JPS6188438A - フライズアイレンズの製造方法 - Google Patents
フライズアイレンズの製造方法Info
- Publication number
- JPS6188438A JPS6188438A JP20980884A JP20980884A JPS6188438A JP S6188438 A JPS6188438 A JP S6188438A JP 20980884 A JP20980884 A JP 20980884A JP 20980884 A JP20980884 A JP 20980884A JP S6188438 A JPS6188438 A JP S6188438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- electrode
- fly
- eye lens
- conductive plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/12—Lenses electrostatic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、複数本の荷電ビームを用いてウェハやマスク
基板等の試料に微細パターンを描画するマルチ荷電ビー
ム露光装置等に用いられるフライズアイレンズの製造方
法に関するものである。
基板等の試料に微細パターンを描画するマルチ荷電ビー
ム露光装置等に用いられるフライズアイレンズの製造方
法に関するものである。
従来のフライズアイレンズの一例として、Ｉ。
Ｂｒｏｄｉｅ、 Ｅ、Ｒ，Ｗｅｓｔｅｒｂｅｒｇ、 Ｄ
、Ｒ，Ｃｏｎｅ、 Ｊ、Ｊ、Ｍｕｒａｙ。
、Ｒ，Ｃｏｎｅ、 Ｊ、Ｊ、Ｍｕｒａｙ。
Ｎ、 Ｗｉｌｌｉａｍｓ、 ａｎｄ Ｌ、 Ｇａ５１ｏ
ｒｅｋ ： ”Ａ Ｍａｌｔｉｐ’ｌｅ−Ｅｌｅｃｔｒ
ｏｎ−Ｂｅａｍ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｓｙｓｔｅｍ
ｆｏｒ Ｈｉｇｈ−Ｔｈｒｏｕｇｈｐｕｔ、Ｄｉ
ｒｅｃｔ−Ｗｒｉｔｅ Ｓｕｂｍｉｃｒｏｍｅｔｅｒ
Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ” 、ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ、
ｏｎ ＥｌｅｃｔｒｏｎＤｅｖｉｃｅｓ、 Ｖｏｌ、
ＥＤ−２８，ｐ、１４２２ （１９８１）に記載され
ている、静電レンズを用いたフライズアイレンズの断面
図を第１図に示す。図において、１０１はフライズアイ
レンズ、１０２に代表される孔はフライズアイレンズ１
０１を構成する静電レンズのレンズ孔、１０３は試料で
ある。フライズアイレンズ１０１は、１枚の導電板に直
径１．５ｍのレンズ孔１０２をあけた複数のアパーチャ
レンズから構成されており、フライズアイレンズ１０１
の図の左側から照射される電子ビームを、試料１０３上
に複数本同時に集束する。フライズアイレンズ１０１の
右面から試料１０３の表面までの距離は２０１ｍである
。フライズアイレンズ１０１には１ｋＶ、試料１０３に
は約９ｋＶの電圧が印加されている。フライズアイレン
ズ１０１は、導電板に円孔をあけるだけという、きわめ
て単純な構造になっているため、レンズの製造は比較的
容易である。しかし、このアパーチャレンズでは、３次
の球面収差係数が２１００＋ｎｎ、１次の色収差係数が
１８０ｍｍという大きな値になるため、電子ビームを細
く絞ることができないという問題がある。
ｒｅｋ ： ”Ａ Ｍａｌｔｉｐ’ｌｅ−Ｅｌｅｃｔｒ
ｏｎ−Ｂｅａｍ Ｅｘｐｏｓｕｒｅ Ｓｙｓｔｅｍ
ｆｏｒ Ｈｉｇｈ−Ｔｈｒｏｕｇｈｐｕｔ、Ｄｉ
ｒｅｃｔ−Ｗｒｉｔｅ Ｓｕｂｍｉｃｒｏｍｅｔｅｒ
Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ” 、ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ、
ｏｎ ＥｌｅｃｔｒｏｎＤｅｖｉｃｅｓ、 Ｖｏｌ、
ＥＤ−２８，ｐ、１４２２ （１９８１）に記載され
ている、静電レンズを用いたフライズアイレンズの断面
図を第１図に示す。図において、１０１はフライズアイ
レンズ、１０２に代表される孔はフライズアイレンズ１
０１を構成する静電レンズのレンズ孔、１０３は試料で
ある。フライズアイレンズ１０１は、１枚の導電板に直
径１．５ｍのレンズ孔１０２をあけた複数のアパーチャ
レンズから構成されており、フライズアイレンズ１０１
の図の左側から照射される電子ビームを、試料１０３上
に複数本同時に集束する。フライズアイレンズ１０１の
右面から試料１０３の表面までの距離は２０１ｍである
。フライズアイレンズ１０１には１ｋＶ、試料１０３に
は約９ｋＶの電圧が印加されている。フライズアイレン
ズ１０１は、導電板に円孔をあけるだけという、きわめ
て単純な構造になっているため、レンズの製造は比較的
容易である。しかし、このアパーチャレンズでは、３次
の球面収差係数が２１００＋ｎｎ、１次の色収差係数が
１８０ｍｍという大きな値になるため、電子ビームを細
く絞ることができないという問題がある。
一方、低収差の静電レンズの一例として、Ｊ。
０ｒｌｏｆｆ ａｎｄ Ｌ、Ｅ、Ｓｗａｎｓｏｎ
： “Ａｎ ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃｅｌｅｃｔｒ
ｏｓｔａｔｉｃ １ｅｎｓ ｆｏｒ ｆｉｅｌｄ
−ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｍ１ｃｒｏ−ｐｒｏｂｅ ａｐ
ｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ” Ｊ、Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、
５０． ｐ、２４９４（１９７９）に掲載されている
アインツエルレンズの断面図を第２図に示す。図におい
て、２０１は第１電極、２０２は第２電極、２０３は第
３電極、２０４は光軸である。図に示すように、第２電
極２０２は口径の異なるレンズ孔を有している。物面は
図の左側に、像面ば図の右側に存在する６レンズ寸法は
。
： “Ａｎ ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃｅｌｅｃｔｒ
ｏｓｔａｔｉｃ １ｅｎｓ ｆｏｒ ｆｉｅｌｄ
−ｅｍｉｓｓｉｏｎ ｍ１ｃｒｏ−ｐｒｏｂｅ ａｐ
ｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ” Ｊ、Ａｐｐｌ、 Ｐｈｙｓ、
５０． ｐ、２４９４（１９７９）に掲載されている
アインツエルレンズの断面図を第２図に示す。図におい
て、２０１は第１電極、２０２は第２電極、２０３は第
３電極、２０４は光軸である。図に示すように、第２電
極２０２は口径の異なるレンズ孔を有している。物面は
図の左側に、像面ば図の右側に存在する６レンズ寸法は
。
第２図において、ｔ’＝１ｍｍ、 ５＝３ａｎ、 Ｑ＝
１７閉、ｔ＝３ｍｎ、Ｄ ＝ ３ ｕｎ、 Ｄ’ ＝１
８ｍｍである。このレンズでは、倍率が零、ワーキング
ディスタンス（第３電極２０３の右面から像面までの距
離）が２０■の条件下で、３次の球面収差係数が１３０
０ｍｍ、１次の色収差係数が７４＋ｎ＋＋＋と小さい値
になるので、ビームを十分に絞ることができる。従って
、第２図に示したような低収差のＤＮレンズを複数個配
置すれば、低収差のフライズアイレンズを実現できる６
−例として、第３図に、第２図に示したレンズにより構
成したフライズアイレンズの断面図を示す。図において
、３０１は第１電極、３０２は第２電極、３０３は第３
電極、３０４．３０５に代表される孔は第２電極３０２
にあけたレンズ孔である。
１７閉、ｔ＝３ｍｎ、Ｄ ＝ ３ ｕｎ、 Ｄ’ ＝１
８ｍｍである。このレンズでは、倍率が零、ワーキング
ディスタンス（第３電極２０３の右面から像面までの距
離）が２０■の条件下で、３次の球面収差係数が１３０
０ｍｍ、１次の色収差係数が７４＋ｎ＋＋＋と小さい値
になるので、ビームを十分に絞ることができる。従って
、第２図に示したような低収差のＤＮレンズを複数個配
置すれば、低収差のフライズアイレンズを実現できる６
−例として、第３図に、第２図に示したレンズにより構
成したフライズアイレンズの断面図を示す。図において
、３０１は第１電極、３０２は第２電極、３０３は第３
電極、３０４．３０５に代表される孔は第２電極３０２
にあけたレンズ孔である。
ところで、フライズアイレンズにおいては、フライズア
イレンズを構成する各レンズの光学的特性を一致させる
ことが要求される。このためには、フライズアイレンズ
を構成する各レンズについて、レンズの口径、電極の厚
さ、電極間の距離などをそろえ、さらに、電極の加工で
は、レンズ孔の内面が滑らかになるようにする必要があ
る。アインツエルレンズでは、第１電極、第３電極と比
べて、第２電極の形状・寸法が、アインツエルレンズの
収差に最も影響を与える。第３図に示したフライズアイ
レンズにおいて、各レンズの焦点距離を±２１Ｍ程度の
ばらつきで得ようとした場合、各レンズのレンズ孔３０
５の深さｔを±３岬の範囲でそろえることが必要となる
。しかし、第２電極３０２を１枚の金属板から製作しよ
うとした場合、内径Ｄ′、深さαのレンズ孔３０４を加
工する必要があるが、深さＱを精度よく加工することは
一般に困難で、深さＱの寸法精度は±１０ρ程度が限界
である。
イレンズを構成する各レンズの光学的特性を一致させる
ことが要求される。このためには、フライズアイレンズ
を構成する各レンズについて、レンズの口径、電極の厚
さ、電極間の距離などをそろえ、さらに、電極の加工で
は、レンズ孔の内面が滑らかになるようにする必要があ
る。アインツエルレンズでは、第１電極、第３電極と比
べて、第２電極の形状・寸法が、アインツエルレンズの
収差に最も影響を与える。第３図に示したフライズアイ
レンズにおいて、各レンズの焦点距離を±２１Ｍ程度の
ばらつきで得ようとした場合、各レンズのレンズ孔３０
５の深さｔを±３岬の範囲でそろえることが必要となる
。しかし、第２電極３０２を１枚の金属板から製作しよ
うとした場合、内径Ｄ′、深さαのレンズ孔３０４を加
工する必要があるが、深さＱを精度よく加工することは
一般に困難で、深さＱの寸法精度は±１０ρ程度が限界
である。
そして、複数のレンズ孔３０４の深さＱをそろえること
はさらに困難となる。レンズ孔３０４の深さＱがそろわ
ないことは、レンズ孔３０５の深さｔがそろわないこと
になる。また、第２電極３０２の構造では、レンズ孔３
０４．３０５の内面を滑らかに仕上げることも容易でな
い。従って、仮に、第３図に示すようなフライズアイレ
ンズを製作したとしても、フライズアイレンズを構成す
る各レンズの光学的特性を一致させることは困難である
。
はさらに困難となる。レンズ孔３０４の深さＱがそろわ
ないことは、レンズ孔３０５の深さｔがそろわないこと
になる。また、第２電極３０２の構造では、レンズ孔３
０４．３０５の内面を滑らかに仕上げることも容易でな
い。従って、仮に、第３図に示すようなフライズアイレ
ンズを製作したとしても、フライズアイレンズを構成す
る各レンズの光学的特性を一致させることは困難である
。
以上述べたように、マルチ荷電ビーム露光装置等に用い
る従来のフライズアイレンズには、■アパーチャレンズ
を用いたフライズアイレンズは構造が簡単なため製作が
容易であるが、収差が大きい、■第２電極が口径の異な
る２つのレンズ孔を有しているアインツエルレンズを用
いたフライズアイレンズでは、収差は小さいが、フライ
ズアイレンズを構成する各レンズの光学的特性がそろわ
ない、という問題がある。
る従来のフライズアイレンズには、■アパーチャレンズ
を用いたフライズアイレンズは構造が簡単なため製作が
容易であるが、収差が大きい、■第２電極が口径の異な
る２つのレンズ孔を有しているアインツエルレンズを用
いたフライズアイレンズでは、収差は小さいが、フライ
ズアイレンズを構成する各レンズの光学的特性がそろわ
ない、という問題がある。
本発明は、低収差で、かつフライズアイレンズの構成単
位である各静電レンズの光学的特性のそろったフライズ
アイレンズを実現することを目的とする。
位である各静電レンズの光学的特性のそろったフライズ
アイレンズを実現することを目的とする。
本発明は、所定の電位分布を得るための、フライズアイ
レンズの少なくとも１枚の電極を、あらかじめ複数のレ
ンズ孔の孔あけ加工をした複数の導電板を重ね合わせに
より形成することを特徴とする。各導電板のレンズ孔は
高い加工精度で形成できるので、これを重ね合わせるこ
とにより、複雑な形状をした電極をもつ低収差静電レン
ズを複数個配置したフライズアイレンズにおいて、各レ
ンズの光学的特性をそろえるという目的が達せられる。
レンズの少なくとも１枚の電極を、あらかじめ複数のレ
ンズ孔の孔あけ加工をした複数の導電板を重ね合わせに
より形成することを特徴とする。各導電板のレンズ孔は
高い加工精度で形成できるので、これを重ね合わせるこ
とにより、複雑な形状をした電極をもつ低収差静電レン
ズを複数個配置したフライズアイレンズにおいて、各レ
ンズの光学的特性をそろえるという目的が達せられる。
本発明の一実施例であるフライズアイレンズは、次に示
す手順に従って設計したアインツエルレンズで構成した
。すなわち、まず、（ａ）アインツエルレンズが形成す
る光軸上の電位分布を近似関数で表わし、低収差が得ら
れる電位分布をこの近似関数にもとづいて求める、次に
、（ｂ）近似関数で表わした電位分布を実現するように
、アインツエルレンズの構造、寸法、印加電圧を定める
。
す手順に従って設計したアインツエルレンズで構成した
。すなわち、まず、（ａ）アインツエルレンズが形成す
る光軸上の電位分布を近似関数で表わし、低収差が得ら
れる電位分布をこの近似関数にもとづいて求める、次に
、（ｂ）近似関数で表わした電位分布を実現するように
、アインツエルレンズの構造、寸法、印加電圧を定める
。
この手順に従い、まず、アインツエルレンズの光軸上の
電位分布を２次曲線の組合わせで表した場合に、収差が
小さくなることを見いだした。本発明の実施例では、光
軸上の電位分布を４つの２次曲線の組合わせで表わし、
各２次曲線の係数を変化させて、３次の球面収差と１次
の色収差との総合収差が最も小さくなるように、４つの
２次曲線の組合わせで表現した電位分布の形状を定めた
。
電位分布を２次曲線の組合わせで表した場合に、収差が
小さくなることを見いだした。本発明の実施例では、光
軸上の電位分布を４つの２次曲線の組合わせで表わし、
各２次曲線の係数を変化させて、３次の球面収差と１次
の色収差との総合収差が最も小さくなるように、４つの
２次曲線の組合わせで表現した電位分布の形状を定めた
。
アインツエルレンズの倍率を零、ワーキングディスタン
ス（レンズ電極の像面に最も近い面から像面までの距離
）を１０ｍｍとし、ビームの開き角を５ｍｒａｄ、ビー
ムのエネ、ルギー分散を１０−４とした場合について、
総合収差が最小になる電位分布の形状を第４図に実線で
示す。物面は図の左側、像面は図の右側に存在する。実
線の電位分布において、電位が最小になる位置を、光軸
上の位置２の原点とした。実線の曲線は、次式で表わさ
れる。
ス（レンズ電極の像面に最も近い面から像面までの距離
）を１０ｍｍとし、ビームの開き角を５ｍｒａｄ、ビー
ムのエネ、ルギー分散を１０−４とした場合について、
総合収差が最小になる電位分布の形状を第４図に実線で
示す。物面は図の左側、像面は図の右側に存在する。実
線の電位分布において、電位が最小になる位置を、光軸
上の位置２の原点とした。実線の曲線は、次式で表わさ
れる。
ここで、Ｖａは光軸上の電位（単位ｋＶ）、ｚは光軸上
の位置（単位画）である。実線の分布では、３次の球面
収差係数が１７７ｍｎ、 １次の色収差係数が５４ｎｎ
であり、総合収差は０．０３５１！ｍという小さい値に
なる。次に、第４図において、実線の分布の勾配がほぼ
零になるｚ＝１９ｎｎ＋、Ｏｒｍ、７ｎｎ＋の位置に電
極を置き、電極の厚み、レンズ孔の直径等の電極形状を
変えて、光軸上の電位分布を実線の分布に近づけた。こ
のようにして定めたレンズ構造の一例を第５図に示す。
の位置（単位画）である。実線の分布では、３次の球面
収差係数が１７７ｍｎ、 １次の色収差係数が５４ｎｎ
であり、総合収差は０．０３５１！ｍという小さい値に
なる。次に、第４図において、実線の分布の勾配がほぼ
零になるｚ＝１９ｎｎ＋、Ｏｒｍ、７ｎｎ＋の位置に電
極を置き、電極の厚み、レンズ孔の直径等の電極形状を
変えて、光軸上の電位分布を実線の分布に近づけた。こ
のようにして定めたレンズ構造の一例を第５図に示す。
図において、５０１は第１電極、５０２は第２電極、５
０３は第３電極、５０４は光軸である。物面ば図の左側
、像面ば図の右側に存在する。レンズ寸法は、第５図に
おいて、ｔ１＝ １ ｕｒ、 ｔ ２ ＝４．５ｍｍ、
ｔ ３ ＝５．５ｎｎ＋、ｔ４＝１ａｎ＋、ｔ５＝１
ｍｎ、 ５Ｌ＝１１ｉｎ＋、 Ｓ２＝２ｍｍ、Ｄ１＝３
ｍｍ、 Ｄ２＝１０ｍｍ、 Ｄ３＝５＋ｎｍ、Ｄ４＝７
ｍｍ、Ｄ５＝５ｍｍである。このレンズの光軸５０４上
の電位分布を第４図に点線で示す。ここで、第５図の点
０を、第４図の点線の電位分布の原点とした。この点線
の電位分布は、実線の電位分布にきわめて近い形状をし
ている。このレンズでは、３次の球面収差係数が１７７
ｍ、１次の色収差係数が６０ｒｒｒＱであり、総合収差
を０．０３７岬まで低減することができる。
０３は第３電極、５０４は光軸である。物面ば図の左側
、像面ば図の右側に存在する。レンズ寸法は、第５図に
おいて、ｔ１＝ １ ｕｒ、 ｔ ２ ＝４．５ｍｍ、
ｔ ３ ＝５．５ｎｎ＋、ｔ４＝１ａｎ＋、ｔ５＝１
ｍｎ、 ５Ｌ＝１１ｉｎ＋、 Ｓ２＝２ｍｍ、Ｄ１＝３
ｍｍ、 Ｄ２＝１０ｍｍ、 Ｄ３＝５＋ｎｍ、Ｄ４＝７
ｍｍ、Ｄ５＝５ｍｍである。このレンズの光軸５０４上
の電位分布を第４図に点線で示す。ここで、第５図の点
０を、第４図の点線の電位分布の原点とした。この点線
の電位分布は、実線の電位分布にきわめて近い形状をし
ている。このレンズでは、３次の球面収差係数が１７７
ｍ、１次の色収差係数が６０ｒｒｒＱであり、総合収差
を０．０３７岬まで低減することができる。
第６図は、本発明の一実施例であるフライズアイレンズ
の断面図である。このレンズは、上記の方法で設計した
低収差アインツエルレンズを複数個配置したものである
。図において、６０１はフライズアイレンズを構成する
第１電極、６０２はフライズアイレンズを構成する第２
電極、６０３はプライスアイレンズを構成する第３電極
、６０４は第２電極６０２を構成する第１導電板、６０
５は第２電極６０２を構成する第２導電板、６０６は第
２電極６０２を構成する第３導電板である。ここで、導
電板とは、金属や、表面に金属を蒸着した絶縁物等、表
面が導電体である板状のものを指す６また、６０７に代
表される孔は第１電極６０１にあけたレンズ孔、６０８
に代表される孔は第１導電板６０４にあけたレンズ孔、
６０９に代表される孔は第１導電板６０５にあけたレン
ズ孔、６１０に代表される孔は第３導電板６０６にあけ
たレンズ孔、６１１に代表される孔は第３？１ｉ極６０
３にあけたレンズ孔、６１２は位置決めピン、６１３は
第１導電板６０４にあけた位置決め用の孔、６１４は第
２導電板６０５にあけた位置決め用の孔、６１５は第３
導電板６０６にあけた位置決め用の孔、６１６はねじ、
６１７は第１導電板６０４にあけた導電板固定用の孔、
６１８は第２導電板６０５にあけた導電板固定用の孔、
６１９は第３導電板６０６にあけた導電板固定用の孔、
６２０はナツトである。なお、物面ば図の左側、像面ば
図の右側に存在する。
の断面図である。このレンズは、上記の方法で設計した
低収差アインツエルレンズを複数個配置したものである
。図において、６０１はフライズアイレンズを構成する
第１電極、６０２はフライズアイレンズを構成する第２
電極、６０３はプライスアイレンズを構成する第３電極
、６０４は第２電極６０２を構成する第１導電板、６０
５は第２電極６０２を構成する第２導電板、６０６は第
２電極６０２を構成する第３導電板である。ここで、導
電板とは、金属や、表面に金属を蒸着した絶縁物等、表
面が導電体である板状のものを指す６また、６０７に代
表される孔は第１電極６０１にあけたレンズ孔、６０８
に代表される孔は第１導電板６０４にあけたレンズ孔、
６０９に代表される孔は第１導電板６０５にあけたレン
ズ孔、６１０に代表される孔は第３導電板６０６にあけ
たレンズ孔、６１１に代表される孔は第３？１ｉ極６０
３にあけたレンズ孔、６１２は位置決めピン、６１３は
第１導電板６０４にあけた位置決め用の孔、６１４は第
２導電板６０５にあけた位置決め用の孔、６１５は第３
導電板６０６にあけた位置決め用の孔、６１６はねじ、
６１７は第１導電板６０４にあけた導電板固定用の孔、
６１８は第２導電板６０５にあけた導電板固定用の孔、
６１９は第３導電板６０６にあけた導電板固定用の孔、
６２０はナツトである。なお、物面ば図の左側、像面ば
図の右側に存在する。
上記の構成において、第２電極６０２は、以下の手順で
製造する。まず、■導電板６０４〜６０６に、レンズ孔
６０８〜６１０、位置決め用の孔６１３〜６１５、導電
板固定用の孔６１７〜６１９をそれぞれあける、次に、
■導電板６０４〜６０６を重ね合わせる、さらに、■位
置決め用の孔６１３〜６１５に、該位置決め用の孔６１
３〜６１５の内径と同じ外径の位置決めピン６１２を通
し、レンズ孔６０８〜６１０の中心軸を一致させる、最
後に、■この状態で、ねじ６１６を導電板固定用の孔６
１７〜６１９に通し、ナツト６２０で導電板６０４〜６
０６を締め付け、導電板６０４〜６０６を固着させる。
製造する。まず、■導電板６０４〜６０６に、レンズ孔
６０８〜６１０、位置決め用の孔６１３〜６１５、導電
板固定用の孔６１７〜６１９をそれぞれあける、次に、
■導電板６０４〜６０６を重ね合わせる、さらに、■位
置決め用の孔６１３〜６１５に、該位置決め用の孔６１
３〜６１５の内径と同じ外径の位置決めピン６１２を通
し、レンズ孔６０８〜６１０の中心軸を一致させる、最
後に、■この状態で、ねじ６１６を導電板固定用の孔６
１７〜６１９に通し、ナツト６２０で導電板６０４〜６
０６を締め付け、導電板６０４〜６０６を固着させる。
上記した導電板６０４〜６０６の厚みは、それぞれ寸法
精度±１ｐで加工しである。従って、導電板６０４〜６
０６にあけたレンズ孔６０８〜６１０の深さは、それぞ
れの導電板中のすべてのレンズ孔について±１−の範囲
でそろっている。本発明のフライズアイレンズでは、こ
のようにレンズ孔の深さが導電板中のすべてのレンズ孔
についてそろった、３枚の導電板を重ね合わせることに
より、第２電極６０２を形成している。このため、低収
差で、かつフライズアイレンズを構成する各静電レンズ
の光学的特性がそろったフライズアイレンズを実現する
ことができる。
精度±１ｐで加工しである。従って、導電板６０４〜６
０６にあけたレンズ孔６０８〜６１０の深さは、それぞ
れの導電板中のすべてのレンズ孔について±１−の範囲
でそろっている。本発明のフライズアイレンズでは、こ
のようにレンズ孔の深さが導電板中のすべてのレンズ孔
についてそろった、３枚の導電板を重ね合わせることに
より、第２電極６０２を形成している。このため、低収
差で、かつフライズアイレンズを構成する各静電レンズ
の光学的特性がそろったフライズアイレンズを実現する
ことができる。
上記実施例では、複数のアインツエルレンズで構成した
フライズアイレンズの第２電極を例に本発明を説明して
きたが、■アインツエルレンズの第１電極および（また
は）第３電極が、口径の異なる複数のレンズ孔を有して
いる場合、■フライズアイレンズを構成する静電レンズ
が、アパーチャレンズ、パイボテンシアルレンズ等、ア
インツエルレンズ以外のレンズである場合でも、本発明
が適用できることは明らかである。また、上記実施例で
は、フライズアイレンズの第２電極を構成する導電板に
あけたレンズ孔にテーパがない場合を例に本発明を説明
してきたが、第７図に示すように、導電板にあけたレン
ズ孔にテーパがある場合でも、本発明が適用できること
は明らかである。
フライズアイレンズの第２電極を例に本発明を説明して
きたが、■アインツエルレンズの第１電極および（また
は）第３電極が、口径の異なる複数のレンズ孔を有して
いる場合、■フライズアイレンズを構成する静電レンズ
が、アパーチャレンズ、パイボテンシアルレンズ等、ア
インツエルレンズ以外のレンズである場合でも、本発明
が適用できることは明らかである。また、上記実施例で
は、フライズアイレンズの第２電極を構成する導電板に
あけたレンズ孔にテーパがない場合を例に本発明を説明
してきたが、第７図に示すように、導電板にあけたレン
ズ孔にテーパがある場合でも、本発明が適用できること
は明らかである。
以上説明したように、本発明によれば、フライズアイレ
ンズにおいて、複雑な断面形状をしたレンズ電極を、複
数のレンズ孔をあけた複数の導電板の重ね合わせにより
形成するので、フライズアイレンズを構成する各静電レ
ンズの光学的特性がそろった、低収差のフライズアイレ
ンズを実現することができる。
ンズにおいて、複雑な断面形状をしたレンズ電極を、複
数のレンズ孔をあけた複数の導電板の重ね合わせにより
形成するので、フライズアイレンズを構成する各静電レ
ンズの光学的特性がそろった、低収差のフライズアイレ
ンズを実現することができる。
第１図は従来のフライズアイレンズの一例を示す断面図
、第２図は従来の静電レンズの一例を示す断面図、第３
図は第２図の静電レンズを複数個配置することにより構
成した従来のフライズアイレンズの一例を示す新面図、
第４図は本発明によるフライズアイレンズの一実施例の
構成単位であるアインツエルレンズの設計方法を示すた
めの、光軸上の電位分布形状を示す図、第５図は本発明
によるフライズアイレンズの一実施例の構成単位である
アインツエルレンズの断面図、第６図は本発明の一実施
例であるフライズアイレンズの断面図、第７図は本発明
の他の実施例における、レンズ電極の構成単位である導
電板にあけたレンズ孔にテーパがある場合の電極を示す
断面図である。 符号の説明 １０１・・・フライズアイレンズ １０２・・・レンズ孔 １０３・・・試料２０
１・・・第１電極 ２０２・・・第２電極２０３
・・・第３電極 ２０４・・・光軸３０１・・・
第１電極 ３０２・・・第２電極３０３・・・第
３電極 ３０４および３０５・・レンズ孔５０
１・・・第１電極 ５０２・・・第２電極５０３
・・・第３電極 ５０４・・・光軸６０１・・・
第１電極 ６０２・・・第２電極６０３・・・第
３電極 ６０４・・・第１導電板６０５・・・第
２導電板 ６０６・・第３導電板６０７〜６１１・
・・レンズ孔 ６１２・・・位置決めピン６１３〜６
１５・・・位置決め用の孔 ６１６・・・ねじ ６１７〜６１９・・・導電板固定用の孔６２０・・・ナ
ツト
、第２図は従来の静電レンズの一例を示す断面図、第３
図は第２図の静電レンズを複数個配置することにより構
成した従来のフライズアイレンズの一例を示す新面図、
第４図は本発明によるフライズアイレンズの一実施例の
構成単位であるアインツエルレンズの設計方法を示すた
めの、光軸上の電位分布形状を示す図、第５図は本発明
によるフライズアイレンズの一実施例の構成単位である
アインツエルレンズの断面図、第６図は本発明の一実施
例であるフライズアイレンズの断面図、第７図は本発明
の他の実施例における、レンズ電極の構成単位である導
電板にあけたレンズ孔にテーパがある場合の電極を示す
断面図である。 符号の説明 １０１・・・フライズアイレンズ １０２・・・レンズ孔 １０３・・・試料２０
１・・・第１電極 ２０２・・・第２電極２０３
・・・第３電極 ２０４・・・光軸３０１・・・
第１電極 ３０２・・・第２電極３０３・・・第
３電極 ３０４および３０５・・レンズ孔５０
１・・・第１電極 ５０２・・・第２電極５０３
・・・第３電極 ５０４・・・光軸６０１・・・
第１電極 ６０２・・・第２電極６０３・・・第
３電極 ６０４・・・第１導電板６０５・・・第
２導電板 ６０６・・第３導電板６０７〜６１１・
・・レンズ孔 ６１２・・・位置決めピン６１３〜６
１５・・・位置決め用の孔 ６１６・・・ねじ ６１７〜６１９・・・導電板固定用の孔６２０・・・ナ
ツト
Claims (1)
- 静電レンズを用いたフライズアイレンズの製造方法で
あって、所定の電位分布を得るための、フライズアイレ
ンズの少なくとも１枚の電極を、あらかじめ複数のレン
ズ孔の孔あけ加工をした複数の導電板の重ね合わせによ
り形成することを特徴とするフライズアイレンズの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20980884A JPS6188438A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | フライズアイレンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20980884A JPS6188438A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | フライズアイレンズの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6188438A true JPS6188438A (ja) | 1986-05-06 |
Family
ID=16578942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20980884A Pending JPS6188438A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | フライズアイレンズの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6188438A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012195097A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Canon Inc | 荷電粒子線レンズおよびそれを用いた露光装置 |
| JP2013008534A (ja) * | 2011-06-23 | 2013-01-10 | Canon Inc | 荷電粒子線レンズ用電極 |
-
1984
- 1984-10-08 JP JP20980884A patent/JPS6188438A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012195097A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Canon Inc | 荷電粒子線レンズおよびそれを用いた露光装置 |
| JP2013008534A (ja) * | 2011-06-23 | 2013-01-10 | Canon Inc | 荷電粒子線レンズ用電極 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4963748A (en) | Composite multipurpose multipole electrostatic optical structure and a synthesis method for minimizing aberrations | |
| TW201917767A (zh) | 用於以初級帶電粒子小束陣列檢查樣本的帶電粒子束裝置及以帶電粒子小束陣列成像或照射樣本的方法 | |
| US4075488A (en) | Pattern forming apparatus using quadrupole lenses | |
| US20170229279A1 (en) | Field Curvature Correction for Multi-Beam Inspection Systems | |
| DE2555744B2 (de) | Magnetische linse | |
| JP2001222969A (ja) | エネルギーフィルタを含む集束イオンビームカラム | |
| US5535508A (en) | Method for producing an electrostatic lens | |
| US5369279A (en) | Chromatically compensated particle-beam column | |
| JPS61101944A (ja) | 荷電粒子ビ−ム用集束装置 | |
| JPS62188153A (ja) | 閉じた境界によつて四重極静電場を作る方法と構造 | |
| JPH09199389A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
| JPS60105229A (ja) | 荷電ビ−ム露光装置 | |
| US4330708A (en) | Electron lens | |
| JPS6188438A (ja) | フライズアイレンズの製造方法 | |
| JPH05234550A (ja) | 荷電ビーム用レンズ | |
| JPS6042825A (ja) | 荷電ビ−ム露光装置 | |
| JP3135537B2 (ja) | 荷電粒子ビーム投影装置 | |
| US11804355B2 (en) | Apparatus for multiple charged-particle beams | |
| US20050173649A1 (en) | Electronic optical lens barrel and production method therefor | |
| JPS5944743B2 (ja) | 走査電子顕微鏡等用照射電子レンズ系 | |
| EP0745266B1 (en) | Chromatically compensated particle-beam column | |
| Ahn et al. | Fabrication of a miniaturized electron lens system and laser micro-machining condition for silicon membrane | |
| JP2822283B2 (ja) | 電子線縮小転写装置 | |
| Okayama | A new type of quadrupole correction lens for electron-beam lithography | |
| JP2024023158A (ja) | 荷電粒子顕微鏡システム用の小型補正器モジュール及び荷電粒子システム |