付くと、噴射口130の閉塞問題が発生する。噴射口130が閉塞されると工程を中止し、新しい噴射口130に取り替えたり掃除し、工程を再び開始しなければならないが、この場合、装置の収率低下という問題が発生するようになる。
このように、遮断板180は、気化されていない状態で上側に飛散して噴射口130に付着される原料物質1や不純物を遮断することによって、長時間の連続的な生産を可能にし、装置の収率を向上させることができる。
一方、遮断板180上部の熱は、連通した経路を通して原料物質1に伝達することができる。この場合、第1のヒーター140と原料物質1との間の距離又は第1のヒーター140の温度によって制御されていた原料物質1の気化量が予期しない外部変数によって変化し得る。気化量の変化は、直ちに有機発光素子の厚さに影響を及ぼすようになり、これは製品の不良と直結されるという問題が発生する。
したがって、遮断板180を用いて外部から原料物質1に伝達される熱を最大限に遮断することによって、原料物質1の気化量に影響を及ぼすおそれのある外部変数を除去することができる。
遮断板180は、平板形態で形成されて気化チャンバー120の内部に設置され、第1のヒーター140の上側に配置される。また、遮断板180は、気化チャンバー120の内壁から一定距離だけ離隔するように配置され、遮断板180と気化チャンバー120の内壁との間の空間を経由して気化された原料物質が噴射口130側に向かうようになる。
前記第2のヒーター190は、気化チャンバー120を通過する気化された原料物質の液体又は固体状態への相変化を防止するために、気化チャンバー120に熱を供給するものであって、気化チャンバー120の上面及び側面に設置される。
第2のヒーター190としては、例えば、コアヒーター又はランプヒーターなどを使用することができ、第2のヒーター190は、気化チャンバー120の上面に抵抗熱線が並んで配置される形態で形成される。このときに使用される抵抗熱線は、Ta、W、Mo金属又はこれらの合金線からなる。
一方、第2のヒーター190は、基板10上に蒸着されずに気化された原料物質が噴射口130に付着されて噴射口130を閉塞する現象を防止する。蒸着チャンバー内に残存する気化された原料物質は噴射口130側に積もり、結局、固体状態への相変化によって噴射口130を閉塞し得るが、噴射口130の周囲の温度を上昇させることによって、噴射口130の周囲では常に原料物質が気化された状態を維持できるようにする。
上述したように構成された本実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置は、複数の原料容器を設け、原料容器に収容される原料物質の量を分散することによって、原料物質の加熱に必要な熱量を減少させ、原料容器に収容された原料物質の変性を防止することができ、複数の原料容器からの原料物質の気化速度を増加させ、基板に薄膜を蒸着させる速度も高めることができる。
また、上述したように構成された本実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置は、原料物質と第1のヒーターとの間の距離又は第1のヒーターの温度を調節し、原料容器から気化される原料物質の量を制御することによって、気化される原料物質の量を安定的に維持することができる。
また、上述したように構成された本実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置は、原料容器から上側に飛散する原料物質又は不純物が噴射口に付着されることを遮断し、噴射口の閉塞現象を防止することによって、生産の中断状況を防止し、長時間の連続生産を可能にする。
また、上述したように構成された本実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置は、媒介部材を経ずに第1のヒーターの熱を原料容器に直接伝達することによって、第1のヒーターの温度制御による原料容器内の原料物質の温度反応を迅速に行うことができ、原料容器内の原料物質の温度も大きい変動なしに所望の目標温度に一定に維持することができ、原料物質の安定的な気化によって均一な蒸着及び大面積蒸着を行うことができる。
また、上述したように構成された本実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置は、気化チャンバーの上面に気化チャンバーに熱を供給する第2のヒーターを設置することによって、気化チャンバーを通過する気化された原料物質の液体又は固体状態への相変化を防止することができ、基板上に蒸着されずに残った気化された原料物質が噴射口に付着されて噴射口を閉塞する現象を防止することができる。
一方、図2は、本発明の第2の実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置を簡略に示した図である。
図2を参照すると、本実施例の大容量薄膜形成用蒸着装置200は、複数のセンサー250が原料容器110にそれぞれ設置されることを特徴とする。図2において、図1に示した各部材と同一の図面符号によって示される各部材は、同一の構成及び機能を有するものであって、それらについての詳細な説明は省略する。
前記センサー250は、複数設けられて原料容器110にそれぞれ設置される。センサー250は、原料容器110から流出する気化された原料物質の量を感知する。
前記制御部260は、センサー250から原料容器内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、原料容器110から気化される原料物質の量を制御する。センサー250で測定される原料物質の量によって第1のヒーター140の温度及び移送ユニット170の作動方向又は移送速度を制御し、気化される原料物質の量を調節する。
このとき、一つのセンサー250がそれぞれの原料容器110に設置されるので、制御部260は複数の移送ユニット170を個別的に制御する。
センサー250がそれぞれの原料容器110に設置されることによって、制御部260が原料物質の気化量を調節するオプションが多様になる。すなわち、複数の原料容器110の全体的な気化量が不足する場合、第1のヒーター140の温度を高めることもでき、複数の移送ユニット170を同時に制御することによって、原料物質と第1のヒーター140との間の距離を近づけることができる。一方、特定の原料容器110での気化量が不足する場合、第1のヒーター140の温度はそのままにし、該当の原料容器110に結合された移送ユニット170のみを制御することによって、原料物質と第1のヒーター140との間の距離を近づけることができる。
上述したように構成された本実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置は、センサーがそれぞれの原料容器に設置されることによって、制御部が原料物質の気化量を調節するオプションが多様にすることができ、それぞれの原料容器で均一な気化量を維持することができる。
一方、図3は、本発明の第3の実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置を簡略に示した図である。
図3を参照すると、本実施例の大容量薄膜形成用蒸着装置300は、複数の第1のヒーター340が原料容器110にそれぞれ設置されることを特徴とする。図3において、図1に示した各部材と同一の図面符号によって示される各部材は、同一の構成及び機能を有するものであって、それらについての詳細な説明は省略する。
前記第1のヒーター340は、複数設けられて原料容器110にそれぞれ設置され、原料容器110の外周面を取り囲みながら冷却部146の上側に配置される。
前記制御部360は、気化チャンバー120に設置されたセンサー150から気化チャンバー120内の原料物質の量のフィードバックを受け、原料容器110から気化される原料物質の量を制御する。
このとき、原料物質の気化量を感知するセンサー150が気化チャンバー120に設置されるので、制御部360は、複数の移送ユニット170を同時に制御し、複数の第1のヒーター340を個別的に制御する。
気化チャンバー120内の原料物質の気化量が不足する場合、それぞれの第1のヒーター340の温度を高めることもでき、複数の移送ユニット170を同時に制御することによって、原料物質と第1のヒーター340との間の距離を近づけることができる。
一方、図4は、本発明の第4の実施例に係る大容量薄膜形成用蒸着装置を簡略に示した図である。
図4を参照すると、本実施例の大容量薄膜形成用蒸着装置400は、複数の第1のヒーター440と複数のセンサー450が原料容器110にそれぞれ設置されることを特徴とする。図4において、図1に示した各部材と同一の図面符号によって示される各部材は、同一の構成及び機能を有するものであって、それらについての詳細な説明は省略する。
前記第1のヒーター440は、複数設けられて原料容器110にそれぞれ設置され、原料容器110の外周面を取り囲みながら冷却部146の上側に配置される。
前記センサー450は、複数設けられて原料容器110にそれぞれ設置される。センサー450は、原料容器110から流出する気化された原料物質の量を感知する。
前記制御部460は、センサー450から原料容器110内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、原料容器110から気化される原料物質の量を制御する。
このとき、原料物質の気化量を感知するセンサー150が原料容器110にそれぞれ設置されるので、制御部460は、複数の移送ユニット170を個別的に制御し、複数の第1のヒーター440を個別的に制御する。
センサー450がそれぞれの原料容器110に設置されることによって、制御部460が原料物質の気化量を調節するオプションが多様になる。すなわち、複数の原料容器110の全体的な気化量が不足する場合、全ての第1のヒーター440の温度を高めることもでき、複数の移送ユニット170を同時に制御することによって、原料物質と第1のヒーター440との間の距離を近づけることができる。一方、特定の原料容器110での気化量が不足する場合、該当の原料容器110に結合された第1のヒーター440の温度を高めることもでき、該当の原料容器110に結合された移送ユニット170のみを制御することによって、原料物質と第1のヒーター440との間の距離を近づけることもできる。
本発明の権利範囲は、上述した実施例及び変形例に限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲内で多様な形態の実施例で具現可能である。特許請求の範囲で請求する本発明の要旨を逸脱することなく、当該発明の属する技術分野で通常の知識を有する者であれば誰でも変形可能な多様な範囲までを本発明の特許請求の範囲に記載した範囲と見なす。
100:大容量薄膜形成用蒸着装置、110:原料容器、120:気化チャンバー、130:噴射口、140:第1のヒーター、146:冷却部、150:センサー、160:制御部
Claims (10)
- 基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される複数の原料容器と、
前記原料容器の上側に前記原料容器と連通するように結合され、前記原料容器から気化された原料物質が通過する気化チャンバーと、
前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化された原料物質を上側に噴射する噴射口と、
前記気化チャンバーの内部で前記原料容器の上側に設置され、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料容器に熱を供給する第1のヒーターと、
前記気化チャンバーに設置され、前記気化チャンバーを通過する気化された原料物質の量を感知するセンサーと、
前記センサーから前記気化チャンバー内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、前記原料容器から気化される原料物質の量を制御する制御部と、を含むことを特徴とする大容量薄膜形成用蒸着装置。 - 基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される複数の原料容器と、
前記原料容器の上側に前記原料容器と連通するように結合され、前記原料容器から気化された原料物質が通過する気化チャンバーと、
前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化された原料物質を上側に噴射する噴射口と、
前記気化チャンバーの内部で前記原料容器の上側に設置され、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料容器に熱を供給する第1のヒーターと、
前記原料容器に設置され、前記原料容器から流出する気化された原料物質の量を感知する複数のセンサーと、
前記センサーから前記原料容器内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、前記原料容器から気化される原料物質の量を制御する制御部と、を含むことを特徴とする大容量薄膜形成用蒸着装置。 - 基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される複数の原料容器と、
前記原料容器の上側に前記原料容器と連通するように結合され、前記原料容器から気化された原料物質が通過する気化チャンバーと、
前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化された原料物質を上側に噴射する噴射口と、
前記原料容器に設置され、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料容器に熱を供給する複数の第1のヒーターと、
前記気化チャンバーに設置され、前記気化チャンバーを通過する気化された原料物質の量を感知するセンサーと、
前記センサーから前記気化チャンバー内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、前記原料容器から気化される原料物質の量を制御する制御部と、を含むことを特徴とする大容量薄膜形成用蒸着装置。 - 基板上に蒸着される原料物質が固体又は液体状態で収容される複数の原料容器と、
前記原料容器の上側に前記原料容器と連通するように結合され、前記原料容器から気化された原料物質が通過する気化チャンバーと、
前記気化チャンバーの上部に形成され、前記気化チャンバーを通過した気化された原料物質を上側に噴射する噴射口と、
前記原料容器に設置され、前記原料容器に収容された原料物質を気化させるために前記原料容器に熱を供給する複数の第1のヒーターと、
前記原料容器に設置され、前記原料容器から流出する気化された原料物質の量を感知する複数のセンサーと、
前記センサーから前記原料容器内の気化された原料物質の量のフィードバックを受け、前記原料容器から気化される原料物質の量を制御する制御部と、を含むことを特徴とする大容量薄膜形成用蒸着装置。 - 前記原料容器にそれぞれ結合され、前記原料容器内の原料物質を前記第1のヒーターに近づく方向又は前記第1のヒーターから遠ざかる方向に移送させる複数の移送ユニットをさらに含むことを特徴とする、請求項1〜4のうちいずれか1項に記載の大容量薄膜形成用蒸着装置。
- 前記制御部は、
前記センサーから気化される原料物質の量のフィードバックを受け、気化される原料物質の量が予め設定された基準量より少ないと、原料物質を前記第1のヒーターに近づく方向に移送させるように前記移送ユニットに信号を伝送したり、前記第1のヒーターの温度を上昇させる信号を伝送し、気化される原料物質の量が予め設定された基準量より多いと、原料物質を前記第1のヒーターから遠ざかる方向に移送させるように前記移送ユニットに信号を伝送したり、前記第1のヒーターの温度を下降させる信号を伝送することを特徴とする、請求項5に記載の大容量薄膜形成用蒸着装置。 - 前記気化チャンバーの内部に設置され、前記第1のヒーターによって前記原料容器に熱が供給される間、前記原料容器に収容された原料物質又は不純物が飛散して前記噴射口に付着されることを遮断する遮断板をさらに含むことを特徴とする、請求項1〜4のうちいずれか1項に記載の大容量薄膜形成用蒸着装置。
- 前記遮断板は、
平板形態で設けられ、前記気化チャンバーの内壁から一定距離だけ離隔するように配置されることを特徴とする、請求項7に記載の大容量薄膜形成用蒸着装置。 - 前記気化チャンバーの上面及び側面に設置され、前記気化チャンバーを通過する気化された原料物質の液体又は固体状態への相変化を防止するために前記気化チャンバーに熱を供給する第2のヒーターをさらに含むことを特徴とする、請求項1〜4のうちいずれか1項に記載の大容量薄膜形成用蒸着装置。
- 前記原料容器と前記気化チャンバーは着脱可能に結合されることを特徴とする、請求項1〜4のうちいずれか1項に記載の大容量薄膜形成用蒸着装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110117770A (zh) * | 2018-02-06 | 2019-08-13 | 三星显示有限公司 | 有机物沉积装置以及利用此的有机物沉积方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103695848B (zh) * | 2013-12-30 | 2015-10-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀设备及其蒸镀方法 |
US20170022605A1 (en) * | 2014-03-11 | 2017-01-26 | Joled Inc. | Deposition apparatus, method for controlling same, deposition method using deposition apparatus, and device manufacturing method |
CN106148898B (zh) * | 2015-04-28 | 2020-02-07 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 具有优化的热排放特性的孔板 |
US10300634B2 (en) * | 2015-11-16 | 2019-05-28 | The Boeing Company | Advanced multiple grid heat sources to achieve optimized cure structure and method of making the same |
CN106906445B (zh) * | 2017-03-29 | 2019-02-12 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种蒸发源 |
CN108048797A (zh) * | 2017-12-29 | 2018-05-18 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种三t型oled蒸镀线源 |
JP6526880B1 (ja) * | 2018-06-29 | 2019-06-05 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源及び蒸着装置 |
CN112899644A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-06-04 | 山东欣远新材料科技有限公司 | 一种金刚石膜氧化硼掺杂方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004059982A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Matsushita Electric Works Ltd | 真空蒸着方法 |
JP2007128898A (ja) * | 2002-07-19 | 2007-05-24 | Lg Electron Inc | 有機電界発光膜蒸着用蒸着源 |
JP2008081778A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Tokyo Electron Ltd | 蒸着装置、蒸着装置の制御装置、蒸着装置の制御方法および蒸着装置の使用方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003155555A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-30 | Eiko Engineering Co Ltd | 薄膜堆積用複合分子線源セル |
KR100397196B1 (ko) * | 2002-08-27 | 2003-09-13 | 에이엔 에스 주식회사 | 유기 반도체 장치의 유기물질 증착원 장치 및 그 방법 |
JP4493926B2 (ja) * | 2003-04-25 | 2010-06-30 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 製造装置 |
US20070231490A1 (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-04 | Eastman Kodak Company | Uniformly vaporizing metals and organic materials |
EP1862564B1 (de) * | 2006-06-03 | 2008-09-03 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Vorrichtung zum Verdampfen von Materialien mit einem Verdampferrohr |
JP2008019477A (ja) * | 2006-07-13 | 2008-01-31 | Canon Inc | 真空蒸着装置 |
US8153201B2 (en) * | 2007-10-23 | 2012-04-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing light-emitting device, and evaporation donor substrate |
KR100926437B1 (ko) * | 2008-11-17 | 2009-11-13 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 증착 물질 공급 장치 및 이를 구비한 기판 처리 장치 |
-
2011
- 2011-04-13 KR KR1020110034340A patent/KR101233629B1/ko not_active IP Right Cessation
-
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007128898A (ja) * | 2002-07-19 | 2007-05-24 | Lg Electron Inc | 有機電界発光膜蒸着用蒸着源 |
JP2004059982A (ja) * | 2002-07-26 | 2004-02-26 | Matsushita Electric Works Ltd | 真空蒸着方法 |
JP2008081778A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Tokyo Electron Ltd | 蒸着装置、蒸着装置の制御装置、蒸着装置の制御方法および蒸着装置の使用方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110117770A (zh) * | 2018-02-06 | 2019-08-13 | 三星显示有限公司 | 有机物沉积装置以及利用此的有机物沉积方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201244223A (en) | 2012-11-01 |
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