JP2012191208A - 広い視野角を有する発光ダイオードとその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発光ダイオードは、基板100と、複数の柱構造部と、充填構造部と、透明導電層112と、第1の電極114と、および第2の電極116とを有する。これらの柱構造部は前記基板上に形成される。前記柱構造部のそれぞれは第1型の半導体層102と、活性層104と、第2型の半導体層106とを有する。前記第1型の半導体層は前記基板上に形成される。前記柱構造部同士は前記第1型の半導体層を介して互いに電気的に接続される。前記充填構造部は前記柱構造部間に形成される。前記充填構造部及び前記柱構造部の前記第2型の半導体層は透明導電層に被われる。前記第1の電極は前記透明導電層と接続される。前記第2の電極は前記第1型の半導体層と接続される。
【選択図】図3
Description
102 N型層
104 活性層
106 P型層
108 パッシベーション層
110 電気絶縁層
112 透明導電層
114 第1の電極
116 第2の電極
Claims (14)
- 基板と、
前記基板上に形成される複数の柱構造部であって、該柱構造部のそれぞれは第1型の半導体層と、活性層と、第2型の半導体層とを有し、前記第1型の半導体層は前記基板上に形成され、当該柱構造部同士は前記第1型の半導体層を介して電気的接続される複数の柱構造部と、
前記柱構造部間に形成される充填構造部と、
前記充填構造部及び前記柱構造部の前記第2型の半導体層を被う透明導電層と、
前記透明導電層と接続される第1の電極と、
前記第1型の半導体層と接続する第2の電極とを有することを特徴とする発光ダイオード。 - 請求項1記載の発光ダイオードであって、前記第1型の半導体層はN型層であり、前記第2型の半導体層はP型であり、前記柱構造部はλの2分の1から20ミクロンメートルの間の範囲、但しλは当該発光ダイオードの発光波長、の幅を有し、前記柱構造部は零から10ミクロンメートルの間の範囲の高さを有することを特徴とする発光ダイオード。
- 請求項1記載の発光ダイオードであって、前記充填構造部は、前記柱構造部の側壁及び前記第1型の半導体層の表面の上に形成されるパッシベーション層と、前記パッシベーション層の側壁の間に充填される電気的絶縁層とを有することを特徴とする発光ダイオード。
- 請求項3記載の発光ダイオードであって、前記パッシベーション層は化学式(AlxInyGaz)2−δO3、但しx+y+z=1で、0≦δ<1、を有する第1の誘電体材料からなり、前記電気的絶縁層は第2の誘電体材料からなり、その第2の誘電体材料は酸化シリコン(SiO2)、酸化ハフニウム(HfO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)、窒化シリコン(Si3N4)、若しくは酸化タンタル(Ta2O5)であることを特徴とする発光ダイオード。
- 請求項1記載の発光ダイオードであって、前記透明導電層は第3の誘電体材料からなり、その第3の誘電体層は酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム(In2O3)、酸化スズ(Sn2O3)、酸化亜鉛(ZnO)若しくは酸化ニッケル(NiOx、但し0≦x<1)であることを特徴とする発光ダイオード。
- 請求項1記載の発光ダイオードであって、前記透明導電層はサブ波長表面構造を有することを特徴とする発光ダイオード。
- 請求項6記載の発光ダイオードであって、前記サブ波長表面構造は、零から2ミクロンメートルの範囲の高さを有し、前記サブ波長表面構造は、零から500ナノメートルの範囲の幅を有することを特徴とする発光ダイオード。
- 基板を提供し、
次いで前記基板上に第1型の半導体層、活性層、第2型の半導体層を形成し、
フォトリソグラフィーとエッチングを行って前記基板上に複数の柱構造部を形成して、各柱構造部が前記第1型の半導体層、前記活性層、及び前記第2型の半導体層を有し、複数の前記柱構造部が前記第1型の半導体層を介して互いに電気的に接続されるようにされ、
前記柱構造部の間には充填構造部を形成し、
前記充填構造部と前記柱構造部の前記第2型の半導体層を被って透明導電体層を形成し、
前記透明導電体層上に第1の電極を形成し、
前記第1型の半導体層の上に第2の電極を形成することを特徴とする発光ダイオードの製造方法。 - 請求項8記載の発光ダイオードの製造方法であって、前記第1型の半導体層はN型層であり、前記第2型の半導体層はP型であり、前記柱構造部はλの2分の1から20ミクロンメートルの間の範囲、但しλは当該発光ダイオードの発光波長、の幅を有し、前記柱構造部は零から10ミクロンメートルの間の範囲の高さを有することを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
- 請求項8記載の発光ダイオードの製造方法であって、前記充填構造部の形成工程は、前記柱構造部の側壁と前記第1型の半導体層の表面にパッシベーション層を形成する工程と、前記パッシベーション層の側壁間に電気的絶縁層を充填する工程とを有することを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
- 請求項10記載の発光ダイオードの製造方法であって、前記パッシベーション層は、光増強ウエット酸化法、高温酸化法、原子層成長法、若しくは化学気相成長法により形成され、前記パッシベーション層は、化学式(AlxInyGaz)2−δO3、但しx+y+z=1で、0≦δ<1、を有する第1の誘電体材料からなり、前記電気的絶縁層は第2の誘電体材料からなり、その第2の誘電体材料は酸化シリコン(SiO2)、酸化ハフニウム(HfO2)、酸化アルミニウム(Al2O3)、窒化シリコン(Si3N4)、若しくは酸化タンタル(Ta2O5)であることを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
- 請求項8記載の発光ダイオードの製造方法であって、前記透明導電層は第3の誘電体材料からなり、その第3の誘電体層は酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム(In2O3)、酸化スズ(Sn2O3)、酸化亜鉛(ZnO)若しくは酸化ニッケル(NiOx、但し0≦x<1)であることを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
- 請求項8記載の発光ダイオードの製造方法であって、前記透明導電層はサブ波長表面構造を有することを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
- 請求項13記載の発光ダイオードの製造方法であって、前記サブ波長表面構造は、零から2ミクロンメートルの範囲の高さを有し、前記サブ波長表面構造は、零から500ナノメートルの範囲の幅を有することを特徴とする発光ダイオードの製造方法。
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