JP2012128299A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、例えば配線や素子での戻り光の再反射を低減し、高品位な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、電気光学物質（５０）を挟持する一対の基板（１０ａ、２０）と、一対の基板のうち入射光が出射される側に配置された一方の基板（１０ａ）の入射光が出射される側の面に設けられた防塵用基板（４１０）と、一方の基板の電気光学物質に対向する面上に画像表示領域（ＤＡ）を取り囲むように設けられた反射防止膜（７１０）と、防塵用基板の一方の基板に対向する面上に表示領域を取り囲むように設けられた遮光膜（７３０）とを備え、反射防止膜の表示領域側の縁（７１０ｆ）は、遮光膜の表示領域側の縁（７３０ｆ）よりも表示領域に近く、遮光膜は、透過率が防塵用基板の外周縁（４１０ｆ）側から表示領域側へ向かって徐々に高くなるように形成されている。
【選択図】図２

Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクター等の電子機器の技術分野に関する。

この種の電気光学装置の一例である液晶パネルを、液晶プロジェクターにおけるライトバルブとして用いる場合、ライトバルブの表面にごみや埃等（以下、適宜「粉塵」と称する）が付着すると、映写幕上にその粉塵の像もまた投影されてしまうため、表示画像の品質が低下するおそれがある。このため、液晶パネルを構成する基板の外表面に防塵用の透明基板が設けられる場合がある（例えば特許文献１及び２参照）。

例えば特許文献１には、対向基板や防塵用の透明基板（第３透明基板）における表示領域の周辺に遮光膜を設けることで、電気光学装置の縁付近の遮光性能を高める技術が開示されている。例えば特許文献２には、対向基板の外周部に光透過領域（有効表示領域）を規定する額縁としての遮光層が形成された電気光学装置が開示されている。

特開２００３−３１５７７３号公報 特開平１１−２９５６８３号公報

前述のように液晶パネルを液晶プロジェクターにおけるライトバルブとして用いる場合、液晶パネルから表示光として出射された光の一部が、液晶パネル外に配置された例えばプリズム等の部材で反射され、戻り光となって再び液晶パネルに入射するおそれがある。このような戻り光は、液晶パネルを構成する基板上に設けられた各種の配線や素子で再反射して表示光に紛れ込むおそれがある。この結果、配線や素子の像が表示画面に映り込み、表示品質が劣化してしまうおそれがあるという技術的問題点がある。

本発明は、例えば前述した問題点に鑑みなされたものであり、例えば配線や素子での戻り光の再反射を低減でき、高品位な表示を行うことが可能な電気光学装置、及びこのような電気光学装置を備える電子機器を提供することを課題とする。

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、電気光学物質を挟持する一対の基板と、前記一対の基板のうち入射光が出射される側に配置された一方の基板の前記入射光が出射される側の面に設けられた防塵用基板と、前記一方の基板の前記電気光学物質に対向する面上に表示領域を取り囲むように設けられた反射防止膜と、前記防塵用基板の前記一方の基板に対向する面上に前記表示領域を取り囲むように設けられた遮光膜とを備え、前記反射防止膜の前記表示領域側の縁は、前記遮光膜の前記表示領域側の縁よりも前記表示領域に近く、前記遮光膜は、当該遮光膜の透過率が前記防塵用基板の外周縁側から前記表示領域側へ向かって徐々に高くなるように形成されている。

本発明の電気光学装置は、例えば液晶等の電気光学物質を挟持する一対の基板を備えている。電気光学装置は、その動作時には表示領域に対して、例えば、白色ランプ等の光源から入射光が入射される。電気光学装置は、例えば、表示領域に入射される入射光を画素単位で電気光学物質によって変調することにより表示を実現する。表示領域には、例えば、複数の画素がマトリクス状に配置されており、走査信号を供給する走査線及び画像信号を供給するデータ線に夫々電気的に接続されている。各画素は、画像信号の電位に応じて、例えば液晶等の電気光学物質の配向状態を制御する。

防塵用基板は、一対の基板のうち入射光が入射される側（即ち、電気光学装置の光入射面側）とは反対側（即ち、電気光学装置の光出射面側、言い換えれば、入射光が出射される側）に配置された一方の基板の電気光学物質に対向する面とは反対側の面（即ち、電気光学物質に対向しない側の面、言い換えれば、入射光が出射される側の面）に設けられている。防塵用基板は、電気光学装置の表面に付着したごみや埃等が、表示画像の品質を低下させてしまうことを防止する機能を有する。なお、防塵用基板は接着剤などを介して一方の基板に貼り合わせられていてもよい。この場合、接着剤は光透過率や熱伝導率の高い材料を用いることが好ましい。

本発明では特に、一方の基板の電気光学物質に対向する面上に例えば遮光性材料からなる反射防止膜が表示領域を取り囲むように設けられるとともに、防塵用基板の一方の基板に対向する面上に遮光膜が表示領域を取り囲むように設けられており、反射防止膜の表示領域側の縁は、遮光膜の表示領域側の縁よりも表示領域に近い。

よって、電気光学装置（より具体的には、電気光学装置の表示領域）から表示光として出射された光の一部が、電気光学装置外に配置された例えばプリズム等の部材で反射され、戻り光となって再び電気光学装置に入射することを、反射防止膜及び遮光膜によって低減できる。

ここで特に、反射防止膜は、一方の基板の電気光学物質に対向する面上に設けられているので、戻り光が、一方の基板上に設けられた各種の配線や素子で再反射することを確実に低減できる。よって、配線や素子の像が表示画面に映り込むことを低減できる。さらに、反射防止膜の表示領域側の縁は、遮光膜の表示領域側の縁よりも表示領域に近いので、一方の基板上に設けられた各種の配線や素子での戻り光の再反射を反射防止膜によって確実に低減できるとともに、出射すべき表示光が遮光膜によって遮られてしまうことを低減或いは防止できる。

さらに、本発明では特に、遮光膜は、当該遮光膜の透過率が防塵用基板の外周縁側から表示領域側へ向かって徐々に高くなるように形成されている。

ここで、仮に、何らの対策も施さず、遮光膜の透過率が均一である場合には、反射防止膜の一方の基板に対向する側の面の反射率と遮光膜の防塵用基板に対向する側の面の反射率との差に起因して、遮光膜の表示領域側の縁に沿う輝度ムラが生じてしまうおそれがある。つまり、この場合、例えば、反射防止膜の一方の基板に対向する側の面の反射率が、遮光膜の防塵用基板に対向する側の面の反射率よりも高いときには、反射防止膜によって反射される戻り光の光量が、遮光膜によって反射される戻り光の光量よりも多いため、電気光学装置を光出射面側から見た場合における反射防止膜と遮光膜との境界に沿って輝度ムラが生じてしまうおそれがある。

しかるに本発明では特に、前述したように、遮光膜は、当該遮光膜の透過率が防塵用基板の外周縁側から表示領域側へ向かって徐々に高くなるように形成されているので、反射防止膜によって反射された戻り光が遮光膜を透過する光量を、防塵用基板の外周縁側から表示領域側へ向かって徐々に多くする（言い換えれば、表示領域側から防塵用基板の外周縁側へ向かって徐々に少なくする）ことができる。よって、遮光膜の表示領域側の縁に沿って輝度ムラが生じることを低減或いは防止できる。つまり、電気光学装置を光出射面側から見た場合における反射防止膜と遮光膜との境界に沿って生じる輝度ムラを目立たなくすることができる。さらに、本発明によれば、遮光膜と反射防止膜との反射率が異なる場合であっても、遮光膜の表示領域側の縁に沿って輝度ムラが生じることを低減或いは防止できるので、遮光膜と反射防止膜とを互いに異なる材料から形成することができる。よって、遮光膜及び反射防止膜の各々を形成する材料の選択の自由度が高まるので、実践上大変有利である。

なお、本発明に係る「遮光膜の透過率が防塵用基板の外周縁側から表示領域側へ向かって徐々に高くなる」とは、遮光膜の全て（言い換えれば、遮光膜の防塵用基板の外周縁側の縁から表示領域側の縁までの全て）について、透過率が防塵用基板の外周縁側から表示領域側へ向かって徐々に高くなること、及び遮光膜の一部について、透過率が防塵用基板の外周縁側から表示領域側へ向かって徐々に高くなることのいずれもを含む趣旨である。また、本発明に係る「徐々に高くなる」とは、遮光膜の透過率が連続的に高くなること、及び段階的（或いは不連続）高くなることのいずれもを含む趣旨である。

以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、例えば一方の基板上に設けられた配線や素子での戻り光の再反射を低減できる。さらに、遮光膜の表示領域側の縁に沿って輝度ムラが生じることを低減或いは防止できる。これらの結果、高品位な表示を行うことが可能になる。

本発明の電気光学装置の一態様では、前記遮光膜は、当該遮光膜の膜厚が前記外周縁側から前記表示領域側へ向かって徐々に小さくなるように形成されている。

この態様によれば、遮光膜を、当該遮光膜の透過率が防塵用基板の外周縁側から表示領域側へ向かって徐々に高くなるように比較的容易にかつ確実に形成できる。よって、遮光膜の表示領域側の縁に沿って輝度ムラが生じることを確実に低減或いは防止できる。

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記遮光膜は、当該遮光膜の膜密度が前記外周縁側から前記表示領域側へ向かって徐々に低くなるように形成されている。

この態様によれば、遮光膜を、当該遮光膜の透過率が防塵用基板の外周縁側から表示領域側へ向かって徐々に高くなるように比較的容易にかつ確実に形成できる。よって、遮光膜の表示領域側の縁に沿って輝度ムラが生じることを確実に低減或いは防止できる。なお、本発明に係る「膜密度」とは、遮光膜の防塵用基板上における粗密の度合いを意味し、典型的には、遮光膜の単位体積中に含まれる遮光性材料の質量を意味する。遮光膜の膜密度は、例えば、製造プロセスにおいて遮光膜を成膜する際の成膜条件を変更することにより、変化させることができる。

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、前述した本発明の電気光学装置（但し、その各種態様も含む）を備える。

本発明の電子機器によれば、前述した本発明の電気光学装置を具備してなるので、高品質な表示を行うことが可能な、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニター直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。

本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。

第１実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す平面図である。 図１のII−II’線断面図である。 第１実施形態に係る液晶装置を光出射面側から見た場合の平面図である。 図２の部分Ｃ１を拡大して示す拡大断面図である。 第２実施形態に係る液晶装置の一部を示す、図４と同趣旨の断面図である。 第３実施形態に係る液晶装置の一部を示す、図４と同趣旨の断面図である。 第３実施形態に係る液晶装置を光出射面側から見た場合の平面図である。 電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクターの構成を示す平面図である。

以下、図面を参照しながら、本発明の電気光学装置及び電子機器の各実施形態を説明する。以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例として、液晶プロジェクターにおけるライトバルブとして用いられる液晶装置を挙げる。なお、以下の図では、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各図ごとに各層・各部材ごとの縮尺を異ならしめて図示することもある。

＜第１実施形態＞
第１実施形態に係る液晶装置について、図１から図４を参照して説明する。

まず、本実施形態に係る液晶装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。

図１は、本実施形態に係る液晶装置の概略構成を示す平面図であり、図２は、図１のII−II’線断面図である。

図１及び図２において、本実施形態に係る液晶装置１は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等のスイッチング素子によって液晶素子を駆動するアクティブマトリクス駆動方式の表示パネルであり、本発明に係る「表示領域」の一例としての画像表示領域ＤＡにおいて画像を表示することが可能に構成されている。

液晶装置１は、互いに対向配置されたＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とを備えており、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が設けられている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とは、画像表示領域ＤＡの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材５２により相互に接着されている。

図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０は、例えばガラス基板、石英基板、シリコン基板等の透明基板１０ａ上に、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明材料からなる画素電極９や、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線が、例えば層間絶縁膜４１、４２等の絶縁膜を介して積層されてなる。なお、図２では、透明基板１０ａ上に設けられている例えば画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線などについては図示を省略している。透明基板１０ａに設けられた層間絶縁膜４２上における画像表示領域ＤＡには、画素電極９がマトリクス状に設けられている。画素電極９上には、配向膜（図示省略）が形成されている。また、透明基板１０ａ上には、本発明に係る「反射防止膜」の一例としての反射防止膜７１０が、画像表示領域ＤＡを取り囲むように設けられている。反射防止膜７１０は、透明基板１０ａ上の積層構造における最下層側に配置されている。反射防止膜７１０は、例えばクロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、タングステン（Ｗ）等の遮光性材料から形成されている。反射防止膜７１０の構成及び機能については、後に詳細に説明する。

対向基板２０は、例えばガラス基板等の透明基板からなる。対向基板２０におけるＴＦＴアレイ基板１０との対向面上の画像表示領域ＤＡには、例えばＩＴＯ等の透明材料からなる対向電極（図示省略）が複数の画素電極９と対向して例えばベタ状に形成されている。対向電極上には配向膜（図示省略）が形成されている。なお、対向基板２０上の画像表示領域ＤＡには、例えば格子状等にパターニングされた遮光膜（いわゆる「ブラックマトリクス」）が形成されていてもよい。また、対向基板２０のＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、遮光性材料からなる遮光膜７２０が画像表示領域ＤＡを取り囲むように設けられている。遮光膜７２０は、画像表示領域ＤＡの周囲を規定する周辺見切り膜（或いは額縁遮光膜）として機能することができる。

液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、画素電極９上に設けられた配向膜と対向電極上に設けられた配向膜間で、所定の配向状態をとる。

ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の各々には、互いに対向する側とは反対側に、例えばガラス基板等の透明基板を用いて構成される防塵用基板４１０及び４２０が設けられている。防塵用基板４１０及び４２０によって、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０上に直接に塵埃或いは粉塵が付着するのを防止できると共に、防塵用基板４１０及び４２０上に仮に塵埃が付着したとしても、防塵用基板４１０及び４２０が所定の厚さを有することにより、表示画面上に塵埃の像が投影されるというような事態を未然に回避することができる。防塵用基板４１０は、接着剤からなる接着層９１０によってＴＦＴアレイ基板１０（より正確には、透明基板１０ａ）に貼り合わされている。防塵用基板４２０は、接着剤からなる接着層９２０によって対向基板２０に貼り合わされている。

防塵用基板４１０のＴＦＴアレイ基板１０との対向面上には、本発明に係る「遮光膜」の一例としての遮光膜７３０が、画像表示領域ＤＡを取り囲むように設けられている。遮光膜７３０は、例えば酸化クロムなど、反射防止膜７１０よりも高い反射率を有する遮光性材料から形成されている。遮光膜７３０の構成及び機能については、後に詳細に説明する。

防塵用基板４２０の対向基板２０との対向面上には、遮光性材料からなる遮光膜７４０が、画像表示領域ＤＡを取り囲むように設けられている。遮光膜７４０は、前述した遮光膜７２０とともに、画像表示領域ＤＡの周囲を規定する周辺見切り膜として機能することができる。

液晶装置１は、その動作時には、画像表示領域ＤＡに対して、例えば白色ランプ等の光源から入射光が入射される。入射光は、液晶層５０に対して対向基板２０側（即ち、防塵用基板４２０側）から入射され、液晶層５０によって変調されて、液晶層５０に対してＴＦＴアレイ基板１０側（即ち、防塵用基板４１０側）から表示光として出射される。即ち、防塵用基板４２０の対向基板２０に対向しない側の基板面Ｓ１が、入射光が入射される光入射面であり、防塵用基板４１０のＴＦＴアレイ基板１０に対向しない側の基板面Ｓ２が、表示光が出射される光出射面である。なお、以下では、防塵用基板４２０の対向基板２０に対向しない側の基板面Ｓ１を「液晶装置１の光入射面Ｓ１」と適宜称し、防塵用基板４１０のＴＦＴアレイ基板１０に対向しない側の基板面Ｓ２を「液晶装置１の光出射面Ｓ２」と適宜称する。

次に、液晶装置１に特徴的な構成である反射防止膜７１０及び遮光膜７３０について、図２に加えて図３及び図４を参照して説明する。

図３は、液晶装置１を光出射面Ｓ２側から見た場合の平面図である。図４は、図２の部分Ｃ１を拡大して示す拡大断面図である。

図２から図４において、本実施形態では特に、透明基板１０ａの液晶層５０に対向する面Ｓ３（図４参照）上に反射防止膜７０が画像表示領域ＤＡを取り囲むように設けられるとともに、防塵用基板４１０の透明基板１０ａに対向する面Ｓ４（図４参照）上に遮光膜７３０が画像表示領域ＤＡを取り囲むように設けられており、反射防止膜７１０の画像表示領域ＤＡ側の縁７１０ｆは、遮光膜７３０の画像表示領域ＤＡ側の縁７３０ｆよりも画像表示領域ＤＡに近い。

よって、液晶装置１の光出射面Ｓ２（より具体的には、その画像表示領域ＤＡ）から表示光として出射された光の一部が、液晶装置１外に配置された例えばプリズム等の部材で反射され、戻り光（図２参照）となって再び液晶装置１に入射することを、反射防止膜７１０及び遮光膜７３０によって低減できる。

ここで本実施形態では特に、反射防止膜７１０は、透明基板１０ａの液晶層５０に対向する面Ｓ３上に設けられているので、戻り光が、透明基板１０ａ上に設けられた各種の配線や素子で再反射することを確実に低減できる。よって、配線や素子の像が表示画面に映り込むことを低減できる。さらに、反射防止膜７１０の画像表示領域ＤＡ側の縁７１０ｆは、遮光膜７３０の画像表示領域ＤＡ側の縁７３０ｆよりも画像表示領域ＤＡに近いので、透明基板１０ａ上に設けられた各種の配線や素子での戻り光の再反射を反射防止膜７１０によって確実に低減できるとともに、出射すべき表示光が遮光膜７３０によって遮られてしまうことを低減或いは防止できる。

さらに、図４に示すように、本実施形態では特に、遮光膜７３０は、その膜厚ｄ１が防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に小さくなるように形成されており、当該遮光膜７３０の透過率が防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に高くなっている。

ここで、仮に、何らの対策も施さず、遮光膜７３０の透過率が均一である場合には、反射防止膜７１０の透明基板１０ａに対向する側の面７１０ｓの反射率と遮光膜７３０の防塵用基板４１０に対向する側の面７３０ｓの反射率との差に起因して、遮光膜７３０の画像表示領域ＤＡ側の縁７３０ｆに沿う輝度ムラが生じてしまうおそれがある。つまり、この場合、例えば、反射防止膜７１０の透明基板１０ａに対向する側の面７１０ｓの反射率が、遮光膜７３０の防塵用基板４１０に対向する側の面７３０ｓの反射率よりも高いときには、反射防止膜７１０によって反射される戻り光の光量が、遮光膜７３０によって反射される戻り光の光量よりも多いため、液晶装置１を光出射面Ｓ２側から見た場合における反射防止膜７１０と遮光膜７３０との境界に沿って輝度ムラが生じてしまうおそれがある。

しかるに本実施形態では特に、前述したように、遮光膜７３０は、遮光膜７３０は、その膜厚ｄ１が防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に小さくなるように形成されており、当該遮光膜７３０の透過率が防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に高くなっているので、反射防止膜７１０によって反射された戻り光が遮光膜７３０を透過する光量を、防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に多くする（言い換えれば、画像表示領域ＤＡ側から防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側へ向かって徐々に少なくする）ことができる。よって、遮光膜７３０の画像表示領域ＤＡ側の縁７３０ｆに沿って輝度ムラが生じることを低減或いは防止できる。つまり、液晶装置１を光出射面Ｓ２側から見た場合における反射防止膜７１０と遮光膜７３０との境界に沿って生じる輝度ムラを目立たなくする（或いは、ぼかす）ことができる。さらに、本実施形態によれば、遮光膜７３０と反射防止膜７１０との反射率が異なる場合であっても、遮光膜７３０の画像表示領域ＤＡ側の縁７３０ｆに沿って輝度ムラが生じることを低減或いは防止できるので、遮光膜７３０と反射防止膜７１０とを互いに異なる材料から形成することができる。よって、遮光膜７３０及び反射防止膜７１０の各々を形成する材料の選択の自由度が高まるので、実践上大変有利である。

なお、遮光膜７３０は、防塵用基板４１０上に所定の膜厚の遮光膜を成膜した後、該成膜した遮光膜にエッチングを施すことにより形成することができる。また、本実施形態では、遮光膜７３０の膜厚ｄ１が防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって連続的に小さくなる例を示したが、遮光膜７３０の膜厚ｄ１は、防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって段階的（或いは不連続）に小さくなってもよい。この場合にも、液晶装置１を光出射面Ｓ２側から見た場合における反射防止膜７１０と遮光膜７３０との境界に沿って生じる輝度ムラを目立たなくすることができる。

以上説明したように、本実施形態に係る液晶装置１によれば、例えばＴＦＴアレイ基板１０を構成する透明基板１０ａ上に設けられた配線や素子での戻り光の再反射を低減できる。さらに、遮光膜７３０の画像表示領域ＤＡ側の縁７３０ｆに沿って輝度ムラが生じることを低減或いは防止できる。これらの結果、高品位な表示を行うことが可能になる。

＜第２実施形態＞
第２実施形態に係る液晶装置について、図５を参照して説明する。

図５は、第２実施形態に係る液晶装置の一部を示す、図４と同趣旨の断面図である。なお、図５において、図１から図４に示した第１実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。

図５において、第２実施形態に係る液晶装置は、前述した第１実施形態における遮光膜７３０に代えて遮光膜７３１を備える点で、前述した第１実施形態に係る液晶装置１と異なり、その他の点については、前述した第１実施形態に係る液晶装置１と概ね同様に構成されている。

図５において、遮光膜７３１は、防塵用基板４１０の透明基板１０ａに対向する面Ｓ４上に、画像表示領域ＤＡを取り囲むように設けられている。

遮光膜７３１は、当該遮光膜７３１の膜厚ｄ２が防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって段階的に（即ち、徐々に）小さくなるように、遮光層７３１ａ、７３１ｂ及び７３１ｃがこの順に積層された多層構造を有している。遮光層７３１ａ、７３１ｂ及び７３１ｃは、互いに同じ遮光性材料から形成されている。遮光層７３１ａ、７３１ｂ及び７３１ｃは、いずれも、例えば酸化クロムなど、反射防止膜７１０よりも高い反射率を有する遮光性材料から形成されている。

よって、遮光膜７３１の透過率は、防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に高くなっている。したがって、第１実施形態と概ね同様に、反射防止膜７１０によって反射された戻り光が遮光膜７３１を透過する光量を、防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に多くする（言い換えれば、画像表示領域ＤＡ側から防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側へ向かって徐々に少なくする）ことができる。これにより、遮光膜７３１の画像表示領域ＤＡ側の縁７３１ｆに沿って輝度ムラが生じることを低減或いは防止できる。

なお、本実施形態では、遮光膜７３１は、３つの遮光層が積層された３層構造を有する例を挙げたが、遮光膜７３１は、２つの遮光層或いは４つ以上の遮光層が積層された多層構造を有していてもよい。

＜第３実施形態＞
第３実施形態に係る液晶装置について、図６及び図７を参照して説明する。

図６は、第３実施形態に係る液晶装置の一部を示す、図４と同趣旨の断面図である。図７は、第３実施形態に係る液晶装置を光出射面側から見た場合の平面図である。尚、図６及び図７において、図１から図４に示した第１実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。

図６において、第３実施形態に係る液晶装置は、前述した第１実施形態における遮光膜７３０に代えて遮光膜７３２を備える点で、前述した第１実施形態に係る液晶装置１と異なり、その他の点については、前述した第１実施形態に係る液晶装置１と概ね同様に構成されている。

図６及び図７において、遮光膜７３２は、防塵用基板４１０の透明基板１０ａに対向する面Ｓ４上に、画像表示領域ＤＡを取り囲むように設けられている。遮光膜７３２は、例えば酸化クロムなど、反射防止膜７１０よりも高い反射率を有する遮光性材料から一定の膜厚ｄ３で形成されている。

本実施形態では特に、遮光膜７３２は、当該遮光膜７３２の膜密度が、防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に低くなるように形成されている。

より具体的には、遮光膜７３２は、複数の膜部分７３２ａ、７３２ｂ、７３２ｃ、７３２ｄ、７３２ｅ、７３２ｆ及び７３２ｇを有している。膜部分７３２ａは、画像表示領域ＤＡを取り囲むように枠状に形成されており、比較的低い膜密度を有している。膜部分７３２ｂは、膜部分７３２ａを取り囲むように枠状に形成されており、膜部分７３２ａよりも高い膜密度を有している。膜部分７３２ｃは、膜部分７３２ｂを取り囲むように枠状に形成されており、膜部分７３２ｂよりも高い膜密度を有している。膜部分７３２ｄは、膜部分７３２ｃを取り囲むように枠状に形成されており、膜部分７３２ｃよりも高い膜密度を有している。膜部分７３２ｅは、膜部分７３２ｄを取り囲むように枠状に形成されており、膜部分７３２ｄよりも高い膜密度を有している。膜部分７３２ｆは、膜部分７３２ｅを取り囲むように枠状に形成されており、膜部分７３２ｅよりも高い膜密度を有している。膜部分７３２ｇは、膜部分７３２ｆを取り囲むように枠状に形成されており、膜部分７３２ｆよりも高い膜密度を有している。よって、膜部分７３２ａは、比較的高い透過率を有している。膜部分７３２ｂは、膜部分７３２ａよりも高い透過率を有している。膜部分７３２ｃは、膜部分７３２ｂよりも高い透過率を有している。膜部分７３２ｄは、膜部分７３２ｃよりも高い透過率を有している。膜部分７３２ｅは、膜部分７３２ｄよりも高い透過率を有している。膜部分７３２ｆは、膜部分７３２ｅよりも高い透過率を有している。膜部分７３２ｇは、膜部分７３２ｆよりも高い透過率を有している。

よって、遮光膜７３２の透過率は、防塵用基板４１０の外周縁４１０ｆ側から画像表示領域ＤＡ側へ向かって徐々に高くなっている。したがって、遮光膜７３２の画像表示領域ＤＡ側の縁に沿って輝度ムラが生じることを確実に低減或いは防止できる。

１…液晶装置、１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…透明基板、２０…対向基板、５０…液晶層、４１０、４２０…防塵用基板、７１０…反射防止膜、７２０、７３０、７３１、７３２、７４０…遮光膜、ＤＡ…画像表示領域。

Claims (4)

1. 電気光学物質を挟持する一対の基板と、
   前記一対の基板のうち入射光が出射される側に配置された一方の基板の前記入射光が出射される側の面に設けられた防塵用基板と、
   前記一方の基板の前記電気光学物質に対向する面上に表示領域を取り囲むように設けられた反射防止膜と、
   前記防塵用基板の前記一方の基板に対向する面上に前記表示領域を取り囲むように設けられた遮光膜と
   を備え、
   前記反射防止膜の前記表示領域側の縁は、前記遮光膜の前記表示領域側の縁よりも前記表示領域に近く、
   前記遮光膜は、当該遮光膜の透過率が前記防塵用基板の外周縁側から前記表示領域側へ向かって徐々に高くなるように形成されている
   ことを特徴とする電気光学装置。
2. 前記遮光膜は、当該遮光膜の膜厚が前記外周縁側から前記表示領域側へ向かって徐々に小さくなるように形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
3. 前記遮光膜は、当該遮光膜の膜密度が前記外周縁側から前記表示領域側へ向かって徐々に低くなるように形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
4. 請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。