JP2012088699A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012088699A5 JP2012088699A5 JP2011207956A JP2011207956A JP2012088699A5 JP 2012088699 A5 JP2012088699 A5 JP 2012088699A5 JP 2011207956 A JP2011207956 A JP 2011207956A JP 2011207956 A JP2011207956 A JP 2011207956A JP 2012088699 A5 JP2012088699 A5 JP 2012088699A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coat layer
- hard
- composition
- forming
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
1.
下記(a)、(b)、(c)、及び(d)を含有するハードコート層形成用組成物。
(a)重合性不飽和基を有する含フッ素化合物、及び重合性不飽和基を有する重量平均分子量が15000以上のポリシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の防汚剤
(b)炭酸ジメチル
(c)不飽和二重結合を有する化合物
(d)光重合開始剤
2.
前記(a)防汚剤として重合性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有し、該含フッ素化合物が、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有する、上記1に記載のハードコート層形成用組成物。
3.
前記含フッ素化合物が重合性不飽和基を一分子中に4つ以上有する、上記2に記載のハードコート層形成用組成物。
4.
前記含フッ素化合物が、−(CF2O)p−(CF2CF2O)q−で表されるパーフルオロポリエーテル基(上記p及びqはそれぞれ独立に0〜20の整数を表す。ただしp+qは1以上の整数である。)を有する、上記2又は3に記載のハードコート層形成用組成物。
5.
前記含フッ素化合物の重量平均分子量が1000以上5000未満である、上記2〜4のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
6.
前記(a)として、重合性不飽和基を有する重量平均分子量が15000以上のポリシロキサン化合物を含有し、該ポリシロキサン化合物が、重合性不飽和基を一分子中に複数有するジメチルシロキサンである、上記1に記載のハードコート層形成用組成物。
7.
前記(a)防汚剤の表面張力が25.0mN/m以下である、上記1〜6のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
8.
更に(e)シリカ微粒子を含有する上記1〜7のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
9.
(c)不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、上記1〜8のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
10.
更に、導電性化合物を含有する、上記1〜9のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
11.
前記(b)炭酸ジメチルの含有量が全溶剤に対して10質量%以上である上記1〜10のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
12.
透明基材上に、上記1〜11のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
13.
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである上記12に記載の光学フィルム。
14.
上記12又は13に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
15.
上記12若しくは13に記載の光学フィルム又は上記14に記載の偏光板を有する画像表示装置。
16.
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に上記1〜11のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
下記(a)、(b)、(c)、及び(d)を含有するハードコート層形成用組成物。
(a)重合性不飽和基を有する含フッ素化合物、及び重合性不飽和基を有する重量平均分子量が15000以上のポリシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の防汚剤
(b)炭酸ジメチル
(c)不飽和二重結合を有する化合物
(d)光重合開始剤
2.
前記(a)防汚剤として重合性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有し、該含フッ素化合物が、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有する、上記1に記載のハードコート層形成用組成物。
3.
前記含フッ素化合物が重合性不飽和基を一分子中に4つ以上有する、上記2に記載のハードコート層形成用組成物。
4.
前記含フッ素化合物が、−(CF2O)p−(CF2CF2O)q−で表されるパーフルオロポリエーテル基(上記p及びqはそれぞれ独立に0〜20の整数を表す。ただしp+qは1以上の整数である。)を有する、上記2又は3に記載のハードコート層形成用組成物。
5.
前記含フッ素化合物の重量平均分子量が1000以上5000未満である、上記2〜4のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
6.
前記(a)として、重合性不飽和基を有する重量平均分子量が15000以上のポリシロキサン化合物を含有し、該ポリシロキサン化合物が、重合性不飽和基を一分子中に複数有するジメチルシロキサンである、上記1に記載のハードコート層形成用組成物。
7.
前記(a)防汚剤の表面張力が25.0mN/m以下である、上記1〜6のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
8.
更に(e)シリカ微粒子を含有する上記1〜7のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
9.
(c)不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、上記1〜8のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
10.
更に、導電性化合物を含有する、上記1〜9のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
11.
前記(b)炭酸ジメチルの含有量が全溶剤に対して10質量%以上である上記1〜10のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
12.
透明基材上に、上記1〜11のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
13.
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである上記12に記載の光学フィルム。
14.
上記12又は13に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
15.
上記12若しくは13に記載の光学フィルム又は上記14に記載の偏光板を有する画像表示装置。
16.
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に上記1〜11のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
Claims (16)
- 下記(a)、(b)、(c)、及び(d)を含有するハードコート層形成用組成物。
(a)重合性不飽和基を有する含フッ素化合物、及び重合性不飽和基を有する重量平均分子量が15000以上のポリシロキサン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の防汚剤
(b)炭酸ジメチル
(c)不飽和二重結合を有する化合物
(d)光重合開始剤 - 前記(a)防汚剤として重合性不飽和基を有する含フッ素化合物を含有し、該含フッ素化合物が、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有する、請求項1に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記含フッ素化合物が重合性不飽和基を一分子中に4つ以上有する、請求項2に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記含フッ素化合物が、−(CF2O)p−(CF2CF2O)q−で表されるパーフルオロポリエーテル基(上記p及びqはそれぞれ独立に0〜20の整数を表す。ただしp+qは1以上の整数である。)を有する、請求項2又は3に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記含フッ素化合物の重量平均分子量が1000以上5000未満である、請求項2〜4のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記(a)として、重合性不飽和基を有する重量平均分子量が15000以上のポリシロキサン化合物を含有し、該ポリシロキサン化合物が、重合性不飽和基を一分子中に複数有するジメチルシロキサンである、請求項1に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記(a)防汚剤の表面張力が25.0mN/m以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 更に(e)シリカ微粒子を含有する請求項1〜7のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
- (c)不飽和二重結合を有する化合物が水素結合性の置換基を有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 更に、導電性化合物を含有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 前記(b)炭酸ジメチルの含有量が全溶剤に対して10質量%以上である請求項1〜10のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物。
- 透明基材上に、請求項1〜11のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有する光学フィルム。
- 前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである請求項12に記載の光学フィルム。
- 請求項12又は13に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
- 請求項12若しくは13に記載の光学フィルム又は請求項14に記載の偏光板を有する画像表示装置。
- セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に請求項1〜11のいずれか1項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011207956A JP5759848B2 (ja) | 2010-09-24 | 2011-09-22 | 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010214567 | 2010-09-24 | ||
JP2010214567 | 2010-09-24 | ||
JP2011207956A JP5759848B2 (ja) | 2010-09-24 | 2011-09-22 | 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012088699A JP2012088699A (ja) | 2012-05-10 |
JP2012088699A5 true JP2012088699A5 (ja) | 2014-02-13 |
JP5759848B2 JP5759848B2 (ja) | 2015-08-05 |
Family
ID=45870966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011207956A Active JP5759848B2 (ja) | 2010-09-24 | 2011-09-22 | 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20120077046A1 (ja) |
JP (1) | JP5759848B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9523795B2 (en) * | 2011-11-25 | 2016-12-20 | Fujifilm Corporation | Antistatic antireflection film, method for manufacturing antistatic antireflection film, polarizing plate and image display device |
US10082606B2 (en) * | 2014-06-30 | 2018-09-25 | Lg Display Co., Ltd. | Display device |
KR101971010B1 (ko) | 2015-02-06 | 2019-04-22 | 후지필름 가부시키가이샤 | 하드 코트 필름, 편광판, 액정 표시 장치 및 하드 코트 필름의 제조 방법 |
WO2016175054A1 (ja) * | 2015-04-28 | 2016-11-03 | デクセリアルズ株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、防曇防汚積層体、物品、及びその製造方法、並びに防汚方法 |
JP2017030347A (ja) | 2015-04-28 | 2017-02-09 | デクセリアルズ株式会社 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、防曇防汚積層体、物品、及びその製造方法、並びに防汚方法 |
JP6728854B2 (ja) * | 2016-03-25 | 2020-07-22 | 三菱ケミカル株式会社 | 樹脂積層体及びその製造方法 |
JP2018124395A (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ハードコートフィルム |
CN111247001A (zh) * | 2017-11-07 | 2020-06-05 | 住友化学株式会社 | 层叠体 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4139673B2 (ja) * | 2002-11-12 | 2008-08-27 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止膜およびディスプレイ装置 |
JP4779293B2 (ja) * | 2003-10-21 | 2011-09-28 | Tdk株式会社 | ハードコート剤組成物及びこれを用いた光情報媒体 |
US20070048513A1 (en) * | 2005-08-25 | 2007-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Antireflective film and polarizing plate and image display using same |
JP2007268419A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 防眩フィルムの製造方法 |
JP4155338B1 (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-24 | ソニー株式会社 | 防眩性フィルムの製造方法 |
JP2009075354A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学積層体、偏光板、及び、画像表示装置 |
JP5256839B2 (ja) * | 2008-04-30 | 2013-08-07 | 凸版印刷株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
JP2009286981A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコート塗液、ハードコートフィルム、偏光板及び透過型液晶表示装置 |
JP2010001431A (ja) * | 2008-06-23 | 2010-01-07 | Konica Minolta Opto Inc | ハードコートフィルム、その製造方法、ハードコートフィルムを用いた反射防止フィルム、偏光板、及び表示装置 |
JP2010038945A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルムおよびその製造方法 |
KR101207176B1 (ko) * | 2008-09-26 | 2012-11-30 | 가부시키가이샤 도모에가와 세이시쇼 | 광학 적층체 및 하드코트 필름 |
-
2011
- 2011-09-22 JP JP2011207956A patent/JP5759848B2/ja active Active
- 2011-09-23 US US13/200,343 patent/US20120077046A1/en not_active Abandoned
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012088699A5 (ja) | ||
JP5589387B2 (ja) | シロキサン樹脂組成物およびそれを用いたタッチパネル用保護膜 | |
JP2013537857A5 (ja) | ||
JP2017510828A5 (ja) | ||
JP2012007080A5 (ja) | ||
JP2015212353A5 (ja) | ||
JP2012527522A5 (ja) | ||
JP2014502210A5 (ja) | ||
JP2007293301A5 (ja) | ||
WO2012158317A3 (en) | Benzyl (meth)acrylate monomers suitable for microstructured optical films | |
JP2008184568A5 (ja) | ||
JP2013532222A5 (ja) | ||
JP2018501976A (ja) | ディスプレイフィルムおよびこれを含むディスプレイ装置 | |
JP2015503001A5 (ja) | ||
JP2007114772A5 (ja) | ||
JP2008248239A5 (ja) | ||
JP2007293325A5 (ja) | ||
JP2016020509A5 (ja) | ||
JP2013539489A5 (ja) | ||
JP2005171069A5 (ja) | ||
JP2016134629A5 (ja) | ||
JP2007301970A5 (ja) | ||
JP2014095731A5 (ja) | ||
TW200643040A (en) | Liquid curable composition, cured film, and antistatic layered product | |
CN103897578B (zh) | 抗指纹印的硬涂层树脂组合物及使用其制造抗指纹印的硬涂层膜的方法 |