JP2012143897A - ガスバリア積層体およびその製造方法 - Google Patents
ガスバリア積層体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012143897A JP2012143897A JP2011002170A JP2011002170A JP2012143897A JP 2012143897 A JP2012143897 A JP 2012143897A JP 2011002170 A JP2011002170 A JP 2011002170A JP 2011002170 A JP2011002170 A JP 2011002170A JP 2012143897 A JP2012143897 A JP 2012143897A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon oxide
- gas barrier
- barrier laminate
- thin film
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims abstract description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims abstract description 18
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 42
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 19
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 19
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 12
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 claims description 4
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 claims description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 claims description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 125000003011 styrenyl group Chemical class [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002925 chemical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N edrophonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](C)(C)C1=CC=CC(O)=C1 BXKDSDJJOVIHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000004715 ethylene vinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene-2,5-diol Chemical compound OC(=C)CCC(O)=C RZXDTJIXPSCHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】 ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる基材(1)と、前記基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素の薄膜(2)とを有するガスバリア積層体である。前記ポリエチレンテレフタレートフィルムは、位相差測定法による面配向係数が0.135以上0.150以下の範囲内であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
また、保護および接着性を向上させるために、酸化珪素薄膜2上に、オーバーコート層を形成してもよい。オーバーコート層の材質は、例えば、溶剤溶解性または水溶性のポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル系樹脂、ビニルアルコール樹脂、エチレン・ビニルアルコール共重合体(EVOH)樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂、およびアルキルチタネート等から選択することができる。これらのいずれかを用いた単独の層によって、あるいは2層以上の積層によってオーバーコート層を構成することができる。
6…処理ロール; 20,21…ガスバリア積層体; 8…ガス導入口
9…マッチングボックス; 10…遮蔽板。
Claims (8)
- ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる基材と、
前記基材の少なくとも一方の面に積層された酸化珪素の薄膜とを有し、
前記ポリエチレンテレフタレートフィルムは、位相差測定法による面配向係数が0.135以上0.150以下の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。 - 前記酸化珪素は、X線光電子分光法により算出される酸素と珪素との比(O/Si)が1.6以上2.0以下の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載のガスバリア積層体。
- 前記酸化珪素の薄膜は、10nm以上300nm以下の厚さを有することを特徴とする請求項1または2に記載のガスバリア積層体。
- 前記基材と前記酸化珪素の薄膜との間に、アンカーコート層にさらに有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガスバリア積層体。
- アンカーコート層の材質は、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、およびオキサゾリン基含有樹脂から選択されることを特徴とする請求項4に記載のガスバリア積層体。
- 前記酸化珪素の薄膜が積層された前記基材の面は、リアクティブイオンエッチング処理が施されたものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガスバリア積層体。
- 前記アクティブイオンエッチング処理は、アルゴン、窒素、酸素、および水素からなる群から選択される少なくとも1種のガスを用いて行なわれたものであることを特徴とする請求項6に記載のガスバリア積層体。
- 位相差測定法による面配向係数が0.135以上0.150以下の範囲内であるポリエチレンテレフタレートフィルムを基材として選択する工程と、
前記基材の少なくとも一方の面に、酸化珪素の薄膜を積層する工程と
を具備することを特徴とするガスバリア積層体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011002170A JP5720254B2 (ja) | 2011-01-07 | 2011-01-07 | ガスバリア積層体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011002170A JP5720254B2 (ja) | 2011-01-07 | 2011-01-07 | ガスバリア積層体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012143897A true JP2012143897A (ja) | 2012-08-02 |
JP5720254B2 JP5720254B2 (ja) | 2015-05-20 |
Family
ID=46787990
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011002170A Active JP5720254B2 (ja) | 2011-01-07 | 2011-01-07 | ガスバリア積層体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5720254B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016064871A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-28 | 日本製紙株式会社 | 液体紙容器 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10128901A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-05-19 | Toppan Printing Co Ltd | 包装用フィルム |
JP2001038867A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-13 | Toray Ind Inc | バリア用二軸延伸フィルムおよびバリアフィルム |
JP2002194185A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Toray Ind Inc | 成形加工用ポリエステルフィルム |
JP2004115782A (ja) * | 2002-09-02 | 2004-04-15 | Toray Ind Inc | 包装用ポリエステルフィルム |
JP2004338118A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Toppan Printing Co Ltd | 積層包装材料およびこれを用いた袋体ならびに複合容器 |
JP2005219364A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Toray Ind Inc | 包装材料用積層フィルム |
JP2009220315A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリアフィルム |
JP2010173133A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア積層体 |
JP2010179506A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Toppan Printing Co Ltd | 積層フィルム |
-
2011
- 2011-01-07 JP JP2011002170A patent/JP5720254B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10128901A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-05-19 | Toppan Printing Co Ltd | 包装用フィルム |
JP2001038867A (ja) * | 1999-08-02 | 2001-02-13 | Toray Ind Inc | バリア用二軸延伸フィルムおよびバリアフィルム |
JP2002194185A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Toray Ind Inc | 成形加工用ポリエステルフィルム |
JP2004115782A (ja) * | 2002-09-02 | 2004-04-15 | Toray Ind Inc | 包装用ポリエステルフィルム |
JP2004338118A (ja) * | 2003-05-13 | 2004-12-02 | Toppan Printing Co Ltd | 積層包装材料およびこれを用いた袋体ならびに複合容器 |
JP2005219364A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Toray Ind Inc | 包装材料用積層フィルム |
JP2009220315A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリアフィルム |
JP2010173133A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア積層体 |
JP2010179506A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Toppan Printing Co Ltd | 積層フィルム |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016064871A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-28 | 日本製紙株式会社 | 液体紙容器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5720254B2 (ja) | 2015-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5181905B2 (ja) | ガスバリア積層体 | |
TWI616335B (zh) | 阻氣性積層體及阻氣性積層體之製造方法 | |
JP5412850B2 (ja) | ガスバリア積層体 | |
US10780675B2 (en) | Gas barrier film, optical film, and flexible display | |
JP5696085B2 (ja) | ガスバリア積層体およびその製造方法 | |
JP6288518B2 (ja) | ガスバリア性フィルムおよびその製造方法 | |
JP5440005B2 (ja) | ガスバリア積層体 | |
JP2016087814A (ja) | ガスバリア積層体およびその製造方法 | |
JP5664341B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
JP2014114467A (ja) | ガスバリア性フィルムの製造方法 | |
JP5477351B2 (ja) | ガスバリア積層体およびその製造方法 | |
JP6007930B2 (ja) | ガスバリア積層体 | |
JP5720254B2 (ja) | ガスバリア積層体およびその製造方法 | |
JP5838578B2 (ja) | ガスバリア積層体 | |
JP2014218090A (ja) | ガスバリア積層体 | |
JP2018527213A (ja) | バリアフィルム、真空断熱パネル、及びそれを用いる防湿袋 | |
WO2016080246A1 (ja) | 保護フィルム付き透明導電性フィルム | |
JP2011148139A (ja) | ガスバリア積層体 | |
JP7087414B2 (ja) | ガスバリア積層体 | |
JP4946350B2 (ja) | ガスバリア性積層体 | |
JP6848339B2 (ja) | ガスバリア積層体及びその製造方法 | |
JP6988166B2 (ja) | ガスバリア積層体の製造方法 | |
JPH09226047A (ja) | 透明ガスバリヤー性フィルム | |
JP2008265232A (ja) | ガスバリア積層体 | |
JP2014104616A (ja) | ガスバリア積層体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20130925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20130926 |
|
RD07 | Notification of extinguishment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7427 Effective date: 20131008 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140902 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141031 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20141031 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5720254 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |