JP2012118117A - 表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表示素子基板50の光出射側Fに偏光層55を形成する。偏光層55上に、位相差層57の材料となる液晶組成物の液晶性成分を配向方向に配列させる機能をもつ配向膜を形成する。配向膜上に、重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し液晶相を示す温度に保持して、液晶性成分を遅相軸71aの方向に応じた配向方向に配列させる。液晶性成分をなす重合性液晶化合物を、配向方向を保持しながら重合させて位相差層57を形成する。
【選択図】図3
Description
))。
主面に沿って配列された複数の画素を有する表示素子基板と、上記表示素子基板の光出射側に配置され、上記主面に沿った特定方向の透過軸をもつ偏光層と、上記偏光層の光出射側に配置され、上記主面に沿って上記透過軸に対して交差する遅相軸をもつ位相差層とを備えた表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、
次の工程(1)乃至(4)を含むことを特徴とする。
(1)上記表示素子基板の上記光出射側に、上記主面に沿って上記偏光層を形成する工程
(2)上記工程(1)で形成された上記偏光層上に、上記位相差層の材料となる液晶組成物の液晶性成分を上記遅相軸の方向に応じた配向方向に配列させる機能をもつ配向膜を形成する工程
(3)上記工程(2)で形成された上記配向膜上に、上記重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を上記液晶組成物の液晶性成分が液晶相を示す温度に保持して、上記液晶性成分を上記遅相軸の方向に応じた配向方向に配列させる工程
(4)上記工程(3)で形成された上記液晶性成分をなす重合性液晶化合物を、上記配向方向を保持しながら重合させることにより、上記位相差層を形成する工程
Re(λ)=d×Δn(λ) …(X)
(式中、Re(λ)は、波長λ(nm)における位相差値を表し、dは膜厚を表し、Δn(λ)は波長λ(nm)における複屈折率を表す。)
〔光配向性ポリマーの製造〕
式(A)で示される光配向性ポリマーを、Macromol. Chem. Phys. 197,1919-1935 (1996)に記載される方法で製造し、数平均分子量23000の重合体を得た。
表1に記載される成分を混合して、液晶組成物(符号Eで表す。)を調整した。
重合性開始剤:イルガキュア369(BASFジャパン社製)
レベリング剤:BYK361N(ビックケミージャパン製)
溶剤:PGMEA(プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセタート、東京化成工業(株)製)
ガラス基板上に、偏光板(ヨウ素系偏光板;TRW842AP7;住友化学(株)製)を粘着剤を用いて貼合して偏光層55を形成した。上記偏光層55上に式(A)で示される光配向性ポリマーの1質量%シクロペンタノン溶液を塗布し、乾燥して、厚さ200nmの膜を形成した。次いで、得られた膜上に、ガラス基板面に対して垂直方向から、偏光UV照射冶具付きスポットキュア(SP−7、ウシオ電機(株)製)を用いて20mW/cm2の強度で5分間、偏光層55の透過軸70aに対して45度の方向の直線偏光を照射することにより配向膜56を形成した。上記配向膜56上に、液晶組成物Eをバーコーターを用いて塗布し、100℃に加熱し、液晶相に配向させた膜を得た。その後、室温まで冷却した状態で紫外線をユニキュア(VB−15201BY−A、ウシオ電機(株)製)を用いて波長365nmにおいて40mW/cm2の強度で1分間照射することにより、位相差層57を作製した。次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層57の上に貼合することで、ガラス基板、偏光層55、配向膜56、位相差層57及び反射防止層58が積層された積層体を得た。
〔位相差層の作製〕
実施例1と同様にして、ガラス基板上に偏光層55を形成した。
上記で得られた積層体について、位相差層57の位相差値(nm)と配向角の測定とを、測定機(KOBRA−WPR、王子計測機器社製)で測定した。位相差層57中の液晶性成分の配向角と波長549nmにおける位相差値(リタデーション値)Re(nm)の測定結果を表2に示す。表2中の配向角は、偏光層55の透過軸70aの方向を0度としているため、配向角が略45度を示す。位相差値Re(nm)がλ/4(即ち135nm)に近いほど、偏光層55と位相差層57とを通過する自然光が、より円偏光に近い光に変換される。
〔液晶表示装置の作製〕
液晶表示素子が形成された表示素子基板54(図2参照)の光出射側に、粘着剤を用いて偏光板を貼合して偏光層55を形成する。続いて、得られた偏光層55上に、実施例1と同様の方法で配向膜56を形成する。上記配向膜56上に、液晶組成物Eをスリットコーターを用いて位相差値が135nmとなるような膜厚に塗布し、100℃に加熱することで、液晶相に配向させた膜を得る。その後、室温まで冷却した状態で実施例1と同様の条件で紫外線を照射し、位相差層57を形成する。次いで、反射防止フィルム(大日本印刷(株)製)を位相差層57の上に貼合することで、液晶表示素子基板54、偏光層55、配向膜56、位相差層57及び反射防止層58が積層された液晶表示装置51Bを得る。
52 バックライト
53 偏光板
54 表示素子基板
55 偏光層
56 配向膜
57 位相差層
58 反射防止層
70a 透過軸
71a 遅相軸
Claims (3)
- 主面に沿って配列された複数の画素を有する表示素子基板と、上記表示素子基板の光出射側に配置され、上記主面に沿った特定方向の透過軸をもつ偏光層と、上記偏光層の光出射側に配置され、上記主面に沿って上記透過軸に対して交差する遅相軸をもつ位相差層とを備えた表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、
次の工程(1)乃至(4)を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
(1)上記表示素子基板の上記光出射側に、上記主面に沿って上記偏光層を形成する工程
(2)上記工程(1)で形成された上記偏光層上に、上記位相差層の材料となる液晶組成物の液晶性成分を上記遅相軸の方向に応じた配向方向に配列させる機能をもつ配向膜を形成する工程
(3)上記工程(2)で形成された上記配向膜上に、上記重合性液晶化合物を含む液晶組成物を塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜を上記液晶組成物の液晶性成分が液晶相を示す温度に保持して、上記液晶性成分を上記遅相軸の方向に応じた配向方向に配列させる工程
(4)上記工程(3)で形成された上記液晶性成分をなす重合性液晶化合物を、上記配向方向を保持しながら重合させることにより、上記位相差層を形成する工程 - 請求項1に記載の表示装置の製造方法において、さらに、
上記位相差層の上記光出射側に、外光の反射を防ぐ反射防止層を形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 請求項1又は2に記載の表示装置の製造方法において、
上記表示素子基板の上記複数の画素は液晶表示素子を構成していることを特徴とする表示装置の製造方法。
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