JP2012130995A - ドレッサ - Google Patents
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Abstract
【課題】研磨パッドの表面粗さを、より細かく調整できるドレッサを提供する。
【解決手段】ドレッサ1の円盤状のベース基材2の表面には、扇状領域に区分された第1,第2砥粒配置部5a,5bが円周方向に交互に設けられ、第1砥粒配置部5aには、粒径の大きな多数のダイヤモンド砥粒3aが保持され、第2砥粒配置部5bには、粒径の小さな多数のダイヤモンド砥粒3bが保持されている。かかるドレッサ1では、粒径の大きなダイヤモンド砥粒3aによって研磨パッドの表面を深く荒らしてスラリー保持性を高めると共に、粒径の小さなダイヤモンド砥粒3bによって研磨パッド表面を安定した表面粗さにドレッシング処理することができる。
【選択図】図3
【解決手段】ドレッサ1の円盤状のベース基材2の表面には、扇状領域に区分された第1,第2砥粒配置部5a,5bが円周方向に交互に設けられ、第1砥粒配置部5aには、粒径の大きな多数のダイヤモンド砥粒3aが保持され、第2砥粒配置部5bには、粒径の小さな多数のダイヤモンド砥粒3bが保持されている。かかるドレッサ1では、粒径の大きなダイヤモンド砥粒3aによって研磨パッドの表面を深く荒らしてスラリー保持性を高めると共に、粒径の小さなダイヤモンド砥粒3bによって研磨パッド表面を安定した表面粗さにドレッシング処理することができる。
【選択図】図3
Description
本発明は、研磨パッドをドレッシング処理するのに用いるドレッサに関する。
半導体装置の製造においては、半導体ウェハ等の表面を平坦化するために、CMP(Chemical Mechanical Polishing:化学機械研磨)技術を用いた研磨装置(以下「CMP研磨装置」という)による研磨が広く行われている(例えば、特許文献1参照)。
図6は、従来のCMP研磨装置の概略構成図である。回転定盤11の表面に貼付された研磨パッド7には、供給ノズル10から研磨スラリー8が連続的に供給される。被研磨物としての例えば、半導体ウェハ9は、研磨ヘッド12に、図示しないバッキングフィルム等を介して保持される。
かかるCMP研磨装置では、回転定盤11上の研磨パッド7に、研磨ヘッド12に保持された半導体ウェハ9を加圧接触させ、研磨スラリー8を流しながら、回転定盤11及び研磨ヘッド12を、矢符P1,P2で示すように同方向に回転させることによって半導体ウェハ9を研磨する。
CMP研磨装置では、研磨パッド7の表面の微細な凹部に、切削屑や研磨スラリー8が入り込んで目詰りを起こし、研磨レートの低下をもたらすと共に、研磨の均一性を悪化させる。このため、ダイヤモンド砥粒などを固着したドレッサ13を用いて研磨パッド7のドレッシング処理が行われる。
この研磨パッド7のドレッシング処理は、ダイヤモンド砥粒などを固着したドレッサ13を、研磨パッド7に加圧接触させて矢符P3方向へ回転させて研磨パッド7の表面を荒し、切削屑や研磨スラリー8を除去すると共に目立てを行うものである。
かかるドレッシング処理に用いる従来のドレッサ13の一例を、図7ないし図9を参照して説明する。図7に従来のドレッサ13の側面を、図8に図7のドレッサ13の下面を、図9に従来のドレッサ13と該ドレッサ13でドレッシング処理される研磨パッド7の表面を示す。なお、図7では、ドレッサ13の表面の一部を、円形の領域Cに拡大して示している。
これらの図を参照して、ドレッサ13は、研磨パッド7に対向する面である表面(図7では下面)に、ダイヤモンド砥粒3を保持した砥粒配置部5を備えている。この砥粒配置部5は、多数のダイヤモンド砥粒3が配置されている。これら多数のダイヤモンド砥粒3は、単一種類のダイヤモンド砥粒からなり、ドレッサ13の表面に略均一な高さで突出している。このドレッサ13の単一種類のダイヤモンド砥粒3によって、図9に示すように、研磨パッド7の表面をドレッシング処理する。
従来のドレッサ13は、単一種類のダイヤモンド砥粒3で構成されているので、研磨パッド7の表面の粗さを調整するのが困難であり、例えば、研磨パッド7の表面を細かく荒らして、研磨パッド7によって研磨される半導体ウェハの平坦性を向上させる一方、研磨パッドの表面を部分的に大きく荒らして、研磨スラリーの保持性を高めるといったことは困難であった。
本発明は、上述のような点に鑑みてなされたものであって、研磨パッドの表面粗さを、より細かく調整できるドレッサを提供することを目的とする。
本発明では、上記目的を達成するために、次のように構成している。
本発明のドレッサは、多数の砥粒を保持した保持材を備え、研磨パッドのドレッシング処理に用いられるドレッサであって、前記多数の砥粒には、粒径が少なくとも大小2種類に異なる砥粒を含んでいる。
砥粒は、ダイヤモンド砥粒が好ましいが、他の砥粒、例えばCBN砥粒、アルミナ系砥粒や、その他の砥粒を用いてもよく、また、これら砥粒を単独で、または2種以上を混合して用いてもよい。
使用する砥粒の粒径やその組合せは、ドレッシング処理の条件及び研磨パッドの材質等に応じて適宜選択すればよい。
好ましい実施態様では、前記保持材の表面には、前記大小2種類に異なる砥粒の内、粒径が大きい砥粒が保持される第1砥粒配置部と、粒径が小さい砥粒が保持される第2砥粒配置部とを備える。
一つの実施態様では、前記保持材が平面視円形であって、円周方向に複数の扇状領域に区分されると共に、各扇状領域に、前記第1,第2砥粒配置部が、それぞれ交互に設けられる。
本発明のドレッサによると、粒径が少なくとも大小2種類に異なる砥粒を備えているので、それら砥粒の組合せによって、研磨パッドの表面粗さをより細かく調整することが可能となり、例えば、粒径が大きい砥粒によって研磨パッド表面を深く荒して研磨スラリーの保持性を高める一方、粒径が小さい砥粒によって研磨パッドの表面を細かく荒し、これによって、研磨パッドによって研磨される半導体ウェハの平坦性を向上させるといったことが可能となる。
本発明によれば、粒径が少なくとも大小2種類に異なる砥粒を備えているので、それら砥粒を組合せることによって、研磨パッドの表面粗さをより細かく調整することが可能となる。例えば、粒径が大きい砥粒によって研磨パッド表面を深く荒して研磨スラリーの保持性を高める一方、粒径が小さい砥粒によって研磨パッドの表面を細かく荒らして、研磨パッドによって研磨される半導体ウェハの平坦性を向上させるといったことが可能となる。
以下、図面によって本発明の実施形態について詳細に説明する。
図1に本発明の一実施形態に係るドレッサの側面を、図2に図1のドレッサの下面を、図3(a)に図2のA−A線に沿う拡大断面を、図3(b)に図2のB−B線に沿う拡大断面をそれぞれ示す。
これらの図を参照して、この実施形態のドレッサ1は、ステンレスなどの金属からなる保持材としての円盤状のベース基材2を備えている。このベース基材2の研磨パッドに対向する面である表面(図1及び図3では下面)は、円周方向に複数、この実施形態では、4つの角度90度の扇状領域に区分されている。各扇状領域は、図3に示すように、粒径が大きい多数のダイヤモンド砥粒3aが電着部4によって保持された第1砥粒配置部5aと、粒径が小さい多数のダイヤモンド砥粒3bが電着部4によって保持された第2砥粒配置部5bとなっており、第1,第2砥粒配置部5a,5bが、円周方向に交互に配置されている。この実施形態では、第1砥粒配置部5aのダイヤモンド砥粒3aの平均粒径は、第2砥粒配置部5bのダイヤモンド砥粒3bの平均粒径に比べて大きい。なお、ダイヤモンド砥粒3a,3bの平均粒径や配置の密度などは、ドレッシング処理の条件や研磨パッドの材質等に応じて適宜選択すればよい。
図3(a)に示すように、第1砥粒配置部5aにおけるダイヤモンド砥粒3aの電着部4からの突出高さをH、第2砥粒配置部5bにおけるダイヤモンド砥粒3bの電着部4からの突出高さをhとすると、H>hであり、粒径が大きいダイヤモンド砥粒3aは、粒径が小さいダイヤモンド砥粒3bよりも突出高さが高くなっている。
以上の構成を有するドレッサ1は、従来例のドレッサと同様に、CMP研磨装置に、研磨パッドに対向するように設置される。
なお、この実施形態では、ベース基材2の表面を、4つの扇状領域に区分したけれども、扇状領域の数は、4つに限らず、任意であり、また、扇状に限らず、円形やその他の形状に区分してもよい。
次に図4(a)(b)を参照してドレッサ1による研磨パッド7に対するドレッシング処理を説明する。
図4(a)は、第1砥粒配置部5aにおける粒径の大きなダイヤモンド砥粒3aによる研磨パッド7の表面のドレッシング処理の状態を示す。研磨パッド7表面は、粒径の大きなダイヤモンド砥粒3aによって深く荒らされて溝(凹部)15が形成され、研磨パッド7の研磨スラリーの保持性が向上する。
一方、図4(b)は第2砥粒配置部5bにおける粒径の小さなダイヤモンド砥粒3bによる研磨パッド7の表面のドレッシング状態を示す。研磨パッド7表面は、粒径の小さなダイヤモンド砥粒3bによって比較的浅く安定した表面粗さにドレッシング処理され、研磨パッド7によって研磨される半導体ウェハ9の平坦性が向上する。
以上説明したように本実施形態では、ドレッサ表面には粒径が大きいダイヤモンド砥粒3aが保持された第1砥粒配置部5aと、粒径が小さいダイヤモンド砥粒3bが保持された第2砥粒配置部5bとを円周方向交互に領域を分けて設けているので、第1砥粒配置部5aに保持された粒径が大きなダイヤモンド砥粒3aによって研磨スラリーの保持性を向上させるようにドレッシング処理することができる一方、第2砥粒配置部5bに保持した粒径の小さいダイヤモンド砥粒3bによって、半導体ウェハの平坦性に有効な安定した表面粗さにドレッシング処理することができる。
上述の実施形態では、扇状領域に区分して、領域毎に、粒径の大きなダイヤモンド砥粒3aと粒径の小さなダイヤモンド砥粒3bとを配置したけれども、本発明の他の実施形態として、例えば、図5に示すように、粒径の大きなダイヤモンド砥粒3aと、粒径の小さなダイヤモンド砥粒3bとを、同一領域に配置して研磨パッド7表面をドレッシング処理するようにしてもよい。
この場合も、粒径の大きなダイヤモンド砥粒3aによって研磨パッド7表面を深く荒らしてスラリー保持性を高めると共に、粒径の小さなダイヤモンド砥粒3bによって研磨パッド7表面を安定した表面粗さにドレッシング処理することができる。
上述の実施形態では、粒径が大小2種類のダイヤモンド砥粒3a,3bを用いたけれども、本発明の他の実施形態として、更に、粒径の異なる3種類以上の砥粒を用いてもよい。
本発明は、CMP研磨装置の研磨パッドのドレッシング処理に用いるドレッサとして有用である。
1 ドレッサ
2 ベース基材
3a 粒径の大きなダイヤモンド砥粒
3b 粒径の小さなダイヤモンド砥粒
4 電着部
5a 第1砥粒配置部
5b 第2砥粒配置部
7 研磨パッド
8 研磨スラリー
2 ベース基材
3a 粒径の大きなダイヤモンド砥粒
3b 粒径の小さなダイヤモンド砥粒
4 電着部
5a 第1砥粒配置部
5b 第2砥粒配置部
7 研磨パッド
8 研磨スラリー
Claims (3)
- 多数の砥粒を保持した保持材を備え、研磨パッドのドレッシング処理に用いられるドレッサであって、
前記多数の砥粒には、粒径が少なくとも大小2種類に異なる砥粒を含む、
ことを特徴とするドレッサ。 - 前記保持材の表面には、前記大小2種類に異なる砥粒の内、粒径が大きい砥粒が保持される第1砥粒配置部と、粒径が小さい砥粒が保持される第2砥粒配置部とを備える、
請求項1に記載のドレッサ。 - 前記保持材が平面視円形であって、円周方向に複数の扇状領域に区分されると共に、各扇状領域に、前記第1,第2砥粒配置部が、それぞれ交互に設けられる、
請求項2に記載のドレッサ。
Priority Applications (1)
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- 2010-12-22 JP JP2010285801A patent/JP2012130995A/ja active Pending
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