JP2012198197A - 光学試験表面の形状を判定する方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学試験表面14の形状を判定する方法は、測定ビーム30の波面を適合光学系20により光学試験表面14の所望の形状に適合させ、光学試験表面14の形状を適合済測定ビームにより干渉測定するステップと、適合済測定ビームを光学試験表面に種々の入射角で照射し、測定ビームの波面を光学試験表面14との相互作用後にそれぞれ測定するステップと、個々の入射角ごとに測定された波面からの干渉測定結果に対する適合光学系20の影響を確定するステップと、光学試験表面の形状を、適合光学系20の確定された影響を干渉測定結果から除去することにより判定するステップとを含む。
【選択図】図1
Description
12 光学素子
14 光学試験表面
16 保持デバイス
18−1 素子ホルダ
18−2 素子ホルダ
18−3 素子ホルダ
19 保持柱
20 回折光学素子
21 キャビティユニット
22 フィゾー板
24 干渉計ユニット
25 変位デバイス
26 評価デバイス
27 放射源
28 導波管
29 垂線
30 測定ビーム
30a 入射測定ビーム
30b 戻り測定ビーム
31 コリメータ
32 調整可能な偏向ミラー
34 傾斜運動
36 調整可能なスプリッタミラー
38 傾斜運動
40 並進運動
42 参照表面
44 参照ビーム
46 コリメータ
48 アパーチャ
50 接眼レンズ
52 カメラ
54−1 光学表面
54−2 光学表面
54−3 光学表面
54−4 光学表面
56 出口開口
70 回折素子系
324 干渉計ユニット
362 並進運動
364 スプリッタミラー
366 コリメータ
424 干渉計ユニット
450 放物面ミラー
466 放物面ミラー
520a 第1回折光学素子
520b 第2回折光学素子
521 キャビティユニット
522 球面フィゾーレンズ
530a 入射物体ビーム
530b 戻り物体ビーム
542 参照表面
544 参照ビーム
570 二重回折素子系
620 二値化回折光学素子
621 キャビティユニット
Claims (12)
- 光学試験表面の形状を判定する方法であって、
測定ビームの波面を適合光学系により前記光学試験表面の所望の形状に適合させ、前記光学試験表面の前記形状を適合済測定ビームにより干渉測定するステップと、
前記適合済測定ビームを前記光学試験表面に種々の入射角で照射し、前記測定ビームの前記波面を前記光学試験表面との相互作用後にそれぞれ測定するステップと、
個々の入射角ごとに測定された前記波面からの干渉測定結果に対する前記適合光学系の影響を確定するステップと、
前記光学試験表面の前記形状を、前記適合光学系の確定された影響を前記干渉測定結果から除去することにより判定するステップと
を含む方法。 - 請求項1に記載の方法において、
光学分岐デバイスにより、参照ビームが前記測定ビームから分岐され、前記干渉測定結果に対する前記分岐デバイスの影響が、前記個々の入射角ごとに測定された前記波面から確定され、前記光学試験表面の前記形状の確定中に、前記分岐デバイスの確定された影響が前記干渉測定結果から除去される方法。 - 請求項1又は2に記載の方法において、
前記測定ビームの前記波面の測定は、検出器カメラにより記録された干渉パターンを評価することにより実施され、前記測定ビームの個別光線が、前記検出器カメラにおける個々の測定点に割り当てられ、さらに、レイトレーシングを用いて、前記個別光線の突入点のシミュレーション座標が、前記入射角の関数として前記適合光学系の少なくとも1つの光学表面に関して提供され、前記干渉測定結果に対する前記適合光学系の影響の確定中に、前記突入点の前記座標が考慮される方法。 - 請求項1又は2に記載の方法において、
前記波面は、レイトレーシングにより前記入射角の関数としてシミュレートされ、シミュレーション中に考慮した前記波面に対する前記適合光学系の前記少なくとも1つの光学表面の寄与がそれにより変更され、シミュレーション結果を前記測定波面と比較することにより、前記少なくとも1つの光学表面の寄与が確定され、前記確定された寄与は、前記干渉測定結果に対する前記適合光学系の影響を確定する際に用いられる方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法において、前記光学試験表面の前記所望の形状は自由曲面である方法。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法において、
前記適合済測定ビームの照射時に、前記光学試験方面に対する前記入射角は2次元で変更される方法。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法において、
前記光学試験表面はマイクロリソグラフィ用の光学素子により形成される方法。 - 請求項7に記載の方法において、
前記光学素子はEUVミラーとして構成される方法。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法において、
前記適合光学系は回折光学素子を含む方法。 - 光学試験表面の形状を判定する装置であって、
測定ビームの波面を前記光学試験表面の所望の形状に適合させる適合光学系であり、前記装置は前記光学試験表面の前記形状を干渉測定するよう構成された適合光学系と、
適合済測定ビームを種々の入射角で前記光学試験表面に照射する入射角変更デバイスと、
前記光学試験表面との相互作用後に前記種々の入射角で測定された前記測定ビームの前記波面からの干渉測定結果に対する前記適合光学系の影響を確定し、且つ前記適合光学系の確定された影響を前記干渉測定結果から除去することにより前記光学試験表面の前記形状を判定するよう構成された評価デバイスと
を備える装置。 - 請求項10に記載の装置において、
前記入射角変更デバイスは調整可能な偏向ミラーを含む装置。 - 請求項10又は11に記載の装置において、
請求項1〜9のいずれか1項に記載の方法を実施するよう構成された装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102011004376A DE102011004376B3 (de) | 2011-02-18 | 2011-02-18 | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer Form einer optischen Testfläche |
DE102011004376.4 | 2011-02-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012198197A true JP2012198197A (ja) | 2012-10-18 |
JP5069378B2 JP5069378B2 (ja) | 2012-11-07 |
Family
ID=46512533
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012029778A Active JP5069378B2 (ja) | 2011-02-18 | 2012-02-14 | 光学試験表面の形状を判定する方法及び装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8687203B2 (ja) |
JP (1) | JP5069378B2 (ja) |
CN (1) | CN102645181B (ja) |
DE (1) | DE102011004376B3 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102015222789A1 (de) | 2014-12-11 | 2016-06-16 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Vermessung einer optischen Oberfläche |
DE102015202676B4 (de) * | 2015-02-13 | 2016-09-22 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Interferometrische Messvorrichtung |
US9546860B2 (en) * | 2015-04-18 | 2017-01-17 | Mediatek Singapore Pte. Ltd. | Method and system for contactless dimensional measurement of articles |
DE102017217371A1 (de) | 2017-09-29 | 2019-04-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines optischen Elements |
CN110428471B (zh) * | 2019-07-05 | 2021-12-07 | 复旦大学 | 一种针对光学自由曲面子孔径偏折测量的精确自定位方法 |
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Family Cites Families (2)
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US8269981B1 (en) | 2009-03-30 | 2012-09-18 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method and an apparatus for measuring a deviation of an optical test surface from a target shape |
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2011
- 2011-02-18 DE DE102011004376A patent/DE102011004376B3/de active Active
-
2012
- 2012-02-14 JP JP2012029778A patent/JP5069378B2/ja active Active
- 2012-02-17 US US13/399,716 patent/US8687203B2/en active Active
- 2012-02-20 CN CN2012100403376A patent/CN102645181B/zh active Active
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US20090079992A1 (en) * | 2007-09-25 | 2009-03-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Method And System for Measuring a Surface of an Object |
JP2009150813A (ja) * | 2007-12-21 | 2009-07-09 | National Institutes Of Natural Sciences | 波面センサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120236316A1 (en) | 2012-09-20 |
DE102011004376B3 (de) | 2012-06-21 |
CN102645181B (zh) | 2013-10-02 |
JP5069378B2 (ja) | 2012-11-07 |
CN102645181A (zh) | 2012-08-22 |
US8687203B2 (en) | 2014-04-01 |
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Legal Events
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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