JP2012180322A - 炭化水素系混合ガスの分離方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】5−メトキシイソフタル酸、イソフタル酸などの5位に電子供与性基を有してもよいイソフタル酸誘導体から選ばれるジカルボン酸化合物(I−1)1〜30モル%と、5−ニトロイソフタル酸、5−ホルミルイソフタル酸、5−フルオロイソフタル酸、5−クロロイソフタル酸、5−ブロモイソフタル酸、5−ヨードイソフタル酸などの5位に電子吸引性基を有するイソフタル酸誘導体または3,5−ピリジンジカルボン酸誘導体から選ばれるジカルボン酸化合物(I−2)99〜70モル%とからなるジカルボン酸化合物(I);周期表の2族及び7〜12族に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオン;及び該金属イオンに二座配位可能な有機配位子;からなる金属錯体を用いる炭化水素系混合ガスの分離方法。
【選択図】 なし
Description
(1)下記一般式(I)で表されるジカルボン酸化合物(I)から選択され、互いに異なる2種類のジカルボン酸化合物(I−1)及び(I−2)
周期表の2族及び7〜12族に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと;
該金属に二座配位可能な有機配位子と;
からなる金属錯体であって、ジカルボン酸化合物(I−1)とジカルボン酸化合物(I−2)とのモル比率が、1:99〜30:70の範囲内である;
ことを特徴とする金属錯体を用いる炭化水素系混合ガスの分離方法。
(2)ジカルボン酸化合物(I−1)とジカルボン酸化合物(I−2)との組み合わせが、5−メトキシイソフタル酸と5−ニトロイソフタル酸、5−メトキシイソフタル酸と5−ホルミルイソフタル酸、イソフタル酸と5−フルオロイソフタル酸、イソフタル酸と5−クロロイソフタル酸、イソフタル酸と5−ブロモイソフタル酸、イソフタル酸と5−ヨードイソフタル酸またはイソフタル酸と3,5−ピリジンジカルボン酸である金属錯体を用いる(1)に記載の分離方法。
(3)該二座配位可能な有機配位子が1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、ピラジン、2,5−ジメチルピラジン、4,4’−ビピリジル、2,2’−ジメチル−4,4’−ビピリジン、1,2−ビス(4−ピリジル)エチン、1,4−ビス(4−ピリジル)ブタジイン、1,4−ビス(4−ピリジル)ベンゼン、3,6−ジ(4−ピリジル)−1,2,4,5−テトラジン、2,2’−ビ−1,6−ナフチリジン、フェナジン、ジアザピレン、トランス−1,2−ビス(4−ピリジル)エテン、4,4’−アゾピリジン、1,2−ビス(4−ピリジル)エタン、1,2−ビス(4−ピリジル)−グリコール及びN−(4−ピリジル)イソニコチンアミドから選択される少なくとも1種である金属錯体を用いる(1)または(2)に記載の分離方法。
(4)該金属イオンが亜鉛イオンである金属錯体を用いる(1)〜(3)いずれかに記載の分離方法。
(5)該炭化水素系混合ガスがメタンとエタン、エチレンとエタン、エチレンとアセチレン、エタンとプロパン、プロパンとプロペンまたはメタンとエタンとプロパンである(1)〜(4)いずれかに記載の分離方法。
(6)該分離方法が金属錯体と炭化水素系混合ガスとを0.01〜10MPaの圧力範囲で接触させる工程を含む(1)〜(5)いずれかに記載の分離方法。
(7)該分離方法が圧力スイング吸着法である(1)〜(6)いずれかに記載の分離方法。
金属錯体を製造するための溶媒における金属塩のモル濃度は、0.01〜5.0mol/Lが好ましく、0.05〜2.0mol/Lがより好ましい。これより低い濃度で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下するため好ましくない。また、これより高い濃度では未反応の金属塩が残留し、得られた金属錯体の精製が困難になる。
X線回折装置を用いて、回折角(2θ)=5〜50°の範囲を走査速度1°/分で走査し、対称反射法で測定した。分析条件の詳細を以下に示す。
<分析条件>
装置:株式会社リガク製RINT2400
X線源:CuKα(λ=1.5418Å) 40kV 200mA
ゴニオメーター:縦型ゴニオメーター
検出器:シンチレーションカウンター
ステップ幅:0.02°
スリット:発散スリット=0.5°
受光スリット=0.15mm
散乱スリット=0.5°
得られた単結晶をゴニオヘッドにマウントし、単結晶X線回折装置を用いて測定した。分析条件の詳細を以下に示す。
<分析条件>
装置:株式会社リガク製MERCURY
X線源:MoKα(λ=0.71073Å) 50kV 100mA
検出器:CCD
コリメータ:Φ0.8mm
解析ソフト:SHELXS−97
高圧ガス吸着装置を用いて容量法で測定を行った。このとき、測定に先立って試料を373K、50Paで10時間乾燥し、吸着水などを除去した。分析条件の詳細を以下に示す。
<分析条件>
装置:日本ベル株式会社製BELSORP−HP
平衡待ち時間:500秒
ガス流量計とバルブ類を備えたステンレスチューブでボンベと接続した内容積10mLの耐圧ガラス容器を用意した。測定は、耐圧ガラス容器に試料を入れ、373K、7Paで3時間乾燥し、吸着水などを除去した後に、混合ガスを流通させることで行った。このとき、出口ガスを2分おきにサンプリングし、ガスクロマトグラフィーで分析することで出口ガスの組成を算出した(入口ガスの組成はあらかじめガスクロマトグラフィーを用いて測定)。測定条件の詳細を以下に示す。
<測定条件>
装置:株式会社島津製作所製GC−14B
カラム:ジーエルサイエンス株式会社製Unibeads C 60/80
カラム温度:200℃
キャリアガス:ヘリウム
注入量:1.0mL
検出器:TCD
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物12.6g(42mmol)、5−メトキシイソフタル酸0.829g(4.2mmol)、5−ニトロイソフタル酸8.03g(38mmol)及び4,4’−ビピリジル6.60g(42mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド200mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体16.1g(収率89%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図1に示す。また、得られた金属錯体について、メタン及びエタンの273Kにおける吸脱着等温線を容量法により測定した結果を図2に示す。図2より、本発明に用いる金属錯体は圧力の上昇と共にエタンを選択的に吸着し、かつ減圧にすることで吸着したエタンを放出するので、圧力スイング吸着法によるメタンとエタンの分離材料に適していることが分かる。
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物12.6g(42mmol)、5−メトキシイソフタル酸8.29g(42mmol)及び4,4’−ビピリジル6.60g(42mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド200mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した結晶について、単結晶X線構造解析を行った結果を以下に示す。また、結晶構造を図3に、二次元シート中の亜鉛の配位環境を図4に示す。
Triclinic(P−1)
a=10.073(3)Å
b=10.202(4)Å
c=10.526(5)Å
α=66.53(4)°
β=75.03(2)°
γ=77.06(2)°
V=949.48(6)Å3
Z=2
R=0.0792
Rw=0.2712
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物12.6g(42mmol)、5−ニトロイソフタル酸8.92g(42mmol)及び4,4’−ビピリジル6.60g(42mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド200mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した結晶について、単結晶X線構造解析を行った結果を以下に示す。また、結晶構造を図7に、二次元シート中の亜鉛の配位環境を図8に示す。
Triclinic(P−1)
a=10.112(3)Å
b=10.349(1)Å
c=10.730(1)Å
α=65.20(2)°
β=77.28(2)°
γ=79.33(2)°
V=989.04(3)Å3
Z=2
R=0.0624
Rw=0.1750
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物5.00g(17mmol)、5−メトキシイソフタル酸1.27g(6.5mmol)、5−ニトロイソフタル酸2.05g(9.7mmol)及び4,4’−ビピリジル2.65g(17mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド200mLに溶解させ、393Kで24時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、エタノールで3回洗浄を行った。続いて、373K、50Paで8時間乾燥し、目的の金属錯体5.90g(収率82%)を得た。得られた金属錯体の粉末X線回折パターンを図11に示す。また、得られた金属錯体について、二酸化炭素及びメタンの273Kにおける吸脱着等温線を容量法により測定した結果を図12に示す。
窒素雰囲気下、硝酸亜鉛六水和物297mg(1.0mmol)、5−メトキシイソフタル酸98.0mg(0.50mmol)及び5−ニトロイソフタル酸105mg(0.50mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド20mLに298Kで溶解させた(A液)。
Triclinic(P−1)
a=10.046(12)Å
b=10.455(9)Å
c=10.519(10)Å
α=65.32(5)°
β=76.24(5)°
γ=76.53(5)°
V=963.9(16)Å3
Z=2
R=0.1122
Rw=0.3256
合成例1で得た金属錯体について、容量比でメタン:エタン=90:10からなるメタンとエタンの混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min−1における分離性能を測定した。結果を図15に示す。
比較合成例1で得た金属錯体について、容量比でメタン:エタン=90:10からなるメタンとエタンの混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min−1における分離性能を測定した。結果を図16に示す。
比較合成例2で得た金属錯体について、容量比でメタン:エタン=90:10からなるメタンとエタンの混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min−1における分離性能を測定した。結果を図17に示す。
比較合成例3で得た金属錯体について、合成例1で得た金属錯体について、容量比でメタン:エタン=90:10からなるメタンとエタンの混合ガスを用い、273K、0.7MPaG、空間速度6min−1における分離性能を測定した。結果を図18に示す。
Claims (7)
- 下記一般式(I)で表されるジカルボン酸化合物(I)から選択され、互いに異なる2種類のジカルボン酸化合物(I−1)及び(I−2)
(式中、Xは炭素原子または窒素原子であり、Xが炭素原子の場合にYは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子であり、Xが窒素原子の場合にYは存在しない。R1、R2及びR3はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基またはハロゲン原子である。ジカルボン酸化合物(I−1)のXは炭素原子であり、Yは電子供与性基であり、ジカルボン酸化合物(I−2)のXは炭素原子または窒素原子であり、Xが炭素原子の場合にYは電子吸引性基である。)と;
周期表の2族及び第7〜12族に属する金属のイオンから選択される少なくとも1種の金属イオンと;
該金属に二座配位可能な有機配位子と;
からなる金属錯体であって、ジカルボン酸化合物(I−1)とジカルボン酸化合物(I−2)とのモル比率が、1:99〜30:70の範囲内である;
ことを特徴とする金属錯体を用いる炭化水素系混合ガスの分離方法。 - ジカルボン酸化合物(I−1)とジカルボン酸化合物(I−2)との組み合わせが、5−メトキシイソフタル酸と5−ニトロイソフタル酸、5−メトキシイソフタル酸と5−ホルミルイソフタル酸、イソフタル酸と5−フルオロイソフタル酸、イソフタル酸と5−クロロイソフタル酸、イソフタル酸と5−ブロモイソフタル酸、イソフタル酸と5−ヨードイソフタル酸またはイソフタル酸と3,5−ピリジンジカルボン酸である金属錯体を用いる請求項1に記載の分離方法。
- 該二座配位可能な有機配位子が1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、ピラジン、2,5−ジメチルピラジン、4,4’−ビピリジル、2,2’−ジメチル−4,4’−ビピリジン、1,2−ビス(4−ピリジル)エチン、1,4−ビス(4−ピリジル)ブタジイン、1,4−ビス(4−ピリジル)ベンゼン、3,6−ジ(4−ピリジル)−1,2,4,5−テトラジン、2,2’−ビ−1,6−ナフチリジン、フェナジン、ジアザピレン、トランス−1,2−ビス(4−ピリジル)エテン、4,4’−アゾピリジン、1,2−ビス(4−ピリジル)エタン、1,2−ビス(4−ピリジル)−グリコール及びN−(4−ピリジル)イソニコチンアミドから選択される少なくとも1種である金属錯体を用いる請求項1または2に記載の分離方法。
- 該金属イオンが亜鉛イオンである金属錯体を用いる請求項1〜3いずれかに記載の分離方法。
- 該炭化水素系混合ガスがメタンとエタン、エチレンとエタン、エチレンとアセチレン、エタンとプロパン、プロパンとプロペンまたはメタンとエタンとプロパンである請求項1〜4いずれかに記載の分離方法。
- 該分離方法が金属錯体と炭化水素系混合ガスとを0.01〜10MPaの圧力範囲で接触させる工程を含む請求項1〜5いずれかに記載の分離方法。
- 該分離方法が圧力スイング吸着法である請求項1〜6いずれかに記載の分離方法。
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