JP2012124305A - 半導体モジュール - Google Patents

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Abstract

【課題】半導体チップからの発熱による光電変換部の機能障害を防止できる半導体モジュールを提供する。
【解決手段】光電変換領域118が形成された第1の半導体チップ101と、第1の半導体チップ101上における光電変換領域118が形成されていない領域に設けられ、第1の半導体チップ101と電気的に接続された第2の半導体チップ102と、第1の半導体チップ101,第2の半導体チップ102を収容するとともに、少なくとも光電変換領域118と対向する領域が透光性材料で形成されたパッケージ103と、第2の半導体チップ102とパッケージ103を熱的に連結する熱伝導部材109と、を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体チップがパッケージに収容された半導体モジュールに関する。
従来、半導体モジュールの一例として、固体撮像素子である光半導体素子を、光半導体素子に形成された光電変換部を駆動する半導体素子とともにパッケージに収容したものがある(例えば、特許文献1)。
図8は、特許文献1に記載された半導体モジュールの構成を示す断面図である。
図8に示す半導体モジュールは、凹状のパッケージ92内に、半導体素子93,熱伝導性板体98,光半導体素子94が順に積層して搭載された構造である。これらの光半導体素子94および半導体素子93は、それぞれワイヤ95A,95Bにより、外部回路と接続するための導体91に電気的に接続されている。パッケージ92の上端には、透光性材料からなる光透過性蓋体96が接着剤97により固着されている。半導体モジュールに入射した光は光透過性蓋体96を透過し、光半導体素子94の光電変換部に入射される。
このように、光半導体素子94と半導体素子93を積層させた状態でパッケージ92に収容することで、実装面積の縮小を図ることができる。また、これらの半導体素子が一つのパッケージ92に収容されていることで、例えば、デジタルスチルカメラの製造メーカにおいて、半導体モジュールを組み込む際の作業負荷が軽減される。
特開2007−194441号公報
しかしながら、特許文献1の構成によると、光半導体素子94が熱伝導性板体98の上面に載置されているので、熱伝導性板体98が精度よく形成されていないために、光半導体素子94がパッケージ92の底部に対して水平でなく傾いてしまう恐れがある。ここで、デジタルスチルカメラ等に半導体モジュールを組み込む際には、パッケージ92を基準にデジタルスチルカメラのレンズの位置合わせが行われる。光半導体素子94とパッケージ92の底部とが水平でない場合、光半導体素子94がレンズの光軸に対して垂直でなくなり、光電変換部とレンズとの距離が焦点距離に一致しなくなる。その結果、画像が歪んだり、ボケたりするといった画質劣化の問題が生じる。
そこで、光半導体素子(以下、第1の半導体チップと記載する。)上に、光電変換部と
電気的に接続された半導体素子(以下、第2の半導体チップと記載する。)を配置する構成を採用することが考えられる。このとき、光透過性蓋体と第1の半導体チップの光電変換部が形成された領域との間の光路が、第2の半導体チップにより遮られることを抑制するため、第2の半導体チップを、第1の半導体チップ上における光電変換部が形成された領域の外に配置する必要がある。さらに、半導体モジュールの小型化を図るためには、第1の半導体チップ上における光電変換部が形成された領域に近接して第2の半導体チップを配置する必要がある。
しかしながら、上記のような構成を採った場合、第2の半導体チップからの発熱により、光電変換部に機能障害が発生する恐れがある。発熱による機能障害とは、例えば、以下のようなものがある。固体撮像素子においては、映像信号の黒レベルを一定にするために、暗電流によるノイズ成分を映像信号から差し引く必要がある。暗電流は光電変換部を構成する半導体の熱雑音に起因するものであり、第2の半導体チップからの発熱により光電変換部が形成された領域内で温度分布が生じた場合には、当該領域内での暗電流の発生量に差が出てしまうこととなる。暗電流によるノイズ成分は、光電変換部が形成された領域全体で一律に映像信号から差し引かれるため、当該領域内で暗電流の発生量に差があると、本来差し引かれるべき量のノイズ成分が差し引かれないこととなる。その結果、画質が劣化するという問題が発生する。
本発明は、上記した課題に鑑み、第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを配置する構成を採用した場合でも、第2の半導体チップからの発熱による光電変換部の機能障害を防止できる半導体モジュールを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明に係る半導体モジュールは、光電変換部が形成された第1の半導体チップと、前記第1の半導体チップ上における、前記光電変換部が形成されていない領域に設けられ、前記第1の半導体チップと電気的に接続された第2の半導体チップと、前記第1および第2の半導体チップを収容するとともに、少なくとも前記光電変換部と対向する領域が透光性材料で形成されたパッケージと、前記第2の半導体チップと前記パッケージを熱的に連結する熱伝導部材と、を備えることを特徴とする。
上記構成の半導体モジュールによれば、第2の半導体チップとパッケージを熱的に連結する熱伝導部材が設けられているため、第2の半導体チップからの発熱を、熱伝導部材を介してパッケージに放熱することが可能である。このような構成とすることで、第2の半導体チップで発生した熱が光電変換部側へ移動するのを抑制することができる。
したがって、第1の半導体チップ上に第2の半導体チップを配置する構成を採用した場合でも、第2の半導体チップからの発熱による光電変換部の機能障害を防止できる半導体モジュールを提供することができる。
前記熱伝導部材は非透光性を有し、上面視において、前記熱伝導部材が前記第2の半導体チップ全体を覆っていることとしてもよい。
さらに、上面視において、前記熱伝導部材における前記光電変換部と対向する領域に開口が設けられ、前記熱伝導部材の周縁部が当該周縁部の全周にわたって前記パッケージの内壁面と接していることとしてもよい。
第2の半導体チップにアナログの画像電気信号を扱う回路が含まれている場合、第2の半導体チップに特定波長域の光が照射されると、当該回路を構成する半導体で光電変換が行われることによる偽信号が発生する場合がある。しかしながら、上記の構成によれば、非透光性を有する熱伝導部材が第2の半導体チップ全体を覆うように設けられているため、偽信号が発生することを防止することができる。
また、前記熱伝導部材は金属材料からなることとしてもよい。
熱伝導部材として金属材料を用いることで、高い伝導性と非透光性を有する熱伝導部材を構成することができる。
さらに、前記熱伝導部材は、当該熱伝導部材の上面に反射防止処理が施されていることとしてもよい。
このようにすることで、熱伝導部材とパッケージの天井部との間に空間が存在する場合に、熱伝導部材の上面とパッケージの天井面の下面との間で入射光が反射されることにより、反射光が光電変換部に入射することを防止することが可能となる。
本発明に係る半導体モジュールは、光電変換部が形成された第1の半導体チップと、前記第1の半導体チップ上における前記光電変換部が形成されていない領域に設けられ、前記第1の半導体チップと電気的に接続された第2の半導体チップと、前記第1および第2の半導体チップを収容するとともに、少なくとも前記光電変換部と対向する領域が透光性材料で形成されたパッケージと、を備え、前記第2の半導体チップが前記パッケージに接するように設けられており、前記パッケージにおける前記第2の半導体チップと接する領域が、前記パッケージ内に含まれる気体よりも熱伝導率が高い材料で構成されていることとしてもよい。
上記構成の半導体モジュールによれば、第2の半導体チップがパッケージに接するように設けられているため、第2の半導体チップからの発熱をパッケージに放熱することが可能である。したがって、第2の半導体チップで発生した熱が光電変換部側へ移動するのを抑制することができる。
前記パッケージの天井部には、さらに、前記第2の半導体チップに対応する貫通孔が設けられ、前記貫通孔内に前記第2の半導体チップが挿通していることにより、前記貫通孔の内壁面が前記第2の半導体チップの側面と接していることとしてもよい。
さらに、前記パッケージの天井部の下面と前記第2の半導体チップの上面が接していることとしてもよい。
このような構成とすることで、半導体モジュールの薄型化を図ることが可能となる。
前記パッケージの天井部における第2の半導体チップと接する領域は、非透光性を有することとしてもよい。
上記の構成によれば、第2の半導体チップにアナログの画像電気信号を扱う回路が含まれている場合において、該回路を構成する半導体で光電変換が行われることによる偽信号が発生することを防止できる。
第1の実施形態に係る半導体モジュール100の全体構成を示す図である。 半導体チップに形成された回路の具体例を示すブロック図である。 熱伝導部材とパッケージとの接合方法の変形例を示す断面図である。 (a)第1の実施形態の変形例に係る半導体モジュール100Gの全体構成を示す断面図と、(b)同変形例に係る半導体モジュール100Hの全体構成を示す断面図である。 (a)第2の実施形態に係る半導体モジュール200の全体構成を示す断面図と、(b)第2の実施形態の変形例に係る半導体モジュール200Aの全体構成を示す断面図と、(c)同変形例に係る半導体モジュール200Bの全体構成を示す断面図である。 (a)第2の実施形態の変形例に係る半導体モジュール200Cの全体構成を示す断面図と、(b)同変形例に係る半導体モジュール200Dの全体構成を示す断面図である。 (a)第3の実施形態に係る半導体モジュール300の全体構成を示す断面図と、(b)第3の実施形態の変形例に係る半導体モジュール300Aの全体構成を示す断面図である。 従来の半導体モジュールの構成を示す模式断面図である。
以下、本発明を実施するための形態を、図面を参照しながら説明する。
[第1の実施形態]
第1の実施形態に係る半導体モジュール100の全体構成について、図1(a)〜(c)を用いて説明する。
図1(a)は、半導体モジュール100の全体構造を示す斜視図であり、図1(b)は図1(a)に示すA−A線矢視断面図(XZ断面図)、図1(c)は図1(b)に示すB−B線矢視断面図(XY断面図)である。
半導体モジュール100は、主な構成として、第1の半導体チップ101と、第2の半導体チップ102と、パッケージ103と、熱伝導部材109とを備えている。
〈パッケージ〉
パッケージ103は、内部に第1の半導体チップ101,第2の半導体チップ102を収容するとともに、光電変換部と対向する領域が透光性材料で形成されている。具体的には、図1(a),(b)に示すように、パッケージ103は、セラミック製の基板部105,同じくセラミック製の側壁部106,透光性材料で構成された透光性カバー104とからなる。側壁部106と透光性カバー104間の固着には、例えば、接着剤等を用いることができる。
透光性カバー104は平板状であり、透光性樹脂または透光性ガラス等で形成されている。この透光性カバー104が、パッケージ103により規定される開口112を塞ぐように、パッケージ103の側壁部106に接着剤等により固着されている。
図1(b),(c)に示すように、パッケージ103の内部には複数の電極パッド110が設けられている。また、基板部105には複数の外部リード線111が設けられており、外部リード線111の一部は基板部105内に埋設されるとともに、他の部分は基板部105の外部に突出している。この電極パッド110および外部リード線111は、それぞれ基板部105内に埋設された配線に接続されている。そして、基板部105の上面に第1の半導体チップ101が配置されており、さらに第1の半導体チップ101の上面に第2の半導体チップ102が配置されている。
〈第1の半導体チップ、第2の半導体チップ〉
(外観構成)
第1の半導体チップ101は、イメージセンサとして機能する。第1の半導体チップ101は、シリコン基板114と、シリコン基板114上に設けられたレンズ層115および複数の電極パッド116,117とを有している。シリコン基板114内の領域118には、入射光を受光し光電変換する光電変換部が行列状に複数形成されている。以下、この領域118を光電変換領域118と称する。レンズ層115は、光電変換領域118の光電変換部毎に設けられたマイクロレンズからなる層であり、半導体モジュール100内に入射した光を光電変換領域118に導くものである。分かり易くするため、図1(b)では、光電変換領域118およびレンズ層115の大きさを誇張して示している。なお、第1の半導体チップ101と基板部105は、例えば、金属ペースト等によりボンディングされている。
また、図1(b)に示すように、透光性カバー104を通過した光が第1の半導体チップ101の光電変換領域118に入射されるように、第1の半導体チップ101は、光電変換領域118と透光性カバー104とが対向するように配置されている。
図1(b)に示すように、電極パッド116は、それに対応するパッケージ103の電極パッド110にワイヤ119によりボンディングされている。
第2の半導体チップ102は、例えば、第1の半導体チップ101に形成された光電変換部を駆動する駆動回路、および第1の半導体チップ101からのアナログの画像電気信号をデジタル信号に変換するAFE(アナログフロントエンド)回路等を含んだ集積回路のチップである。この第2の半導体チップ102の下端には複数のバンプ121が配設されており、このバンプ121を介して、対応する第1の半導体チップ101の電極パッド117と第2の半導体チップ102とが接続されるようにフリップチップボンディングされている。第2の半導体チップ102とシリコン基板114との隙間には、第2の半導体チップ102の集積回路を封止するアンダーフィル材122が充填されている。アンダーフィル材122は接着力強化剤として用いられており、その材料としては、例えば、液状エポキシ樹脂、樹脂シート、ACF等を用いることができる。
(回路構成)
図2は、半導体チップ101,102に形成された回路の構成の具体例を示す模式ブロック図である。
第1の半導体チップ101は、行列状に配置された複数の光電変換部123と、光電変換部123の列毎に対応して設けられた垂直転送部124と、水平転送部125と、出力回路部126とを備えている。
各光電変換部123は、入射光を光電変換して信号電荷を生成する。垂直転送部124は、各光電変換部123で生成された信号電荷を読み出し、列方向の水平転送部125側に転送する。水平転送部125は、転送されてきた信号電荷を行方向の出力回路部126側に転送する。出力回路部126は、転送されてきた信号電荷を電気信号へ変換して第2の半導体チップ102に出力する。
第2の半導体チップ102の集積回路は、駆動回路127と、AFE回路128と、TG(タイミングジェネレータ)129とで構成されている。
駆動回路127は、第1の半導体チップ101に形成された光電変換部123を駆動するため、TG129で生成されるタイミング信号に基づいて駆動パルスを生成し、生成した駆動パルスを第1の半導体チップ101に出力する。なお、ここでの「第1の半導体チップ101に形成された光電変換部123を駆動する」とは、光電変換部123で生成された信号電荷の読み出しから、読み出した信号電荷を垂直転送、水平転送して、出力回路部126で出力するまでの一連の動作が行われるよう駆動することを意味している。したがって、駆動回路127において生成する駆動パルスには、垂直転送部124、水平転送部125および出力回路部126のそれぞれを駆動する駆動パルスが含まれている。
AFE回路128は、TG129で生成されるタイミング信号に基づいて、出力回路部126から出力されたアナログの画像電気信号を、相関二重サンプリング(CDS:Correlated Double Sampling)、自動利得調整(AGC:Auto Gain Control)した後、デジタル信号に変換(ADC:Analog Digital Converter)する。
〈熱伝導部材〉
図1(b)、(c)に示すように、パッケージ103内における光電変換領域118と対向する領域を除く領域には、第2の半導体チップ102とパッケージ103の双方とを熱的に連結する熱伝導部材109が設けられている。熱伝導部材109は、第2の半導体チップ102からの発熱を、パッケージ103へ逃がす機能を果たす。
熱伝導部材109は、パッケージ103内に含まれる気体よりも熱伝導率が高い材料で構成され、このような材料としては、例えば、アルミニウム,銅,ステンレス等の金属材料、エポキシ樹脂,アクリル樹脂,シリコーン樹脂等の熱伝導性の高い樹脂材料、これらの樹脂材料を布状に形成した熱伝導性シート等が挙げられる。また、熱伝導部材109に上記の樹脂材料を用いる場合には、酸化亜鉛,酸化チタン,銀,カーボン,セラミックス等の熱伝導性のフィラーが混合されていることが望ましい。
上記では、熱伝導部材109がパッケージ103内に含まれる気体よりも熱伝導率が高い材料で構成されているとしたが、より好ましくは、第1の半導体チップ101よりも熱伝導率が高い材料で構成されている方が良い。熱伝導部材109が第1の半導体チップ101よりも熱伝導率が高い材料で構成されている場合には、第2の半導体チップ102の放熱は、第1の半導体チップ101を介してパッケージ103に至る経路よりも、熱伝導部材109を介してパッケージ103に至る経路による方が支配的になる。したがって、第1の半導体チップ101への熱の移動が減少し、第1の半導体チップ101はより安定した動作を行うことができる。
第2の半導体チップ102とパッケージ103とを熱的に連結する熱伝導部材109が設けられていることで、第2の半導体チップ102からの発熱をパッケージ103側へ効率的に放熱することが可能となる。このような構成とすることで、上述したような第2の半導体チップ102からの発熱による光電変換領域118の機能障害を防止することができる。
半導体モジュール100の小型化に鑑みると、光電変換領域118と第2の半導体チップ102間の距離は短いほうが望ましい。この場合、光電変換領域118は第2の半導体チップ102からの熱の影響をより受けやすくなるため、第2の半導体チップ102の発熱をパッケージ103側へ放熱させることがより重要となる。
さらに、第2の半導体チップ102からの発熱が熱伝導部材109を介してパッケージ103側へ放熱されることにより、第2の半導体チップ102の温度が、自身の動作保証温度を超えるのを抑制することができる。したがって、第2の半導体チップ102はより安定した動作を行うことが可能となる。
図1(b)に示すように、熱伝導部材109は、その端部が側壁部106に設けられた段差107に載置されることにより、パッケージ103と熱的に接続される。このようにすることで、熱伝導部材109の位置合わせを容易に行うことができる。段差107と熱伝導部材109との密着性をより向上させるために、両者を接着剤で固着することもできる。
また、熱伝導部材109を平板状としているため、第2の半導体チップ102の上面の高さと段差107の上面の高さが異なっている場合であっても、熱伝導部材109が撓むことによって、第2の半導体チップ102と段差107の間を確実に接続することができる。
さらに、図1(b)に示す半導体モジュール100のように、熱伝導部材109と透光性カバー104との間に空間が存在する場合には、熱伝導部材109の上面に反射防止処理をしておくことが望ましい。このようにすることで、透光性カバー104の下面と熱伝導部材109の上面との間で入射光が反射されることにより、反射光が光電変換領域118に入射することを防止することができる。熱伝導部材109の上面に施す反射防止処理としては、例えば、クロムメッキ処理、表面を粗くする、つや消し処理、反射防止用薄膜コーティング処理等が挙げられる。
〈まとめ〉
上記構成の半導体モジュール100では、第2の半導体チップ102とパッケージ103を熱的に連結する熱伝導部材109が設けられている。このような構成により、第2の半導体チップ102からの発熱による光電変換領域118の機能障害を防止し、その結果、画質の劣化を抑制することができる。さらに、第2の半導体チップ102からの発熱をパッケージ103へ逃がすことで、第2の半導体チップ102がその動作保証温度を超えることを抑制することができる。
さらに、第2の半導体チップ102が、第1の半導体チップ101上に配置されているので、両チップが重なっている分、第2の半導体チップ102と第1の半導体チップ101とが横に並べて配置された場合に比べて、パッケージ103を小型化することができる。その結果、半導体モジュール自体を小型化することができる。
また、このようにイメージセンサである第1の半導体チップ101と駆動回路127およびAFE回路128が形成された第2の半導体チップ102とを、パッケージ103内に収容したので、例えばデジタルスチルカメラに半導体モジュール100を組み込む際、別途、駆動回路127およびAFE回路128が形成された半導体チップを組み込む必要がなくなり、その分、デジタルスチルカメラの組み込み作業負荷を軽減することができる。
本実施形態では、第1の半導体チップ101が高い精度で形成される基板部105上に載置されているため、第1の半導体チップ101とパッケージ103とを精度よく平行に配置することができる。したがって、デジタルスチルカメラ等に半導体モジュール100を組み込む際、光電変換領域118をデジタルスチルカメラ等のレンズの光軸に対して垂直に精度よく配置することができる。結果として、光電変換領域118とレンズとの距離が焦点距離に一致しなくなることによる画像の歪み、ボケ等による画質の劣化を抑制することができる。なお、ここでの「平行」とは、完全に平行であるものだけでなく、平行となるように設計されたものであり、製造誤差等により設計値からずれたものも含んでいる。
また、図8に示す構成によれば、光半導体素子94から出力された信号は、2本のワイヤ95A,95Bを経由して半導体素子93に伝送されるので、出力信号の高速な伝送を行うことができないといった問題もある。
一方、本実施形態では、第1の半導体チップ101の出力回路部126からの出力信号を、電極パッド117からバンプ121を介して直接的に第2の半導体チップ102に伝送することができる。したがって、出力信号の高速な伝送を実現できる。
[第1の実施形態の変形例]
次に、第1の実施形態の変形例について説明する。以下、第1の実施形態と同一の構成については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
図3は、熱伝導部材とパッケージとの接合方法の変形例を示すXZ断面図である。
図3(a)では、熱伝導部材109Aの端部が折り曲げられ、この折り曲げられた部分が接着剤等により側壁部106と固着されている。図3(b)では、側壁部106にスリット108が設けられており、このスリット108に熱伝導部材109Bの端部が嵌合されている。図3(a),(b)においては、側壁部に熱伝導部材を載置するための段差を設けない分、図1に示す半導体モジュール100と比較して、側壁部のX方向の厚みを薄くすることができる。
図3(c)においては、熱伝導部材109Cを二度折り曲げることにより、熱伝導部材109Cが側壁部106および基板部105の両方に接するようにしている。この場合、側壁部106および基板部105が、熱伝導部材109Cを設ける際のガイドとして機能するため、熱伝導部材109Cの位置合わせを容易に行うことができる。さらに、熱伝導部材109Cが、側壁部106および基板部105の両方に接するようにすることで、熱伝導部材109Cとパッケージとの接触面積が増え、より効率的に第2の半導体チップからの発熱をパッケージ側へ放熱することができる。熱伝導部材は必ずしも側壁部と基板部の両方に接している必要はなく、図3(d)に示すように、熱伝導部材109Dが基板部105のみに接していることとしてもよい。図3(c),(d)のような接合方法においても、図3(a),(b)と同様に、図1に示す半導体モジュール100と比較して、側壁部のX方向の厚みを薄くすることができる。
図1および図3(a)〜(d)においては、熱伝導部材が板状である場合を例示したが、熱伝導部材の形状はこれに限定されない。図3(e)に示すように、上述したような熱伝導性に優れる樹脂材料を、第2の半導体チップ,側壁部106,基板部105に接するように充填することにより、熱伝導部材109Eを形成することとしてもよい。また、図3(f)に示すように、熱伝導部材109Fは光電変換領域に達しない範囲で、光電変換領域側へ延設することとしてもよい。このようにすることで、第2の半導体チップからの放熱が光電変換領域側へ流入するのをより抑制することができる。図3(e),(f)のいずれの接合方法も、樹脂材料をパッケージ内に流し込むことで簡易に形成することができるという利点がある。
図4は、第1の実施形態の変形例に係る半導体モジュールの全体構成を示すXY断面図である。なお、図4では、透光性カバーを取り除いた状態の断面図を示している。
図4(a)に示す半導体モジュール100Gにおいては、熱伝導部材109Gが第2の半導体チップ102全体を覆うように、すなわち、半導体モジュール100Gを上面視した場合に、熱伝導部材109Gと第2の半導体チップ102全体が重なるように設けられている。また、図4(b)に示す半導体モジュール100Hにおいては、熱伝導部材109Hの周縁部が当該周縁部の全周にわたってパッケージの側壁部106の内壁面と接するように、熱伝導部材109Hが設けられている。なお、熱伝導部材109Hにおける光電変換領域118と対向する領域には開口が設けられ、光電変換領域118への光の入射が妨げられないような構成となっている。図4(a),(b)に示すような構成とすることで、熱伝導部材とパッケージの側壁部との接触面積が増え、より効率的に第2の半導体チップからの熱をパッケージ側へ放熱させることが可能である。
図4各図において、熱伝導部材とパッケージとの接合方法として、図1のように側壁部に段差(図4(a)においては段差107G、図4(b)においては段差107H)を設け、その段差107G(もしくは段差107H)に熱伝導部材の端部を載置する方法を図示しているが、この方法に限定されず、図3各図に示す接合方法を適宜採用することができる。
また、図4に示す熱伝導部材109G,109Hは、さらに、非透光性を有する材料から構成されている。このような構成とすることで、第2の半導体チップ102に含まれるAFE回路128(図2)に光が入射されることによる誤動作を防止することができる。
具体的に説明すると、AFE回路128のうち、アナログの画像電気信号を扱う回路を構成する半導体に特定波長域(例えば、可視光波長380〜780[nm])の光が照射されると、当該半導体で光電変換が行われることによる偽信号が発生する場合がある。このような偽信号がアナログの画像電気信号に足し合わされると、AFE回路128が誤動作するおそれが生じる。また、このような偽信号の発生は、画質の劣化にもつながる。
しかしながら、本変形例においては、熱伝導部材109G,109Hが非透光性を有する材料で構成されているため、上記のような誤動作ならびに画質劣化の問題が招来しない。図4(a)に示すように、最低限、熱伝導部材109Gが第2の半導体チップ102全体を覆うように設けられていれば、上記の効果を得ることができる。さらに、図4(b)に示すように、光電変換領域118を除く領域全体を熱伝導部材109Hが覆うことにより、より確実に第2の半導体チップ102を遮光することが可能となる。
なお、図4(b)においては透光性カバーの図示を省略しているが、この場合の透光性カバーの形状としては、図1に示す半導体モジュール100のように、側壁部106の全体を塞ぐ形状とすることもできるし、光電変換領域118と対向する領域に設けられた開口のみを塞ぐ形状とすることもできる。
[第2の実施形態]
次に、図5を用いて第2の実施形態について説明する。以下、第1の実施形態と同一の構成については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
図5(a)は、本実施形態に係る半導体モジュール200の全体構成を示す断面図である。図1に示す半導体モジュール100との相違点は、第2の半導体チップ202がパッケージ203に直接的に接するように設けられている、より詳しくは、パッケージ203における天井部209の下面230と第2の半導体チップ202の上面が接している点である。さらに、パッケージ203における第2の半導体チップ202と接する天井部209が、パッケージ203内に含まれる気体よりも熱伝導率が高い材料で構成されており、この天井部209が熱伝導部材として機能する。以下、熱伝導部材として機能する天井部を、熱伝導部材209と称する。また、熱伝導部材209における光電変換領域218と対向する領域には開口212が形成されており、この開口212を塞ぐように透光性カバー204が設けられている。熱伝導部材209と透光性カバー204とは、接着剤213により固着されており、第2の半導体チップ202と熱伝導部材209との間も同様に接着剤等により固着されている。なお、パッケージ203を構成する側壁部206,基板部205は、第1の実施形態と同様にセラミック製である。
半導体モジュール200の構成によれば、図1(b)に示す半導体モジュール100と比較して、熱伝導部材109と透光性カバー104との間隙に相当する厚み分、半導体モジュール200を薄型化することが可能となる。また、第2の半導体チップ202が直接的にパッケージ203に接しているため、効率的に第2の半導体チップ202からの熱をパッケージ203側へ放熱できる。さらに、熱伝導部材209がパッケージ203を構成しているため、第2の半導体チップ202からの熱を、パッケージ203外の空気中へ効率的に放熱させることが可能である。
図5(b)は、第2の実施形態の変形例に係る半導体モジュール200Aの全体構成を示す断面図である。半導体モジュール200と相違する点は、側壁部206Aが熱伝導部材209と同一材料で形成されている点である。このような構成によれば、半導体モジュール200と同様に、半導体モジュール200Aを薄型化することが可能となる他、熱伝導性の高い材料を側壁部206Aにも適用されていることで、第2の半導体チップ202からの熱を、パッケージ外の空気中へより効率的に放熱させることが可能である。
さらに、図5(a),(b)に示す熱伝導部材209は、さらに、非透光性を有する材料から構成されている。このような構成とすることで、第2の半導体チップ202に含まれるAFE回路に光が入射されることによる誤動作を防止することができる。なお、このような効果を得るためには、熱伝導部材の下面における少なくとも第2の半導体チップの上面と接する領域が非透光性を有していれば良く、熱伝導部材全体が非透光性を有している必要はない。
図5(c)は、第2の実施形態の変形例に係る半導体モジュール200Bの全体構成を示す断面図である。半導体モジュール200,200Aと相違する点は、パッケージの天井部を構成する熱伝導部材209Bに第2の半導体チップ202に対応する貫通孔が設けられ、この貫通孔内に第2の半導体チップ202が挿通されている点である。この結果、熱伝導部材209Bに設けられた貫通孔の内壁面と、第2の半導体チップ202の側面と接することとなる。このような構成とすることで、熱伝導部材209Bの厚み分、半導体モジュール200Bを薄型化することが可能である。また、熱伝導部材209Bに設けられた貫通孔の内壁面と第2の半導体チップ202の側面の間に間隙が存在する場合には、この間隙をグリス、接着剤等で埋めることにより、熱伝導部材209Bと第2の半導体チップ202間の密着性が向上し、より効率的に放熱を行うことができる。
半導体モジュール200Bは、第2の半導体チップ202の上面が熱伝導部材209Bから露出した構成である。したがって、第2の半導体チップ202が、AFE回路のようなアナログの画像信号を扱う回路を包含しない場合に有効である。
また、特に図示しないが、半導体モジュール200Aと同様に、側壁部206Bを熱伝導部材209Bと同一材料で形成することもできる。
なお、図5(a)に示す半導体モジュール200の構成の場合、第1の半導体チップ201と透光性カバー204とを精度よく平行に配置するためには、第2の半導体チップ202の上面の高さを、2基の第2の半導体チップ間で等しくすることが必要である。2基の第2の半導体チップ間で上面の高さが異なる場合は、第2の半導体チップ202と熱伝導部材209との固着に用いる接着剤等の量を調節することにより、第2の半導体チップ間で上面の高さを等しくすることができる。図5(b),(c)における半導体モジュール200A,200Bに対しても、同様の処理を適用することができる。
図6(a)は、第2の実施形態の変形例に係る半導体モジュール200Cの全体構成を示す断面図である。半導体モジュール200Cは、図5(c)に示す半導体モジュール200Bに対する変形例である。半導体モジュール200Bと異なる部分は、透光性カバー204Cが熱伝導部材209Cに嵌め込まれている点である。このような構成にすることで、さらなる半導体モジュールの薄型化を図ることができる。さらに、図6(b)に示す半導体モジュール200Dのように、側壁部206Dを熱伝導部材209Dと同一材料で形成することもできる。
図6(a),(b)において、熱伝導部材に透光性カバーを嵌め込む際、(X)部に示すように熱伝導部材をテーパ状にしておくことにより、容易に透光性カバーを嵌め込むことが可能となる。
図5(c)に示す半導体モジュール200Bと同様に、半導体モジュール200C,200Dは、第2の半導体チップの上面が熱伝導部材から露出した構成である。したがって、半導体モジュール200C,200Dは、第2の半導体チップがAFE回路のようなアナログの画像信号を扱う回路を包含しない場合に適用可能な変形例である。
[第3の実施形態]
次に、図7を用いて第3の実施形態について説明する。以下、第1,第2の実施形態と同一の構成については説明を省略し、相違点を中心に説明する。
図7(a)は、本実施形態に係る半導体モジュール300の全体構成を示す断面図である。図5(a)に示す半導体モジュール200との相違点は、パッケージの天井部が透光性を有する一枚の板状材料で構成されている結果、熱伝導部材として機能する部分309および透光性カバーとして機能する部分304が同一材料で構成されている点である。以下、熱伝導部材として機能する部分を熱伝導部309、透光性カバーとして機能する部分を透光性カバー部304と称する。
熱伝導部309および透光性カバー部304の基部となる透光性部材332は、第1,第2の実施形態における透光性カバーと同様の透光性材料で構成されている。透光性部材332の上面に、非透光性を有する材料で構成された遮光シート331が貼付された部分が熱伝導部309となる。光電変換領域318と対向する領域における透光性部材332には遮光シート331が貼付されておらず、この遮光シート331が貼付されていない部分が透光性カバー部304となる。
第2の半導体チップ302からの発熱は、透光性部材332を介してパッケージ全体に放熱される。また、半導体モジュール300を上面視した場合に、第2の半導体チップ302と重なるように遮光シート331が貼付されているため、第2の半導体チップ302に光が入射することはなく、その結果、第2の半導体チップ302に含まれるAFE回路が誤動作することを防止できる。
また、第2の実施形態に係る半導体モジュール200の場合と同様に、図1(b)に示す半導体モジュール100と比較して、熱伝導部材109と透光性カバー104との間隙に相当する厚み分、半導体モジュール300を薄型化することが可能となる。
図7(b)は、第3の実施形態の変形例に係る半導体モジュール300Aの全体構成を示す断面図である。図7(a)に示す半導体モジュール300と相違する点は、透光性部材332の下面に遮光シート331Aが貼付されることにより、熱伝導部309Aと透光性カバー部304Aが形成されている点である。このような構成によっても、図7(a)に示す半導体モジュール300と同様の効果を得ることができる。また、本変形例に係る遮光シート331Aは、非透光性に加え、高い熱伝導率を有する材料で構成することが望ましい。このようにすることによって、熱伝導率の高い遮光シート331Aを介して、第2の半導体チップ302Aと透光性部材332が熱的に接続されるので、より効率的な放熱を期待することができる。
以上、第1乃至第3の実施形態および変形例について説明したが、本発明はこれらの例に限られない。例えば、下記のような変形例が考えられる。以下、主に第1の実施形態を例に挙げて説明するが、他の実施形態ならびに変形例でも同様に適用できることは言うまでもない。
[その他の変形例]
(1)熱伝導部材109のZ方向の厚みは、透光性カバー104と第2の半導体チップ102との距離に合わせて適宜調整することが可能であり、とくに限定するものではない。しかしながら、可能な限り厚い方が、熱伝導部材109とパッケージ103との接触面積を増やすことができ、より効率的に第2の半導体チップ102からの発熱をパッケージ103へ放熱することが可能である。
(2)第1の実施形態および変形例では、熱伝導部材109がパッケージ103の側壁部106または基板部105と接する例を説明したが、本発明はこれに限られず、熱伝導部材109がパッケージ103の透光性カバー104と接するように設けられることとしてもよい。
(3)図1においては、側壁部106の熱伝導部材109が載置される部分にのみ、段差107が設けられていることとしたが、Y方向に延びる側壁部106全体に段差が設けられていることとしてもよい。
(4)図1に示す半導体モジュール100では、基板部105が側壁部106と同一材料で形成されることとしていたが、これらを別材料で形成することとしてもよい。基板部105と側壁部106を同一材料で形成した場合には、これらの部分を別々に製造する必要がないので、製造工程を簡略化できるといった効果がある。一方、別材料で形成する場合には、各部分に最も適した材料を使用することが可能となる。後者の場合、基板部105と側壁部106間の固着には、例えば、接着剤等を用いることができる。
(5)上記実施形態では、第1の半導体チップ上に配置されている第2の半導体チップの個数が2基である例を説明したが、第2の半導体チップの個数はこれに限定されず、第2の半導体チップの個数は1基、または3基以上であってもよい。第2の半導体チップを3基以上載置する場合は、各第2の半導体チップとパッケージに接するように熱伝導部材を設けることで、上記の実施形態等と同様の効果を得ることが可能である。また、第2の半導体チップの個数を1基とする場合には、その分、第1の半導体チップに形成される光電変換領域の面積を拡張することができる。光電変換領域の面積を拡張しない場合には、半導体モジュールのX軸方向の大きさを縮小することが可能である。
(6)第2の半導体チップの形状が矩形であるとして説明したが、形状は特に限定されるものではない。さらに、第2の半導体チップの第1の半導体チップへの接続は、例えば金で形成されたバンプによるフリップチップボンディングに限定されず、半田接合等、他の接合方法を採用することも可能である。
(7)上記実施形態では、イメージセンサを備えた半導体モジュールを用いて説明したが、これに限定するものではない。例えば、イメージセンサ以外の光ピックアップ等の受光素子や、LED素子や半導体レーザ素子等の発光素子を備える半導体モジュールにおいても、本発明の構成を適用することができる。発光素子を備える半導体モジュールを例に具体的に説明すると、発光素子が形成されている半導体チップが第1の半導体チップに、発光素子を駆動する駆動回路が形成された半導体チップが第2の半導体チップに、それぞれ相当する。
(8)第1の実施形態では、第2の半導体チップに形成された集積回路に、駆動回路、AFE回路およびTGが含まれる構成を示したが、これに限定するものではない。例えば、半導体チップに駆動回路のみが形成された構成としてもよく、またはAFE回路のみが形成された構成とすることができる。また、逆に、上記以外の回路を含めることもできる。
(9)図4,図5(a)、(b)においては、第2の半導体チップにAFE回路が含まれていることを前提として説明した。第2の半導体チップにAFE回路のようなアナログの画像信号を扱う回路が含まれていない場合には、熱伝導部材に非透光性を持たせる必要はない。
(10)上記実施形態等では、パッケージの側壁部をセラミック製とする構成を示したが、これ以外でも、例えば、樹脂等によって形成することとしてもよい。
(11)上記実施形態等では、第1の半導体チップが基板部にワイヤボンディングされた構成を示したが、これに限定されず、例えば、フリップチップボンディング、半田接合等の接合方法を採用することもできる。
(12)上記実施形態等では、外部リード線をパッケージの側面に配置する例を示したが、これに限定されず、例えば、基板部の裏面にペリフェラル又はエリアに配置することも可能である。また、外部リード線の形状は特に限定されるものではない。
(13)本発明は上述の実施形態および変形例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で上記実施形態等に対して当業者が思いつく範囲内の変更を施した様々な構成がとり得る。
本発明は、例えば、小型化が要求される光学半導体モジュールに好適に利用可能である。
100、100A、100B、100C、100D、100E、100F、100G、100H、200、200A、200B、200C、200D、300、300A 半導体モジュール
101、201 第1の半導体チップ
102、102A、102G、102H、202、302 第2の半導体チップ
103、203、203A、 パッケージ基体
104、204、204A、 透光性カバー
105、205 基板部
106、206、206A、206B、206D 側壁部
107、107G、107H 側壁部の段差
108 スリット
109、109A、109B、109C、109D、109E、109F、109G、109H、209、209B、209C、209D 熱伝導部材
110 電極パッド
111 外部リード線
112、212、 開口
114 シリコン基板
115 レンズ層
116、117 電極パッド
118、218、318 光電変換領域
119 ワイヤ
121 バンプ
122 アンダーフィル材
123 光電変換部
124 垂直転送部
125 水平転送部
126 出力回路部
127 駆動回路
128 AFE回路
129 TG
213 接着剤
230 天井部の下面
309、309A 熱伝導部
304、304A 透光性カバー部
331、331A 遮光シート
332 透光性部材
91 導体
92 パッケージ
92A パッケージの凹部
93 半導体素子
94 光半導体素子
95A、95B ワイヤ
96 光透過性蓋体
97 接着剤
98 熱伝導性板体

Claims (9)

  1. 光電変換部が形成された第1の半導体チップと、
    前記第1の半導体チップ上における、前記光電変換部が形成されていない領域に設けられ、前記第1の半導体チップと電気的に接続された第2の半導体チップと、
    前記第1および第2の半導体チップを収容するとともに、少なくとも前記光電変換部と対向する領域が透光性材料で形成されたパッケージと、
    前記第2の半導体チップと前記パッケージを熱的に連結する熱伝導部材と、を備える
    ことを特徴とする半導体モジュール。
  2. 前記熱伝導部材は非透光性を有し、
    上面視において、前記熱伝導部材が前記第2の半導体チップ全体を覆っている
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体モジュール。
  3. 上面視において、前記熱伝導部材における前記光電変換部と対向する領域に開口が設けられ、前記熱伝導部材の周縁部が当該周縁部の全周にわたって前記パッケージの内壁面と接している
    ことを特徴とする請求項2に記載の半導体モジュール。
  4. 前記熱伝導部材は金属材料からなる
    ことを特徴とする請求項2に記載の半導体モジュール。
  5. 前記熱伝導部材は、当該熱伝導部材の上面に反射防止処理が施されている
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体モジュール。
  6. 光電変換部が形成された第1の半導体チップと、
    前記第1の半導体チップ上における、前記光電変換部が形成されていない領域に設けられ、前記第1の半導体チップと電気的に接続された第2の半導体チップと、
    前記第1および第2の半導体チップを収容するとともに、少なくとも前記光電変換部と対向する領域が透光性材料で形成されたパッケージと、を備え、
    前記第2の半導体チップが前記パッケージに接するように設けられている
    ことを特徴とする半導体モジュール。
  7. 前記パッケージの天井部には、さらに、前記第2の半導体チップに対応する貫通孔が設けられ、
    前記貫通孔内に前記第2の半導体チップが挿通していることにより、前記貫通孔の内壁面が前記第2の半導体チップの側面と接している
    ことを特徴とする請求項6に記載の半導体モジュール。
  8. 前記パッケージの天井部の下面と前記第2の半導体チップの上面が接している
    ことを特徴とする請求項6に記載の半導体モジュール。
  9. 前記パッケージの天井部における第2の半導体チップと接する領域は、非透光性を有する
    ことを特徴とする請求項8に記載の半導体モジュール。
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