JP2012168514A - 光学異方性層の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の光学異方性層の製造方法は、(1)光配向性ポリマー層を形成する工程、(2)光配向性ポリマー層の吸光度変化(要件A)、露光後の光配向性ポリマー層の複屈折率(要件B)が所定の値となるように、光配向性ポリマー層に、フォトマスクを介して第一偏光を照射する工程、(3)光配向性ポリマー層に、フォトマスクを介さずに、第二偏光を照射しパターン化配向膜を形成する工程、(4)パターン化配向膜上に、液晶組成物の塗布膜を形成する工程、(5)該塗布膜に含まれる液晶性成分を配向させた膜を形成する工程、及び、(6)塗布膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させる工程を含む。
【選択図】なし
Description
[1] 重合性液晶化合物を含む液晶組成物から形成され、互いに異なる遅相軸方向をもつ光学異方性領域を複数有する光学異方性層の製造方法であって、(1)光配向性ポリマーを基板に塗布する光配向性ポリマー層の形成工程、(2)前記光配向性ポリマー層に、下記要件A及び要件Bを満たすように、フォトマスクを介して第一偏光を照射する第一照射工程、(3)前記第一偏光の照射後、フォトマスクを介さずに、第一偏光とは振動方向が異なる第二偏光を光配向性ポリマー層に照射しパターン化配向膜を形成する第二照射工程、(4)前記パターン化配向膜上に、前記液晶組成物を塗布して塗布膜を形成する塗布工程、(5)前記塗布膜に含まれる液晶性成分が液晶状態となる温度に塗布膜を保持することにより、液晶性成分を配向させた膜を形成する配向工程、及び、(6)前記液晶性成分を配向させた膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させる重合工程を含む製造方法。
要件A;第一偏光が照射される領域における光配向性ポリマー層の吸光度が、式(i)を満たす。
A(b)/A(a)≦0.95 (i)
[式(i)中、A(a)は第一偏光照射前の波長314nmにおける吸光度を表す。A(b)は第一偏光照射後の波長314nmにおける吸光度を表す。]
要件B;第一偏光が照射された領域における光配向性ポリマー層の複屈折率が、式(ii)を満たす。
Δn(550)≧0.005 (ii)
[式(ii)中、Δn(550)は、波長550nmにおける複屈折率を表す。]
要件A;第一偏光が照射される領域における光配向性ポリマー層の吸光度が、式(i)を満たす。
A(b)/A(a)≦0.95 (i)
[式(i)中、A(a)は第一偏光照射前の波長314nmにおける吸光度を表す。A(b)は第一偏光照射後の波長314nmにおける吸光度を表す。]
要件B;第一偏光が照射された領域における光配向性ポリマー層の複屈折率が、式(ii)を満たす。
Δn(550)≧0.005 (ii)
[式(ii)中、Δn(550)は、波長550nmにおける複屈折率を表す。]
また、本発明の第二の製造方法は、重合性液晶化合物を含む液晶組成物から形成され、互いに異なる遅相軸方向をもつ光学異方性領域を複数有する光学異方性層と基板とを含む積層体の製造方法であって、前記工程(1)〜(6)を含む製造方法である。
そして、本発明の第一及び第二の製造方法では、上記(2)第一照射工程、(3)第二照射工程のようにパターン化配向膜を作製する方法として光配向法を採用し、この光配向法の(2)第一照射工程において、光配向性ポリマー層の偏光照射前後の吸光度変化及び照射後の複屈折率を所定の範囲に制御することを要旨とする。
前記(1)形成工程では、光配向性ポリマーを基板に塗布して、光配向性ポリマー層を形成する。本発明に用いられる光配向性ポリマーとしては、感光性構造を有するポリマーが挙げられる。感光性構造を有するポリマーに光を照射すると、照射された部分の感光性構造が異性化又は架橋することで配向し、液晶成分を一定方向に配向させる力(配向規制力)を発現する。
本発明の製造方法では、パターン化配向膜の形成方法として、光配向法を採用する。光配向法は、乾燥後の光配向性ポリマー層に、偏光(例えば、直線偏光紫外線)照射を行うことにより、配向規制力を付与する方法である。前記(2)第一照射工程では、前記(1)形成工程で形成された光配向性ポリマー層に、フォトマスクを介して第一偏光を照射する。これにより、光配向性ポリマー層において、フォトマスクに形成された光透過部分に対応する領域にのみ配向規制力を付与できる。
また、出射される光量のうち、波長300nm〜500nmの光に由来する光量が50%以上であることが好ましい。この範囲の波長の偏光を用いることで、光配向性ポリマーの反応が効率的に進行する。
なお、要件A、Bのいずれかが欠如した場合、十分な配向規制力が得られないため、パターン化光学異方性層に配向欠陥等が生じる。
A(b)/A(a)≦0.95 (i)
[式(i)中、A(a)は、第一偏光照射前の314nmにおける吸光度を表す。A(b)は、第一偏光照射後の314nmにおける吸光度を表す。]
Δn(550)≧0.005 (ii)
[式(ii)中、Δn(550)は、波長550nmにおける複屈折率を表す。]
Δn(λ)=Re(λ)/d (X)
[式(X)中、Δn(λ)は波長λnmにおける複屈折率を表し、Re(λ)は、波長λnmにおける位相差値を表し、dは膜厚(nm)を表す。]
膜厚は、レーザー顕微鏡(例えば、「オリンパス株式会社製、LEXT−3000」等)を用いて測定することができる。前記Δn(550)は第一偏光の露光量を調整することにより制御できる。具体的には、第一偏光の露光量を大きくするほど、Δn(550)を大きくすることができる。
前記(3)第二照射工程では、第一偏光が照射された光配向性ポリマー層に、フォトマスクを介さずに、第一偏光とは振動方向が異なる第二偏光を照射しパターン化配向膜を形成する。第二偏光の振動方向が第一偏光の振動方向と異なるため、得られる配向膜は、第一偏光に由来する配向規制力方向を有する領域と、第二偏光に由来する配向規制力方向を有する領域とが存在するパターン化配向膜となる。
また、出射される光量のうち、波長300nm〜500nmの光に由来する光量が50%以上であることが好ましい。この範囲の波長の偏光を用いることで、光配向性ポリマーの反応が効率的に進行する。また、偏光照射は、光配向性ポリマー層平面に対して略垂直であることが望ましい。ここで、「第二偏光の照射が光配向性ポリマー層平面に対して略垂直である」とは、前記第一偏光の照射と同様に、光配向性ポリマー層平面に対して垂直方向を90°と定義した場合、第二偏光の照射が、70°〜90°の範囲で行われることを意味する。照射角度が90°に近いほど、光配向性ポリマーの反応が効率的に進行する。
前記(4)塗布工程では、前記(3)第二照射工程で形成したパターン化配向膜上に、前記液晶組成物を塗布して塗布膜を形成する。前記液晶組成物は、重合性液晶化合物を含む。重合性液晶化合物は、液晶性を有する化合物であり、分子中に1以上の重合性基を有する。重合性基は、重合性液晶化合物の重合反応に関与する基を意味する。前記重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1−クロロビニル基、イソプロペニル基、4−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
また固形分量が50質量%以下であると、液晶組成物の粘度が低いことから、位相差層の膜厚にムラが生じにくくなる。ここで、固形分とは、組成物全量に対する、組成物から溶剤を除いた成分の含有量である。液晶組成物の粘度は、塗布性の観点から、0.1mPa・s以上が好ましく、10mPa・s以下が好ましく、より好ましくは7mPa・s以下である。
前記光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられる。前記光重合開始剤として市販品を使用することもできる。具体的には、イルガキュア(Irgacure)(登録商標)907、イルガキュア184、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア250、イルガキュア369(以上、全てBASFジャパン(株)製)、セイクオール(登録商標)BZ、セイクオールZ、セイクオールBEE(以上、全て精工化学(株)製)、カヤキュアー(kayacure)(登録商標)BP100(日本化薬(株)製)、サイラキュア(CYRACURE)(登録商標)UVI−6992(ダウ・ケミカル社製)、アデカオプトマーSP−152、アデカオプトマーSP−170(以上、全て(株)ADEKA製)、TAZ−A、TAZ−PP(以上、DKSHジャパン社製)、TAZ−104(三和ケミカル社製)等が挙げられる。
前記二色性色素の使用量は、前記重合性液晶化合物100質量部に対して、50質量部以下であることが好ましく、より好ましくは20質量部以下、さらに好ましくは10質量部以下である。
前記(5)配向工程では、前記(4)塗布工程で形成された塗布膜を、該塗布膜に含まれる液晶性成分が液晶状態となる温度に保持することにより、液晶性成分を配向させた膜を形成する。なお、前記(4)塗布工程において、溶媒を除去する際の乾燥(加熱)が(5)配向工程を兼ねていてもよい。上述したようにパターン化配向膜は、第一偏光に由来する配向規制力方向を有する領域と、第二偏光に由来する配向規制力方向を有する領域とが存在するため、このパターン化配向膜を用いて液晶性成分を配向させると、互いに異なる遅相軸方向をもつ領域にパターン化される。
前記(6)重合工程では、前記(5)配向工程で形成された液晶性成分を配向させた膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させる。塗布膜に含まれる成分が配向した状態、すなわち塗布膜に含まれる液晶成分が液晶相を示した状態で重合を行うことにより、液晶相を保持した硬化膜として、パターン化光学異方性層を得ることができる。
Re(λ)=d×Δn(λ) (Y)
[式中、Re(λ)は、波長λnmにおける位相差値を表し、dは膜厚を表し、Δn(λ)は波長λnmにおける複屈折率を表す。]
ただし、光学異方性層の膜厚は、0.1μm以上が好ましく、より好ましくは0.2μm以上、さらに好ましくは0.5μm以上であり、10μm以下が好ましく、より好ましくは5μm以下、さらに好ましくは3μm以下である。
本発明には、上記工程で得られる光学異方性層又は積層体を備えた表示装置も含まれる。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、プラズマディスプレイ、電界放出表示装置(フィールドエミッションディスプレイ(FED))、表面伝導型電子放出素子を有する表示装置(SED)、電子ペーパー等が挙げられる。
〔光配向性ポリマー(Z)の製造〕
式(Z−a)で示されるモノマーを、Macromol. Chem. Phys. 197,1919-1935 (1996)に記載される方法で製造した。得られたモノマー(Z−a)1.5部とメタクリル酸メチル0.1部とをテトラヒドロフラン16部中に溶解させ、60℃で24時間反応させた。次いで、反応液を室温まで放冷後、トルエンとメタノールとの混合液中に滴下することで、共重合体(Z)を得た。共重合体(Z)の数平均分子量は33000であった。共重合体(Z)において、モノマー(Z−a)に由来する構造成分の含有率は全構成成分に対して75mol%であった。
装置;HLC−8220GPC(東ソー株式会社製)
カラム;TOSOH TSKgel MultiporeHXL−M
カラム温度;40℃
溶媒;THF(テトラヒドロフラン)
流速;1.0mL/min
検出器;RI
校正用標準物質;TSK STANDARD POLYSTYRENE F−40、F−4、F−288、A−5000、A−500
1.膜厚307nmの光配向性ポリマー層の物性
ガラス基板に、式(Z)で示される光配向性ポリマーの5質量%シクロペンタノン溶液を塗布し、120℃で3分間乾燥させて、膜厚307nmの光配向性ポリマー層を形成した。次に、偏光UV照射冶具付きスポットキュア(SP−7、ウシオ電機(株)製)を用いて、波長365nmにおいて15mW/cm2の放射照度で300秒間(積算光量4500mJ/cm2)直線偏光を照射した。光配向性ポリマー層について、下記のようにしてA(b)/A(a)、Δn(550)を求め、結果を表1に示した。
紫外可視分光光度計(UV−3150、島津製作所製)を用いて、光配向性ポリマー層について、直線偏光を照射する前の波長314nmにおける吸光度(A(a))、直線偏光を照射した後の波長314nmにおける吸光度(A(b))を測定した。
直線偏光を照射した後の光配向性ポリマー層の波長550nmにおける位相差値を、エリプソメーター(M−220、日本分光株式会社製)で測定した。また、光配向性ポリマー層の膜厚を、レーザー顕微鏡(OLS−3000、オリンパス株式会社製)を用いて測定した。位相差値、膜厚から式(X)を用いて複屈折率を求めた。
ガラス基板に、式(Z)で示される光配向性ポリマーの5質量%シクロペンタノン溶液を塗布し、120℃で3分間乾燥させて、膜厚334nmの光配向性ポリマー層を形成した。次に、偏光UV照射冶具付きスポットキュア(SP−7、ウシオ電機(株)製)を用いて、波長365nmにおいて15mW/cm2の放射照度で300秒間(積算光量4500mJ/cm2)直線偏光を照射した。光配向性ポリマー層について、前記と同じ方法でA(b)/A(a)、Δn(550)を求め、結果を表2に示した。
表3に記載される成分を混合して、液晶組成物1を調製した。
重合開始剤:イルガキュア369(BASFジャパン社製)
レベリング剤:BYK361N(ビックケミー・ジャパン社製)
溶剤:PGMEA(プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセタート、東京化成工業社製)
ガラス基板に、式(Z)で示される光配向性ポリマーの5質量%シクロペンタノン溶液を塗布し、120℃で3分間乾燥させて、膜厚307nmの光配向性ポリマー層を形成した。
続いて、得られた光配向性ポリマー層上に、図1に示すように実部(遮光部)3の中に、ストライプ状の空隙部(偏光透過部)2が形成されたフォトマスク1(SUS製、空隙部及び実部の幅280μm)を置き、光配向性ポリマー層平面に対して垂直方向から、偏光UV照射冶具付きスポットキュア(SP−7、ウシオ電機(株)製)を用いて表4に記載の条件で、直線偏光を照射した。
次に、フォトマスクを除き、光配向性ポリマー層全面に第2の偏光UVを照射することにより、図2に示すような、互いに異なる遅相軸方向をもつ第1パターン領域12及び第2パターン領域13を有するパターン化配向膜を形成した。第2の偏光UVは、表4記載の照射条件で、第1の偏光UVの振動方向に対して90°回転した方向に振動する直線偏光を照射した。
偏光UVを施した面に、スピンコーターを用いて液晶組成物1を塗布し、塗布膜を形成した。この塗布膜を100℃に保持し、液晶組成物中の液晶成分を配向させた膜を得た。
その後、室温まで冷却し、紫外線をユニキュア(VB―15201BY−A、ウシオ電機株式会社製)を用いて波長365nmにおいて40mW/cm2の放射照度で1分間照射することにより、重合性液晶化合物を重合させて光学異方性層(位相差層)を作製した。
第2の偏光UV条件を、表3に記載の条件に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、ガラス基板上に、光学異方性層(位相差層)を作製した。
第1の偏光UV条件を波長365nmにおいて放射照射15mW/cm2で2分間(積算光量1800mJ/cm2)、及び第2の偏光UV条件を波長365nmにおいて放射照度15mW/cm2で5分間(積算光量4500mJ/cm2)に変更した以外は、実施例1と同様にして、ガラス基板上に、光学異方性層(位相差層)を作製した。
なお、直線偏光を照射する前の波長314nmにおける吸光度(A(a))は1.415、直線偏光を照射した後の波長314nmにおける吸光度(A(b))は1.100であり、A(b)/A(a)=0.78であった。また、直線偏光を照射した後の光配向性ポリマー層の波長550nmにおける位相差値(Re(550))は1.35nm、厚さは304nmであり、波長550nmにおける複屈折率(Δn(550))は0.004であった。
光学異方性層の位相差値(nm)と配向角の測定は、ガラス基板上に作製した光学異方性層を剥離することなく、測定機(KOBRA−WPR、王子計測機器社製)で計測した。基材に使用したガラス基板には、ほとんど複屈折性が無いため、剥離せずに測定しても、ガラス基板上に作製した光学異方性層の位相差値を得ることができる。光学異方性層中の液晶成分の配向角、及び波長549nmにおける位相差値の測定の結果を表5に示す。光学異方性層において、パターン化配向膜の第1パターン領域12に対応する部分と、第2パターン領域13に対応する部分との配向角が異なる場合、互いに異なる遅相軸方向を有する領域であることを意味する。
得られた光学異方性層について、偏光顕微鏡(BX51、オリンパス株式会社製)を用いて、400倍の倍率で観察した。表面に配向欠陥が認められなかったものを「A」、配向欠陥が認められたものを「B」とした。結果を表5に示す。
ガラス基板に、式(Z)で示される光配向性ポリマーの5質量%シクロペンタノン溶液を塗布し、120℃で3分間乾燥させて、膜厚334nmの光配向性ポリマー層を形成した。
続いて、得られた光配向性ポリマー層上に、図1に示すように実部(遮光部)3の中に、ストライプ状の空隙部(偏光透過部)2が形成されたフォトマスク1(SUS製、空隙部及び実部の幅280μm)を置き、光配向性ポリマー層平面に対して垂直方向から、偏光UV照射冶具付きスポットキュア(SP−7、ウシオ電機(株)製)を用いて表6に記載の条件で、直線偏光を照射した。
次に、フォトマスクを除き、光配向性ポリマー層全面に第2の偏光UVを照射することにより、図2に示すような、互いに異なる遅相軸方向をもつ第1パターン領域12及び第2パターン領域13を有するパターン化配向膜を形成した。第2の偏光UVは、表6記載の照射条件で、第1の偏光UVの振動方向に対して90°回転した方向に振動する直線偏光を照射した。
偏光UVを施した面に、スピンコーターを用いて液晶組成物1を塗布し、塗布膜を形成した。この塗布膜を100℃に保持し、液晶組成物中の液晶成分を配向させた膜を得た。
その後、室温まで冷却し、紫外線をユニキュア(VB―15201BY−A、ウシオ電機株式会社製)を用いて波長365nmにおいて40mW/cm2の放射照度で1分間照射することにより、重合性液晶化合物を重合させて光学異方性層(位相差層)を作製した。
実施例4において、形成された位相差層のパターン境界の幅を、偏光顕微鏡(BX51、オリンパス株式会社製)を用いて計測した。境界線の太さは1.8μmであることを確認した。
〔フォトマスクを2度用いるパターン化位相差層の作製〕
ガラス基板に式(Z)で示される光配向性ポリマーの5質量%シクロペンタノン溶液を塗布し、120℃で3分間乾燥させて、膜厚334nmの光配向性ポリマー層を形成した。
続いて、得られた光配向性ポリマー層上に、図1に示すように実部(遮光部)3の中に、ストライプ状の空隙部(偏光透過部)2が形成されたフォトマスク1(SUS製、空隙部及び実部の幅280μm)を置き、光配向性ポリマー層平面に対して垂直方向から、偏光UV照射冶具付きスポットキュア(SP−7、ウシオ電機(株)製)を用いて表6に記載の条件で、直線偏光を照射した。フォトマスクを載せる際に、マスクの端部にマーカーを入れておいた。
次に、図1に示す実部(遮光部)3が空隙部(偏光透過部)、空隙部2が実部となっているフォトマスクを、前記のマーカーに端部を合わせて載せ、光配向性ポリマー層に第2の偏光UVを照射することにより、図2に示すような、互いに異なる遅相軸方向をもつ第1パターン領域12及び第2パターン領域13を有するパターン化配向膜を形成した。第2の偏光UVは、表6記載の照射条件で、第1の偏光UVの振動方向に対して90°回転した方向に振動する直線偏光を照射した。
偏光UVを施した面に、スピンコーターを用いて液晶組成物1を塗布し、塗布膜を形成した。この塗布膜を100℃に保持し、液晶組成物中の液晶成分を配向させた膜を得た。
その後、室温まで冷却し、紫外線をユニキュア(VB―15201BY−A、ウシオ電機株式会社製)を用いて波長365nmにおいて40mW/cm2の放射照度で1分間照射することにより、重合性液晶化合物を重合させて光学異方性層(位相差層)を作製した。
2:空隙部、
3:実部、
51A、51B、61A、61B:液晶表示装置
52:バックライト
53:偏光板
54、62:表示素子基板
55、63:偏光層
56、64:パターン化配向膜
57、65:位相差層
70a:透過軸
71a、71b:遅相軸
71A、71B:位相差領域(光学異方性領域)
Claims (10)
- 重合性液晶化合物を含む液晶組成物から形成され、互いに異なる遅相軸方向をもつ光学異方性領域を複数有する光学異方性層の製造方法であって、
(1)光配向性ポリマーを基板に塗布する光配向性ポリマー層の形成工程、
(2)前記光配向性ポリマー層に、下記要件A及び要件Bを満たすように、フォトマスクを介して第一偏光を照射する第一照射工程、
(3)前記第一偏光の照射後、フォトマスクを介さずに、第一偏光とは振動方向が異なる第二偏光を光配向性ポリマー層に照射しパターン化配向膜を形成する第二照射工程、
(4)前記パターン化配向膜上に、前記液晶組成物を塗布して塗布膜を形成する塗布工程、
(5)前記塗布膜に含まれる液晶性成分が液晶状態となる温度に塗布膜を保持することにより、液晶性成分を配向させた膜を形成する配向工程、及び、
(6)前記液晶性成分を配向させた膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させる重合工程を含む製造方法。
要件A;第一偏光が照射される領域における光配向性ポリマー層の吸光度が、式(i)を満たす。
A(b)/A(a)≦0.95 (i)
[式(i)中、A(a)は第一偏光照射前の波長314nmにおける吸光度を表す。A(b)は第一偏光照射後の波長314nmにおける吸光度を表す。]
要件B;第一偏光が照射された領域における光配向性ポリマー層の複屈折率が、式(ii)を満たす。
Δn(550)≧0.005 (ii)
[式(ii)中、Δn(550)は、波長550nmにおける複屈折率を表す。] - 前記光配向性ポリマーが、光照射により架橋構造を形成し得るポリマーである請求項1記載の製造方法。
- 前記第一偏光の振動方向と、前記第二偏光の振動方向とのなす角度が70°〜90°である請求項1又は2記載の製造方法。
- 前記液晶組成物が、さらに重合開始剤及び溶剤を含む液晶組成物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法により製造された光学異方性層を備えた表示装置。
- 重合性液晶化合物を含む液晶組成物から形成され、互いに異なる遅相軸方向をもつ光学異方性領域を複数有する光学異方性層と基板とを含む積層体の製造方法であって、
(1)光配向性ポリマーを基板に塗布する光配向性ポリマー層の形成工程、
(2)前記光配向性ポリマー層に、下記要件A及び要件Bを満たすように、フォトマスクを介して第一偏光を照射する第一照射工程、
(3)前記第一偏光の照射後、フォトマスクを介さずに、第一偏光とは振動方向が異なる第二偏光を光配向性ポリマー層に照射しパターン化配向膜を形成する第二照射工程、
(4)前記パターン化配向膜上に、前記液晶組成物を塗布して塗布膜を形成する塗工工程、
(5)前記塗布膜に含まれる液晶性成分が液晶状態となる温度に塗布膜を保持することにより、液晶性成分を配向させた膜を形成する配向工程、及び、
(6)前記液晶性成分を配向させた膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させる重合工程を含む製造方法。
要件A;第一偏光が照射される領域における光配向性ポリマー層の吸光度が、式(i)を満たす。
A(b)/A(a)≦0.95 (i)
[式(i)中、A(a)は第一偏光照射前の波長314nmにおける吸光度を表す。A(b)は第一偏光照射後の波長314nmにおける吸光度を表す。]
要件B;第一偏光が照射された領域における光配向性ポリマー層の複屈折率が、式(ii)を満たす。
Δn(550)≧0.005 (ii)
[式(ii)中、Δn(550)は、波長550nmにおける複屈折率を表す。] - 前記光配向性ポリマーが、光照射により架橋構造を形成し得るポリマーである請求項6記載の製造方法。
- 前記第一偏光の振動方向と、前記第二偏光の振動方向とのなす角度が70°〜90°である請求項6又は7記載の製造方法。
- 前記液晶組成物が、さらに重合開始剤及び溶剤を含む液晶組成物である請求項6〜8のいずれか1項に記載の製造方法。
- 請求項6〜9のいずれか1項に記載の製造方法により製造された積層体を備えた表示装置。
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