|
JP5669636B2
(ja)
*
|
2011-03-15 |
2015-02-12 |
キヤノン株式会社 |
荷電粒子線レンズおよびそれを用いた露光装置
|
|
JP2012195096A
(ja)
*
|
2011-03-15 |
2012-10-11 |
Canon Inc |
荷電粒子線レンズおよびそれを用いた露光装置
|
|
JP5430703B2
(ja)
*
|
2012-03-30 |
2014-03-05 |
キヤノン株式会社 |
描画装置、および物品の製造方法
|
|
JP2015070213A
(ja)
*
|
2013-09-30 |
2015-04-13 |
キヤノン株式会社 |
描画装置、および物品の製造方法
|
|
DE102015202172B4
(de)
|
2015-02-06 |
2017-01-19 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Teilchenstrahlsystem und Verfahren zur teilchenoptischen Untersuchung eines Objekts
|
|
US11302511B2
(en)
*
|
2016-02-04 |
2022-04-12 |
Kla Corporation |
Field curvature correction for multi-beam inspection systems
|
|
US20190066972A1
(en)
*
|
2017-08-29 |
2019-02-28 |
ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH |
Charged particle beam device, aperture arrangement for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device
|
|
EP3474308A1
(en)
*
|
2017-10-17 |
2019-04-24 |
Universiteit Antwerpen |
Spatial phase manipulation of charged particle beam
|
|
DE102018202421B3
(de)
*
|
2018-02-16 |
2019-07-11 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
|
|
DE102018202428B3
(de)
|
2018-02-16 |
2019-05-09 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Vielstrahl-Teilchenmikroskop
|
|
WO2019166331A2
(en)
|
2018-02-27 |
2019-09-06 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Charged particle beam system and method
|
|
US10811215B2
(en)
|
2018-05-21 |
2020-10-20 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Charged particle beam system
|
|
DE102018115012A1
(de)
|
2018-06-21 |
2019-12-24 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Teilchenstrahlsystem
|
|
DE102018007455B4
(de)
|
2018-09-21 |
2020-07-09 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Verfahren zum Detektorabgleich bei der Abbildung von Objekten mittels eines Mehrstrahl-Teilchenmikroskops, System sowie Computerprogrammprodukt
|
|
DE102018007652B4
(de)
*
|
2018-09-27 |
2021-03-25 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Teilchenstrahl-System sowie Verfahren zur Stromregulierung von Einzel-Teilchenstrahlen
|
|
DE102018124044B3
(de)
|
2018-09-28 |
2020-02-06 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Verfahren zum Betreiben eines Vielstrahl-Teilchenstrahlmikroskops und Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem
|
|
DE102018124219A1
(de)
|
2018-10-01 |
2020-04-02 |
Carl Zeiss Microscopy Gmbh |
Vielstrahl-Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben eines solchen
|
|
TWI743626B
(zh)
|
2019-01-24 |
2021-10-21 |
德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 |
包含多束粒子顯微鏡的系統、對3d樣本逐層成像之方法及電腦程式產品
|
|
CN111477530B
(zh)
|
2019-01-24 |
2023-05-05 |
卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司 |
利用多束粒子显微镜对3d样本成像的方法
|
|
DE102019004124B4
(de)
|
2019-06-13 |
2024-03-21 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Teilchenstrahl-System zur azimutalen Ablenkung von Einzel-Teilchenstrahlen sowie seine Verwendung und Verfahren zur Azimut-Korrektur bei einem Teilchenstrahl-System
|
|
DE102019005362A1
(de)
|
2019-07-31 |
2021-02-04 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Verfahren zum Betreiben eines Vielzahl-Teilchenstrahlsystems unter Veränderung der numerischen Apertur, zugehöriges Computerprogrammprodukt und Vielzahl-Teilchenstrahlsystem
|
|
DE102019008249B3
(de)
|
2019-11-27 |
2020-11-19 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Teilchenstrahl-System mit einer Multistrahl-Ablenkeinrichtung und einem Strahlfänger, Verfahren zum Betreiben des Teilchenstrahl-Systems und zugehöriges Computerprogrammprodukt
|
|
KR102799604B1
(ko)
|
2020-02-04 |
2025-04-23 |
칼 짜이스 멀티셈 게엠베하 |
다중 빔 디지털 스캐닝 및 이미지 획득
|
|
JP7689139B2
(ja)
|
2020-03-12 |
2025-06-05 |
カール ツァイス マルティセム ゲゼルシヤフト ミット ベシュレンクテル ハフツング |
マルチビーム発生ユニットおよびマルチビーム偏向ユニットの特定の改善
|
|
DE102020107738B3
(de)
|
2020-03-20 |
2021-01-14 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Teilchenstrahl-System mit einer Multipol-Linsen-Sequenz zur unabhängigen Fokussierung einer Vielzahl von Einzel-Teilchenstrahlen, seine Verwendung und zugehöriges Verfahren
|
|
DE102020123567B4
(de)
|
2020-09-09 |
2025-02-13 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Vielzahl-Teilchenstrahl-System mit Kontrast-Korrektur-Linsen-System
|
|
TW202220012A
(zh)
|
2020-09-30 |
2022-05-16 |
德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 |
在可調工作距離附近具快速自動對焦之多重粒子束顯微鏡及相關方法
|
|
DE102021200799B3
(de)
|
2021-01-29 |
2022-03-31 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Verfahren mit verbesserter Fokuseinstellung unter Berücksichtigung eines Bildebenenkipps in einem Vielzahl-Teilchenstrahlmikroskop
|
|
TW202312205A
(zh)
|
2021-05-27 |
2023-03-16 |
德商卡爾蔡司多重掃描電子顯微鏡有限公司 |
多重射束帶電粒子系統與在多重射束帶電粒子系統中控制工作距離的方法
|
|
DE102021116969B3
(de)
|
2021-07-01 |
2022-09-22 |
Carl Zeiss Multisem Gmbh |
Verfahren zur bereichsweisen Probeninspektion mittels eines Vielstrahl-Teilchenmikroskopes, Computerprogrammprodukt und Vielstrahl-Teilchenmikroskop zur Halbleiterprobeninspektion
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|
EP4383308A1
(en)
*
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2022-12-05 |
2024-06-12 |
ASML Netherlands B.V. |
Electron-optical stack, module, assessment apparatus, method of manufacturing an electron-optical stack
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