JP2012183487A5 - - Google Patents

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本発明は、原水を陽イオン交換樹脂床塔で軟化処理して軟水を製造する硬水軟化工程と、硬水軟化工程で製造された軟水を気体分離膜モジュールで脱気処理する脱気処理工程と、脱気処理工程で得られた処理水を第1逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1逆浸透膜分離工程と、を含み、前記陽イオン交換樹脂床塔においては、深さが300〜1500mmの陽イオン交換樹脂床に対し、原水を下降流で通過させて軟水を製造する軟化プロセス;再生液を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより再生液の対向流を生成して、前記陽イオン交換樹脂床の全体を再生させる再生プロセスを含んで運転され、再生プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床の底部を基点として深さ100mmに設定された硬度リーク防止床に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる再生液量を供給する一方で、再生プロセス後の軟化プロセスでは、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の硬水を供給し、前記第1逆浸透膜モジュールは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を有し、当該逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上である、水処理方法に関する。
また、本発明は、原水を陽イオン交換樹脂床塔で軟化処理して軟水を製造する硬水軟化装置と、前記硬水軟化装置で製造された軟水を気体分離膜モジュールで脱気処理する脱気処理装置と、前記脱気処理装置で脱気処理された処理水を第1逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1逆浸透膜分離装置と、前記陽イオン交換樹脂床塔に収容された、深さが300〜1500mmの陽イオン交換樹脂床に対し、原水を下降流で通過させて軟水を製造する軟化プロセス;再生液を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより再生液の対向流を生成して、前記陽イオン交換樹脂床の全体を再生させる再生プロセスに切り換え可能なバルブ手段と、再生プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床の底部を基点として深さが100mmに設定された硬度リーク防止床に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる再生液量を供給する再生液供給手段と、再生プロセス後の軟化プロセスにおいて、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の原水を供給する原水供給手段と、を備え、前記第1逆浸透膜モジュールは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を有し、当該逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上である、水処理システムに関する。
ここで、操作圧力とは、JIS K3802−1995「膜用語」で定義される平均操作圧力である。操作圧力は、RO膜モジュール6bの一次側の入口圧力と一次側の出口圧力との平均値を指す。
回収率とは、RO膜モジュールbへの供給水(ここでは塩化ナトリウム水溶液)の流量Qに対する透過水の流量Qの割合(すなわち、Q/Q×100)をいう。
水透過係数は、透過水量[m/s]を膜面積[m]及び有効圧力[Pa]で除した値であり、逆浸透膜の水の透過性能を示す指標である。すなわち、水透過係数は、単位有効圧力を作用させたときに単位時間に膜の単位面積を透過する水の量を意味する。有効圧力は、JIS K3802−1995「膜用語」で定義され、操作圧力(平均操作圧力)から浸透圧差及び二次側圧力を差し引いた圧力である。
塩除去率は、膜を透過する前後の特定の塩類の濃度(ここでは塩化ナトリウム濃度)から計算される値であり、逆浸透膜の溶質の阻止性能を示す指標である。塩除去率は、RO膜モジュールbへの入口濃度(C)および透過水の濃度(C)から、(1−C/C)×100により求められる。
1,1A,1B 水処理システム
3 硬水軟化装置
4 塩水タンク
5 脱気処理装置
逆浸透膜分離装置(第1逆浸透膜分離装置)
b RO膜モジュール(逆浸透膜)
電気脱イオン装置(電気脱イオンモジュール)
8 第2逆浸透膜分離装置
10 制御部
31 圧力タンク(陽イオン交換樹脂床塔)
32 プロセス制御バルブ(バルブ手段)
311 陽イオン交換樹脂床
313 硬度リーク防止床
321 頂部スクリーン
322 底部スクリーン
323 中間部スクリーン
L1 原水ライン
L2 軟水ライン
L3 塩水ライン
L4 排水ライン
L5,L6,L8,L10 通水ライン
L7,L9,L11 濃縮水ライン
W1 原水
W2 軟水
W3 塩水(再生液)
W4 排水
W5 脱気水
W6 透過水(第1透過水)
W7 濃縮水(第1濃縮水)
W8 脱イオン水
W9,W11 第2濃縮水
W10 第2透過水

Claims (10)

  1. 原水を陽イオン交換樹脂床塔で軟化処理して軟水を製造する硬水軟化工程と、
    硬水軟化工程で製造された軟水を気体分離膜モジュールで脱気処理する脱気処理工程と、
    脱気処理工程で得られた処理水を第1逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1逆浸透膜分離工程と、を含み、
    前記陽イオン交換樹脂床塔においては、深さが300〜1500mmの陽イオン交換樹脂床に対し、原水を下降流で通過させて軟水を製造する軟化プロセス;再生液を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより再生液の対向流を生成して、前記陽イオン交換樹脂床の全体を再生させる再生プロセスを含んで運転され、
    再生プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床の底部を基点として深さ100mmに設定された硬度リーク防止床に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる再生液量を供給する一方で、再生プロセス後の軟化プロセスでは、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の硬水を供給し、
    前記第1逆浸透膜モジュールは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を有し、
    当該逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上である、
    水処理方法。
  2. 第1逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔で脱イオン処理する脱イオン処理工程を含む、
    請求項1に記載の水処理方法。
  3. 第1逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、更に第2逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第2逆浸透膜分離工程を含む、
    請求項1に記載の水処理方法。
  4. 第2逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔で脱イオン処理する脱イオン処理工程を含む、
    請求項3に記載の水処理方法。
  5. 前記陽イオン交換樹脂床塔においては、再生プロセスの後に、原水を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより原水の対向流を生成して、導入された再生液を押し出す押出プロセスを含んで運転され、
    再生プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床に対して再生液を0.7〜2m/hの線速度で通過させると共に、押出プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床に対して原水を0.7〜2m/hの線速度、且つ0.4〜2.5BVの押出量で通過させる、
    請求項1〜4のいずれか一項に記載の水処理方法。
  6. 原水を陽イオン交換樹脂床塔で軟化処理して軟水を製造する硬水軟化装置と、
    前記硬水軟化装置で製造された軟水を気体分離膜モジュールで脱気処理する脱気処理装置と、
    前記脱気処理装置で脱気処理された処理水を第1逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1逆浸透膜分離装置と、
    前記陽イオン交換樹脂床塔に収容された、深さが300〜1500mmの陽イオン交換樹脂床に対し、原水を下降流で通過させて軟水を製造する軟化プロセス;再生液を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより再生液の対向流を生成して、前記陽イオン交換樹脂床の全体を再生させる再生プロセスに切り換え可能なバルブ手段と、
    再生プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床の底部を基点として深さが100mmに設定された硬度リーク防止床に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる再生液量を供給する再生液供給手段と、
    再生プロセス後の軟化プロセスにおいて、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の原水を供給する原水供給手段と、を備え、
    前記第1逆浸透膜モジュールは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を有し、
    当該逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上である、
    水処理システム。
  7. 前記第1逆浸透膜分離装置で得られた透過水を脱イオン処理する、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備える、
    請求項6に記載の水処理システム。
  8. 前記第1逆浸透膜分離装置で得られた透過水を、更に第2逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第2逆浸透膜分離装置を備える、
    請求項6に記載の水処理方法。
  9. 前記第2逆浸透膜分離装置で得られた透過水を脱イオン処理する、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備える、
    請求項8に記載の水処理システム。
  10. 前記バルブ手段は、再生プロセスの後に、原水を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより原水の対向流を生成して、導入された再生液を押し出す押出プロセスに切り換え可能に構成され、
    前記再生液供給手段は、再生プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床に対して再生液を0.7〜2m/hの線速度で通過させるように構成され、
    前記原水供給手段は、押出プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床に対して原水を0.7〜2m/hの線速度、且つ0.4〜2.5BVの押出量で通過させるように構成された、
    請求項6〜9のいずれか一項に記載の水処理システム。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7157951B2 (ja) 2018-08-27 2022-10-21 パナソニックIpマネジメント株式会社 イオン除去システム

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2014087991A1 (ja) * 2012-12-07 2017-01-05 東レ株式会社 有機性汚水の処理方法および処理装置
CN106110905A (zh) * 2016-08-03 2016-11-16 镇江市丹徒区硕源材料科技有限公司 一种含碳隔离膜及其制备方法和应用

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3575916B2 (ja) * 1996-05-20 2004-10-13 日東電工株式会社 逆浸透膜スパイラルエレメントおよびそれを用いた処理システム
JP3587937B2 (ja) * 1996-07-26 2004-11-10 日東電工株式会社 複合逆浸透膜による処理方法
JP2000015257A (ja) * 1998-07-06 2000-01-18 Kurita Water Ind Ltd 高純度水の製造装置および方法
JP2000051665A (ja) * 1998-08-05 2000-02-22 Kurita Water Ind Ltd 脱塩方法
JP3894398B2 (ja) * 1998-08-27 2007-03-22 栗田工業株式会社 純水製造方法
JP2000301146A (ja) * 1999-04-20 2000-10-31 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JP3899750B2 (ja) * 1999-11-18 2007-03-28 栗田工業株式会社 軟水装置
JP4844724B2 (ja) * 2006-03-29 2011-12-28 三浦工業株式会社 イオン交換装置の制御方法
DE102006024868A1 (de) * 2006-05-15 2007-11-22 Hydrotec Ag Verfahren zur Bereitstellung von enthärtetem Wasser an eine zu versorgende Einheit sowie mobile Enthärtungsanlage
JP5190908B2 (ja) * 2006-07-28 2013-04-24 日東電工株式会社 水処理方法および水処理装置
JP4765843B2 (ja) * 2006-08-31 2011-09-07 東洋紡績株式会社 海水淡水化方法
JP2008086945A (ja) * 2006-10-04 2008-04-17 Toray Ind Inc 選択的透過膜の性能回復方法
JP4974276B2 (ja) * 2006-12-07 2012-07-11 オルガノ株式会社 分離膜の改質方法および装置、その方法により改質された分離膜、並びに分離膜の運転方法および装置
JP5177538B2 (ja) * 2008-10-03 2013-04-03 三浦工業株式会社 純水の製造方法、及び純水製造システム
CN101970110B (zh) * 2009-03-12 2012-11-14 三浦工业株式会社 水软化装置的运转方法及水软化装置
WO2010126113A1 (ja) * 2009-04-30 2010-11-04 旭化成せんい株式会社 複合膜支持体及びこれを用いた複合膜
CN102325728B (zh) * 2010-05-10 2013-10-09 三浦工业株式会社 离子交换装置的运转方法以及离子交换装置
JP2012130888A (ja) * 2010-12-24 2012-07-12 Miura Co Ltd イオン交換システムの運転方法
JP5333486B2 (ja) * 2011-03-04 2013-11-06 三浦工業株式会社 水処理方法及び水処理システム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7157951B2 (ja) 2018-08-27 2022-10-21 パナソニックIpマネジメント株式会社 イオン除去システム

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