JP2012189687A - ３ｄ表示装置及び時分割方式３ｄ表示システム - Google Patents

Abstract

【課題】顔傾斜時の色味変化が軽減された時分割方式３Ｄ表示装置及び３Ｄ液晶表示システムの提供。
【解決手段】視認側に配置される第１の偏光膜と、第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材と、を少なくとも有する３Ｄ表示装置であって、第１の偏光膜が、その吸収軸を表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°にして配置され、保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°又は９０°にして配置され、保護部材の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値が、下記式（Ｉ）の関係を満たす。
（Ｉ）： ２５≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１６０ｎｍ
【選択図】図２

Description

本発明は、３Ｄ表示装置及び時分割方式３Ｄ表示システムに関する。

立体（３Ｄ）表示方法には従来からさまざまな方式が提案されており、その一つに液晶シャッターメガネ等を使用する時分割方式がある。この方式では、左目用と右目用の画像を時間的に交互に表示しながら、画像の表示に同期してメガネのシャッターを開閉し、それぞれの画像が対応する眼に入るように制御する方式である（例えば特許文献１）。この方式による３Ｄ表示装置として、表示モニタに液晶パネルを利用するものが提案されている（例えば特許文献２）。この方式の３Ｄ表示装置では、観察者が顔を傾けると（以下、「顔傾斜」という場合がある）、輝度の低下、色味の変化、及びクロストークの悪化が生じ、これらを解決することが望まれている。輝度低下及びクロストークの悪化の問題については、画像表示装置側表面及びシャッターメガネの表面に、λ／４板をそれぞれ配置し、円偏光画像を利用することで解決することが提案されている（例えば特許文献３）。

上記した通り、顔傾斜（メガネ回転）による輝度の低下やクロストークの悪化は、λ／４フィルムを利用することで解決できるが、一方、色味変化については、λ／４フィルムを利用するだけでは解決できない。この理由は、色味変化の現象は、λ／４フィルムのＲｅの波長分散性及びＲｔｈが大きく影響しているからである。また、３Ｄ表示装置については、大画面化の要請があるが、実用形態を考慮すれば、上下方向と比較して、横方向における３Ｄ画像の視認性がより重要であると言える。

特開昭５３−５１９１７号公報 特開２００３−２５９３９５号公報 特開２００２−８２３０７号公報

上記した通り、顔傾斜時の色味変化の現象には、λ／４フィルムのＲｅの分散性やＲｔｈの値が大きく影響していると考えられる。理想的なλ／４板は、Ｒｅについて逆波長分散性であり、且つＲｔｈが０ｎｍである。この様な理想のλ／４フィルムを使用すれば、色味変化を抑制することができると予測されるが、一方で、理想のλ／４フィルムの作製は困難であり、高価なものとなる。特に大画面用の理想のλ／４フィルムを作製するのは非常に困難であり、大画面化及び顔傾斜時の色味変化の軽減の双方を達成することは非常に難しい。
本発明は、上記諸問題に鑑みなされたものであって、理想的なλ／４フィルムを用いずとも、顔傾斜時の色味変化が軽減された３Ｄ表示装置を提供することを課題とする。

顔傾斜時の色味変化の抑制は、理想のλ／４フィルム、即ち、Ｒｅが逆分散性であり、且つＲｔｈが０ｎｍのλ／４フィルムを用いることで達成できると予測されたが、本発明者が検討した結果、使用するλ／４フィルムのＲｔｈ（５５０）を０ｎｍに近づけても、表示面を左側から見るか、右側から見るかにより顔傾斜時の色味変化量が非対称性であり、顔傾斜時の色味変化を抑制することができないことがわかった。さらに検討した結果、顔傾斜時の色味変化には、画像表示面に配置されている偏光膜の吸収軸の方向及びλ／４フィルムの遅相軸の方向が影響していること、当該吸収軸及び遅相軸が所定の方向であり、且つλ／４フィルムのＲｔｈが所定の範囲であると、色味変化を顕著に軽減できるとの知見が得られた。この知見に基づいて、さらに検討を重ね、本発明を完成するに至った。本発明では、理想のλ／４フィルムを使用しなくても、上記課題を解決でき、実用に沿うものである。

前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］ 視認側に配置される第１の偏光膜と、前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材と、を少なくとも有する３Ｄ表示装置であって、前記第１の偏光膜が、その吸収軸を表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°にして配置され、前記保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°又は９０°にして配置され、前記保護部材の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値が、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする３Ｄ表示装置：
（Ｉ）： ２５≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１６０ｎｍ 。
［２］ 前記保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°にして配置され、かつ、前記保護部材のＲｔｈ（５５０）が下記式（Ｉａ）を満足する［１］の３Ｄ表示装置：
（Ｉａ）： ２５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１６０ｎｍ 。
［３］前記保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して９０°にして配置され、かつ、前記保護部材のＲｔｈ（５５０）が下記式（Ｉｂ）を満足する［１］の３Ｄ表示装置：
（Ｉｂ）： −１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−２５ｎｍ 。
［４］ 前記保護部材が、液晶化合物を含有する組成物からなる位相差層を含む［１］〜［３］のいずれかの３Ｄ表示装置。
［５］ 前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記位相差層において前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している［４］の３Ｄ表示装置。
［６］ 前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記位相差層において更に前記棒状液晶化合物が水平に配向している［４］の３Ｄ表示装置。
［７］ 前記保護部材全体の面内レターデーションＲｅが、可視光域において、波長によらず一定又は順波長分散性を示す［１］〜［６］のいずれかの３Ｄ表示装置。
［８］ 前記保護部材が、視認側表面に反射防止層を有する［１］〜［７］のいずれかの３Ｄ表示装置。
［９］ 前記保護部材が、紫外線吸収剤を含む［１］〜［８］のいずれかの３Ｄ表示装置。
［１０］ ＴＮモード、ＯＣＢモード、又はＥＣＢモードの液晶セルを有する［１］〜［９］のいずれかの３Ｄ表示装置。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれかの時分割式３Ｄ表示装置と、該３Ｄ表示装置と同期して作動する時分割画像表示遮断機器と、を少なくとも有する時分割方式３Ｄ表示システム。
［１２］ 前記時分割画像表示遮断機器が、前記３Ｄ表示装置に対向する側より、λ／４板、液晶セル、及び偏光膜を少なくとも有する［１１］の時分割方式３Ｄ表示システム。
［１３］ 前記時分割画像表示遮断機器が、前記λ／４板と前記液晶セルとの間に、偏光膜をさらに有する［１２］の時分割方式３Ｄ表示システム。

本発明によれば、顔傾斜時の色味変化が軽減された３Ｄ表示装置及び時分割方式３Ｄ表示システムを提供することができる。

本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例を示した模式図である。 本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。 本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。 保護部材及びλ／４板の一例の断面模式図である。 第１の偏光板の一例の断面模式図である。 第１の偏光板の一例の断面模式図である。 本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一例の断面模式図である。

以下、本発明について、実施の形態を挙げて詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
まず、本明細書で用いられる用語について説明する。

Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。

なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｂ）

測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。また、遅相軸及び吸収軸の角度は、厳密な角度±５゜未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５゜未満であることが好ましく、±２゜未満であることがより好ましい。具体的には、「遅相軸が０°」は、遅相軸が−５〜５°の範囲を意味し、「遅相軸が９０°」とは、遅相軸が８５〜９５°の範囲を意味する。「吸収軸が４５°」は、吸収軸が４０〜５０°の範囲を意味し、「吸収軸が１３５°」は、吸収軸が１３０〜１４０°の範囲を意味する。なお、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。
なお、屈折率の測定波長は、特に断らない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値であり、Ｒｅ及びＲｔｈの測定波長については、特に断らない限り、５５０ｎｍとする。

また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体を意味するものとする。透明保護膜は、液晶セルと偏光膜の間に配置された自己支持性のある膜を意味する。（レターデーションの大小は関係ない。）なお、「λ／４板」と「λ／４フィルム」は同義である。

また、本明細書では、３Ｄ表示装置の表示面における地面と水平方向を０°と定義し、水平方向から反時計周り方向を正の方向（「＋」）を意味し、時計回り方向を負の方向（「−」）を意味するものとする。

以下、本発明の３Ｄ表示装置の実施態様について、図面を用いて説明する。図１は、本発明の時分割方式３Ｄ表示システムの一態様の概略模式図である。図１に示す時分割方式３Ｄ表示システムは、画像表示装置１と、シャッター機能を有するメガネ２（時分割画像表示遮断機器）とを備え、画像表示装置１の画像を、メガネ２を装着した観察者が観察する。図１中には示さないが、画像表示装置１の表示面側には、偏光膜とλ／４機能を有する保護部材が配置されていて、画像表示装置１からは、円偏光画像が観察者側に表示され、且つメガネ２もλ／４板を含み、円偏光画像の透過率をＯＮ−ＯＦＦするシャッター機能を有する。

画像表示装置１には、例えば、所定の周波数（例えば、６０Ｈｚ以上の周波数）で左目用画像及び右目用画像が交互に表示される。一例では、立体視用の画像信号は、画像処理部において、左目用画像信号と右目用画像信号とに処理された後、表示用モニタ駆動回路に送られ、画像表示装置１の各々の画素部に、左目用画像信号と右目用画像信号とがフィールド毎に交互に割り当てられて、所定の時間毎に、左目用画像と右目用画像とが画像表示装置１の同一画面上に交互に表示され、視認側表面に配置されている偏光膜とλ／４機能を有する保護部材によって、左目用円偏光画像と右目用円偏光画像に変換される。

画像表示装置１の左目用及び右目用画像表示の切り替えに同期回路３により同期させて、メガネ２に、駆動電圧等が印加され、具体的には、左目用画像が表示されているときは、左目シャッター２ａの円偏光に対する透過率が最大になり、左目に画像が入力され、且つ右目シャッター２ｂの円偏光に対する透過率は最小になり、右目には画像は入力されず、一方、右目用画像が表示されているときは、右目シャッター２ｂの円偏光透過率が最大になり、右目に画像が入力され、且つ左目シャッター２ａの円偏光透過率は最小になり左目には画像は入力されなくなっている。観察者は、左目用画像を左目だけで、右目用画像を右目だけで選択的に見ることで、表示画像を立体画像として認識する。なお、メガネ２の透過率のＯＮ／ＯＦＦの機構については特に制限はない。液晶セルによるシャッター機能を利用したメガネが好ましい。

上記した通り、画像表示装置１の表示面側には、偏光膜とλ／４機能を有する保護部材が配置されていて、円偏光画像が観察者に対して表示され、またメガネ２もλ／４板を含み、円偏光画像の透過率をＯＮ−ＯＦＦするシャッター機能を有する。従来、λ／４板を利用した時分割方式３Ｄ表示システムでは、顔傾斜時の輝度低下及びクロストークの悪化は解決されていたが、色味変化については解決されていなかった。本発明では、表示面側の偏光膜を、その吸収軸が表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°の方向に、表示面側の保護部材の遅相軸を、表示面の水平方向に対して０°又は９０°の方向にそれぞれ配置するとともに、λ／４機能を有する保護基材として、Ｒｔｈが下記式（Ｉ）を満足する部材を用いることで、顔傾斜時の色味変化の軽減を達成している。
（Ｉ）： ２５≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１６０ｎｍ
従来、理想のλ／４フィルムを用いることで、即ち、Ｒｔｈが０に近づくほど、色味変化が軽減されるものと考えられていたことに鑑みれば、Ｒｔｈが０ｎｍの理想のλ／４フィルムを用いるのと同等以上に、色味変化を軽減できるという本発明の効果は、予測し得ない効果であると言える。

画像表示装置１の構成については特に制限はない。例えば、液晶層を含む液晶パネルであっても、有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ表示パネルであってもよい。いずれの態様でも、種々の可能な構成を採用することができる。また、メガネ２のシャッター機能についても特に制限はなく、種々の構成を採用できる。好ましくは液晶セルのシャッター機能を利用したメガネである。
図２に、画像表示装置１として液晶パネルを、メガネ２として、液晶シャッターメガネをそれぞれ利用した構成例を、断面模式図として示す。なお、図中、各層の厚みの相対的関係は、実際の画像表示装置等の各層の厚みの相対的関係と必ずしも一致しているものではない。

画像表示装置１は、液晶セル１３を有する液晶パネルであり、その視認側に第１の偏光膜１２、さらにその視認側表面に保護部材１１を有する。液晶シャッターメガネ２は、液晶セル２３、及びその視認側にλ／４フィルム２１を有する液晶シャッターメガネである。保護部材１１はλ／４機能を有する。

画像表示装置１の液晶セル１３の後方には、バックライト４が配置され、バックライト４と液晶セル１３との間には偏光板１４が配置され、透過モードとして構成されている。偏光板１４の吸収軸は、第１の偏光膜１２の吸収軸と直交になっている。また、第１の偏光膜１２と液晶セル１３との間には、視野角補償のための、及び／又は偏光膜１２の保護のためのフィルム１５が配置されている。偏光板１４も、偏光膜とともに、偏光膜の液晶セル側表面及びバックライト側表面に、保護フィルムを有していてもよい。

液晶セル１３の構成については特に制限はなく、一般的な構成の液晶セルを採用することができる。液晶セル１３は、例えば、図示しない対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶層とを含み、必要に応じて、カラーフィルタ層などを含んでいてもよい。液晶セル１３の駆動モードについても特に制限はなく、特に、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）のモードでは、偏光膜は、その吸収軸を画像表示面に対して４５°又は１３５°の方向にして配置されるのが一般的であるので、これらのモードの液晶セルを利用すると、従来の構造をそのまま利用することができる。

表示側に配置される第１の偏光膜１２は、その吸収軸を表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°となるように配置され、視認側表面に、λ／４機能を有する保護部材１１を有し、保護部材１１は、その遅相軸を表示面の水平方向に対して０°又は９０°となるように配置されている。保護部材１１の構成については特に制限はなく、単層構造であっても、積層構造であってもよい。λ／４機能を有する部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差ポリマーフィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層（位相差層）、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。保護部材１１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜１２の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。また、保護部材１１は、視認側表面に反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。

保護部材１１全体の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値は、下記式（Ｉ）の関係を満たす。下記式（ＩＩ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＩＩ）の関係を満たすことがより好ましい。
（Ｉ）： ２５≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１６０ｎｍ
（ＩＩ）： ３０≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１４０ｎｍ
（ＩＩＩ）： ４０≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１２０ｎｍ
なお、保護部材１１の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）は、保護部材１１に有するフィルム全ての波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションの合計値である。

保護部材１１が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°にして配置されている態様では、保護部材１１全体の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）は、下記式（Ｉａ）の関係を満たすことが、横方向の色味変化をより軽減できる点で好ましい。下記式（ＩＩａ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＩＩａ）の関係を満たすことがより好ましい。
（Ｉａ）： ２５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１６０ｎｍ
（ＩＩａ）： ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１４０ｎｍ
（ＩＩＩａ）： ４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０ｎｍ
一方、保護部材１１が、上記式（Ｉａ）（より好ましくは（ＩＩａ）、さらに好ましくは（ＩＩＩａ））を満足し、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して９０°にして配置されている態様では、縦方向の色味変化をより軽減できる。

保護部材１１が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して９０°にして配置されている態様では、保護部材１１全体の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）は、下記式（Ｉｂ）の関係を満たすことが、横方向の色味変化をより軽減できる点で好ましい。下記式（ＩＩｂ）の関係を満たすことが好ましく、下記式（ＩＩＩｂ）の関係を満たすことがより好ましい。
（Ｉｂ）： −１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−２５ｎｍ
（ＩＩｂ）： −１４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−３０ｎｍ
（ＩＩＩｂ）： −１２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−４０ｎｍ
一方、保護部材１１が、上記式（Ｉｂ）（より好ましくは（ＩＩｂ）、さらに好ましくは（ＩＩＩｂ））を満足し、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°にして配置されている態様では、縦方向の色味変化をより軽減できる。

メガネ２は、λ／４板２１、偏光膜２２、液晶セル２３、及び偏光膜２４を有し、画像表示装置１の画像表示と同期するシャッター機能を備えている。メガネ２の構成としては、図２に示すような偏光板２枚方式であってもよく、図２に示す構成以外に、図３（ａ）、図３（ｂ）に示す偏光板１枚方式の構成であってもよい。また、液晶セル２３を、図７に示すように画像表示装置１に配置させても、同様の効果が得られる。この場合、液晶セル２３は画像表示装置１の出射光を右円偏光と左円偏光に時分割で変換するアクティブリターダー用のセルとして機能する。

λ／４板２１の構成についても特に制限はない。単層構造であっても、積層構造であってもよい。観察者が装着することを考慮すると、軽量且つ薄層であるのが好ましく、従って、単層構造であるのが好ましい。λ／４板２１に利用可能な部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差フィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられる。λ／４板２１が、ポリマーフィルムを含んでいると、偏光膜２２の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。また、λ／４板２１は、表面にハードコート層や反射防止層を有しているのも好ましい。これらの部材の詳細については、後述する。

画像表示装置１の第１の偏光膜１２の吸収軸と、λ／４機能を有する保護部材１１の遅相軸とは、４５°を中心として±１０°、即ち３５〜５５°であるか、又は１３５°を中心として±１０°、即ち１２５〜１４５°であるのが好ましい。また、第１の偏光膜１２の吸収軸及び偏光膜２２の吸収軸は、直交又は平行に配置するのが好ましく、且つ保護部材１１及びλ／４板２１の遅相軸は直交又は平行であるのが好ましい。
なお、保護部材１１及びλ／４板２１が複数の位相差層及び／又は位相差フィルムを含む態様では、遅相軸は、保護部材１１及びλ／４板２１全体で測定したときの遅相軸として特定される。

本発明の時分割方式３Ｄ表示システムは、図２に示す部材以外に、さらに、立体視用の画像信号を左目用画像信号と右目用画像信号とに処理する画像処理部、当該画像信号をディスプレイに送る表示用モニタ駆動回路、当該画像信号に応じて、液晶シャッターメガネに信号を送り、左右液晶シャッターの透過率をＯＮ／ＯＦＦさせる、同期回路を備えているのが好ましい。

以下、本発明の３Ｄ表示装置に用いられる種々の部材について詳細に説明する。

１．λ／４機能を有する部材
本発明では、画像表示装置の視認側に配置される第１の偏光膜の、視認側表面に配置される保護部材として、及び時分割画像表示遮断器が有するλ／４板として、λ／４機能を有する部材が用いられる。なお、λ／４板は、図２及び図３（ａ）に示す態様では、液晶セルよりも画像表示装置１側にある層すべての総称であり、図３（ｂ）に示す態様では、偏光膜と液晶セルの間にある層すべての総称である。

本発明では、保護部材の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値は、下記式（Ｉ）の関係を満たし、
（Ｉ）： ２５≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１６０ｎｍ
好ましくは、下記式（ＩＩ）の関係を満たし、
（ＩＩ）： ３０≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１４０ｎｍ
より好ましくは、下記式（ＩＩＩ）の関係を満たす。
（ＩＩＩ）： ４０≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１２０ｎｍ

本発明によれば、画面横方向及び縦方向の少なくとも一方の方向の色味変化を軽減できるが、大画面化の態様では、特に横方向の色味変化の軽減効果が重要である。画面横方向の色味変化を顕著に軽減できる態様は、以下の通りである。
保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°にして配置されている態様では、保護部材全体の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）は、好ましくは下記式（Ｉａ）の関係を満たし、
（Ｉａ）： ２５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１６０ｎｍ
より好ましくは下記式（ＩＩａ）を満たし、
（ＩＩａ）： ３０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１４０ｎｍ
さらに好ましくは下記式（ＩＩＩａ）を満たす。
（ＩＩＩａ）： ４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１２０ｎｍ
この態様によれば、顔傾斜時の画面横方向の色味変化を顕著に軽減することができる。

保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して９０°にして配置されている態様では、保護部材全体の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）は、好ましくは下記式（Ｉｂ）の関係を満たし、
（Ｉｂ）： −１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−２５ｎｍ
より好ましくは下記式（ＩＩｂ）を満たし、
（ＩＩｂ）： −１４０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−３０ｎｍ
さらに好ましくは下記式（ＩＩＩｂ）を満たす。
（ＩＩＩｂ）： −１２０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−４０ｎｍ
この態様によれば、顔傾斜時の画面横方向の色味変化を顕著に軽減することができる。

保護部材の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）は、理想値（１３７．５ｎｍ）を中心として、２５ｎｍ程度の誤差があってもよく、例えば、１１５ｎｍ〜１６０ｎｍであるのが好ましい。保護部材の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）は、保護部材が有するフィルム全ての波長５５０ｎｍの面内レターデーションの合計値である。

保護部材全体の面内レターデーションＲｅにおける波長分散については特に制限はない。可視光域において、波長が長波長になる程小さくなるという、いわゆる順分散性を示すか、波長によらず一定である、いわゆるフラット分散性を示してもよい。即ち、Ｒｅ（４５０）≧Ｒｅ（５５０）≧Ｒｅ（６３０）であってもよい。一般的には、理想のλ／４板は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６３０ｎｍのいずれにおいてもＲｅがλ／４となる波長分散となることが好ましいとされている。具体的には、理想のλ／４板は、Ｒｅ（４５０）＝１１２．５ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１３７．５ｎｍ、Ｒｅ（６３０）＝１５７．５ｎｍを満足する。即ち、λ／４板については、Ｒｅについて、逆波長分散性を示すことが理想とされ、波長分散性が理想からずれると、斜め方向において色味変化の原因になるとされている。したがって、本発明の効果であって、λ／４機能を有する保護部材として、Ｒｅが理想の逆波長分散性を示さずに、順分散性を示すか、波長によらず一定であっても、顔傾斜時の視野角において色味変化を軽減できるという効果は、予期せぬ効果であると言える。また、保護部材として使用するポリマーフィルム等の選択の幅も広く、実用においても有利である。

本発明においては、時分割画像表示遮断機器に配置されるλ／４板のＲｅの波長分散性についても特に制限はないが、Ｒｅ逆分散性のλ／４フィルムを使用するのがより好ましい。

保護部材及びλ／４板はそれぞれ、単層構造であっても、積層構造であってもよい。λ／４板は、メガネとして観察者が装着する時分割画像表示遮断機器に含まれるので、より軽量且つ薄層であるのが好ましい。また、保護部材及びλ／４板が、ポリマーフィルムを含んでいると、隣接して配置される偏光膜の保護フィルムとしても利用できるので好ましい。また、表面に反射防止層を含んでいるのも好ましい。λ／４機能を有する部材としては、位相差ポリマーフィルム、位相差ポリマーフィルムの積層体、液晶組成物の配向を固定して形成される光学異方性層、及び該光学異方性層とそれを支持するポリマーフィルムとの積層体が挙げられ、いずれも用いることができる。位相差ポリマーフィルムの例には、ポリマーフィルムを延伸してフィルム中の高分子を配向させて発現させた光学異方性を有するフィルムが含まれる。１枚又は２枚以上の二軸性フィルムによって構成することができるし、またＣプレートとＡプレートとの組合せ等、一軸性フィルムを２枚以上組合せることでも構成することができる。勿論、１枚以上の二軸性フィルムと、１枚以上の一軸性フィルムとを組み合わせることによっても構成することもできる。前記光学異方性層は、液晶性化合物の分子の配向によって発現された光学異方性を示す層である。光学異方性層単独でλ／４機能を有していてもよいし、支持体となるポリマーフィルムとともに、全体として、λ／４機能を有していてもよい。

図４及び以下に、保護部材及びλ／４板の構成例を示す。なお、図中及び以下の説明では、「光学異方性支持体」とは、位相差ポリマーフィルムを意味し、「支持体」とは、位相差ポリマーフィルムと低位相差の光学的に等方性に近いポリマーフィルムの双方を含む意味とする。後述する図５〜図６においても同様である。
光学異方性支持体（図４（ｉ））
光学異方性支持体／ハードコート層（図４（ｉｉ））
光学異方性支持体／低屈折率層（図４（ｉｉｉ））
光学異方性支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｉｖ））
光学異方性支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｖ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層（図４（ｖｉ））
光学異方性支持体／支持体／低屈折率層（図４（ｖｉｉ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｖｉｉｉ））
光学異方性支持体／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｉｘ））
支持体／光学異方性層（図４（ｘ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層（図４（ｘｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／低屈折率層（図４（ｘｉｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｉｉｉ））
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｉｖ））
光学異方性層／支持体（図４（ｘｖ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層（図４（ｘｖｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／低屈折率層（図４（ｘｖｉｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｖｉｉｉ））
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｉｘ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層（図４（ｘｘ））
光学異方性層／支持体／低屈折率層（図４（ｘｘｉ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｘｉｉ））
光学異方性層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｘｉｉｉ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層（図４（ｘｘｉｖ））
支持体／光学異方性層／低屈折率層（図４（ｘｘｖ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層／低屈折率層（図４（ｘｘｖｉ））
支持体／光学異方性層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層（図４（ｘｘｖｉｉ））

（１）ポリマーフィルム
前記位相差ポリマーフィルム、又は前記光学異方性層の支持体として用いられるポリマーフィルムの材料については、特に制限はない。種々のポリマーフィルム、例えば、セルロースアシレート（例えば、セルローストリアセテートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ノルボルネン等の環状オレフィン系ポリマー、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマー等が挙げられる。１種又は２種以上のポリマーを、主成分として用いることができる。市販品を用いてもよく、環状オレフィン系ポリマーであるアートン（ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィンであるゼオネックス（日本ゼオン社製））などを用いてもよい。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、環状オレフィン系ポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。

前記位相差ポリマーフィルム等の製造方法については特に制限はない。溶液製膜方法及び溶融製膜方法のいずれも利用することができる。所望の特性とするために、製膜後に延伸処理を行ってもよい。また、その上に、液晶組成物からなる光学異方性層を形成する場合は、ポリマーフィルムを表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、鹸化処理）等してもよい。

前記位相差ポリマーフィルムの厚みについては特に制限はないが、通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものが使用される。

なお、後述する液晶組成物からなる光学異方性層の支持体として用いるポリマーフィルムは、低Ｒｅであってもよく、例えば、０〜５０ｎｍ、０〜３０ｎｍ、又は０〜１０ｎｍであってもよい。また、支持体として用いられるポリマーフィルムのＲｔｈについても、特に制限はなく、例えば、−３００ｎｍ〜３００ｎｍ、−１００ｎｍ〜２００ｎｍ、又は−６０ｎｍ〜６０ｎｍであってもよい。支持体の光学特性は、その上に設けられる光学異方性層との組み合わせによって選択することが好ましい。

支持体のＲｅ、Ｒｔｈについては各種公知のレターデーション調整剤、延伸などにより調整することもできる。

（２）液晶性化合物を含む光学異方性層
前記保護部材又はλ／４板は、液晶化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を１以上有していてもよい。液晶性化合物の種類については特に制限されない。例えば、低分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して得られる光学異方性層や、高分子液晶性化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって当該配向を固定化して得られる光学異方性層を用いることもできる。なお本発明では、光学異方性層に液晶性化合物が用いられる場合であっても、光学異方性層は、該液晶性化合物が重合等によって固定されて形成された層であり、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。重合性液晶性化合物は、多官能性重合性液晶でもよいし、単官能性重合性液晶性化合物でもよい。また、液晶性化合物は、ディスコティック液晶性化合物でもよいし、棒状液晶性化合物でもよい。

前記光学異方性層において、液晶化合物の分子は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向及び傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていることが好ましい。一例は、ディスコティック液晶性化合物の円盤面がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に垂直に配向している例であり、他の例は、棒状液晶性化合物の長軸がフィルム面（光学異方性層面）に対して実質的に水平に配向している例である。ディスコティック液晶性化合物が実質的に垂直とは、フィルム面（光学異方性層面）とディスコティック液晶性化合物の円盤面とのなす角度の平均値が７０°〜９０°の範囲内であることを意味する。８０°〜９０°がより好ましく、８５°〜９０°が更に好ましい。棒状液晶性化合物が実質的に水平とは、フィルム面（光学異方性層面）と棒状液晶性化合物のダイレクターとのなす角度が０°〜２０°の範囲内であることを意味する。０°〜１０°がより好ましく、０°〜５°が更に好ましい。
液晶化合物の分子をハイブリッド配向させて視野角依存性が非対称である光学補償フィルムを作製する場合、液晶化合物のダイレクターの平均傾斜角は５〜８５°であることが好ましく、１０〜８０°であることがより好ましく、１５〜７５°であることが更に好ましい。

前記光学異方性層は、棒状液晶性化合物又は円盤状（ディスコティック）液晶性化合物等の液晶性化合物と、所望により、後述する重合開始剤や配向制御剤や他の添加剤を含む塗布液を、支持体上に塗布することで形成することができる。支持体上に配向膜を形成し、該配向膜表面に前記塗布液を塗布して形成するのが好ましい。

［棒状液晶性化合物］
光学異方性層の形成に利用可能な棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。棒状液晶性化合物を重合によって配向を固定することがより好ましい。液晶性化合物には活性光線や電子線、熱などによって重合や架橋反応を起こしうる部分構造を有するものが好適に用いられる。その部分構造の個数は好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個である。重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、及び特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物を用いることができる。

［ディスコティック液晶性化合物］
前記光学異方性層の形成に利用可能なディスコティック液晶性化合物については、特に制限はない。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。

ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式で表される化合物であることが好ましい。
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）_n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは１〜１２の整数である。前記式中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。なお、液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、３０〜３００℃が好ましく、３０〜１７０℃が更に好ましい。

下記式（Ｉ）で表わされるディスコティック液晶性化合物は、面内レターデーションの波長分散性が低く、高い面内レターデーションを発現可能であり、また特殊な配向膜や添加剤を使用しなくても高い平均傾斜角で均一性に優れた垂直配向を達成できるので、光学異方性層の形成に利用するのが好ましい。更に該液晶性化合物を含有する塗布液は、その粘度が比較的低くなる傾向があり、塗布性が良好である点でも好ましい。

（１）−１ 一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶化合物

式中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の基を表し；Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）を表す；

一般式（Ｉ−Ａ）中、ＹＡ¹及びＹＡ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す；

一般式（Ｉ−Ｂ）中、ＹＢ¹及びＹＢ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（Ｉ）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（Ｉ）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す；

一般式（Ｉ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｑ²）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
一般式（Ｉ−Ｒ）中、＊は、一般式（Ｉ）におけるＨ¹〜Ｈ³側と結合する位置を表す；Ｌ²¹は単結合又は二価の連結基を表す；Ｑ²は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す；ｎ１は、０〜４の整数を表す；Ｌ²²は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ₂−、＊＊−ＣＨ₂−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表す；Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す；Ｑ¹は重合性基又は水素原子を表す。

前記式（Ｉ）で表される３置換ベンゼン系ディスコティック液晶化合物の各符号の好ましい範囲、及び前記式（Ｉ）の化合物の具体例については、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［００７７］記載を参照することができる。但し、本発明に使用可能なディスコティック液晶化合物は、前記式（Ｉ）の３置換ベンゼン系ディスコティック液晶化合物に限定されるものではない。

トリフェニレン化合物としては、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００６２］〜［００６７］記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

なお、前記３置換ベンゼン又はトリフェニレン化合物とともに、下記一般式（ＩＩ）（より好ましくは一般式(II’)）で表されるピリジニウム化合物の少なくとも１種、及び下記一般式（ＩＩＩ）で表されるトリアジン環基を含む化合物の少なくとも１種を含有させてもよい。前記ピリジニウム化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物１００質量部に対し、０．５〜３質量部であるのが好ましい。また、前記トリアジン環基を含む化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物１００質量部に対し、０．２〜０．４質量部であるのが好ましい。

式中、Ｌ²³及びＬ²⁴はそれぞれ二価の連結基であり；Ｒ²²は水素原子、無置換アミノ基、又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基であり；Ｘはアニオンであり；Ｙ²²及びＹ²³はそれぞれ、置換されていてもよい５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基であり；Ｚ²¹はハロゲン置換フェニル、ニトロ置換フェニル、シアノ置換フェニル、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基および炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる一価の基であり；ｐは１〜１０の数であり；並びにｍは１又は２である。

式中、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³は、末端にＣＦ₃基を有するアルキル基又はアルコキシ基を表し、但し、アルキル基（アルコキシ基中のアルキル基も含む）中の隣接していない２以上の炭素原子は、酸素原子又は硫黄原子に置換されていてもよい；Ｘ³¹、Ｘ³²及びＸ³³は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表し；ｍ３１、ｍ３２及びｍ３３はそれぞれ、１〜５の数である。上記式（III）中、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³はそれぞれ、下記式で表される基であるのが好ましい。
−Ｏ（Ｃ_nＨ_2n）_n1Ｏ（Ｃ_mＨ_2m）_m1−Ｃ_kＦ_2k+1
式中、ｎ及びｍはそれぞれ１〜３であり、ｎ１及びｍ１はそれぞれ１〜３であり、ｋは１〜１０である。

式（II’）中、式(II)と同一の符号は同一の意義であり；Ｌ²⁵はＬ²⁴と同義であり；Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵はそれぞれ、炭素原子数が１〜１２のアルキル基を表し、ｎ３は０〜４、ｎ４は１〜４、及びｎ５は０〜４を表す。
る。

［他の添加剤］
前記光学異方性層の形成に用いられる液晶性組成物は、他の添加剤の１種以上を含有していてもよい。使用可能な添加剤の例として、空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等について説明する。

空気界面配向制御剤：
前記組成物は、空気界面においては空気界面のチルト角で配向する。このチルト角は、液晶性組成物に含まれる液晶性化合物の種類や添加剤の種類等で、その程度が異なるため、目的に応じて空気界面のチルト角を任意に制御する必要がある。

前記チルト角の制御には、例えば、電場や磁場のような外場を用いることや添加剤を用いることができるが、添加剤を用いることが好ましい。このような添加剤としては、炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族基、又は炭素原子数が６〜４０の置換もしくは無置換脂肪族置換オリゴシロキサノキシ基を、分子内に１本以上有する化合物が好ましく、分子内に２本以上有する化合物が更に好ましい。例えば、空気界面配向制御剤としては、特開２００２−２０３６３号公報に記載の疎水性排除体積効果化合物を用いることができる。
また、特開２００９−１９３０４６号公報等に記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマーも同様な作用があるので空気界面配向制御剤として添加することができる。

空気界面側の配向制御用添加剤の添加量としては、前記組成物（塗布液の場合は固形分、以下同様である）に対して、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１質量％〜１０質量％が更に好ましく、０．１質量％〜５質量％がより更に好ましい。

ハジキ防止剤：
前記組成物に添加し、該組成物の塗布時のハジキを防止するための材料としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。
使用するポリマーとしては、前記組成物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。
ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。
前記組成物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、前記組成物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

重合開始剤：
前記組成物は、重合開始剤を含有しているのが好ましい。重合開始剤を含有する前記組成物を用いると、液晶相形成温度まで加熱した後、重合させ冷却することによって液晶状態の配向状態を固定化して、光学異方性層を作製することもできる。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応と電子線照射による重合反応が含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応又は電子線照射による重合反応が好ましい。

光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、前記組成物の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。

重合性モノマー：
前記組成物には、重合性のモノマーを添加してもよい。本発明で使用できる重合性モノマーとしては、併用される液晶化合物と相溶性を有し、液晶性組成物の配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、併用される液晶化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜との密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。

前記組成物は、塗布液として調製してもよい。塗布液の調製に使用する溶剤としては、汎用の有機溶剤が好ましく用いられる。汎用の有機溶剤の例には、アミド系溶剤（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド系溶剤（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環系溶剤（例、ピリジン）、炭化水素系溶剤（例、トルエン、ヘキサン）、アルキルハライド系溶剤（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル系溶剤（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン系溶剤（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル系溶剤（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。エステル系溶剤及びケトン系溶剤が好ましく、特にケトン系溶剤が好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

前記光学異方性層は、前記組成物を、配向状態とし、その配向状態を固定することで、作製することができる。以下に、製造方法の一例について説明するが、この方法に限定されるものではない。
まず、重合性液晶性化合物を少なくとも含有する組成物を支持体の表面上（配向膜を有する場合は配向膜表面）に塗布する。所望により加熱等して、所望の配向状態で配向させる。次に、重合反応等を進行させて、その状態を固定して、光学異方性層を形成する。この方法に用いられる前記組成物に添加可能な添加剤の例としては、前記した空気界面配向制御剤、ハジキ防止剤、重合開始剤、重合性モノマー等が挙げられる。

塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により行うことができる。

均一に配向した状態を実現するためには、配向膜を利用するのが好ましい。配向膜は、ポリマー膜（例えば、ポリビニルアルコール膜及びイミド膜等）の表面をラビング処理することで形成されるものが好ましい。本発明に利用するのに好ましい配向膜の例には、特開２００６−２７６２０３号公報の［０１３０］〜［０１７５］に記載のあるアクリル酸コポリマー又はメタクリル酸コポリマーの配向膜が含まれる。当該配向膜を利用すると、液晶化合物のゆらぎを抑制でき高コントラスト化が達成できるので好ましい。

次に、配向状態を固定するために、重合を実施するのが好ましい。前記組成物中に光重合開始剤を含有させ、光照射により重合を開始するのが好ましい。光照射には、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ²〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。また、雰囲気の酸素濃度は重合度に関与するため、空気中で所望の重合度に達しない場合には、窒素置換等の方法により酸素濃度を低下させることが好ましい。好ましい酸素濃度としては、１０％以下が好ましく、７％以下がさらに好ましく、３％以下がよりさらに好ましい。

本発明で配向状態が固定化された状態とは、その配向が保持された状態が最も典型的、且つ好ましい態様ではあるが、それだけには限定されず、具体的には、通常０℃〜５０℃、より過酷な条件下では−３０℃〜７０℃の温度範囲において、該固定化された組成物に流動性が無く、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を指すものである。なお、配向状態が最終的に固定化され光学異方性層が形成された際に、前記組成物はもはや液晶性を示す必要はない。例えば、結果的に熱、光等による反応により重合又は架橋反応が進行し、高分子量化して、液晶性化合物が液晶性を失ってもよい。

前記光学異方性層の厚さについては特に制限されないが、一般的には、０．１〜１０μｍ程度であるのが好ましく、０．５〜５μｍ程度であるのがより好ましい。

前記光学異方性層の形成には、配向膜を利用してもよく、配向膜としては、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを主成分とする膜の表面をラビング処理したもの等を利用することができる。

なお、本発明に利用する前記位相差フィルム及び光学異方性層は、長尺の状態で連続的に製造されることが好ましい。更に、長手方向に対して遅相軸が平行でも直交でもない方向にあることが、ロールツーロールの方式で、偏光膜と、その遅相軸を偏光膜の吸収軸に対して４５°又は１３５°として貼り合わせできるので好ましい。すなわち、位相差フィルム及び光学異方性層の遅相軸と長辺とのなす角度は、５〜８５°であることが好ましい。
液晶組成物から形成される光学異方性層の遅相軸の角度は、ラビングの角度で調整できる。延伸フィルムの遅相軸は、延伸方向によって遅相軸の角度が調整できる。

（３）表面層
前記保護部材及びλ／４板の表面には、目的に応じて必要な表面層を単独又は複数層設けてもよい。好ましい態様としては、光学異方性層の上にハードコート層が積層された態様、光学異方性層の上に反射防止層が積層された態様、光学異方性層の上にハードコート層が積層され、その上に更に反射防止層が積層された態様、等が挙げられる。

［反射防止層］
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して設計された，少なくとも一層以上の層からなる層である。
反射防止層は、最も単純な構成では、フィルムの最表面に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８−２６２１８７号公報に記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２００７−２６４１１３号公報等）等が挙げられる。

ハードコート層や反射防止層を有する場合の具体的な層構成の例を下記に示す。以下表記中−＊／は表面層が積層される基材を表す。具体的には、−＊／は、上述の光学異方性支持体、光学異方性層、支持体などを表す。
・−＊／ハードコート層、
・−＊／低屈折率層、
・−＊／防眩層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／低屈折率層、
・−＊／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
上記の各構成のなかでも、光学異方性層の上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の表面層を直接形成することが好ましい。また、光学異方性層を含む光学フィルムと、別途、支持体上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の層を設けた光学フィルムとを貼合積層して製造してもよい。

［ハードコート層］
保護部材Ａに設ける表面フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性の表面フィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．７０である。

ハードコート層の膜厚は、表面フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、更に好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ₂が好ましい。

電離放射線硬化性化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。

電離放射線硬化性化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている化合物を用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。

［防眩層］
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくは表面フィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。

［高屈折率層及び中屈折率層］
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。

上記中屈折率層は、上記高屈折率層と屈折率を異ならせた以外は同様の材料を用いて同様に調整できるので、以下、特に高屈折率層について説明する。
上記高屈折率層は、無機微粒子、３官能以上の重合性基を有する硬化性化合物（以下、「バインダー」と称する場合もある）、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び／又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。

［低屈折率層］
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。表面フィルムが多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３５〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
低屈折率層は、含フッ素硬化性ポリマー、含フッ素硬化性モノマー、非含フッ素硬化性モノマー、低屈折率粒子などを構成成分として形成することができる。これら化合物は、特開２０１０−１５２３１１号公報[００１８]〜[０１６８]段落に記載のものを用いることができる。

低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９５゜以上であることが好ましい。更に好ましくは１０２゜以上である。特に、接触角が１０５°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が１０２°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることがより好ましく、２３ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが特に好ましく、２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が１０５°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。

（４）紫外線吸収剤
本発明では、保護部材及びλ／４板は、紫外線吸収剤を含有しているのが好ましい。紫外線吸収剤は、保護部材及びλ／４板が積層構造体である態様では、少なくとも１つの層が紫外線吸収剤を含有しているのが好ましい。例えば、透明支持体、光学異方性層、反射防止層、又はそれらを接着する接着剤を有する態様では、これらのいずれかに紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。また、表面フィルムのハードコート層及び／又は反射防止層には、紫外線吸収剤を含有させることができる。紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できるもので、公知のものがいずれも使用できる。そのような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、電子画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得るためにベンゾトリアゾール系又はヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシヘキシル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−３′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−シアノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ニトロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒ―ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゼンプロパン酸−３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１、１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−，Ｃ７〜９−ブランチ直鎖アルキルエステル、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等が挙げられる。

ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２'−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−５，５′−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウム塩等が挙げられる。

紫外線吸収剤の含有量は、求める紫外線透過率や紫外線吸収剤の吸光度にもよるが、前記紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常２０質量部以下、好ましくは１〜２０質量部である。紫外線吸収剤の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、光学フィルムの可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、１質量部より少ない場合には、光学フィルムの紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。

２．偏光膜
本発明の時分割式３Ｄ表示システムに利用される画像表示装置は、その視認側に少なくとも１つの偏光膜（第１の偏光膜）を有する。画像表示装置が、透過モードの液晶パネルである態様では、液晶セルのバックライト側にも偏光膜を有する。また、本発明のシステムに利用される、時分割画像表示遮断器が液晶セルのシャッター機能を利用した態様では、偏光膜を１枚、又は液晶セルを挟んで２枚配置する。

本発明の時分割式３Ｄ表示装置に用いられる偏光膜については特に制限はなく、通常用いられている偏光膜を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を利用した染料系偏光膜、及びポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、及び染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素又は二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。

第１の偏光膜は、顔傾斜時の色味変化を抑制するという理由で、その吸収軸を表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°となるように配置する必要がある。吸収軸を表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°とし、保護部材の遅相軸を表示面の水平方向に対して０°又は９０°とすることで、顔傾斜時の色味変化を抑制することができる。

なお、偏光膜は、その両面に保護フィルムが貼合された偏光板として用いられることが一般的である。本発明でも、偏光板を用いてもよい。図５及び図６に、保護部材又はλ／４板を有する偏光板の例を示すがこれに限定されるものではない。図６中の光学補償フィルムは、液晶セルの視野角を補償する機能を有するものである。

３．液晶セル
本発明の時分割方式３Ｄ表示装置に用いられる液晶セルのモードについては、特に制限はないが、ＴＮモード、ＯＣＢモード、及びＥＣＢモードは、通常、偏光膜を、その吸収軸を表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°にして配置するのが一般的であるので、これらのモードの液晶セルを利用すると、元々の構造を改変することなく、そのまま利用することができる。
時分割画像表示遮断器の構成については特に制限はない。一例は、液晶セルを利用した態様である。利用可能な液晶セルの構成については特に制限はない。液晶セルは、一対の基板及び液晶層の他に、各種の方式の液晶セルとするのに必要な各種の構成要素を備えていてもよい。液晶セルの方式としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＳＴＮ（ＳｕｐｅｒＴｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）方式、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）方式、ハーフトーングレイスケール方式、ドメイン分割方式、あるいは強誘電性液晶、反強誘電性液晶を利用した表示方式等の各種の方式が挙げられる。また、液晶セルの駆動方式も特に制限はなく、ＳＴＮ−ＬＣＤ等に用いられるパッシブマトリクス方式、並びにＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）電極、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）電極等の能動電極を用いるアクティブマトリクス方式、プラズマアドレス方式等のいずれの駆動方式であってもよい。カラーフィルタを使用しないフィールドシーケンシャル方式であってもよい。

ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。

例えば、画像表示装置用の液晶セルは、表示性能の観点で選択されるであろうし、また時分割画像表示遮断器のシャッター機能に利用する液晶セルは、右目と左目の映像に対応した応答を行うので、応答速度及び透過率の観点で選択され、速いＴＮモードの液晶セルを用いることが好ましい。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
なお、実施例および比較例において、Ｒｅ（５５０）、Ｒｔｈ（５５０）及びＲｅ波長分散は、特に断りがない限り、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて波長５５０ｎｍにおいて測定した値を用いた。

（作製例１．セルロースアシレートフィルムＴ１の作製）
全置換度２．９７（内訳：アセチル置換度０．４５、プロピオニル置換度２．５２）のセルロースアシレートを調製した。触媒としての硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）とカルボン酸無水物との混合物を−２０℃に冷却してからパルプ由来のセルロースに添加し、４０℃でアシル化を行った。この時、カルボン酸無水物の種類及びその量を調整することで、アシル基の種類及びその置換比を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行って全置換度を調整した。

＜セルロースアシレート溶液の調製＞
１）セルロースアシレート
調製したセルロースアシレートを１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後、３０質量部を溶媒と混合させた。
２）溶媒
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８１／１５／４質量部）を溶媒として用いた。なお、これらの溶媒の含水率は、いずれも０．２質量％以下であった。
３）添加剤
全ての溶液調製に際し、トリメチロールプロパントリアセテート０．９質量部を添加した。また、全ての溶液調製に際し、二酸化ケイ素微粒子（粒径２０ｎｍ、モース硬度 約７）０．２５質量部を添加した。
４）膨潤、溶解
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００リットルのステンレス製溶解タンクに、上記溶媒、添加剤に加え、下記ＵＶ吸収剤Ａを３．０％投入して撹拌、分散させながら、上記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。
なお、攪拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０⁴ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ²）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸及び中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０⁴ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ²）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。

５）ろ過
上記で得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、更に絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過してセルロースアシレート溶液を得た。

＜セルロースアシレートフィルムの作製＞
上記セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは１５ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、更に１４０℃で１０分乾燥して、セルロースアシレートフィルムＴ１を得た。
得られたセルロースアシレートフィルムＴ１のＲｅ（５５０）は−１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−２０ｎｍであった。

（作製例２．セルロースアシレートフィルムＴ２の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、固形分濃度２２質量％のセルロースアセテート溶液（ドープＡ）を調製した。

────────────────────────────────────────セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────────
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２８ チバ・ジャパン製） １．８質量部
紫外線吸収剤（チヌビン３２６ チバ・ジャパン製） ０．４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３３６質量部
メタノール（第２溶媒） ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
────────────────────────────────────────

上記ドープＡに平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）をセルロースアセテート１００質量部に対して０．０２質量添加したマット剤入りドープＢを調製した。ドープＡと同じ溶剤組成で固形分濃度が１９質量％になるように調節した。

ドープＡを主流とし、マット剤入りドープＢを最下層及び最上層になるようにして、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムをはがし１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアシレートフィルムＴ２を作製した。マット剤入りの最下層及び最上層はそれぞれ３μｍに、主流は３７μｍになるように流量を調節した。

得られた長尺状のセルロースアシレートフィルムＴ２の幅は２３００ｍｍであり、厚さは４３μｍであった。また、面内レターデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は２０ｎｍであった。

（作製例３．セルロースアシレートフィルムＴ３の作製）
室温において、平均酢化度５９．７％のセルロースアセテート１２０質量部、トリフェニルホスフェート９．３６質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート４．６８質量部、レターデーション上昇剤（Ａ）１．００質量部、メチレンクロリド５４３．１４質量部、メタノール９９．３５質量部及びｎ−ブタノール１９．８７質量部を混合して、溶液（ドープ）を調製した。

得られたドープを、ガラス板上に流延し、室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は３０質量％であった。セルロースアシレートフィルムをガラス板から剥離し、１２０℃で１０分間乾燥した。フィルムを適当な大きさに切断した後、１３０℃で流延方向とは平行な方向に延伸した。延伸方向と垂直な方向は、自由に収縮できるようにした。延伸後、そのままの状態で１２０℃で３０分間乾燥した後、延伸フィルムを取り出した。延伸後の溶剤残留量は０．１質量％であった。この様にしてセルロースアシレートフィルムＴ３を得た。

（作製例４．セルロースアシレートフィルムＴ４の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液（内層用ドープＡ及び外層用ドープＢ）を調製した。

────────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成（質量部） 内層 外層
────────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００ １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
紫外線吸収剤（チヌビン３２８ チバ・ジャパン製）
２．７ ０
紫外線吸収剤（チヌビン３２６ チバ・ジャパン製）
０．６ ０
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３ ３１４
メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０ ０．８
下記レターデーション上昇剤（Ａ） １．７ ０
────────────────────────────────────────

得られた内層用ドープＡ及び外層用ドープＢを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアシレートフィルムＴ４（厚み５６μｍ（外層：３μｍ、内層：５０μｍ、外層：３μｍ））を製造した。作製したセルロースアシレートフィルムＴ４のＲｅ（５５０）は１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６５ｎｍであった。

（作製例５．セルロースアシレートフィルムＴ５の作製）
セルロースアシレートフィルムＴ４の作製において、紫外線吸収剤（チヌビン３２８ チバ・ジャパン製）の添加量を１．８質量部に、紫外線吸収剤（チヌビン３２６ チバ・ジャパン製）の添加量を０．４質量部にし、内層が７１μｍになるように流量を調節した以外は、セルロースアシレートフィルムＴ４の作製と同様にして厚さ７７μｍのセルロースアシレートフィルムＴ５を作製した。面内レターデーションＲｅ（５５０）は２ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は９５ｎｍであった。

（作製例６．セルロースアシレートフィルムＴ６の作製）
セルロースアシレートフィルムＴ１の作製において、流量を調節して厚みを調整した以外は、セルロースアシレートフィルムＴ１の作製と同様にしてセルロースアシレートフィルムＴ６を作製した。
面内レターデーションＲｅ（５５０）は０ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−２５ｎｍであった。

（作製例７．セルロースアシレートフィルムＴ７の作製）
セルロースアシレートフィルムＴ１の作製において、流量を調節して厚みを調整した以外は、セルロースアシレートフィルムＴ１の作製と同様にしてセルロースアシレートフィルムＴ７を作製した。
面内レターデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−４５ｎｍであった。

（作製例８．セルロースアシレートフィルムＴ８の作製）
セルロースアシレートフィルムＴ２の作製において、流量を調節して厚みを調整した以外は、セルロースアシレートフィルムＴ２の作製と同様にしてセルロースアシレートフィルムＴ８を作製した。面内レターデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は２５ｎｍであった。

（作製例９．セルロースアシレートフィルムＴ９の作製）
セルロースアシレートフィルムＴ１の作製において、ＵＶ吸収剤Ａの添加量を３．０％から１．２％に変え、さらに下記のＲｔｈ低減剤Ｂを１１％入れた以外はセルロースアシレートフィルムＴ１の作製と同様にしてセルロースアシレートフィルムＴ９を作製した。面内レターデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−１ｎｍであった。

１．保護部材の作製
（保護部材１の作製）
＜λ／４フィルム１の作製＞
上記で作製したセルロースアシレートフィルムＴ７の表面をアルカリ溶液でケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にセルロースアシレートフィルムＴ７の長手方向に対して、４５°方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーで塗布した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層塗布液
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物 １．８ｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ０．２ｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ０．０６ｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．０２ｇ
メチルエチルケトン ３．９ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――

これを１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間ＵＶ照射し棒状液晶性化合物を架橋した。ＵＶ硬化時の温度を８０℃として、光学異方性層を得た。光学異方性層の厚さは、２．０μｍであった。その後、室温まで放冷した。このようにして、セルロースアシレートフィルムＴ７上に光学異方性層を塗布したλ／４フィルム１を作製した。形成した光学異方性層の状態を調べ、塗布ムラ（塗布液が配向膜にはじかれて生じたムラ）や配向の乱れがないことを確認した。

＜表面層(反射防止層)の形成＞
＜＜ハードコート層用塗布液の調製＞＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液（固形分濃度５８質量％）とした。
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用塗布液（固形分濃度５８質量％）とした。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ハードコート層用塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢酸メチル ３６．２質量部
メチルエチルケトン ３６．２質量部
（ａ）モノマー：下記構造のＰＥＴＡ（新中村化学工業（株）製） ７７．０質量部
（ｂ）下記構造のウレタンモノマー ２０．０質量部
光重合開始剤 ＊１ ３．０質量部
下記構造のレベリング剤（ＳＰ-１３） ０.０２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
＊１：イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製

＜＜低屈折率層用塗布液の調製＞＞
各成分を下記のように混合し、ＭＥＫ／ＭＭＰＧ−Ａｃの８５／１５混合物(質量比)に溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液を調製した（ＭＥＫは、メチルエチルケトンを意味し、ＭＭＰＧ−Ａｃは、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを意味する。）。
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
低屈折率層塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のパーフルオロオレフィン共重合体 １５質量部
ＤＰＨＡ ＊１ ７質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３ ＊２ ５質量部
下記の含フッ素重合性化合物 ２０質量部
中空シリカ粒子固形分 ＊３ ５０質量部
イルガキュア１２７ ＊４ ３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
＊１：ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製
＊２：ディフェンサＭＣＦ−３２３：フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製
＊３：中空シリカ：中空シリカ粒子分散液（平均粒子サイズ４５ｎｍ、屈折率１．２５、表面をアクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理、ＭＥＫ分散液濃度２０％）
＊４：イルガキュア１２７：光重合開始剤、チバ・ジャパン（株）製

＜＜ハードコート層及び低屈折率層の形成＞＞
λ／４フィルム１の液晶性化合物を含む層を塗設していない側の支持体表面上（セルロースアシレートフィルムＴ７上）に、前記ハードコート層用塗布液をダイコーターを用いて塗布した（固形分塗布量：１２ｇ/ｍ²）。１００℃で６０秒乾燥した後、酸素濃度が０．１体積％の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層付きλ／４フィルム１を作製した。このハードコート層の上に、上記低屈折率層用塗布液を塗布することで保護部材１を作製した。低屈折率層の乾燥条件は７０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。低屈折率層の屈折率は１．３４、膜厚は９５ｎｍであった。保護部材１のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は２５ｎｍであった。また、保護部材１のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材２の作製）
＜λ／４フィルム２の作製＞
λ／４フィルム１の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ９に変えた以外はλ／４フィルム１の作製と同様にしてλ／４フィルム２を作製した。λ／４フィルム２のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６６ｎｍであった。また、λ／４フィルム２のＲｅ波長分散は順分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材２の作製＞
保護部材１の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ９に変えた以外は保護部材１の作製と同様にして保護部材２を作製した。保護部材２のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６６ｎｍであった。また、保護部材２のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材３の作製）
セルロースアシレートフィルムＴ３上に保護部材１と同様の手順でハードコート層及び低屈折率層を積層させた。このフィルムを４５度回転させて裁断し、保護部材３として使用した。延伸倍率は４２％であった。得られたフィルムの厚さは９７μｍ、Ｒｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。また、保護部材３のＲｅ波長分散は逆分散であった。
なお、延伸方向を斜め方向にすることで搬送方向に対して４５度に遅相軸を有するλ／４フィルムを作製することも可能であった。

（保護部材４の作製）
＜λ／４フィルム４の作製＞
市販のノルボルネン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を、温度１５６℃にて、延伸倍率４５％で自由端一軸延伸を行いうことで、ノルボルネン系λ／４フィルム４を作製した。λ／４フィルム４のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。また、λ／４フィルム４のＲｅ波長分散はフラット分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材４の作製＞
セルロースアシレートフィルムＴ９上に保護部材１と同様の手順でハードコート層及び低屈折率層を積層させ、λ／４フィルム４とセルロースアシレートフィルムＴ９とを易接着剤を介して貼合したことで保護部材４を作製した。保護部材４のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。また、保護部材４のＲｅ波長分散はフラット分散であった。

＜λ／４フィルム４Ａの作製＞
λ／４フィルム４とセルロースアシレートフィルムＴ９とを易接着剤を介して貼合することでλ／４フィルム４Ａを作製した。λ／４フィルム４ＡのＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。また、λ／４フィルム４ＡのＲｅ波長分散はフラット分散であった。

（保護部材５の作製）
＜λ／４フィルム５の作製＞
λ／４フィルム１の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ４に変えた以外はλ／４フィルム１の作製と同様にしてλ／４フィルム５を作製した。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材５の作製＞
セルロースアシレートフィルムＴ９上に保護部材１と同様の手順でハードコート層及び低屈折率層を積層させ、λ／４フィルム５の棒状液晶化合物側とセルロースアシレートフィルムＴ９とを易接着剤を介して貼合したことで保護部材５を作製した。保護部材５のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１３２ｎｍであった。また、保護部材５のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材６の作製）
保護部材５の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ４をセルロースアシレートフィルムＴ５に変えた以外は保護部材５の作製と同様にして保護部材６を作製した。保護部材６のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１６０ｎｍであった。また、保護部材６のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材７の作製）
＜λ／４フィルム７の作製＞
λ／４フィルム１の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ６を２枚積層したものに変えた以外はλ／４フィルム１の作製と同様にしてλ／４フィルム７を作製した。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材７の作製＞
作製したλ／４フィルム７のセルロースアシレートフィルムＴ６上に保護部材１と同様の手順でハードコート層及び低屈折率層を積層させた。保護部材７のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は２１ｎｍであった。また、保護部材７のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材８の作製）
＜λ／４フィルム８の作製＞
セルロースアシレートフィルムＴ７を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。

────────────────────────────────────
アルカリ溶液組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────────

＜＜配向膜の形成＞＞
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアシレートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。

――――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製） ０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜ディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層の形成＞
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は時計回りに４５°の方向とした。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液Ａを上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し厚さ１．７７μｍの光学異方性層を形成し、λ／４フィルム８を得た。

────────────────────────────────────
光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――───
下記のディスコティック液晶化合物 ９１質量部
アクリレートモノマー ＊１ ５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩 ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３） ０．１質量部
メチルエチルケトン １８９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――───
＊１：アクリレートモノマーは、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）を使用した。

作製したλ／４フィルム８は、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−９１ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は反時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材８の作製＞
λ／４フィルム８の液晶性化合物を含む層を塗設していない側の支持体表面上（セルロースアシレートフィルムＴ７上）に、保護部材１と同様の手順で表面層(反射防止層)を形成することで保護部材８を作製した。保護部材８のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−９１ｎｍであった。また、保護部材８のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材９の作製）
＜λ／４フィルム９の作製＞
λ／４フィルム８の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ２に変えた以外はλ／４フィルム８の作製と同様にしてλ／４フィルム９を作製した。λ／４フィルム９のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−２５ｎｍであった。また、λ／４フィルム９のＲｅ波長分散は順分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材９の作製＞
保護部材８の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ２に変えた以外は、保護部材８の作製と同様にして保護部材９を作製した。保護部材９の面内レターデーションＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−２５ｎｍであった。また、保護部材９のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材１０の作製）
保護部材８の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７を「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム（株）製）に変えた以外は、保護部材８の作製と同様にして保護部材１０を作製した。保護部材１０の面内レターデーションＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−５ｎｍであった。また、保護部材１０のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材１１の作製）
＜λ／４フィルム１１の作製＞
λ／４フィルム８の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ１に変えた以外はλ／４フィルム８の作製と同様にしてλ／４フィルム１１を作製した。λ／４フィルム１１のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−６４ｎｍであった。また、λ／４フィルム１１のＲｅ波長分散は順分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材１１の作製＞
保護部材８の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ１に変えた以外は、保護部材８の作製と同様にして保護部材１１を作製した。保護部材１１の面内レターデーションＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−６４ｎｍであった。また、保護部材１１のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材１２の作製）
保護部材８の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７を２枚のセルロースアシレートフィルムＴ７とセルロースアシレートフィルムＴ６の計３枚を粘着剤で貼合して作製したフィルムに変更した以外は、保護部材８の製造方法と同様にして保護部材１２を作製した。保護部材１２の面内レターデーションＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−１６０ｎｍであった。また、保護部材１２のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材１３の作製）
保護部材８の作製において、セルロースアシレートフィルムＴ７をセルロースアシレートフィルムＴ８に変えた以外は、保護部材８の作製と同様にして保護部材１３を作製した。保護部材１３の面内レターデーションＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−２２ｎｍであった。また、保護部材１３のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材１４の作製）
＜λ／４フィルム１４の作製＞
λ／４フィルム１１の作製において、光学異方性層の厚さを１．５４μｍに変えた以外はλ／４フィルム１１の作製と同様にしてλ／４フィルム１４を作製した。λ／４フィルム１４のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５３ｎｍであった。また、λ／４フィルム１４のＲｅ波長分散は順分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材１４の作製＞
保護部材１と同様の手順で、λ／４フィルム１４の液晶性化合物を含む層を塗設していない側の支持体表面上（セルロースアシレートフィルムＴ１上）にハードコート層及び低屈折率層を形成し、保護部材１４を作製した。保護部材１４のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−５３ｎｍであった。また、保護部材１４のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材１５の作製）
＜λ／４フィルム１５の作製＞
λ／４フィルム８の作製において、光学異方性層の厚さを１．９２μｍに変えた以外はλ／４フィルム８の作製と同様にしてλ／４フィルム１５を作製した。λ／４フィルム１５のＲｅ（５５０）は１５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−９７ｎｍであった。また、λ／４フィルム１５のＲｅ波長分散は順分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材１５の作製＞
保護部材１と同様の手順で、λ／４フィルム１５の液晶性化合物を含む層を塗設していない側の支持体表面上（セルロースアシレートフィルムＴ７上）にハードコート層及び低屈折率層を形成し、保護部材１５を作製した。保護部材１５のＲｅ（５５０）は１５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−９７ｎｍであった。また、保護部材１５のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材１６の作製）
＜λ／４フィルム１６の作製＞
λ／４フィルム８の作製において、光学異方性層の厚さを１．５４μｍに変えた以外はλ／４フィルム８の作製と同様にしてλ／４フィルム１６を作製した。λ／４フィルム１６のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−８２ｎｍであった。また、λ／４フィルム１６のＲｅ波長分散は順分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材１６の作製＞
保護部材１と同様の手順で、λ／４フィルム１６の液晶性化合物を含む層を塗設していない側の支持体表面上（セルロースアシレートフィルムＴ７上）にハードコート層及び低屈折率層を形成し、保護部材１６を作製した。保護部材１６のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−８２ｎｍであった。また、保護部材１６のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材１７の作製）
＜λ／４フィルム１７の作製＞
λ／４フィルム４の作製において、延伸温度と延伸倍率を変更した以外は、λ／４フィルム４の作製と同様にしてλ／４フィルム１７を作製した。λ／４フィルム１７のＲｅ（５５０）は１５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９５ｎｍであった。また、λ／４フィルム１７のＲｅ波長分散はフラット分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材１７の作製＞
セルロースアシレートフィルムＴ９上に保護部材１と同様の手順でハードコート層及び低屈折率層を積層させ、λ／４フィルム１７とセルロースアシレートフィルムＴ９とを易接着剤を介して貼合したことで保護部材１７を作製した。保護部材１７のＲｅ（５５０）は１５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９５ｎｍであった。また、保護部材１７のＲｅ波長分散はフラット分散であった。

＜λ／４フィルム１７Ａの作製＞
λ／４フィルム１７とセルロースアシレートフィルムＴ９とを易接着剤を介して貼合することでλ／４フィルム１７Ａを作製した。λ／４フィルム１７ＡのＲｅ（５５０）は１５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９５ｎｍであった。また、λ／４フィルム１７ＡのＲｅ波長分散はフラット分散であった。

（保護部材１８の作製）
＜λ／４フィルム１８の作製＞
λ／４フィルム４の作製において、延伸温度と延伸倍率を変更した以外は、λ／４フィルム４の作製と同様にしてλ／４フィルム１８を作製した。λ／４フィルム１８のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７１ｎｍであった。また、λ／４フィルム１８のＲｅ波長分散はフラット分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材１８の作製＞
セルロースアシレートフィルムＴ９上に保護部材１と同様の手順でハードコート層及び低屈折率層を積層させ、λ／４フィルム１８とセルロースアシレートフィルムＴ９とを易接着剤を介して貼合したことで保護部材１８を作製した。保護部材１８のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７１ｎｍであった。また、保護部材１８のＲｅ波長分散はフラット分散であった。

＜λ／４フィルム１８Ａの作製＞
λ／４フィルム１８とセルロースアシレートフィルムＴ９とを易接着剤を介して貼合することでλ／４フィルム１８Ａを作製した。λ／４フィルム１８ＡのＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は７１ｎｍであった。また、λ／４フィルム１８ＡのＲｅ波長分散はフラット分散であった。

（保護部材１９の作製）
＜λ／４フィルム１９の作製＞
λ／４フィルム２の作製において、光学異方性層の厚さを１．８１μｍに変えた以外はλ／４フィルム２の作製と同様にしてλ／４フィルム１９を作製した。λ／４フィルム１９のＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は５７ｎｍであった。また、λ／４フィルム１９のＲｅ波長分散は順分散であった。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材１９の作製＞
保護部材１と同様の手順で、λ／４フィルム１９の液晶性化合物を含む層を塗設していない側の支持体表面上（セルロースアシレートフィルムＴ９上）にハードコート層及び低屈折率層を形成し、保護部材１９を作製した。保護部材１９のＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は５７ｎｍであった。また、保護部材１９のＲｅ波長分散は順分散であった。

（保護部材２０の作製）
＜λ／４フィルム２０の作製＞
λ／４フィルム８の製造と同様に、セルロースアシレートフィルムＴ７の表面をアルカリ鹸化処理し、更に配向膜を設けた。作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は時計回りに４５°の方向とした。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液Ｂを上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し厚さ０．８７μｍの光学異方性層を形成し、λ／４フィルム２０を得た。

光学異方性層塗布液（Ｂ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶化合物 １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩 １質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ２） ０．４質量部
メチルエチルケトン ２５２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

作製したλ／４フィルム２０は、５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）が１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が−８６ｎｍであった。遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は反時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。

＜表面層(反射防止層)の形成及び保護部材２０の作製＞
λ／４フィルム２０の液晶性化合物を含む層を塗設していない側の支持体表面上（セルロースアシレートフィルムＴ７上）に、保護部材１と同様の手順で表面層(反射防止層)を形成することで保護部材２０を作製した。保護部材２０のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−８６ｎｍであった。また、保護部材２０のＲｅ波長分散は順分散であった。

（λ／４板１の作製）
ノルボルネン系λ／４フィルム４を４５度回転させて裁断し、λ／４板１を作製した。得られたλ／４板１のＲｅ（５５０）は１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は８５ｎｍであった。また、λ／４板１全体のＲｅ波長分散はフラット分散であった。

下記に保護部材のレターデーションなどについてまとめた表を示す。

表中、＊は、第１の偏光膜を表す。
表中、Ｔ１〜Ｔ９は、セルロースアシレートフィルムＴ１〜Ｔ９を表す。
表中、ＲＬＣは、棒状液晶化合物を表し、ＤＬＣは、ディスコティック液晶化合物を表す。

２．偏光板の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
アルカリ鹸化処理した「ＷＶ-ＥＡ」（富士フイルム社製））を用意し、片面を「ＷＶ-ＥＡ」で、もう片面を保護部材１〜２０のいずれか１枚、またはλ／４フィルム１〜２０および４Ａで偏光膜を挟んで、粘着剤を用いて貼り合せ、下表に示す偏光板を作製した。
同様に、アルカリ鹸化処理した「ＴＤ８０ＵＬ」（富士フイルム社製））を用意し、片面を「ＴＤ８０ＵＬ」で、もう片面をλ／４板１で偏光膜を挟んで、粘着剤を用いて貼り合せ、液晶シャッターメガネ用偏光板Ａを作製した。

３．３Ｄ表示システムの作製
（液晶表示装置の作製）
ＴＮモードの液晶モニターＥ２４２０ＨＤ（ＢｅｎＱ（株）製）のフロント偏光板をはがし、下記表のように吸収軸、遅相軸の角度を調整し、保護部材が表示面側になるようにして下表のように偏光板を貼合し、各液晶表示装置を作製した。

（液晶シャッターメガネの作製）
３Ｄ立体視聴キット(オリンパスビジュアルコミュニケーション（株）製)の液晶シャッターメガネを２つ用意して、液晶表示装置側の偏光板を剥がし、一方には偏光板Ａをλ／４板１が液晶表示装置側になるように貼合して図２に示したような偏光板２枚型メガネを作製した。もう一方にはλ／４板１を貼合して図３（ａ）に示したような偏光板１枚型メガネを作製した。なお、偏光板Ａとλ／４板１をメガネに貼合する際は、メガネを液晶表示装置の正面に配置したときに、液晶表示装置の保護部材とメガネのλ／４板１のＲｅの遅相軸が直交するように調整した。

４．参考例
以下のように、参考例１〜１２の液晶表示装置を作製した。
（偏光板の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
アルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 Ｒｅ（５５０）＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝１２５ｎｍ）を用意し、片面を前記ＶＡ用位相差フィルムで、もう片面を作製した保護部材１，４，６，８，９，１０のいずれか１枚で偏光膜を挟んで、粘着剤及び接着剤を用いて貼り合せて偏光板を作製した。

（液晶表示装置の作製）
ＳＨＡＲＰ製の３Ｄ液晶テレビＬＣ−４６ＬＶ３を用意し、フロント偏光板をはがし、作製した偏光板のいずれか一枚を下記表のように吸収軸、遅相軸の角度を調整し、保護部材が表示面側になるようにして偏光板を貼合し、液晶表示装置を作製した。

（液晶シャッターメガネの作製）
続いて、ＳＨＡＲＰ製の液晶シャッターメガネ「ＡＮ−３ＤＧ１０」を２つ用意し、液晶表示装置側の偏光板を剥がし、一方には偏光板Ａを、λ／４板１が液晶表示装置側になるように貼合して偏光板２枚型メガネを作製した。もう一方にはλ／４板１を貼合して偏光板１枚型メガネを作製した。なお、偏光板Ａとλ／４板１をメガネに貼合する際は、メガネを液晶表示装置の正面に配置したときに、液晶表示装置とメガネのλ／４板１のＲｅの遅相軸が直交するように調整した。

５．評価
液晶表示装置を３Ｄ表示にし、片目を白表示に、もう片目を黒表示とした状態で、白表示側のメガネを通した位置に測定器（ＢＭ−５Ａ トプコン製）をおいて白表示におけるメガネ回転時の色味変化を以下のように測定した。結果を下記表に示す。

（横方向の視野角白色味変化の評価）
横方向の視野角白色味変化の評価は、極角６０度における方位角０度、２０度、４０度、１４０度、１６０度、１８０度、２００度、２２０度、３２０度、３４０度の１０方位について、白表示の色味ｖ'の最小値と最大値からｖ’変化量を算出し、１０方位のv'変化量の合計をもとに、以下の基準で評価した。
◎：白表示のv'変化量の合計が０．０５未満（個々の方位では色味付が全く視認されず、許容できる。）
○：白表示のv'変化量の合計が０．０５以上０．１０未満（いずれかの方位でわずかな色味付が視認される程度であり、許容できる。）
△：白表示のv'変化量の合計が０．１０以上０．１５未満（いずれかの方位で色味付が視認されるが、許容できる。）
×：白表示のv'変化量の合計が０．１５以上（いずれかの方位で色味つきが激しく、許容できない。）

（縦方向の視野角白色味変化の評価）
縦方向の視野角白色味変化の評価は、極角６０度における方位角５０度、７０度、９０度、１１０度、１３０度の５方位について、白表示の色味ｖ'の最小値と最大値からｖ’変化量を算出し、５方位のv'変化量の合計をもとに、以下の基準で評価した。
◎：白表示のv'変化量の合計が０．０２５未満（個々の方位では色味付が全く視認されず、許容できる。）
○：白表示のv'変化量の合計が０．０２５以上０．０５未満（いずれかの方位でわずかな色味付が視認される程度であり、許容できる。）
△：白表示のv'変化量の合計が０．０５以上０．０７５未満（いずれかの方位で色味付が視認されるが、許容できる。）
×：白表示のv'変化量の合計が０．０７５以上（いずれかの方位で色味付が激しく、許容できない。）

（斜め方向の視野角白色味変化の評価）
斜め方向の視野角白色味変化の評価は、極角６０度における方位角４５度または１３５度の２方位について、白表示の色味ｖ'の最小値と最大値からｖ’の変化量を算出し、v'の変化量の大きい方の値をもとに、以下の基準で評価した。
◎：白表示のv'変化が０．０１０未満（色味付が全く視認されず、許容できる。）
○：白表示のv'変化が０．０１０以上０．０２５未満（わずかな色味付が視認される程度で許容できる。）
△：白表示のv'変化が０．０２５以上０．０４０未満（色味が視認されるが、許容できる。）
×：白表示のv'変化が０．０４０以上（色味付が激しく、許容できない。）

表より、第１の偏光膜の吸収軸を表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°となるように配置し、保護部材の遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°又は９０°となるように配置し、且つ保護部材のＲｔｈ（５５０）が上記式（Ｉ）を満たすことで横方向、縦方向及び斜め方向の色味変化が抑制されていることがわかる。

上記実施例及び比較例は図２に示したような偏光板２枚型メガネを使用したが、図３（ａ）に示したような偏光板１枚型メガネを使用した以外は上記実施例及び比較例と同様にして３Ｄ表示装置を作製し、同様の試験をしたところ、同様の結果を得た。
また、上記実施例及び比較例はＴＮモードの液晶セルを使用したが、ＯＣＢモード及びＥＣＢモードの液晶セルに代えた以外は上記実施例及び比較例と同様にして３Ｄ表示装置を作製し、同様の試験をしたところ、同様の結果を得た。
また、光学フィルム１Ｂの代わりに低反射フィルムのクリアＡＲ（ＳＯＮＹケミカル製）、写りこみ抑制フィルムのＡＧＡ１（サンリッツ製）を使用した以外は上記実施例及び比較例と同様にして３Ｄ表示装置を作製し、同様の試験をしたところ、同様の結果を得た。

また、図７のように作製した３Ｄ表示システムを作製し、上記実施例及び比較例と同様の試験をしたところ、同様の結果を得た。

１ 画像表示装置
１１ 第１の偏光膜
１２ 保護部材
１３ 液晶セル
１４ 偏光板
１５ 光学補償／保護フィルム
２ 時分割画像表示遮断機器（液晶シャッターメガネ）
２ａ 左目シャッター
２ｂ 右目シャッター
２１ λ／４板
２２ 偏光膜
２３ 液晶セル
２４ 偏光膜
３ 同期回路
４ バックライト

Claims (13)

1. 視認側に配置される第１の偏光膜と、
   前記第１の偏光膜の視認側表面に配置される、λ／４機能を有する保護部材と、
   を少なくとも有する３Ｄ表示装置であって、
   前記第１の偏光膜が、その吸収軸を表示面の水平方向に対して４５°又は１３５°にして配置され、
   前記保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°又は９０°にして配置され、
   前記保護部材の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値が、下記式（Ｉ）の関係を満たすことを特徴とする３Ｄ表示装置：
   （Ｉ）： ２５≦｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦１６０ｎｍ 。
2. 前記保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して０°にして配置され、かつ、前記保護部材のＲｔｈ（５５０）が下記式（Ｉａ）を満足する請求項１に記載の３Ｄ表示装置：
   （Ｉａ）： ２５ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦１６０ｎｍ 。
3. 前記保護部材が、その遅相軸を前記表示面の水平方向に対して９０°にして配置され、かつ、前記保護部材のＲｔｈ（５５０）が下記式（Ｉｂ）を満足する請求項１に記載の３Ｄ表示装置：
   （Ｉｂ）： −１６０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦−２５ｎｍ 。
4. 前記保護部材が、液晶化合物を含有する組成物からなる位相差層を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の３Ｄ表示装置。
5. 前記液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、前記位相差層において前記円盤状液晶化合物が垂直に配向している請求項４に記載の３Ｄ表示装置。
6. 前記液晶化合物が、棒状液晶化合物であり、前記位相差層において更に前記棒状液晶化合物が水平に配向している請求項４に記載の３Ｄ表示装置。
7. 前記保護部材全体の面内レターデーションＲｅが、可視光域において、波長によらず一定又は順波長分散性を示す請求項１〜６のいずれか１項に記載の３Ｄ表示装置。
8. 前記保護部材が、視認側表面に反射防止層を有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の３Ｄ表示装置。
9. 前記保護部材が、紫外線吸収剤を含む請求項１〜８のいずれか１項に記載の３Ｄ表示装置。
10. ＴＮモード、ＯＣＢモード、又はＥＣＢモードの液晶セルを有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の３Ｄ表示装置。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の時分割式３Ｄ表示装置と、
    該３Ｄ表示装置と同期して作動する時分割画像表示遮断機器と、
    を少なくとも有する時分割方式３Ｄ表示システム。
12. 前記時分割画像表示遮断機器が、前記３Ｄ表示装置に対向する側より、λ／４板、液晶セル、及び偏光膜を少なくとも有する請求項１１に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。
13. 前記時分割画像表示遮断機器が、前記λ／４板と前記液晶セルとの間に、偏光膜をさらに有する請求項１２に記載の時分割方式３Ｄ表示システム。

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