JP2012158011A - 液滴吐出ヘッド、液体カートリッジおよび画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】振動板3を、LP−CVD法で成膜された圧縮応力を有するシリコン酸化膜22とポリシリコン膜23、LP−CVD法で成膜された引張応力を有するシリコン窒化膜24、LP−CVD法で成膜されたポリシリコン膜25、シリコン酸化膜26の5層の構成膜により形成する。
【選択図】図4
Description
本発明の目的は、振動板の構成膜である圧縮応力膜と引張応力膜を3層以上積層し、高精度で安定した吐出特性を有する液滴吐出ヘッド、液体カートリッジおよび画像形成装置を提供することにある。
(a)第1の基板100として面方位(110)のシリコン単結晶基板21(例えば板厚400μm)に振動板の構成膜として、例えばLP−CVD法(あるいは熱処理製膜法で)で圧縮応力を有するシリコン酸化膜22(例えば厚さ200nm)を成膜し、その後、同様に圧縮応力を有するポリシリコン膜23(例えば厚さ500nm)を成膜する。
(b)次に、振動板の構成膜として、例えばLP−CVD法で振動板の剛性を調整するための引張応力を有するシリコン窒化膜24(例えば厚さ250nm)を成膜し、続けて、同様にLP−CVD法でポリシリコン膜25(例えば厚さ500nm)を成膜し、続けて、例えばLP−CVD法でシリコン酸化膜26(例えば厚さ200nm)を成膜する。これで、振動板の構成膜の成膜が完了する。
(c)次に、例えば、TiとPtからなる共通電極10をスパッタ法で例えば各々30nmと100nm成膜する。次に、共通電極10上に圧電体12としてPZTを例えばスパッタ法で2μm厚成膜し、その後、後に個別電極11となるPtをスパッタ法で100nm成膜する。ここで、圧電体12の成膜方法は、スパッタ法に限らず、例えばイオンプレーティング法、エアーゾル法、ゾルゲル法、あるいはインクジェット法等などで成膜してもよい。
(d)次に、リソエッチ法により、後に形成する加圧液室5に対応する位置に圧電体素子2を形成するため、個別電極11と圧電体12をパターニングする。また、その後、共通電極10も同様にリソエッチ法でパターニングする。このとき、後の共通液室8と共通液滴供給路9が形成される部分の共通電極10もエッチングしておく。
(e)次に、後の共通液室8になる箇所の振動板の構成膜をリソエッチ法で除去する。そして次に、共通液滴供給路9、液滴供給口66、ザグリ67を形成した、例えばガラス材で形成した第2の基板200を第1の基板100に接合する。接合には、接着剤による接合や直接接合等でもかまわないが、接着剤を使わない直接接合が好適である。ここで、第2の基板としてガラス材を適用したが、シリコン単結晶基板等でもよい。但し、シリコン単結晶基板の場合、後の第1の基板100の加圧液室5等を形成するエッチングで基板がエッチングされないように耐性のある膜、例えばシリコン酸化膜、シリコン窒化膜を共通液滴供給路内壁(図示せず)および、基板表面に形成しておく必要がある。次に、後の加圧液室5、共通液室8、流体抵抗部7を形成するために、シリコン基板21を所望の厚さt(例えば厚さ80μm)になるように、公知の技術で研磨する。研磨法以外にもエッチングなどでもよい。
(f)次に、リソ法により、加圧液室5、共通液室8、流体抵抗部7以外の隔壁部をレジストで被覆する。その後、アルカリ溶液(KOH溶液、あるいはTMHA溶液)で異方性ウェットエッチを行い、加圧液室5、共通液室8、流体抵抗部7を形成する。
(g)次に、別に形成した各加圧液室5に対応した位置にノズル孔6を開口したノズル基板300を接合して、液滴吐出ヘッド1が完成する。
しかし、振動板上に圧電素子を形成するため、圧電素子材料膜(電極層、圧電体)の応力を考慮して、振動板全体の応力を制御する必要があり、実施例1、2のように必ずしも振動板のみの膜応力零が最適とは限らない。例えば、振動板全体の膜応力がほぼ零で、圧電体素子が引張応力を有する場合は、振動板は加圧液室側へ凸に撓む。圧電体素子を形成した後の振動板を平坦にする必要がある場合は、圧電体素子の膜応力とバランスを取るために振動板全体の膜応力(膜張力)を零以外にする必要がある。
2 圧電体素子
3 振動板
4 加圧液室隔壁
5 加圧液室
6 ノズル孔
7 流体抵抗
8 共通液室
9 共通液滴供給路
10 共通電極
11 個別電極
12 圧電体
21 シリコン単結晶基板
22、26、27 シリコン酸化膜
23、25 ポリシリコン膜
24 シリコン窒化膜
66 液滴供給口
67 ザグリ
100 第1の基板
200 第2の基板
300 ノズル基板
Claims (5)
- 液滴を吐出する液滴吐出孔と、前記液滴吐出孔と連通する加圧液室と、前記加圧液室の壁面の一部を構成する振動板と、前記振動板を振動させることにより前記加圧液室内部の圧力を変化させて前記液滴吐出孔から液滴を吐出させる液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板は、LPCVD法で成膜された圧縮応力を有する膜と引張応力を有する膜を含む3層以上の膜を積層して構成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
- 前記圧縮応力を有する膜として、シリコン酸化膜またはポリシリコン膜を含み、前記引張応力を有する膜としてシリコン窒化膜を含むことを特徴する請求項1記載の液滴吐出ヘッド。
- 前記シリコン窒化膜の膜厚は、0.3μm以下であることを特徴とする請求項2記載の液滴吐出ヘッド。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液滴吐出ヘッドと、前記液滴吐出ヘッドに記録液を供給するインクタンクを一体化したことを特徴とする液体カートリッジ。
- 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液滴吐出ヘッドを搭載したことを特徴とする画像形成装置。
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